JPWO2018030408A1 - 1−クロロ−2,3,3,3−テトラフルオロプロペンの製造方法 - Google Patents
1−クロロ−2,3,3,3−テトラフルオロプロペンの製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JPWO2018030408A1 JPWO2018030408A1 JP2018533502A JP2018533502A JPWO2018030408A1 JP WO2018030408 A1 JPWO2018030408 A1 JP WO2018030408A1 JP 2018533502 A JP2018533502 A JP 2018533502A JP 2018533502 A JP2018533502 A JP 2018533502A JP WO2018030408 A1 JPWO2018030408 A1 JP WO2018030408A1
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- palladium
- catalyst
- hydrogen
- catalyst layer
- gas
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 58
- GDPWRLVSJWKGPJ-UHFFFAOYSA-N 1-chloro-2,3,3,3-tetrafluoroprop-1-ene Chemical compound ClC=C(F)C(F)(F)F GDPWRLVSJWKGPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 12
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 333
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims abstract description 187
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 139
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims abstract description 85
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 66
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims abstract description 66
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims abstract description 66
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 claims abstract description 52
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 48
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 48
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims abstract description 46
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 claims abstract description 18
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 claims abstract description 13
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 12
- QGYLHZMNVGBXDQ-UHFFFAOYSA-N 1,1-dichloro-2,3,3,3-tetrafluoroprop-1-ene Chemical compound ClC(Cl)=C(F)C(F)(F)F QGYLHZMNVGBXDQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 10
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 83
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical group [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 51
- 235000013162 Cocos nucifera Nutrition 0.000 claims description 7
- 244000060011 Cocos nucifera Species 0.000 claims description 7
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 abstract description 22
- FDMFUZHCIRHGRG-UHFFFAOYSA-N 3,3,3-trifluoroprop-1-ene Chemical compound FC(F)(F)C=C FDMFUZHCIRHGRG-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 3
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 239000000047 product Substances 0.000 description 18
- IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N hydrogen chloride Substances Cl.Cl IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 17
- 229910000041 hydrogen chloride Inorganic materials 0.000 description 17
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 14
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 11
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 11
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 11
- COAUHYBSXMIJDK-UHFFFAOYSA-N 3,3-dichloro-1,1,1,2,2-pentafluoropropane Chemical compound FC(F)(F)C(F)(F)C(Cl)Cl COAUHYBSXMIJDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 10
- 239000003638 chemical reducing agent Substances 0.000 description 8
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 8
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 8
- FXRLMCRCYDHQFW-UHFFFAOYSA-N 2,3,3,3-tetrafluoropropene Chemical compound FC(=C)C(F)(F)F FXRLMCRCYDHQFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 7
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- 238000004833 X-ray photoelectron spectroscopy Methods 0.000 description 6
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 6
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 6
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 6
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 description 6
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 6
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 6
- 229910001252 Pd alloy Inorganic materials 0.000 description 5
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 5
- 238000012856 packing Methods 0.000 description 5
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 5
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 5
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 4
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 4
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 4
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 4
- 238000011068 loading method Methods 0.000 description 4
- -1 that is Chemical compound 0.000 description 4
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 description 4
- 229920001774 Perfluoroether Polymers 0.000 description 3
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 239000000443 aerosol Substances 0.000 description 3
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 3
- 239000003245 coal Substances 0.000 description 3
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 3
- 238000004817 gas chromatography Methods 0.000 description 3
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 3
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 3
- UJMWVICAENGCRF-UHFFFAOYSA-N oxygen difluoride Chemical compound FOF UJMWVICAENGCRF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000002940 palladium Chemical class 0.000 description 3
- 239000003444 phase transfer catalyst Substances 0.000 description 3
- 239000003507 refrigerant Substances 0.000 description 3
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 3
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 3
- KDWQLICBSFIDRM-UHFFFAOYSA-N 1,1,1-trifluoropropane Chemical compound CCC(F)(F)F KDWQLICBSFIDRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GDSQRBLILFKERU-UHFFFAOYSA-N 1,2-dichloro-1,1,2,3,3-pentafluoropropane Chemical compound FC(F)C(F)(Cl)C(F)(F)Cl GDSQRBLILFKERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UJIGKESMIPTWJH-UHFFFAOYSA-N 1,3-dichloro-1,1,2,2,3-pentafluoropropane Chemical compound FC(Cl)C(F)(F)C(F)(F)Cl UJIGKESMIPTWJH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JEWUXLHWYRSHJK-UHFFFAOYSA-N 2,2-dichloro-1,1,1,3,3-pentafluoropropane Chemical compound FC(F)C(Cl)(Cl)C(F)(F)F JEWUXLHWYRSHJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004604 Blowing Agent Substances 0.000 description 2
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K aluminium trichloride Chemical compound Cl[Al](Cl)Cl VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 2
- 239000012459 cleaning agent Substances 0.000 description 2
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 2
- 238000010790 dilution Methods 0.000 description 2
- 239000012895 dilution Substances 0.000 description 2
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 230000020169 heat generation Effects 0.000 description 2
- 238000003780 insertion Methods 0.000 description 2
- 230000037431 insertion Effects 0.000 description 2
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 2
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 2
- 238000011084 recovery Methods 0.000 description 2
- 239000013076 target substance Substances 0.000 description 2
- JRMUNVKIHCOMHV-UHFFFAOYSA-M tetrabutylammonium bromide Chemical compound [Br-].CCCC[N+](CCCC)(CCCC)CCCC JRMUNVKIHCOMHV-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 238000010792 warming Methods 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- INEMUVRCEAELBK-UHFFFAOYSA-N 1,1,1,2-tetrafluoropropane Chemical compound CC(F)C(F)(F)F INEMUVRCEAELBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VJGCZWVJDRIHNC-UHFFFAOYSA-N 1-fluoroprop-1-ene Chemical compound CC=CF VJGCZWVJDRIHNC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000196324 Embryophyta Species 0.000 description 1
- 229910002651 NO3 Inorganic materials 0.000 description 1
- NHNBFGGVMKEFGY-UHFFFAOYSA-N Nitrate Chemical compound [O-][N+]([O-])=O NHNBFGGVMKEFGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N Ozone Chemical compound [O-][O+]=O CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001260 Pt alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000629 Rh alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N Ruthenium Chemical compound [Ru] KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012670 alkaline solution Substances 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 description 1
- WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N antimony atom Chemical compound [Sb] WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- AQBOUNVXZQRXNP-UHFFFAOYSA-L azane;dichloropalladium Chemical compound N.N.N.N.Cl[Pd]Cl AQBOUNVXZQRXNP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910052797 bismuth Inorganic materials 0.000 description 1
- JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N bismuth atom Chemical compound [Bi] JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007664 blowing Methods 0.000 description 1
- 229910052793 cadmium Inorganic materials 0.000 description 1
- BDOSMKKIYDKNTQ-UHFFFAOYSA-N cadmium atom Chemical compound [Cd] BDOSMKKIYDKNTQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 description 1
- 239000011203 carbon fibre reinforced carbon Substances 0.000 description 1
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 1
- 239000003610 charcoal Substances 0.000 description 1
- KYKAJFCTULSVSH-UHFFFAOYSA-N chloro(fluoro)methane Chemical compound F[C]Cl KYKAJFCTULSVSH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 1
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 238000006731 degradation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000005796 dehydrofluorination reaction Methods 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 239000003599 detergent Substances 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- UMNKXPULIDJLSU-UHFFFAOYSA-N dichlorofluoromethane Chemical compound FC(Cl)Cl UMNKXPULIDJLSU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940099364 dichlorofluoromethane Drugs 0.000 description 1
- 238000007599 discharging Methods 0.000 description 1
- 235000013399 edible fruits Nutrition 0.000 description 1
- 230000002708 enhancing effect Effects 0.000 description 1
- 239000004088 foaming agent Substances 0.000 description 1
- 238000004508 fractional distillation Methods 0.000 description 1
- 238000010574 gas phase reaction Methods 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 229910021472 group 8 element Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000008282 halocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 1
- 239000001307 helium Substances 0.000 description 1
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 1
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005984 hydrogenation reaction Methods 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 229910052500 inorganic mineral Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052741 iridium Inorganic materials 0.000 description 1
- GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N iridium atom Chemical compound [Ir] GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003077 lignite Substances 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- 239000011707 mineral Substances 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052756 noble gas Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002835 noble gases Chemical class 0.000 description 1
- 229910052762 osmium Inorganic materials 0.000 description 1
- SYQBFIAQOQZEGI-UHFFFAOYSA-N osmium atom Chemical compound [Os] SYQBFIAQOQZEGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PIBWKRNGBLPSSY-UHFFFAOYSA-L palladium(II) chloride Chemical compound Cl[Pd]Cl PIBWKRNGBLPSSY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- GPNDARIEYHPYAY-UHFFFAOYSA-N palladium(ii) nitrate Chemical compound [Pd+2].[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O GPNDARIEYHPYAY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 239000003415 peat Substances 0.000 description 1
- 238000001420 photoelectron spectroscopy Methods 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 1
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 1
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 1
- 229910052702 rhenium Inorganic materials 0.000 description 1
- WUAPFZMCVAUBPE-UHFFFAOYSA-N rhenium atom Chemical compound [Re] WUAPFZMCVAUBPE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 description 1
- MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N rhodium atom Chemical compound [Rh] MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 239000011257 shell material Substances 0.000 description 1
- 229920002545 silicone oil Polymers 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 1
- BFKJFAAPBSQJPD-UHFFFAOYSA-N tetrafluoroethene Chemical group FC(F)=C(F)F BFKJFAAPBSQJPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000001291 vacuum drying Methods 0.000 description 1
- 239000012808 vapor phase Substances 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
- 238000005303 weighing Methods 0.000 description 1
- 239000002023 wood Substances 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C17/00—Preparation of halogenated hydrocarbons
- C07C17/23—Preparation of halogenated hydrocarbons by dehalogenation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C21/00—Acyclic unsaturated compounds containing halogen atoms
- C07C21/02—Acyclic unsaturated compounds containing halogen atoms containing carbon-to-carbon double bonds
- C07C21/18—Acyclic unsaturated compounds containing halogen atoms containing carbon-to-carbon double bonds containing fluorine
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07B—GENERAL METHODS OF ORGANIC CHEMISTRY; APPARATUS THEREFOR
- C07B61/00—Other general methods
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
Description
[1]パラジウムを含む金属と塩素とを有し、パラジウム原子のモル数に対する塩素原子のモル数の比(Cl/Pd)が2.0以上であるパラジウム触媒を担体に担持させたパラジウム触媒担持担体の存在下、気相で1,1−ジクロロ−2,3,3,3−テトラフルオロプロペンを水素と反応させて1−クロロ−2,3,3,3−テトラフルオロプロペンを得ることを特徴とする1−クロロ−2,3,3,3−テトラフルオロプロペンの製造方法。
[2]前記パラジウム原子のモル数に対する塩素原子のモル数の比(Cl/Pd)が2.0〜5.0である、[1]に記載の製造方法。
[3]前記パラジウムを含む金属におけるパラジウム100質量部に対するパラジウム以外の金属の割合が50質量部以下である、[1]または[2]に記載の製造方法。
[4]前記担体に対する前記パラジウムを含む金属の質量割合が、0.1〜10質量%である[1]〜[3]のいずれかに記載の製造方法。
[5]前記パラジウムを含む金属がパラジウム単体である[1]〜[4]のいずれかに記載の製造方法。
[6]前記担体が活性炭である[1]〜[5]のいずれかに記載の製造方法。
[7]前記活性炭がヤシ殻活性炭である、[6]に記載の製造方法。
[8]前記1,1−ジクロロ−2,3,3,3−テトラフルオロプロペンのモル数に対する前記水素のモル数の比(H2/1214ya)が1.4以下である、[1]〜[7]のいずれかに記載の製造方法。
[9]前記1,1−ジクロロ−2,3,3,3−テトラフルオロプロペンを水素と反応させる反応温度が200℃以下である、[1]〜[8]のいずれかに記載の製造方法。
本発明の1224ydの製造方法に係る1214yaと水素の反応は下式(1)で示される。
本発明の1224ydの製造方法は1214yaを原料とする。1214yaは、公知の方法により製造できる。1214yaの入手方法は特に限定されず、例えば、式(2)に示されるとおり、HCFC−225caを相間移動触媒の存在下にアルカリ水溶液と接触させて脱フッ化水素反応させる方法により製造可能である。
本発明の製造方法においては、上記の方法等で入手した1214yaと水素を、パラジウムを含む金属と塩素とを有し、パラジウム原子のモル数に対する塩素原子のモル数の比(Cl/Pd)が2.0以上であるパラジウム触媒を担体に担持させたパラジウム触媒担持担体の存在下、気相で反応させる。本明細書において、パラジウムを含む金属と塩素とを有し、パラジウム原子のモル数に対する塩素原子のモル数の比(Cl/Pd)が2.0以上であるパラジウム触媒を担体に担持させたパラジウム触媒担持担体を「パラジウム触媒担持担体(X)」ともいう。パラジウム触媒を「Pd触媒」とも記載する。
(i)二酸化ケイ素表面に0.5質量%パラジウムが担持されたパラジウム担持担体(Y0)および、二酸化ケイ素を準備する。
(ii)パラジウム担持担体(Y0)70gを秤量し、SUS314製の内径21.4cmのU字管に充填し、塩化水素ガスを45℃、ガス流量300mL/分の条件で120分間流す。次いで、U字管に窒素ガスを45℃、ガス流量300mL/分の条件で30分間流し、減圧乾燥を行う。U字管内から上述の処理により得られたパラジウムと塩素を有するパラジウム触媒が担持されたパラジウム触媒担持担体(Y)を回収し、その表面における塩素原子の含有率(atom%;式(3)中の「a」である。)、およびパラジウム原子の含有率(atom%;式(3)中の「e」である。)をX線光電子分光(XPS)ワイドスペクトル測定により求める。
(iii)二酸化ケイ素70gを秤量し、上記(ii)と同様の処理を行った後、その表面における塩素原子の含有率(atom%;式(3)中の「b」である。)をX線光電子分光(XPS)ワイドスペクトル測定により求める。
[Cl/Pd](y) = (a−b)/e 式(3)
a:XPSワイドスペクトルから得たパラジウム触媒担持担体(Y)表面のCl含有率(atom%)
b:XPSワイドスペクトルから得た二酸化ケイ素表面のCl含有率(atom%)
e:XPSワイドスペクトルから得たパラジウム触媒担持担体(Y)表面のPd含有率(atom%)
[Cl/Pd](x) = [Cl/Pd](y)×c×d 式(4)
cは、パラジウム触媒担持担体(Y)を製造する際の単位質量当たりの塩化水素処理量(300mL/分、120分間)を基準として、パラジウム触媒担持担体(X)を製造した際の単位質量当たりの塩化水素処理量を上記基準で除した値である。
dはパラジウム触媒担持担体(Y)とパラジウム触媒担持担体(X)において担体の違いにより与えられる係数である。例えば、パラジウム触媒担持担体(X)の担体がヤシ殻活性炭である場合、パラジウム触媒担持担体(Y)の担体である二酸化ケイ素に対してヤシ殻活性炭はパラジウムを質量で1.4倍担持できることから、補正係数dは1.4となる。
本発明の製造方法において、パラジウム触媒担持担体(X)の存在下、気相で1214yaを水素と反応させる方法として、具体的には、パラジウム触媒担持担体(X)を充填した触媒層を形成し、該触媒層に1214yaと水素をガス状で導入する方法が挙げられる。
u=(W/100)×V/S 式(5)
W:触媒層を流通する全ガス中の1214yaの濃度(モル%)
V:触媒層を流通する全ガスの流量(cm3/秒)
S:触媒層のガスの流通方向に対する断面積(cm2)
パラジウム担持活性炭(A)を以下の反応装置と同様の装置の反応管に充填した。該反応管が浸漬された油浴の温度を45℃に維持しながら、パラジウム担持活性炭(A)に対して塩化水素を流速300mL/秒で2時間流通させることによりパラジウム触媒担持担体(X1)を得た。得られたパラジウム触媒担持担体(X1)におけるパラジウム触媒のCl/Pdを上記算出方法により算出したところ2.2であった。
調製例1における塩化水素処理の時間を2時間から8時間に変更すること以外は調製例1と同様に行い、パラジウム触媒担持担体(X2)を得た。得られたパラジウム触媒担持担体(X2)におけるパラジウム触媒のCl/Pdを上記算出方法により算出したところ4.6であった。
1224ydの製造には、図1に模式図を示す反応装置100を用いた。反応装置100は、図1に示すように、1本の反応管8と、それを浸漬する油浴9を備えている。反応管8としては、内径2.14cm、全長70cmのSUS304製のU字型の反応管を用いた。反応管8は、その出口11側に上記で調製されたパラジウム触媒担持担体(X1)(Cl/Pd=2.2)が充填密度0.73g/cm3で充填された、高さ40cmの触媒層10を有する。油浴に用いる熱媒はパーフルオロエーテルFOMBLIN(R)YLVAC(ソルベイ社)を使用した。
油浴9の温度を80℃に変更した以外は、例1と同様にして生成ガスを得た。反応中の触媒層10の最高温度を、触媒層に挿入した差し込み型の温度計12により測定したところ、183℃であった。
パラジウム触媒担持担体(X1)(Cl/Pd=2.2)をパラジウム触媒担持担体(X2)(Cl/Pd=4.6)に変更した以外は、例1と同様にして生成ガスを得た。反応中の触媒層10の最高温度を、触媒層に挿入した差し込み型の温度計12により測定したところ、153℃であった。
油浴9の温度を80℃に変更した以外は、例3と同様にして生成ガスを得た。反応中の触媒層10の最高温度を、触媒層に挿入した差し込み型の温度計12により測定したところ、171℃であった。
パラジウム触媒担持担体(X1)(Cl/Pd=2.2)をパラジウム触媒担持担体(Cf1)(Cl/Pd=0.0)に変更した以外は、例1と同様にして生成ガスを得た。反応中の触媒層10の最高温度を、触媒層に挿入した差し込み型の温度計12により測定したところ、153℃であった。
油浴9の温度を80℃に変更した以外は、例5と同様にして生成ガスを得た。反応中の触媒層10の最高温度を、触媒層に挿入した差し込み型の温度計12により測定したところ、171℃であった。
各例で得られた生成ガスをガスクロマトグラフィー(GC)にて分析し、下式(6)、(7)により、1214yaの1224yd(Z)への選択率X(単位:%)、および1224yd(E)への選択率Y(単位:%)をそれぞれ算出した。
Y=[b/(a+b+c)]×100 式(7)
(ただし、式(6)、(7)中「a」は1224yd(Z)のモル数、「b」は1224yd(E)のモル数、「c」は過還元体(HFO−1234yf、HFC−254eb、HFC−263fb、HFO−1243zf、その他)の合計モル数を示す。)
1224yd(Z体およびE体)の収率= [A×(X+Y)]/100 式(8)
(ただし、式(8)中、「A」は1214yaの反応率を示す。)
Claims (9)
- パラジウムを含む金属と塩素とを有し、パラジウム原子のモル数に対する塩素原子のモル数の比(Cl/Pd)が2.0以上であるパラジウム触媒を担体に担持させたパラジウム触媒担持担体の存在下、気相で1,1−ジクロロ−2,3,3,3−テトラフルオロプロペンを水素と反応させて1−クロロ−2,3,3,3−テトラフルオロプロペンを得ることを特徴とする1−クロロ−2,3,3,3−テトラフルオロプロペンの製造方法。
- 前記パラジウム原子のモル数に対する塩素原子のモル数の比(Cl/Pd)が2.0〜5.0である、請求項1に記載の製造方法。
- 前記パラジウムを含む金属におけるパラジウム100質量部に対するパラジウム以外の金属の割合が50質量部以下である、請求項1または2に記載の製造方法。
- 前記担体に対する前記パラジウムを含む金属の質量割合が、0.1〜10質量%である請求項1〜3のいずれか一項に記載の製造方法。
- 前記パラジウムを含む金属がパラジウム単体である請求項1〜4のいずれか一項に記載の製造方法。
- 前記担体が活性炭である請求項1〜5のいずれか一項に記載の製造方法。
- 前記活性炭がヤシ殻活性炭である、請求項6に記載の製造方法。
- 前記1,1−ジクロロ−2,3,3,3−テトラフルオロプロペンのモル数に対する前記水素のモル数の比(H2/1214ya)が1.4以下である、請求項1〜7のいずれか一項に記載の製造方法。
- 前記1,1−ジクロロ−2,3,3,3−テトラフルオロプロペンを水素と反応させる反応温度が200℃以下である、請求項1〜8のいずれか一項に記載の製造方法。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2016156693 | 2016-08-09 | ||
JP2016156693 | 2016-08-09 | ||
PCT/JP2017/028779 WO2018030408A1 (ja) | 2016-08-09 | 2017-08-08 | 1-クロロ-2,3,3,3-テトラフルオロプロペンの製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2018030408A1 true JPWO2018030408A1 (ja) | 2019-06-13 |
JP6881457B2 JP6881457B2 (ja) | 2021-06-02 |
Family
ID=61162281
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2018533502A Active JP6881457B2 (ja) | 2016-08-09 | 2017-08-08 | 1−クロロ−2,3,3,3−テトラフルオロプロペンの製造方法 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6881457B2 (ja) |
CN (1) | CN109563010B (ja) |
WO (1) | WO2018030408A1 (ja) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN107759440B (zh) * | 2017-11-07 | 2020-07-03 | 中国民航大学 | 一种将含氟烯烃双键上的氟置换成氢的方法 |
WO2020213600A1 (ja) * | 2019-04-16 | 2020-10-22 | Agc株式会社 | 1-クロロ-2,3,3,3-テトラフルオロプロペンの製造方法 |
CN111500378B (zh) * | 2020-07-02 | 2020-10-30 | 北京宇极科技发展有限公司 | 环状氢氯氟烯烃和链状氢氯氟烯烃组成的清洗剂 |
CN114436764B (zh) * | 2020-11-04 | 2023-10-03 | 浙江省化工研究院有限公司 | 一种1-氯-2,3,3,3-四氟丙烯及其中间体的制备方法 |
Family Cites Families (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0436031A1 (en) * | 1989-07-21 | 1991-07-10 | Asahi Glass Company Ltd. | Process for producing a dichloropentafluoropropane |
US5057470A (en) * | 1990-05-22 | 1991-10-15 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Regeneration of noble metal catalysts used in hydrodehalogenation of halogen-substituted hydrocarbons containing fluorine and at least one other halogen |
JP3778298B2 (ja) * | 1995-01-13 | 2006-05-24 | ダイキン工業株式会社 | ヘキサフルオロプロペンの製造方法 |
TW200837036A (en) * | 2006-11-15 | 2008-09-16 | Du Pont | Process for producing 2,3,3,3-tetrafluoropropene |
WO2010013576A1 (en) * | 2008-07-30 | 2010-02-04 | Daikin Industries, Ltd. | Process for producing fluorine-containing propene compound |
JP5581858B2 (ja) * | 2009-07-21 | 2014-09-03 | セントラル硝子株式会社 | 2−クロロ−3,3,3−トリフルオロプロペンの製造方法 |
US8766021B2 (en) * | 2010-06-23 | 2014-07-01 | Asahi Glass Company, Limited | Process for producing 2,3,3,3-tetrafluoropropene |
WO2011162339A1 (ja) * | 2010-06-23 | 2011-12-29 | 旭硝子株式会社 | 2,3,3,3-テトラフルオロプロペンの製造方法 |
TW201204685A (en) * | 2010-06-23 | 2012-02-01 | Asahi Glass Co Ltd | Process for Producing 2, 3, 3, 3-Tetrafluoropropene |
CN104014335B (zh) * | 2013-03-01 | 2017-07-07 | 中化蓝天集团有限公司 | 用于一氟二氯甲烷加氢脱氯制备一氟甲烷的催化剂、其制备方法及应用 |
JP6680692B2 (ja) * | 2014-04-16 | 2020-04-15 | ザ ケマーズ カンパニー エフシー リミテッド ライアビリティ カンパニー | より望ましいフルオロプロパン及びフルオロプロペンへのクロロフルオロプロパン及びクロロフルオロプロペンの変換 |
EP3187477A4 (en) * | 2014-08-25 | 2018-04-11 | Asahi Glass Company, Limited | Process for producing hydrofluoroolefin |
EP3187478B1 (en) * | 2014-08-25 | 2020-03-04 | AGC Inc. | Method for producing hydrofluoroolefin |
-
2017
- 2017-08-08 JP JP2018533502A patent/JP6881457B2/ja active Active
- 2017-08-08 CN CN201780048497.6A patent/CN109563010B/zh active Active
- 2017-08-08 WO PCT/JP2017/028779 patent/WO2018030408A1/ja active Application Filing
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
WO2018030408A1 (ja) | 2018-02-15 |
CN109563010A (zh) | 2019-04-02 |
JP6881457B2 (ja) | 2021-06-02 |
CN109563010B (zh) | 2021-05-28 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5570219B2 (ja) | 2,3,3,3−テトラフルオロプロペンの製造方法 | |
US8530711B2 (en) | Process for producing 2,3,3,3-tetrafluoropropene | |
JP6780696B2 (ja) | 1−クロロ−2,3,3,3−テトラフルオロプロペンの製造方法 | |
JP6881457B2 (ja) | 1−クロロ−2,3,3,3−テトラフルオロプロペンの製造方法 | |
JP6477712B2 (ja) | ハイドロフルオロオレフィンの製造方法 | |
US20100320412A1 (en) | Processes for producing 2,3,3,3-tetrafluoropropene and/or 1,2,3,3-tetrafluoropropene | |
JP5598333B2 (ja) | 1,1−ジクロロ−2,2,3,3,3−ペンタフルオロプロパンの製造方法 | |
JP2019196411A (ja) | ハイドロフルオロオレフィンの製造方法 | |
JP5713017B2 (ja) | 2,3,3,3−テトラフルオロプロペンの製造方法 | |
JP6696431B2 (ja) | ハイドロフルオロオレフィンの製造方法 | |
JPWO2011162339A1 (ja) | 2,3,3,3−テトラフルオロプロペンの製造方法 | |
JP5713018B2 (ja) | 2,3,3,3−テトラフルオロプロペンの製造方法 | |
JP5817591B2 (ja) | 2,3,3,3−テトラフルオロプロペンの製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20200206 |
|
RD01 | Notification of change of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7421 Effective date: 20200424 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20210105 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20210406 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20210419 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6881457 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |