JPWO2016010045A1 - 電解用陰極及び電解用陰極の製造方法 - Google Patents
電解用陰極及び電解用陰極の製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JPWO2016010045A1 JPWO2016010045A1 JP2016534453A JP2016534453A JPWO2016010045A1 JP WO2016010045 A1 JPWO2016010045 A1 JP WO2016010045A1 JP 2016534453 A JP2016534453 A JP 2016534453A JP 2016534453 A JP2016534453 A JP 2016534453A JP WO2016010045 A1 JPWO2016010045 A1 JP WO2016010045A1
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- cathode
- coating
- cathode catalyst
- catalyst layer
- electrolysis
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000005868 electrolysis reaction Methods 0.000 title claims abstract description 128
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 43
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims abstract description 351
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims abstract description 328
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims abstract description 320
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims abstract description 213
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 193
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 149
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 122
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims abstract description 61
- 238000001035 drying Methods 0.000 claims abstract description 57
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 30
- 239000011148 porous material Substances 0.000 claims abstract description 22
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 claims abstract description 13
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 82
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 67
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 67
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 43
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 34
- 239000007858 starting material Substances 0.000 claims description 30
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 18
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 claims description 15
- 229910000990 Ni alloy Inorganic materials 0.000 claims description 12
- 229910052741 iridium Inorganic materials 0.000 claims description 9
- GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N iridium atom Chemical compound [Ir] GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 238000004080 punching Methods 0.000 claims description 9
- KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N Ruthenium Chemical compound [Ru] KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 229910052762 osmium Inorganic materials 0.000 claims description 8
- SYQBFIAQOQZEGI-UHFFFAOYSA-N osmium atom Chemical compound [Os] SYQBFIAQOQZEGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 230000001154 acute effect Effects 0.000 claims description 6
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 claims description 3
- 230000007774 longterm Effects 0.000 abstract description 5
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 202
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 145
- 239000002585 base Substances 0.000 description 127
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 36
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 30
- 238000010304 firing Methods 0.000 description 27
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 18
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 16
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 12
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 12
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 229910000510 noble metal Inorganic materials 0.000 description 8
- 230000002441 reversible effect Effects 0.000 description 8
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 7
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 7
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 7
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 7
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 6
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 6
- 239000003014 ion exchange membrane Substances 0.000 description 5
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 5
- 229910052684 Cerium Inorganic materials 0.000 description 4
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ZMIGMASIKSOYAM-UHFFFAOYSA-N cerium Chemical compound [Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce] ZMIGMASIKSOYAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 4
- 229910052746 lanthanum Inorganic materials 0.000 description 4
- FZLIPJUXYLNCLC-UHFFFAOYSA-N lanthanum atom Chemical compound [La] FZLIPJUXYLNCLC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 4
- 229910052761 rare earth metal Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 4
- YBCAZPLXEGKKFM-UHFFFAOYSA-K ruthenium(iii) chloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Cl-].[Ru+3] YBCAZPLXEGKKFM-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 4
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 4
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 3
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 3
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 3
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 3
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 3
- 230000000593 degrading effect Effects 0.000 description 3
- 238000010828 elution Methods 0.000 description 3
- 230000006698 induction Effects 0.000 description 3
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 3
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 3
- 229910000480 nickel oxide Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 3
- GNRSAWUEBMWBQH-UHFFFAOYSA-N oxonickel Chemical compound [Ni]=O GNRSAWUEBMWBQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 3
- 239000000047 product Substances 0.000 description 3
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 3
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 3
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 3
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 3
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052727 yttrium Inorganic materials 0.000 description 3
- VWQVUPCCIRVNHF-UHFFFAOYSA-N yttrium atom Chemical compound [Y] VWQVUPCCIRVNHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Natural products OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000009825 accumulation Methods 0.000 description 2
- 230000004913 activation Effects 0.000 description 2
- 238000005422 blasting Methods 0.000 description 2
- VYLVYHXQOHJDJL-UHFFFAOYSA-K cerium trichloride Chemical compound Cl[Ce](Cl)Cl VYLVYHXQOHJDJL-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- HSJPMRKMPBAUAU-UHFFFAOYSA-N cerium(3+);trinitrate Chemical compound [Ce+3].[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O HSJPMRKMPBAUAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000008859 change Effects 0.000 description 2
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 2
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 2
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 238000009503 electrostatic coating Methods 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 2
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 2
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 2
- 229910052735 hafnium Inorganic materials 0.000 description 2
- VBJZVLUMGGDVMO-UHFFFAOYSA-N hafnium atom Chemical compound [Hf] VBJZVLUMGGDVMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000002484 inorganic compounds Chemical class 0.000 description 2
- 229910001867 inorganic solvent Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000003049 inorganic solvent Substances 0.000 description 2
- 238000012886 linear function Methods 0.000 description 2
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 2
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 2
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 2
- 150000002815 nickel Chemical class 0.000 description 2
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010955 niobium Substances 0.000 description 2
- GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N niobium atom Chemical compound [Nb] GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 2
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 2
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 2
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 description 2
- 238000007788 roughening Methods 0.000 description 2
- 238000003892 spreading Methods 0.000 description 2
- 230000007480 spreading Effects 0.000 description 2
- 238000007619 statistical method Methods 0.000 description 2
- 230000002195 synergetic effect Effects 0.000 description 2
- 239000011800 void material Substances 0.000 description 2
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 2
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 2
- OHVLMTFVQDZYHP-UHFFFAOYSA-N 1-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)-2-[4-[2-[[3-(trifluoromethoxy)phenyl]methylamino]pyrimidin-5-yl]piperazin-1-yl]ethanone Chemical compound N1N=NC=2CN(CCC=21)C(CN1CCN(CC1)C=1C=NC(=NC=1)NCC1=CC(=CC=C1)OC(F)(F)F)=O OHVLMTFVQDZYHP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VZSRBBMJRBPUNF-UHFFFAOYSA-N 2-(2,3-dihydro-1H-inden-2-ylamino)-N-[3-oxo-3-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)propyl]pyrimidine-5-carboxamide Chemical compound C1C(CC2=CC=CC=C12)NC1=NC=C(C=N1)C(=O)NCCC(N1CC2=C(CC1)NN=N2)=O VZSRBBMJRBPUNF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021639 Iridium tetrachloride Inorganic materials 0.000 description 1
- AFCARXCZXQIEQB-UHFFFAOYSA-N N-[3-oxo-3-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)propyl]-2-[[3-(trifluoromethoxy)phenyl]methylamino]pyrimidine-5-carboxamide Chemical compound O=C(CCNC(=O)C=1C=NC(=NC=1)NCC1=CC(=CC=C1)OC(F)(F)F)N1CC2=C(CC1)NN=N2 AFCARXCZXQIEQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910002651 NO3 Inorganic materials 0.000 description 1
- NHNBFGGVMKEFGY-UHFFFAOYSA-N Nitrate Chemical compound [O-][N+]([O-])=O NHNBFGGVMKEFGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052777 Praseodymium Inorganic materials 0.000 description 1
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L Sulfate Chemical compound [O-]S([O-])(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- JSMYYIBADIWSCQ-UHFFFAOYSA-I [Ce+3].[Cl-].[Cl-].[Cl-].[Cl-].[Cl-].[Ta+5] Chemical compound [Ce+3].[Cl-].[Cl-].[Cl-].[Cl-].[Cl-].[Ta+5] JSMYYIBADIWSCQ-UHFFFAOYSA-I 0.000 description 1
- JOIAXOUOGIKTGS-UHFFFAOYSA-E [Cl-].[Cl-].[Cl-].[Cl-].[Cl-].[Ta+5].[Cl-].[Cl-].[Cl-].[Cl-].[Ti+4] Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Cl-].[Cl-].[Cl-].[Ta+5].[Cl-].[Cl-].[Cl-].[Cl-].[Ti+4] JOIAXOUOGIKTGS-UHFFFAOYSA-E 0.000 description 1
- YNEKLPNCSIGTLQ-UHFFFAOYSA-I [Ni+2].[Cl-].[Ce+3].[Cl-].[Cl-].[Cl-].[Cl-] Chemical compound [Ni+2].[Cl-].[Ce+3].[Cl-].[Cl-].[Cl-].[Cl-] YNEKLPNCSIGTLQ-UHFFFAOYSA-I 0.000 description 1
- PJEAJPGVRAVKCK-UHFFFAOYSA-K [Ru].[Ir](Cl)(Cl)Cl Chemical compound [Ru].[Ir](Cl)(Cl)Cl PJEAJPGVRAVKCK-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 150000008044 alkali metal hydroxides Chemical class 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000137 annealing Methods 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IXSUHTFXKKBBJP-UHFFFAOYSA-L azanide;platinum(2+);dinitrite Chemical compound [NH2-].[NH2-].[Pt+2].[O-]N=O.[O-]N=O IXSUHTFXKKBBJP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001805 chlorine compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 238000005485 electric heating Methods 0.000 description 1
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 1
- 239000008151 electrolyte solution Substances 0.000 description 1
- 230000005674 electromagnetic induction Effects 0.000 description 1
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 230000020169 heat generation Effects 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- 238000006386 neutralization reaction Methods 0.000 description 1
- 150000002816 nickel compounds Chemical class 0.000 description 1
- KBJMLQFLOWQJNF-UHFFFAOYSA-N nickel(ii) nitrate Chemical compound [Ni+2].[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O KBJMLQFLOWQJNF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002823 nitrates Chemical class 0.000 description 1
- ZDYUUBIMAGBMPY-UHFFFAOYSA-N oxalic acid;hydrate Chemical class O.OC(=O)C(O)=O ZDYUUBIMAGBMPY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- PIBWKRNGBLPSSY-UHFFFAOYSA-L palladium(II) chloride Chemical compound Cl[Pd]Cl PIBWKRNGBLPSSY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 230000035515 penetration Effects 0.000 description 1
- -1 platinum nitrate compound Chemical class 0.000 description 1
- 238000011176 pooling Methods 0.000 description 1
- PUDIUYLPXJFUGB-UHFFFAOYSA-N praseodymium atom Chemical compound [Pr] PUDIUYLPXJFUGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010970 precious metal Substances 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 238000002203 pretreatment Methods 0.000 description 1
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 description 1
- 238000000197 pyrolysis Methods 0.000 description 1
- 238000007712 rapid solidification Methods 0.000 description 1
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 1
- 230000003252 repetitive effect Effects 0.000 description 1
- 230000004044 response Effects 0.000 description 1
- 238000007761 roller coating Methods 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 239000006104 solid solution Substances 0.000 description 1
- 150000003467 sulfuric acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- OEIMLTQPLAGXMX-UHFFFAOYSA-I tantalum(v) chloride Chemical compound Cl[Ta](Cl)(Cl)(Cl)Cl OEIMLTQPLAGXMX-UHFFFAOYSA-I 0.000 description 1
- CALMYRPSSNRCFD-UHFFFAOYSA-J tetrachloroiridium Chemical compound Cl[Ir](Cl)(Cl)Cl CALMYRPSSNRCFD-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- 238000005979 thermal decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- XJDNKRIXUMDJCW-UHFFFAOYSA-J titanium tetrachloride Chemical compound Cl[Ti](Cl)(Cl)Cl XJDNKRIXUMDJCW-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 1
- DANYXEHCMQHDNX-UHFFFAOYSA-K trichloroiridium Chemical compound Cl[Ir](Cl)Cl DANYXEHCMQHDNX-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 238000012795 verification Methods 0.000 description 1
- 238000009736 wetting Methods 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25B—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES FOR THE PRODUCTION OF COMPOUNDS OR NON-METALS; APPARATUS THEREFOR
- C25B11/00—Electrodes; Manufacture thereof not otherwise provided for
- C25B11/04—Electrodes; Manufacture thereof not otherwise provided for characterised by the material
- C25B11/051—Electrodes formed of electrocatalysts on a substrate or carrier
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25B—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES FOR THE PRODUCTION OF COMPOUNDS OR NON-METALS; APPARATUS THEREFOR
- C25B11/00—Electrodes; Manufacture thereof not otherwise provided for
- C25B11/02—Electrodes; Manufacture thereof not otherwise provided for characterised by shape or form
- C25B11/03—Electrodes; Manufacture thereof not otherwise provided for characterised by shape or form perforated or foraminous
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J23/00—Catalysts comprising metals or metal oxides or hydroxides, not provided for in group B01J21/00
- B01J23/38—Catalysts comprising metals or metal oxides or hydroxides, not provided for in group B01J21/00 of noble metals
- B01J23/40—Catalysts comprising metals or metal oxides or hydroxides, not provided for in group B01J21/00 of noble metals of the platinum group metals
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J23/00—Catalysts comprising metals or metal oxides or hydroxides, not provided for in group B01J21/00
- B01J23/70—Catalysts comprising metals or metal oxides or hydroxides, not provided for in group B01J21/00 of the iron group metals or copper
- B01J23/74—Iron group metals
- B01J23/755—Nickel
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D—PROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D3/00—Pretreatment of surfaces to which liquids or other fluent materials are to be applied; After-treatment of applied coatings, e.g. intermediate treating of an applied coating preparatory to subsequent applications of liquids or other fluent materials
- B05D3/02—Pretreatment of surfaces to which liquids or other fluent materials are to be applied; After-treatment of applied coatings, e.g. intermediate treating of an applied coating preparatory to subsequent applications of liquids or other fluent materials by baking
- B05D3/0254—After-treatment
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25B—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES FOR THE PRODUCTION OF COMPOUNDS OR NON-METALS; APPARATUS THEREFOR
- C25B11/00—Electrodes; Manufacture thereof not otherwise provided for
- C25B11/04—Electrodes; Manufacture thereof not otherwise provided for characterised by the material
- C25B11/051—Electrodes formed of electrocatalysts on a substrate or carrier
- C25B11/055—Electrodes formed of electrocatalysts on a substrate or carrier characterised by the substrate or carrier material
- C25B11/057—Electrodes formed of electrocatalysts on a substrate or carrier characterised by the substrate or carrier material consisting of a single element or compound
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25B—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES FOR THE PRODUCTION OF COMPOUNDS OR NON-METALS; APPARATUS THEREFOR
- C25B11/00—Electrodes; Manufacture thereof not otherwise provided for
- C25B11/04—Electrodes; Manufacture thereof not otherwise provided for characterised by the material
- C25B11/051—Electrodes formed of electrocatalysts on a substrate or carrier
- C25B11/073—Electrodes formed of electrocatalysts on a substrate or carrier characterised by the electrocatalyst material
- C25B11/075—Electrodes formed of electrocatalysts on a substrate or carrier characterised by the electrocatalyst material consisting of a single catalytic element or catalytic compound
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25B—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES FOR THE PRODUCTION OF COMPOUNDS OR NON-METALS; APPARATUS THEREFOR
- C25B11/00—Electrodes; Manufacture thereof not otherwise provided for
- C25B11/04—Electrodes; Manufacture thereof not otherwise provided for characterised by the material
- C25B11/051—Electrodes formed of electrocatalysts on a substrate or carrier
- C25B11/073—Electrodes formed of electrocatalysts on a substrate or carrier characterised by the electrocatalyst material
- C25B11/075—Electrodes formed of electrocatalysts on a substrate or carrier characterised by the electrocatalyst material consisting of a single catalytic element or catalytic compound
- C25B11/081—Electrodes formed of electrocatalysts on a substrate or carrier characterised by the electrocatalyst material consisting of a single catalytic element or catalytic compound the element being a noble metal
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25B—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES FOR THE PRODUCTION OF COMPOUNDS OR NON-METALS; APPARATUS THEREFOR
- C25B11/00—Electrodes; Manufacture thereof not otherwise provided for
- C25B11/04—Electrodes; Manufacture thereof not otherwise provided for characterised by the material
- C25B11/051—Electrodes formed of electrocatalysts on a substrate or carrier
- C25B11/073—Electrodes formed of electrocatalysts on a substrate or carrier characterised by the electrocatalyst material
- C25B11/091—Electrodes formed of electrocatalysts on a substrate or carrier characterised by the electrocatalyst material consisting of at least one catalytic element and at least one catalytic compound; consisting of two or more catalytic elements or catalytic compounds
- C25B11/093—Electrodes formed of electrocatalysts on a substrate or carrier characterised by the electrocatalyst material consisting of at least one catalytic element and at least one catalytic compound; consisting of two or more catalytic elements or catalytic compounds at least one noble metal or noble metal oxide and at least one non-noble metal oxide
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25B—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES FOR THE PRODUCTION OF COMPOUNDS OR NON-METALS; APPARATUS THEREFOR
- C25B11/00—Electrodes; Manufacture thereof not otherwise provided for
- C25B11/04—Electrodes; Manufacture thereof not otherwise provided for characterised by the material
- C25B11/051—Electrodes formed of electrocatalysts on a substrate or carrier
- C25B11/055—Electrodes formed of electrocatalysts on a substrate or carrier characterised by the substrate or carrier material
- C25B11/057—Electrodes formed of electrocatalysts on a substrate or carrier characterised by the substrate or carrier material consisting of a single element or compound
- C25B11/061—Metal or alloy
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Electrochemistry (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Electrodes For Compound Or Non-Metal Manufacture (AREA)
- Fuel Cell (AREA)
- Catalysts (AREA)
Abstract
Description
(1)前記導電性陰極基材が、部材同士が交差した多数の交差部を有する形態のものである場合に、塗布した段階で、この多数の交差部に、必要以上の量の塗布液が集まり、いわゆる液溜りが形成されることを見出した。更に、この液溜りは、その後に、乾燥・焼成工程を行うと、固化し、その結果、導電性基材の交差部に陰極触媒成分が過剰に固定された状態となるが、この液溜りに起因して生じた交差部に過剰に固定された陰極触媒成分は、電解に有効に寄与するものでなく、少なくとも、余分であり、むしろ無駄な部分に過ぎないものになっていることを見出した。本発明者は、これらの知見から、金網のような、部材同士が交差した多数の交差部を有する形態の導電性陰極基材に塗布液を付着させた際に、その多数の鋭角又は直角交差部における液溜りの発生を、防止又は抑止できれば、高価な陰極触媒成分の使用量を低減させることが可能になり、その経済的な効果は極めて大きいものがあるとの認識を持つに至った。
(2)また、前記陰極触媒層は、前記導電性陰極基材として用いられるニッケル又はニッケル合金のニッケル成分が、陰極触媒層中に「ニッケルレイヤー」となって析出しやすいという事実を見出した。更に、この触媒層中に析出する「ニッケルレイヤー」は、電極として使用される際に触媒層自身を剥離しやすくし、結果として、前記陰極触媒層を形成している高価な陰極触媒の消耗量が多くなり、電極の耐久性を損なう一因となっていることを見出した。上記の事実は、前記塗布液が酸性である場合に、電極基材として使用されるニッケル又はニッケル合金が当該塗布液により腐食溶解され、この現象が特に顕著に起きたため見出されたと考えられる。この問題を解決できれば、電極の耐久性の向上のみならず、陰極触媒層塗布液の凡用性を高めることができ、工業上、極めて有効である。
(1)まず、ニッケル又はニッケル合金よりなる導電性陰極基材に、陰極触媒成分の原料を含む塗布液を塗布・乾燥・固化して形成された陰極触媒層を有し、該陰極触媒層において、陰極基材の部材同士が交差した交差部に、余分で無駄な陰極触媒層(「液溜りの固化部分」)を生じていないか、或いは、従来のものよりも、過剰に固定される陰極触媒成分の量を低減できる、高価な陰極触媒成分の使用量の低減を達成した本発明の電解用陰極が簡便に得られる、本発明の電解用陰極の製造方法について説明する。前記したように、本発明は、多数の交差部を有する形態の導電性陰極基材の、少なくとも一方の面に、塗布法を利用して陰極触媒層を形成した際に生じる、本発明者が新たに見出した技術的課題を解決することを目的としている。そして、本発明では、上記した技術課題を、導電性陰極基材への陰極触媒層の形成工程で、1回以上、好ましくは塗布液の塗布を繰り返した場合における全回数、陰極触媒成分の原料を含む塗布液を塗布する直前の導電性陰極基材の温度が43℃〜120℃の範囲内になるように加熱する、という新たな構成によって解決し、上記した顕著な効果を実現している。したがって、本発明の製造方法において、上記した構成以外は、基本的には、従来の電解用陰極の製造方法と同様である。
以下に、本発明の技術課題を生じる対象となる形態をもつ導電性陰極基材について説明する。
本発明では、導電性陰極基材として、ニッケル又はニッケル合金を用いる。また、該導電性陰極基材(以下、「導電性基材」とも呼ぶ)は、金網、エキスパンドメタル、パンチングメタル又はこれに類似する形状の、部材同士が交差した多数の交差部を有する形態のものである。その理由は、本発明では、下記の点を、解決すべき技術的課題としているからである。即ち、陰極触媒成分を含む塗布液を導電性陰極基材に塗布した際に、例えば、金網を構成する線状の金属等の部材同士が交差する交差部に液溜りが生じ、この液溜りに起因して、交差部に陰極触媒成分が過剰に固定されることが起こっていた。しかし、この「液溜りの固化部分」は、陰極性能の向上への寄与の意味はなく、むしろ高価な材料が無駄に使用された箇所となっているとの知見を得て、本発明では、この「液溜りの固化部分」をできるだけ少なくすることを目的としている。
1.前処理工程
図1に、本発明の電解用陰極の製造方法の製造工程の一例を示した。図1に示したように、陰極触媒層の形成工程の前に、導電性基材に対して、前処理工程を実施してもよい。前処理工程としては、例えば、図1中に1で示したような、従来の製造工程で行われている各工程を実施するとよい。勿論、前処理工程は、図1中に示した前処理に限定されるものではない。
本発明の電解用陰極の製造方法を特徴づける工程は、図1中に2で示した、陰極触媒層形成工程にある。該工程では、上記した多数の交差部を有する形態の導電性基材の少なくとも一方の面に、陰極触媒成分(以下、単に「触媒成分」とも呼ぶ)の出発原料を含有する塗布液を塗布し、その後に前記基材に塗布した塗布液を乾燥・焼成する、塗布・乾燥・焼成の工程を、1回又は複数回繰り返すことで陰極触媒層(以下、単に「触媒層」とも呼ぶ)を形成する。本発明者の検討によれば、従来の方法では、塗布液を塗布する対象の導電性基材が、先に述べたように、表面積が大きい金網状基材であることから、焼成後、速やかに自然冷却されるので、上記一連の工程を複数回繰り返す場合であっても、再度、塗布液を塗布する場合における、塗布液を塗布する直前の導電性基材の温度は、周囲温度(常温)近傍となっており、少なくとも、43℃以上という高温となることはなかった。これに対し、本発明の製造方法では、この陰極触媒層形成工程で、1回以上、好ましくは塗布液を塗布する度の全回数、塗布液を塗布する直前の導電性基材の温度が43℃〜120℃の範囲内になるように、得られる効果と昇温に必要なコストとの兼ね合いから、好適には43〜63℃の範囲内になるように加熱する構成としたことで、従来にない経済的な電解用陰極を得ることを可能にする。上記したように、従来の方法では、塗布液を塗布する直前の導電性基材の温度を制御することが行われることはなく、周囲温度(常温)のままの状態の導電性基材に塗布液を塗布することが行われており、少なくとも43℃以上という高温となることはなかった。後述するように、本発明者は、塗布液を塗布する直前の金網状等の導電性基材の温度を従来よりも高くしておくことで、陰極触媒層を形成するのに用いられる高価な陰極触媒成分の使用量を低減できるという新たな知見に基づき本発明を達成した。
上記したように、本発明の電解用陰極の製造方法は、導電性基材の少なくとも一方の面に陰極触媒層を形成する触媒層の形成工程において、1回以上、前記塗布液を塗布する直前の導電性基材の温度を、特定の温度範囲内となるようにしたことを特徴とするが、その他の工程は、従来の電解用陰極の製造方法における陰極触媒層の形成方法と同様でよい。具体的には、従来、多数の交差部を有する導電性基材(金網状基材)の表面に陰極触媒層を形成する場合には、該基材の表側となる一方の面に、触媒成分の出発原料を含有する塗布液を塗布し、その後に乾燥・焼成を行い、この塗布・乾燥・焼成の一連の工程を複数回繰り返すことで、所望する量の陰極触媒成分を有する、所望の厚さの陰極触媒層を基材表面に形成しているが、本発明の方法も基本的には同様である。本発明の製造方法の特徴は、塗布・乾燥・焼成の一連の工程を複数回繰り返す場合に、1回以上、塗布液を塗布する直前の導電性基材の温度が43℃〜120℃の範囲内になるように加熱して、基材に塗布液を塗布するように構成した点にある。
(温度範囲)
上記経済性に優れる本発明の電解用陰極は、塗布工程の前段で金網状基材に対して行うプリヒーティング工程で、塗布液を塗布する直前の金網状基材の温度を43℃〜120℃の範囲内になるように加熱することで容易に得られる。上記温度は、43℃を下回る温度では、顕著な効果がなく、一方、120℃を超える温度、例えば、塗布液の沸点温度近くになると、塗布液が蒸発してしまい、塗布液の沸点より大幅に下回る温度以下になるよう加熱する必要がある。本発明で規定する臨界的温度範囲は、実験によって検証されたものである。本発明者の詳細な検討によれば、本発明の顕著な効果が得られる下限値は43℃であり、一方、温度が高くなるにつれて本発明で課題としている「液溜りの固化部分」を少なくできる傾向があり、120℃でも顕著な効果が得られる。しかし、実施例に示した通り、63℃程度で、陰極触媒成分の低減において高い効果を実現しており、加熱に要するコストを勘案した場合、塗布液を塗布する直前の金網状基材の温度は63℃程度とすることがより好ましい。
(1)前記導電性陰極基材が、部材同士が交差した多数の交差部を有する形態のものである場合に、塗布した段階で、この多数の交差部に、必要以上の量の塗布液が集まり、いわゆる液溜りが形成される。そして、この液溜りは、その後に、乾燥・焼成工程を行うと、固化し、その結果、導電性基材の交差部に陰極触媒成分が過剰に固定された状態となるが、この液溜りに起因して生じた交差部に過剰に固定された陰極触媒成分は、電解に有効に寄与するものでなく、少なくとも、余分であり、むしろ無駄な部分であることを確認した。
(2)ニッケル基材に塗布液を塗布した場合、通常、直接接触或いは陰極触媒層を浸透して、ニッケル基材と塗布液とが接触する現象は、次工程である乾燥工程まで継続する。そのため、特に塗布液が酸性である場合、ニッケル基材が下層の塗布液の膜中或いは半乾燥状態の塗布液中に溶出し、その後の焼成工程で、陰極触媒層中にニッケルレイヤーが形成される。このレイヤーは、長期電解或いは短時間の逆電解により加速度的に溶出し、この空隙を起点とした陰極触媒層の剥離を引き起こす。その結果、陰極触媒の消耗量が多くなる。
(1)金網等の多数の交差部を有する導電性陰極基材の表面に塗布法を利用して陰極触媒成分を含む塗布液を塗布して前記導電性基材の表側と裏側に陰極触媒層を形成した際に、多数の交差部に、塗布液の液溜りに起因する陰極触媒成分を過剰に含む固化した部分(余分で無駄な部分)が生じないか、このような塗布液の液溜りに起因する固化した部分が生じていたとしても、この部分の断面の形態が、多数の鬆(す)が確認できる網目状の細孔を有するものになる。この結果、余分で無駄な固化部分が低減されるので、形成した陰極触媒層に用いられる高価な陰極触媒成分の量が、従来の陰極触媒層に比べて効果的に低減でき、その結果、経済性に優れた電解用陰極の提供が可能になる。
(2)塗布液を基材に塗布後からの塗布液自身の乾燥を促進することが可能なため、酸性の塗布液とニッケル基材とが接触する時間は短く、ニッケルの陰極触媒層への溶出を抑制することができる。この結果、陰極触媒層中のニッケルレイヤー形成はない。即ち、陰極触媒層を形成する際に高温で焼成した場合に、ニッケルは、陰極触媒層中に、ニッケル析出部として、析出することがなく、ニッケル析出部による陰極触媒層の剥離が防止され、結果として、使用時における陰極触媒の消耗量を低減することができ、電解用陰極の耐久性が向上する。
本発明で使用するプリヒーティング工程における、金網状基材に対する予熱する手段としては、発熱効率が高いことや、昇温レスポンスが早いといった理由から、例えば、誘導加熱装置を用いることが好ましいが、勿論、その他の加熱手段を用いることもできる。その他の加熱手段としては、赤外線やラジアントチューブなどによる輻射熱を用いた加熱方法や、温風を導電性基材に当てる加熱などが挙げられ、これらの方法を、状況に合わせて適宜に利用することが可能である。
次に、本発明の製造方法で規定する陰極触媒成分の出発原料を含有する塗布液を、先に説明したようにして、43℃〜120℃の温度範囲内にした金網状基材の少なくとも一方の面に塗布する塗布工程について説明する。この際に行う塗布液を塗布する方法としては特に限定されないが、上記の温度範囲内にした金網状基材の少なくとも一方の面に、例えば、ローラー又はスプレー等の方法により塗布液を塗布し、その後に、乾燥・焼成して触媒層を形成することで、先に述べた本発明の顕著な効果を得ている。塗布方法は、上記したローラー又はスプレー以外の方法、例えば、刷毛塗り、静電塗装、その他の方法によって行うこともできる。
白金:塩化白金酸或いは白金硝酸化合物:
イリジウム:塩化イリジウム
ルテニウム:塩化ルテニウム
パラジウム:塩化パラジウム
チタン:塩化チタン
タンタル:五塩化タンタル
セリウム:塩化セリウム
ニッケル:硝酸ニッケル
前記した塗布工程で形成した塗布層は、その後に、乾燥・焼成されて、触媒層を形成する。乾燥工程は、特に限定されないが、例えば、コーティングブースから続く連続炉の乾燥ゾーンを経てレベリングされた後、乾燥時間5〜10分、設定温度30℃〜80℃の温度で乾燥される。なお、この乾燥工程は、塗布液の塗布後に、焼成の前段階として行われるものであって、本発明を特徴づける塗布液を塗布する前に金網状基材を加熱して、塗布液の塗布に供する基材温度を特定の範囲内にするプリヒーティング工程とは明確に区別されるものである。
前記2−3の乾燥工程後の塗布液の塗布層は、焼成工程で焼成されて、触媒成分(触媒層形成物質)を含有してなる陰極触媒層となる。塗布・乾燥・焼成を繰り返す場合は、触媒層の一部となる。焼成工程における焼成方法は、特に限定されないが、例えば、乾燥工程が行われる乾燥ゾーンから続く連続炉の焼成ゾーンを使用して行われる。焼成条件も特に限定されず、陰極触媒成分によっても異なるが、例えば、大気雰囲気で、焼成時間10〜15分、焼成温度約350〜600℃といった条件で焼成される。
本発明の電解用陰極の製造方法では、上記したような触媒層形成工程の後に、図1に示したように、必要に応じて、性能調整工程、中和処理工程、形状加工などの後処理がなされ、電解用陰極が製造される。これらの後処理工程は、本発明においても従来の方法と同様に行えばよく、従来の方法と何ら異なるものではない。
<実施例1〜4及び比較例1、2>
図3に示した工程図に従って、金網からなる導電性基材を用い、該金網状基材に、塗布法を利用して陰極触媒成分を含有する触媒層を形成した。図3に示したように、導電性基材には、1.の前処理工程で前処理した金網状基材を用い、該金網状基材に、2.の陰極触媒層形成工程の手順で陰極触媒層を形成した。その際、2−1のプリヒーティング工程を実施しないか、或いは、プリヒーティング工程を実施することで、塗布液を塗布する直前の金網状基材の温度を種々に変化させた。それ以外の2−2〜2−4の工程は、後述する方法で同様に行った。そして、得られた陰極触媒層が形成された金網状基材の交差部の部分の性状を比較するため、図3に示した4.の手順で、「液溜りの固化部分」の断面形態における空孔率の測定用サンプルを作製し、後述する方法で空孔率を測定した。そして、測定した空孔率を用いて、本発明を特徴づけるプリヒーティング工程を実施したことによる高価な陰極触媒成分の低減効果を評価した。以下に、各工程の手順等について説明する。
上記試験では、導電性基材として、ニッケル製の平織金網基材(φ0.15×40メッシュ)を使用した。それぞれ条件の異なる試験を行ったが、各条件の試験毎に、100mm角サイズの上記金網を、それぞれ4枚ずつ用意した。これらの金網状基材には、いずれも下記の前処理がされているものを用いた。
[1−1:粗面化処理工程]
金網状基材の両面をアルミナ研磨剤(#320サイズ)にて乾式ブラスト処理を施して粗面化処理した。
金網状基材を20%塩酸水溶液中(約25℃)にて約3分間浸漬して、エッチング処理を行うと同時に基材の水洗浄処理を行った。
金網状基材を大気中で約500℃、30分以内の加熱処理を行った。
陰極触媒成分の出発原料として塩化ルテニウム(RuCl3)溶液、塩化セリウム粉末及びシュウ酸粉末を用い、塩化ルテニウム溶液に塩化セリウム粉末とシュウ酸粉末を混合溶解した無機・有機混合溶液を酸性の塗布液として用意した。その際、配合濃度をRu濃度で、100g/Lと、200g/Lとなるよう調整した、低濃度と高濃度の濃度の異なる2種類の塗布液を作製した。
上記した金網状基材及び塗布液を用い、図3に示した2.陰極触媒層形成工程に従って、金網状基材に触媒層を形成した。
炉内サイズが200mm(W)×200mm(H)×200mm(L)の電気炉を準備し、これを用いて塗布前のサンプル加熱を行なった。
(2)加熱の設定温度を60℃としてプリヒーティングして、塗布液を塗布する直前の金網状基材の温度を上昇させた。そして、各金網状基材について、この時の基材温度を測定したところ、基材温度は、いずれの基材も43℃〜46℃の範囲内で安定していることを確認した(実施例1、2)。以下、この条件を、上記試験で効果の検証がなされた下限値の43℃をとり、43℃と表記した。なお、本明細書の全体において、43℃としている表記は、同様の意味を有する。
(3)加熱の設定温度を90℃としてプリヒーティングして、塗布液を塗布する直前の金網状基材の温度を上昇させた。そして、各金網状基材について、この時の基材温度を測定したところ、基材温度は、いずれの基材も62℃〜64℃の範囲内で安定していることを確認した(実施例3、4)。以下、この条件を中央値の63℃と表記した。即ち、63℃は、±1℃の誤差をもって実測された温度を意味している。なお、本明細書の全体において、63℃としている表記は、同様の意味を有する。
先に準備した低濃度塗布液(100g/L濃度塗布液)と、高濃度塗布液(200g/L濃度塗布液)とをそれぞれに用い、これらの塗布液を、前記したプリヒーティング工程で各温度にそれぞれ調整された金網状基材の一方の面に、電気炉から取り出した直後コーティングブース内でローラーコーティングにより塗布した。以下に、塗布工程の詳細を説明する。
塗布工程では、前記塗布液の種類と、塗布液を塗布する直前の金網状基材の温度を替えた組合せで、各金網状基材に塗布液を塗布し、その後に、乾燥工程、焼成工程で、塗布液を乾燥・焼成して陰極触媒層を形成した。その際に、具体的には、以下のようにして実施した。
(イ)各金網状基材に予め刻印で識別マークを付けた。その際、それぞれの条件で、4枚ずつの金網状基材を用いてバラツキを確認した。
(ロ)金網状基材の温度が、変化しないように基材の保持用裏板を用い、速やかに塗布液を塗布するようにした。
(ハ)塗布液の規定量を容器に注入し、適量ローラーに染み込ませローラーを基材に軽く押し付け転写し、更に、規定量の全量を基材に転写させ塗布した。
(ニ)塗布後、乾燥工程で、5分×60℃乾燥した。
(ホ)乾燥後、焼成工程で、10分×550℃焼成を行った。
(へ)各金網状基材について、上記(ハ)〜(ホ)を規定回数(12回)繰り返して、陰極触媒層を形成した。
(4−1)測定用サンプル採取
先に製作した試料1〜6の触媒層を形成した実施例1〜4、比較例1、2の金網状基材の中央部から、それぞれ約20mm角サイズを切り出した。
(4−2)金網状基材の樹脂埋込及び研磨
上記で切り出した金網状基材を鉛直方向に透明樹脂に埋込み、研磨等を行って交差部の基材の断面を露出させる測定用試料の調製を行った。
(4−3)電子顕微鏡観察
交差部の「液溜りの固化部分」の断面を電子顕微鏡で観察し、空孔率測定に使用する画像を抽出した。
抽出した電子顕微鏡で観察し、抽出した画像の「液溜りの固化部分」のそれぞれについて、2値化処理用画像ソフトを用いて空孔率を測定した。図4〜図6にその一例を示した。具体的には、図4に示したように、まず、抽出した画像の「液溜りの固化部分」の断面形態について、液溜まりに起因する固化部分の範囲を特定して認識させる作業を行い、その部分の面積を求めさせた。これとともに、上記の特定した範囲内にある多数の空孔部分をそれぞれ特定して認識させる作業を行い、個々の空孔について面積を求め、空孔のトータルの面積を求めさせた。そして、上記で求めた液溜まりに起因する固化部分の範囲の面積に対する、空孔のトータルの面積の割合を算出し、これを「液溜りの固化部分」の断面形態における空孔率とした。
y=0.9369x−19.495 (1)
R2=0.7127
このことは、常温(周囲温度)の塗布液を塗布する直前の金網状基材の温度を高くすることで、金網状基材の交差部の「液溜りの固化部分」の断面形態における空孔率を確実に高くできることを示している。「液溜りの固化部分」の断面形態における空孔率が高くなることは、形成した触媒層中の高価な陰極触媒成分の使用量が低減することを意味している。
y=1.2261x−27.692 (2)
R2=0.5409
(1)比較例1及び比較例2の結果
本発明を特徴づけるプリヒーティングを全く実施せず、金網状基材の温度を周囲温度(25℃)のまま塗布液を塗布した場合、比較例1の試料1の結果を示した図6からわかるように、金網状基材の交差部の「液溜りの固化部分」の断面の形態は、実施例の場合と明らかに異なり、内部まで鬆(す)が確認できる網目状の細孔を有するものではなかった。図示しなかったが、使用する塗布液の濃度を高めた比較例2の試料2でも同様であった。また、表2〜4に示した通り、比較例1の試料1及び比較例2の試料2における空孔率は、塗布液の濃度にかかわらず、最大でも18%程度で、平均値は8%未満と小さく、金網状基材の温度を周囲温度(25℃)のまま塗布液を塗布した場合、「液溜りの固化部分」は、触媒成分が過剰に存在する詰まった状態になっており、陰極性能の向上に寄与しない部分に陰極触媒成分が無駄に使用されていることが確認された。
実施例1の試料3及び実施例2の試料4では、金網状基材を、電気炉の設定温度を60℃にして加熱し、常温(周囲温度)の塗布液を塗布する直前の金網状基材の温度を43℃程度とし、触媒層を形成した。図示しなかったが、これらの実施例では、比較例の図6と異なり、金網状基材の交差部の「液溜りの固化部分」の断面の形態が、内部まで鬆(す)が確認できる網目状の細孔を有するものとなった。また、表2〜4及び図7に示した通り、実施例1の試料3及び実施例2の試料4では、金網状基材の交差部の「液溜りの固化部分」の断面形態における空孔率は、最大29%程度、平均値は15%〜17%であり、金網状基材の温度を周囲温度のままに塗布液を塗布した比較例の場合に比べて、明らかに空孔率が高くなることが確認された。このことから、塗布液を塗布する直前の金網状基材の温度を43℃程度に高めれば、確実に、「液溜りの固化部分」において、陰極触媒成分が過剰で、無駄な使用がされている状態が解消されて、触媒層を形成するための陰極触媒成分の量の低減が可能になることが分かった。
実施例3の試料5及び実施例4の試料6では、金網状基材を、電気炉の設定温度を90℃にして加熱し、常温(周囲温度)の塗布液を塗布する直前の金網状基材の温度を63℃程度とし、触媒層を形成した。図4に示した通り、実施例3の試料5では、比較例の図6と異なり、金網状基材の交差部の「液溜りの固化部分」の断面の形態が、内部まで鬆(す)が確認できる網目状の細孔を有するものとなった。また、図5に示したように、実施例3の場合よりも塗布液の濃度を高めた実施例4の試料6では、場合によっては、金網状基材の交差部の「液溜りの固化部分」が存在しない状態とできることが確認された。表2〜4及び図8に示した通り、基材温度を63℃とした実施例3の試料5及び実施例4の試料6では、金網状基材の交差部の「液溜りの固化部分」の断面形態における空孔率は、最大100%、固化部分が存在する場合でも67%程度と極めて高く、平均値も43%〜55%と高かった。このことから、基材温度を63℃とより高くしたことで、金網状基材の温度を周囲温度のままに塗布液を塗布した比較例の場合とは勿論、塗布液を塗布する直前の金網状基材の温度を43℃程度とした実施例1の試料3及び実施例2の試料4に比べても明らかに空孔率が高くなり、陰極触媒成分の使用量の低減がより顕著になることが確認された。
次に、塗布工程の前段で行うプリヒーティング工程で、塗布液を塗布する直前の金網状基材の温度を43℃(実施例5)及び63℃(実施例6)になるように加熱した後、基材に塗布した塗布液を乾燥・焼成する塗布法を利用して、導電性基材の表側と裏側に陰極触媒成分を含有する陰極触媒層を形成して得た実施例5、6の電解用陰極と、上記プリヒーティング工程を行うことなく、常温のままで、金網状基材に塗布した塗布液を乾燥・焼成する塗布法を利用して、上記実施例と同様にして陰極触媒層を形成した比較例3の電解用陰極をそれぞれに用い、電解試験を行った。そして、電解前後の電極について、陰極触媒層中のニッケル析出部、それにより生じる剥離の状態について、下記の実験により確認した。
(試験サンプルの製造方法)
本試験に供した実施例のサンプルの製造方法では、基材を、塗布液を塗布する前に電気加熱式乾燥炉に所定温度で加熱保持しておき、塗布液を塗布する直前に乾燥炉から取り出し基材が冷めないうちに塗布液を塗布し、その後乾燥と焼成する、という一連の塗布工程を所定回数繰り返し、試験用のサンプルを製作した。比較例のサンプルの調製は、基材を加熱保持することを行わない以外は、上記と同様にした。
上記のようにして得た各評価用の電極サンプルに対し、表5に示した順序で、逆電解を含む電解を行った。逆電解を行った場合、触媒層中に「ニッケルレイヤー」の析出があると剥離が生じる。電解試験後、サンプルは水洗し、乾燥を経て秤量し、予め測定しておいた初期重量を用い、消耗量を算出した。
基材:φ0.15mmのニッケル線を使用した平織り金網
塗布液:実施例1〜4に示した塗布液と同様
2)電解条件(表5に記載の電解順序による)
Claims (6)
- 線状或いは帯状の部材同士が交差する部分を交差部とする多数の交差部を有する金網、その空孔の直角又は鋭角部分を交差部とする多数の交差部を有するエキスパンドメタル又はパンチングメタルのいずれかよりなる導電性陰極基材と、
該導電性陰極基材の表側に、陰極触媒成分の出発原料を含む塗布液を塗布し、その後に塗布した塗布液を乾燥・焼成する塗布法を利用して前記導電性陰極基材の表側と裏側に形成されてなる前記陰極触媒成分を含有する陰極触媒層を有し、
前記陰極触媒成分が、白金、イリジウム、ルテニウム、パラジウム、オスミウム、ニッケル及びこれらの酸化物から選択された少なくとも1種を含有し、
前記導電性陰極基材がニッケル又はニッケル合金であり、
前記導電性陰極基材の交差部に、液溜りの固化部分が認められないか、認められる場合はその固化部分の断面の形態が網目状の細孔を有し、前記固化部分の平均空孔率が15%以上のものであることを特徴とする電解用陰極。 - 前記平均空孔率が44%以上である請求項1に記載の電解用陰極。
- 請求項1又は2に記載の電解用陰極を製造する方法であって、
線状或いは帯状の部材同士が交差する部分を交差部とする多数の交差部を有する金網、その空孔の直角又は鋭角部分を交差部とする多数の交差部を有するエキスパンドメタル又はパンチングメタルのいずれかよりなる導電性陰極基材の少なくとも一方の面に、陰極触媒成分の出発原料を含有する塗布液を塗布し、その後に前記基材に塗布した塗布液を乾燥・焼成する工程を、1回又は複数回行って前記陰極触媒成分を含有する陰極触媒層を前記導電性陰極基材の表側と裏側に形成する陰極触媒層形成工程を有し、
前記陰極触媒成分が、白金、イリジウム、ルテニウム、パラジウム、オスミウム、ニッケル及びこれらの酸化物から選択した少なくとも1種を含有し、
前記導電性陰極基材がニッケル又はニッケル合金であり、
前記陰極触媒層形成工程で、1回以上、前記塗布液を塗布する直前の導電性陰極基材の温度が43℃〜120℃の範囲内になるように加熱することを特徴とする電解用陰極の製造方法。 - 前記陰極触媒層形成工程において、前記塗布液を塗布する工程の上流側に、前記導電性陰極基材に対して予熱する手段を設け、前記塗布液を塗布し、その後に前記基材に塗布した塗布液を乾燥・焼成する工程を複数回繰り返し、繰り返しをする全回数、前記予熱する手段を用いて、前記塗布液を塗布する直前の導電性陰極基材の温度が43℃〜120℃の範囲内になるように加熱する請求項3に記載の電解用陰極の製造方法。
- 前記塗布液を塗布する直前の前記導電性陰極基材を、43℃〜63℃の温度範囲内になるように加熱する請求項3又は4に記載の電解用陰極の製造方法。
- 前記塗布液が酸性である請求項3〜5のいずれか1項に記載の電解用陰極の製造方法。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014145423 | 2014-07-15 | ||
JP2014145423 | 2014-07-15 | ||
PCT/JP2015/070185 WO2016010045A1 (ja) | 2014-07-15 | 2015-07-14 | 電解用陰極及び電解用陰極の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2016010045A1 true JPWO2016010045A1 (ja) | 2017-04-27 |
JP6374966B2 JP6374966B2 (ja) | 2018-08-15 |
Family
ID=55078535
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2016534453A Active JP6374966B2 (ja) | 2014-07-15 | 2015-07-14 | 電解用陰極及び電解用陰極の製造方法 |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US10676831B2 (ja) |
EP (1) | EP3187626B1 (ja) |
JP (1) | JP6374966B2 (ja) |
KR (1) | KR101894427B1 (ja) |
CN (1) | CN106661745B (ja) |
TW (1) | TWI650446B (ja) |
WO (1) | WO2016010045A1 (ja) |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US10466515B2 (en) | 2016-03-15 | 2019-11-05 | Intel Corporation | On-chip optical isolator |
US20180059446A1 (en) * | 2016-08-29 | 2018-03-01 | Woosung Kim | Optical iso-modulator |
JP6734920B2 (ja) * | 2017-02-15 | 2020-08-05 | 旭化成株式会社 | 陰極、その製造方法、およびそれを用いた電解槽、水素製造方法 |
JP6500937B2 (ja) * | 2017-05-29 | 2019-04-17 | 住友金属鉱山株式会社 | 金属電着用陰極板及びその製造方法 |
WO2023150511A2 (en) * | 2022-02-01 | 2023-08-10 | Verdagy, Inc. | Flattened wire mesh electrode in an electrolyzer |
WO2024262444A1 (ja) * | 2023-06-23 | 2024-12-26 | パナソニックIpマネジメント株式会社 | 水電解用電極の製造方法 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5522556B2 (ja) * | 1975-05-12 | 1980-06-17 | ||
JPH03253590A (ja) * | 1990-03-02 | 1991-11-12 | Permelec Electrode Ltd | 水電解用電極の製造方法 |
Family Cites Families (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
BE793979A (fr) | 1972-01-15 | 1973-07-12 | Kalle Ag | Procede pour produire des cliches pour l'impression a plat et matiere pour de tels cliches |
US4300992A (en) * | 1975-05-12 | 1981-11-17 | Hodogaya Chemical Co., Ltd. | Activated cathode |
US5164062A (en) * | 1990-05-29 | 1992-11-17 | The Dow Chemical Company | Electrocatalytic cathodes and method of preparation |
JP3253590B2 (ja) | 1998-08-31 | 2002-02-04 | シャープ株式会社 | ハーフトーンマスクの製造方法 |
JP4142191B2 (ja) * | 1999-02-24 | 2008-08-27 | ペルメレック電極株式会社 | 活性化陰極の製造方法 |
JP2004196646A (ja) * | 2002-10-23 | 2004-07-15 | Nissan Motor Co Ltd | 燃料改質装置 |
TW200304503A (en) * | 2002-03-20 | 2003-10-01 | Asahi Chemical Ind | Electrode for generation of hydrogen |
TWI255865B (en) | 2002-11-27 | 2006-06-01 | Asahi Kasei Chemicals Corp | Bipolar, zero-gap type electrolytic cell |
JP5522556B1 (ja) | 2013-06-05 | 2014-06-18 | 山佐株式会社 | 遊技機 |
JP5548296B1 (ja) | 2013-09-06 | 2014-07-16 | ペルメレック電極株式会社 | 電解用電極の製造方法 |
-
2015
- 2015-07-14 EP EP15822165.5A patent/EP3187626B1/en active Active
- 2015-07-14 JP JP2016534453A patent/JP6374966B2/ja active Active
- 2015-07-14 WO PCT/JP2015/070185 patent/WO2016010045A1/ja active Application Filing
- 2015-07-14 US US15/316,733 patent/US10676831B2/en active Active
- 2015-07-14 KR KR1020177000542A patent/KR101894427B1/ko active IP Right Grant
- 2015-07-14 CN CN201580038450.2A patent/CN106661745B/zh active Active
- 2015-07-15 TW TW104122921A patent/TWI650446B/zh active
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5522556B2 (ja) * | 1975-05-12 | 1980-06-17 | ||
JPH03253590A (ja) * | 1990-03-02 | 1991-11-12 | Permelec Electrode Ltd | 水電解用電極の製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN106661745B (zh) | 2020-05-01 |
KR101894427B1 (ko) | 2018-09-04 |
KR20170018893A (ko) | 2017-02-20 |
EP3187626A1 (en) | 2017-07-05 |
EP3187626B1 (en) | 2020-09-16 |
TWI650446B (zh) | 2019-02-11 |
JP6374966B2 (ja) | 2018-08-15 |
CN106661745A (zh) | 2017-05-10 |
US20170198402A1 (en) | 2017-07-13 |
TW201612360A (en) | 2016-04-01 |
US10676831B2 (en) | 2020-06-09 |
WO2016010045A1 (ja) | 2016-01-21 |
EP3187626A4 (en) | 2018-05-16 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6374966B2 (ja) | 電解用陰極及び電解用陰極の製造方法 | |
JP5548296B1 (ja) | 電解用電極の製造方法 | |
JP2023523690A (ja) | 電極を製造するための金属基材の処理のための方法 | |
JP7073104B2 (ja) | 塩素発生用電極およびその製造方法 | |
TW201343983A (zh) | 金屬材料之表面處理方法及金屬材料 | |
TWI606147B (zh) | Cathode for electrolysis, method for producing the same, and electrolytic cell for electrolysis | |
Ma et al. | Effect of Barrier Layer on Corrosion Resistance of Porous-Type Anodic Films Formed on AA2055 Al–Cu–Li Alloy and Pure Aluminum | |
Bi et al. | Physicochemical characterization of electrosynthesized PbO2 coatings: the effect of Pb2+ concentration and current density | |
Li et al. | A modified quantitative method for regularity evaluation of porous AAO and related intrinsic mechanisms | |
KR101681537B1 (ko) | 불용성 전극의 제조방법 및 이에 의해 제조된 불용성 전극 | |
CN104313565A (zh) | 一种超疏水铜箔的制备方法 | |
JP5789058B2 (ja) | 光触媒体の製造方法 | |
JP2003277967A (ja) | 水素発生用陰極の製造方法 | |
TWI472424B (zh) | A metal material, a surface treatment method of a metal material, a method of manufacturing a water repellent material using a metal material as a substrate, and a manufacturing apparatus for a metal material | |
Wang et al. | Preparation and characterization of antimony-doped tin dioxide interlayer and β-PbO2 film on porous titanium | |
JP6200882B2 (ja) | 水素水生成用電極及び製造方法 | |
JP5966782B2 (ja) | 不溶性陽極 | |
JP2022124171A (ja) | 金属コロイド水生成装置及び金属コロイド水生成方法 | |
TW574414B (en) | Process for producing Al2O3 ceramic coating on MAR-M247 superalloy by electrolytic deposition |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20170404 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20180508 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20180629 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20180710 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20180720 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6374966 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |