JPWO2015152295A1 - 合わせガラス用中間膜及び合わせガラス - Google Patents

Abstract

本発明は、２層以上の多層構造を有しながら光学歪みの小さい合わせガラス用中間膜、及び、該合わせガラス用中間膜を用いた合わせガラスを提供することを目的とする。本発明は、少なくとも一方の表面に、多数の微細な凹部と多数の微細な凸部とを有し、第１の表面層と第２の表面層とを含む２層以上の熱可塑性樹脂と可塑剤とを含有する樹脂層が積層された合わせガラス用中間膜であって、合わせガラス用中間膜を２３℃、湿度３０％ＲＨ下に３時間放置した後に、２３℃、湿度３０％ＲＨ下でミクロトームを用いて合わせガラス用中間膜を水平方向に、前記第１の表面層と該第１の表面層の内側に接する樹脂層との界面から第１の表面層側に８０〜９０μｍの位置で切断し、次いで該切断面より更に第２の表面層側に５０μｍの位置で切断して得られた厚さ５０μｍの樹脂膜１について、切断後に温度２３℃、湿度３０％ＲＨ下に３時間放置した後にＪＩＳ Ｂ−０６０１（１９９４）に準ずる方法により測定した表面粗さ（Ｒｚ）が２．５μｍ未満である合わせガラス用中間膜である。

Description

本発明は、２層以上の多層構造を有しながら光学歪みの小さい合わせガラス用中間膜、及び、該合わせガラス用中間膜を用いた合わせガラスに関する。

２枚のガラス板の間に、可塑化ポリビニルブチラールを含有する合わせガラス用中間膜を挟み、互いに接着させて得られる合わせガラスは、自動車、航空機、建築物等の窓ガラスに広く使用されている。

合わせガラス用中間膜は、ただ１層の樹脂層により構成されているだけではなく、２層以上の樹脂層の積層体により構成されていてもよい。第１の表面層と第２の表面層とを含む２層以上の樹脂層を積層し、かつ、各々の樹脂層が異なる性質を有するものとすることにより、１層だけでは実現が困難であった種々の性能を有する合わせガラス用中間膜を提供することができる。
例えば特許文献１には、遮音層と該遮音層を挟持する２層の保護層とからなる３層構造の合わせガラス用中間膜が開示されている。特許文献１の合わせガラス用中間膜では、可塑剤との親和性に優れるポリビニルアセタールと大量の可塑剤とを含有する遮音層を有することにより優れた遮音性を発揮する。一方、保護層は、遮音層に含まれる大量の可塑剤がブリードアウトして中間膜とガラスとの接着性が低下することを防止している。

しかしながら、このような２層以上の樹脂層が積層された合わせガラス用中間膜を用いた合わせガラスでは、光学歪みが生じることがあった。特に、合わせガラス用中間膜をガラス板の曲面形状（例えば自動車のフロントガラスの曲面形状）に合うように、加熱して伸展させた場合、得られる合わせガラスの光学歪みが増大してしまうという問題があった。なお、合わせガラスの光学歪みとは、合わせガラスを通して物体を観測した際に、物体がゆがんで見える現象を意味する。

特開２００７−３３１９５９号公報

本発明は、２層以上の多層構造を有しながら光学歪みの小さい合わせガラス用中間膜、及び、該合わせガラス用中間膜を用いた合わせガラスを提供することを目的とする。

本発明は、少なくとも一方の表面に、多数の微細な凹部と多数の微細な凸部とを有し、第１の表面層と第２の表面層とを含む２層以上の熱可塑性樹脂と可塑剤とを含有する樹脂層が積層された合わせガラス用中間膜であって、合わせガラス用中間膜を２３℃、湿度３０％ＲＨ下に３時間放置した後に、２３℃、湿度３０％ＲＨ下でミクロトームを用いて合わせガラス用中間膜を水平方向に、前記第１の表面層と該第１の表面層の内側に接する樹脂層との界面から第１の表面層側に８０〜９０μｍの位置で切断し、次いで該切断面より更に第２の表面層側に５０μｍの位置で切断して得られた厚さ５０μｍの樹脂膜１について、切断後に温度２３℃、湿度３０％ＲＨ下に３時間放置した後にＪＩＳ Ｂ−０６０１（１９９４）に準ずる方法により測定した表面粗さ（Ｒｚ）が２．５μｍ未満である合わせガラス用中間膜である。
以下に本発明を詳述する。

本発明者らは、２層以上の樹脂層が積層された合わせガラス用中間膜を用いた場合の光学歪みの発生の原因を検討した。その結果、製造時に積層体をロール間に通して圧延したときの圧力により、合わせガラス用中間膜中に残留する応力が原因であることを見出した。

合わせガラスの製造工程においては、ガラスと合わせガラス用中間膜とを積層する際の脱気性が重要である。合わせガラス用中間膜の少なくとも一方の表面は、合わせガラス製造時の脱気性を確保する目的で、微細な凹凸を有する。このような凹凸を付与するためには、通常、積層体を加熱したエンボスロール間に通して圧延することにより、エンボスロール上の凹凸を積層体に転写することが行われる。このエンボスロール間を通過させる際の圧延処理により、得られる合わせガラス用中間膜中に応力が残留すると考えられる。
また、エンボス付与工程のほかにも、合わせガラス用中間膜の巾を広げる目的で、積層体を加熱したロール間に通して圧延することが行われる。このような操作によっても、得られる合わせガラス用中間膜中に応力が残留すると考えられる。

本発明者らは、更に鋭意検討の結果、上記残留応力は特に合わせガラス用中間膜の表面層と該表面層の内側に接する樹脂層との界面付近に集中し、これが光学歪み発生の原因となっていること、合わせガラス用中間膜を水平方向に切断して得た特定部位の樹脂膜の界面側の表面粗さ（Ｒｚ）を測定することにより応力残留の程度を評価できること、及び、該樹脂膜の界面側の表面粗さ（Ｒｚ）を一定以下とすることにより、光学歪みの少ない合わせガラス用中間膜が得られることを見出し、本発明を完成した。

本発明の合わせガラス用中間膜は、少なくとも一方の表面に、多数の微細な凹部と多数の微細な凸部とを有する。本発明の合わせガラス用中間膜においては、上記凹部は、底部が連続した溝形状（刻線状）を有し、且つ、規則的に並列していることが好ましい。
また、本発明の合わせガラス用中間膜においては、上記凹部は、底部が連続した溝形状を有し、且つ、平行に並列していることが好ましい。また、本発明の合わせガラス用中間膜においては、上記凹部は、底部が連続した溝形状を有し、且つ、上記凹部が平行して規則的に並列していることが好ましい。
一般に、２枚のガラス板の間に合わせガラス用中間膜が積層された積層体を予備圧着及び本圧着するときの空気の抜け易さは、上記凹部の底部の連通性及び平滑性と密接な関係がある。
中間膜の少なくとも一方の面の凹凸の形状を、底部が連続した溝形状である凹部が規則的に並列している形状とすることにより、上部の底部の連通性はより優れ、予備圧着及び本圧着の際に著しく脱気性が向上する。また、中間膜の少なくとも一方の面の凹凸の形状を、底部が連続した溝形状である凹部が平行に並列している形状とすることにより、上部の底部の連通性はより優れ、予備圧着及び本圧着の際に著しく脱気性が向上する。また、中間膜の少なくとも一方の面の凹凸の形状を、底部が連続した溝形状である凹部が平行して規則的に並列している形状とすることにより、上部の底部の連通性は更により一層優れ、予備圧着及び本圧着の際に更により一層著しく脱気性が向上する。
なお、「規則的に並列している」とは、多数の微細な凹部と凸部とを有する中間膜の表面を観察した際に、一定の方向に周期的に底部が連続した溝形状である凹部が並列していることを意味する。また、「平行して並列している」とは、隣接する上記凹部が平行して等間隔に並列していてもよく、隣接する上記凹部が平行して並列しているが、すべての隣接する上記凹部の間隔が等間隔でなくともよいことを意味する。
図１及び図２に、表面に底部が連続した溝形状である凹部が等間隔、かつ、隣接する凹部が平行して並列している合わせガラス用中間膜の一例を表す模式図を示した。図３に、表面に底部が連続した溝形状である凹部が規則的に並列している合わせガラス用中間膜の表面を、３次元粗さ測定器（ＫＥＹＥＮＣＥ社製、「ＫＳ−１１００」、先端ヘッド型番「ＬＴ−９５１０ＶＭ」）を用いて測定した３次元粗さの画像データを示した。

上記多数の微細な凹部と多数の微細な凸部とを有する表面の粗さ（Ｒｚ）の好ましい下限は５μｍ、好ましい上限は９０μｍである。上記多数の微細な凹部と多数の微細な凸部とを有する表面の粗さ（Ｒｚ）をこの範囲内とすることにより、優れた脱気性を発揮することができる。
なお、本明細書において上記多数の微細な凹部と多数の微細な凸部とを有する表面の粗さ（Ｒｚ）は、ＪＩＳ Ｂ−０６０１（１９９４）に準ずる方法により測定される。

上記刻線状の凹部の粗さ（Ｒｚ）の好ましい下限は１０μｍ、好ましい上限は９０μｍである。上記刻線状の凹部の粗さ（Ｒｚ）をこの範囲内とすることにより、優れた脱気性を発揮することができる。上記刻線状の凹部の粗さ（Ｒｚ）のより好ましい下限は２０μｍ、より好ましい上限は８０μｍである。
なお、本明細書において刻線状の凹部の粗さ（Ｒｚ）は、ＪＩＳ Ｂ−０６０１（１９９４）に準ずる方法により測定される。

隣接する上記刻線状の凹部の間隔の好ましい下限は１０μｍ、好ましい上限は５００μｍである。上記刻線状の凹部の間隔をこの範囲内とすることにより、優れた脱気性を発揮することができる。上記刻線状の凹部の間隔のより好ましい下限は５０μｍ、より好ましい上限は３００μｍである。
なお、本明細書において刻線状の凹部の間隔は、光学顕微鏡（ＳＯＮＩＣ社製、「ＢＳ−８０００ＩＩＩ」）を用いて、合わせガラス用中間膜の第１の表面及び第２の表面（観察範囲２０ｍｍ×２０ｍｍ）を観察し、隣接する凹部の間隔を測定したうえで、隣接する凹部の最底部間の最短距離の平均値を算出することにより得られる。

本発明の合わせガラス用中間膜は、第１の表面層と第２の表面層とを含む２層以上の樹脂層が積層された構造を有する。
本発明の合わせガラス用中間膜は、このような積層構造の合わせガラス用中間膜を２３℃、湿度３０％ＲＨ下に３時間放置した後に、２３℃、湿度３０％ＲＨ下でミクロトームを用いて合わせガラス用中間膜を水平方向に、上記第１の表面層と該第１の表面層の内側に接する樹脂層との界面から第１の表面層側に８０〜９０μｍの位置で切断し、次いで該切断面より更に第２の表面層側に５０μｍの位置で切断して得られた厚さ５０μｍの樹脂膜１について、切断後に温度２３℃、湿度３０％ＲＨ下に３時間放置した後にＪＩＳ Ｂ−０６０１（１９９４）に準ずる方法により測定した表面粗さ（Ｒｚ）が２．５μｍ未満である。また、本発明の合わせガラス用中間膜は、２３℃、湿度３０％ＲＨ下に３時間放置した後に、２３℃、湿度３０％ＲＨ下でミクロトームを用いて合わせガラス用中間膜を水平方向に、上記第２の表面層と該第２の表面層の内側に接する樹脂層との界面から第２の表面層側に８０〜９０μｍの位置で切断し、次いで該切断面より更に第１の表面層側に５０μｍの位置で切断して得られた厚さ５０μｍの樹脂膜２について、切断後に温度２３℃、湿度３０％ＲＨ下に３時間放置した後にＪＩＳ Ｂ−０６０１（１９９４）に準ずる方法により測定した表面粗さ（Ｒｚ）が２．５μｍ未満であることが好ましい。
樹脂膜１の界面側の表面粗さ（Ｒｚ）を２．５μｍ未満とすることにより、光学歪みの発生を抑制することができる。更に、樹脂膜１及び樹脂膜２の界面側の表面粗さ（Ｒｚ）を２．５μｍ未満とすることにより、光学歪みの発生を抑制することができる。上記樹脂膜１及び樹脂膜２の界面側の表面粗さ（Ｒｚ）は１．９μｍ以下であることが好ましく、１．０μｍ以下であることがより好ましく、０．９μｍ以下であることが更に好ましい。また、上記樹脂膜１及び樹脂膜２の界面側の表面粗さは異なっていてもよい。

図４に、本発明の合わせガラス用中間膜が３層構造である場合を例に、上記樹脂膜１及び樹脂膜２の採取位置を説明する模式図を示した。
上記樹脂膜１は、第１の表面層と該第１の表面層の内側に接する樹脂層との界面から第１の表面層側に８０〜９０μｍの位置で切断し、更に第２の表面層側に５０μｍの位置で切断して得る。このように２層の界面付近が最も残留応力を観察し易く、正確に光学歪みの発生を予測することができる。上記樹脂膜２についても同様である。なお、図４においては３層構造である場合を例に挙げたが、本発明の合わせガラス用中間膜は２層であってもよく、４層以上の多層構造であってもよい。また、本発明の合わせガラス用中間膜が２層である場合には、第１の表面層と該第１の表面層の内側に接する樹脂層は第２の表面層であり、第２の表面層と該第２の表面層の内側に接する樹脂層は第１の表面層である。
合わせガラス用中間膜を水平方向に切断する方法は、例えば、ミクロトームを用いる方法が挙げられる。この際、ミクロトームの刃はできるだけ新しいものを用い、表面粗さ（Ｒｚ）の測定はミクロトームによる切創痕のない部分を評価する。上記ミクロトームの刃としては、Ｌｅｉｃａ社製の８１９ Ｂｌａｄｅを用いることが好ましい。

合わせガラス用中間膜を水平方向に切断して得られた上記樹脂膜１及び樹脂膜２は、切断後、温度２３℃、湿度３０％ＲＨ下に３時間放置した後に上記界面側の表面粗さ（Ｒｚ）を測定する。一定時間放置してから測定することにより、合わせガラス用中間膜中の残留応力によって樹脂膜の収縮等が起こり、その結果表面粗さとして現れる。
なお、測定は、温度２３℃、湿度３０％ＲＨ下に３時間放置した後、６時間以内に行うことが好ましい。６時間を超えてから測定すると、表面粗さが変動してしまい、得られる数値にバラツキが生じることがある。

上記第１の表面層、第２の表面層、及びその他の層（中間層）を構成する樹脂層は、熱可塑性樹脂と可塑剤とを含有する。
上記熱可塑性樹脂として、例えば、ポリフッ化ビニリデン、ポリテトラフルオロエチレン、フッ化ビニリデン−六フッ化プロピレン共重合体、ポリ三フッ化エチレン、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン共重合体、ポリエステル、ポリエーテル、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリアクリレート、ポリメタクリレート、ポリ塩化ビニル、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリビニルアセタール、エチレン−酢酸ビニル共重合体等が挙げられる。なかでも、ポリビニルアセタール、又は、エチレン−酢酸ビニル共重合体を含有することが好ましく、ポリビニルアセタールを含有することがより好ましい。

上記可塑剤としては、合わせガラス用中間膜に一般的に用いられる可塑剤であれば特に限定されず、例えば、一塩基性有機酸エステル、多塩基性有機酸エステル等の有機可塑剤や、有機リン酸化合物、有機亜リン酸化合物等のリン酸可塑剤等が挙げられる。
上記有機可塑剤として、例えば、トリエチレングリコール−ジ−２−エチルヘキサノエート、トリエチレングリコール−ジ−２−エチルブチレート、トリエチレングリコール−ジ−ｎ−ヘプタノエート、テトラエチレングリコール−ジ−２−エチルヘキサノエート、テトラエチレングリコール−ジ−２−エチルブチレート、テトラエチレングリコール−ジ−ｎ−ヘプタノエート、ジエチレングリコール−ジ−２−エチルヘキサノエート、ジエチレングリコール−ジ−２−エチルブチレート、ジエチレングリコール−ジ−ｎ−ヘプタノエート等が挙げられる。なかでも、上記樹脂層はトリエチレングリコール−ジ−２−エチルヘキサノエート、トリエチレングリコール−ジ−２−エチルブチレート、又は、トリエチレングリコール−ジ−ｎ−ヘプタノエートを含むことが好ましく、トリエチレングリコール−ジ−２−エチルヘキサノエートを含むことがより好ましい。

上記樹脂層は、接着力調整剤を含有することが好ましい。特に、合わせガラスを製造するときに、ガラスと接触する樹脂層は、上記接着力調整剤を含有することが好ましい。
上記接着力調整剤としては、例えば、アルカリ金属塩又はアルカリ土類金属塩が好適に用いられる。上記接着力調整剤として、例えば、カリウム、ナトリウム、マグネシウム等の塩が挙げられる。
上記塩を構成する酸としては、例えば、オクチル酸、ヘキシル酸、２−エチル酪酸、酪酸、酢酸、蟻酸等のカルボン酸の有機酸、又は、塩酸、硝酸等の無機酸が挙げられる。合わせガラスを製造するときに、ガラスと樹脂層との接着力を容易に調製できることから、ガラスと接触する第１の表面層及び第２の表面層は、接着力調整剤として、マグネシウム塩を含むことが好ましい。

上記樹脂層は、必要に応じて、紫外線吸収剤、酸化防止剤、光安定剤、接着力調整剤として変成シリコーンオイル、難燃剤、帯電防止剤、耐湿剤、熱線反射剤、熱線吸収剤等の添加剤を含有してもよい。

本発明の合わせガラス用中間膜において、上記第１の表面層、第２の表面層の厚みの好ましい下限は２００μｍ、好ましい上限は１０００μｍであり、上記第１の表面層と第２の表面層との間に配置される中間層の厚みの合計の好ましい下限は５０μｍ、好ましい上限は３００μｍである。

本発明の合わせガラス用中間膜は、少なくとも一方の表面に、多数の微細な凹部と多数の微細な凸部とを有する。これにより、合わせガラスの製造時における脱気性を確保することができる。上記凹凸は、一方の表面にのみ有してもよいが、より脱気性が向上することから、合わせガラス用中間膜の両面に有することが好ましい。

本発明の合わせガラス用中間膜は、上記第１の表面層、第２の表面層と、これらの間に配置される中間層との屈折率差が０．０５以下であることが好ましい。上記屈折率差が０．０５以下であることにより、光学歪みがより一層抑えられる。

本発明の合わせガラス用中間膜は、８０℃におけるクリープ伸び率（８０℃クリープ伸び率）が８０％以下であることが好ましく、より好ましくは６０％以下、更に好ましくは５０％以下、特に好ましくは３５％以下である。上記８０℃クリープ伸び率が上記好ましい範囲であることにより、伸展による光学歪の悪化がより一層抑制される。上記８０℃クリープ伸び率は、低いほど好ましいが、実質的な下限は１０％である。
上記８０℃クリープ伸び率は、多数の微細な凹部と多数の微細な凸部とを形成する前の合わせガラス用中間膜の８０℃クリープ伸び率であることが好ましい。しかしながら、実際には多数の微細な凹部と多数の微細な凸部とを形成する前の合わせガラス用中間膜の８０℃クリープ伸び率を直接測定することは困難である。そのため、直接測定する代わりに、例えば、以下の手順に従って合わせガラス用中間膜の８０℃クリープ伸び率を測定する方法を用いることができる。
合わせガラス用中間膜を二枚のポリエチレンテレフタレート板（縦３０ｃｍ×横３０ｃｍ×厚さ０．１ｍｍ、以下、単に「ＰＥＴ板」ともいう）の間に挟み、更に、その外側からＪＩＳ Ｒ ３２０２（１９９６）に準拠した二枚のクリアガラス板（縦３０ｃｍ×横３０ｃｍ×厚さ２．５ｍｍ）で挟み、はみ出た部分を切り取り、厚さ方向にクリアガラス板／ＰＥＴ板／合わせガラス用中間膜／ＰＥＴ板／クリアガラス板の順に積層された構成体を得る。該構成体をオートクレーブ中に入れ、温度１４０℃、圧力１３００ｋＰａの条件下で１０分間保持した後、５０℃まで温度を下げ大気圧に戻す。その後、合わせガラス用中間膜をＰＥＴ板から剥離する。剥離した合わせガラス用中間膜を２５℃−２５％ＲＨの雰囲気下に２４時間放置して調温調湿する。調温調湿後の合わせガラス用中間膜を長さ８ｃｍ、幅１ｃｍに切り出し、クリープ弾性率試験片を作製する。クリープ弾性率試験片の長さ方向の中心から両端へ向かって２ｃｍの部分に、それぞれ標線を引いた後、試験片の厚さを測定し、試験片の初期の断面積を求める。その後、クリープ弾性率試験片を８０℃のオートクレーブ中に垂直に吊り下げた後、下端に２０ｇの錘を取り付け、３０分放置する。３０分経過後、クリープ弾性率試験片を温度２５℃、湿度２５ＲＨ下に直ちに取り出し、試験片がオートクレーブを出た瞬間を０秒として、６０秒後の試験片の２つの標線の距離（標線間距離）を測定する。２つの標線の距離の変化から、８０℃クリープ伸び率を下式により算出する。
８０℃クリープ伸び率（％）＝１００×（試験後の標線間距離（ｍｍ）−試験前の標線間距離（ｍｍ））／（試験前の標線間距離（ｍｍ））

本発明の合わせガラス用中間膜は、８０℃におけるクリープ弾性率（８０℃クリープ弾性率）が０・０３０ＭＰａ以上であることが好ましく、より好ましくは０．０３５ＭＰａ以上、更に好ましくは０・０４０ＭＰａ以上、特に好ましくは０・０５ＭＰａ以上である。上記８０℃におけるクリープ弾性率が上記好ましい範囲であることにより、伸展による光学歪の悪化がより一層抑制される。上記８０℃クリープ弾性率は、高いほど好ましいが、実質的な上限は０・２５ＭＰａである。
上記８０℃クリープ弾性率は、試験片の初期の断面積、上述した方法により求めた８０℃クリープ伸び率、及び、錘の荷重から、下式により算出される。
８０℃クリープ弾性率（ＭＰａ）＝（錘の荷重（Ｎ））／（試験片の初期の断面積（ｍｍ^２）×８０℃クリープ伸び率（％）／１００）

上記樹脂膜１及び樹脂膜２の界面側の表面粗さ（Ｒｚ）を達成する手段は特に限定されないが、合わせガラス用中間膜中の残留応力は積層体をロール間に通して圧延する際に発生することから、該ロール間を通す際の条件を調整することより上記樹脂膜１及び樹脂膜２の界面側の表面粗さ（Ｒｚ）を低減させることができる。
具体的には、ロール間を通す直前の積層体の温度を低くし、ロール温度を高くする方法が挙げられる。このように積層体とロールとの温度差を大きくすることにより、中間膜の表層付近のみを変形させやすくできることから、上記樹脂膜１及び樹脂膜２の界面側の表面粗さ（Ｒｚ）を低減することができる。より具体的には、例えば、ロール温度を１２０℃から１７０℃にし、多数の微細な凹部と多数の微細な凸部とを形成する前の膜の温度を５０℃から１００℃にすることが好ましい。

上記樹脂膜１及び樹脂膜２の界面側の表面粗さ（Ｒｚ）は、中間膜の物性等によっても影響される。例えば、８０℃クリープ伸び率を低くすることにより、上記樹脂膜１及び樹脂膜２の界面側の表面粗さ（Ｒｚ）を低減することができる。

上記樹脂膜１及び樹脂膜２の界面側の表面粗さ（Ｒｚ）は、上記ロール温度、上記多数の微細な凹部と多数の微細な凸部とを形成する前の膜の温度、及び、８０℃クリープ伸び率を組み合わせることで、達成することができる。例えば、上記ロール温度を１２０℃から１７０℃に設定し、多数の微細な凹部と多数の微細な凸部とを形成する前の膜の温度を５０℃から１００℃に設定し、且つ、８０℃クリープ伸び率を８０％以下に設定することで達成できる。

本発明の合わせガラス用中間膜を構成する３層以上の樹脂層の組み合わせとしては、例えば、合わせガラスの遮音性を向上させるために、上記第１の表面層及び第２の表面層を保護層とし、これらで遮音層を挟持した、優れた遮音性を有する合わせガラス用中間膜（以下、「遮音中間膜」ともいう。）が挙げられる。
本発明では、上記遮音層と保護層のように、性質が異なる樹脂層が積層されていても、光学歪みの発生を抑制できる。
以下、該遮音中間膜について、より具体的に説明する。

上記遮音中間膜において、上記遮音層は遮音性を付与する役割を有する。
上記遮音層は、ポリビニルアセタールＸと可塑剤とを含有することが好ましい。
上記ポリビニルアセタールＸは、ポリビニルアルコールをアルデヒドによりアセタール化することにより調製することができる。上記ポリビニルアルコールは、通常、ポリ酢酸ビニルをけん化することにより得られる。
上記ポリビニルアルコールの重合度の好ましい下限は２００、好ましい上限は５０００である。上記ポリビニルアルコールの重合度を２００以上とすることにより、得られる遮音中間膜の耐貫通性を向上させることができ、５０００以下とすることにより、遮音層の成形性を確保することができる。上記ポリビニルアルコールの重合度のより好ましい下限は５００、より好ましい上限は４０００である。

上記ポリビニルアルコールをアセタール化するためのアルデヒドの炭素数の好ましい下限は４、好ましい上限は６である。アルデヒドの炭素数を４以上とすることにより、充分な量の可塑剤を安定して含有させることができ、優れた遮音性能を発揮することができる。また、可塑剤のブリードアウトを防止することができる。アルデヒドの炭素数を６以下とすることにより、ポリビニルアセタールＸの合成を容易にし、生産性を確保できる。
上記炭素数が４〜６のアルデヒドとしては、直鎖状のアルデヒドであってもよいし、分枝状のアルデヒドであってもよく、例えば、ｎ−ブチルアルデヒド、ｎ−バレルアルデヒド等が挙げられる。

上記ポリビニルアセタールＸの水酸基量の好ましい上限は３０モル％である。上記ポリビニルアセタールＸの水酸基量を３０モル％以下とすることにより、遮音性を発揮するのに必要な量の可塑剤を含有させることができ、可塑剤のブリードアウトを防止することができる。上記ポリビニルアセタールＸの水酸基量のより好ましい上限は２８モル％、更に好ましい上限は２６モル％、特に好ましい上限は２４モル％、好ましい下限は１０モル％、より好ましい下限は１５モル％、更に好ましい下限は２０モル％である。
上記ポリビニルアセタールＸの水酸基量は、水酸基が結合しているエチレン基量を、主鎖の全エチレン基量で除算して求めたモル分率を百分率（モル％）で表した値である。上記水酸基が結合しているエチレン基量は、例えば、ＪＩＳ Ｋ６７２８「ポリビニルブチラール試験方法」に準拠した方法により、上記ポリビニルアセタールＸの水酸基が結合しているエチレン基量を測定することにより求めることができる。

上記ポリビニルアセタールＸのアセタール基量の好ましい下限は６０モル％、好ましい上限は８５モル％である。上記ポリビニルアセタールＸのアセタール基量を６０モル％以上とすることにより、遮音層の疎水性を高くして、遮音性を発揮するのに必要な量の可塑剤を含有させることができ、可塑剤のブリードアウトや白化を防止することができる。上記ポリビニルアセタールＸのアセタール基量を８５モル％以下とすることにより、ポリビニルアセタールＸの合成を容易にし、生産性を確保することができる。上記アセタール基量は、ＪＩＳ Ｋ６７２８「ポリビニルブチラール試験方法」に準拠した方法により、上記ポリビニルアセタールＸのアセタール基が結合しているエチレン基量を測定することにより求めることができる。

上記ポリビニルアセタールＸのアセチル基量の好ましい下限は０．１モル％、好ましい上限は３０モル％である。上記ポリビニルアセタールＸのアセチル基量を０．１モル％以上とすることにより、遮音性を発揮するのに必要な量の可塑剤を含有させることができ、ブリードアウトを防止することができる。また、上記ポリビニルアセタールＸのアセチル基量を３０モル％以下とすることにより、遮音層の疎水性を高くして、白化を防止することができる。上記アセチル基量のより好ましい下限は１モル％、更に好ましい下限は５モル％、特に好ましい下限は８モル％、より好ましい上限は２５モル％、更に好ましい上限は２０モル％である。上記アセチル基量は、主鎖の全エチレン基量から、アセタール基が結合しているエチレン基量と、水酸基が結合しているエチレン基量とを差し引いた値を、主鎖の全エチレン基量で除算して求めたモル分率を百分率（モル％）で表した値である。

特に、上記遮音層に遮音性を発揮するのに必要な量の可塑剤を容易に含有させることができることから、上記ポリビニルアセタールＸは、上記アセチル基量が８モル％以上のポリビニルアセタール、又は、上記アセチル基量が８モル％未満、かつ、アセタール基量が６８モル％以上のポリビニルアセタールであることが好ましい。

上記遮音層における可塑剤の含有量は、上記ポリビニルアセタールＸ１００質量部に対する好ましい下限が４５質量部、好ましい上限が８０質量部である。上記可塑剤の含有量を４５質量部以上とすることにより、高い遮音性を発揮することができ、８０質量部以下とすることにより、可塑剤のブリードアウトが生じて、合わせガラス用中間膜の透明性や接着性の低下を防止することができる。上記可塑剤の含有量のより好ましい下限は５０質量部、更に好ましい下限は５５質量部、より好ましい上限は７５質量部、更に好ましい上限は７０質量部である。

上記遮音層の厚さの好ましい下限は５０μｍである。上記遮音層の厚さを５０μｍ以上とすることにより、充分な遮音性を発揮することができる。上記遮音層の厚さのより好ましい下限は７０μｍであり、更に好ましい下限は８０μｍである。なお、上限は特に限定されないが、合わせガラス用中間膜としての厚さを考慮すると、好ましい上限は１５０μｍである。

上記保護層は、遮音層に含まれる大量の可塑剤がブリードアウトして、合わせガラス用中間膜とガラスとの接着性が低下するのを防止し、また、合わせガラス用中間膜に耐貫通性を付与する役割を有する。
上記保護層は、例えば、ポリビニルアセタールＹと可塑剤とを含有することが好ましく、ポリビニルアセタールＸより水酸基量が大きいポリビニルアセタールＹと可塑剤とを含有することがより好ましい。

上記ポリビニルアセタールＹは、ポリビニルアルコールをアルデヒドによりアセタール化することにより調製することができる。
上記ポリビニルアルコールは、通常、ポリ酢酸ビニルをけん化することにより得られる。また、上記ポリビニルアルコールの重合度の好ましい下限は２００、好ましい上限は５０００である。上記ポリビニルアルコールの重合度を２００以上とすることにより、合わせガラス用中間膜の耐貫通性を向上させることができ、５０００以下とすることにより、保護層の成形性を確保することができる。上記ポリビニルアルコールの重合度のより好ましい下限は５００、より好ましい上限は４０００である。

上記ポリビニルアルコールをアセタール化するためのアルデヒドの炭素数の好ましい下限は３、好ましい上限は４である。アルデヒドの炭素数を３以上とすることにより、合わせガラス用中間膜の耐貫通性が高くなる。アルデヒドの炭素数を４以下とすることにより、ポリビニルアセタールＹの生産性が向上する。
上記炭素数が３〜４のアルデヒドとしては、直鎖状のアルデヒドであってもよいし、分枝状のアルデヒドであってもよく、例えば、ｎ−ブチルアルデヒド等が挙げられる。

また、本発明の合わせガラス用中間膜がポリビニルアセタールを含む場合、８０℃クリープ伸び率及び８０℃クリープ弾性率は、以下の方法によって調節することができる。
上記ポリビニルアルコールをアセタール化した後、ポリビニルアセタールが析出する。析出するポリビニルアセタールに、酸を添加後、熟成させる。熟成の際の酸、温度及び時間を特定の値の範囲とし、条件を組み合わせることで、所望の８０℃クリープ伸び率及び８０℃クリープ弾性率を達成することができる。
熟成に用いる酸は特に限定されないが、塩酸又は硝酸であることが好ましい。用いる酸の濃度が濃いほど、８０℃クリープ伸び率は低下し、８０℃クリープ弾性率は増加する。
熟成の温度としては、８０℃クリープ伸び率及び８０℃クリープ弾性率を上記好ましい範囲とする観点からは、６０℃以上であることが好ましく、６５℃以上であることがより好ましい。熟成の温度が高ければ高いほど、８０℃クリープ伸び率は低下し、８０℃クリープ弾性率は増加する。熟成の温度は特に限定されないが、１００℃以下であることが好ましい。
熟成の時間としては、８０℃クリープ伸び率及び８０℃クリープ弾性率を上記好ましい範囲とする観点からは、１．５時間以上が好ましく、２時間以上がより好ましい。熟成の時間が長ければ長いほど、８０℃クリープ伸び率は低下し、８０℃クリープ弾性率は増加する。

上記ポリビニルアセタールＹの水酸基量の好ましい上限は３３モル％、好ましい下限は２８モル％である。上記ポリビニルアセタールＹの水酸基量を３３モル％以下とすることにより、合わせガラス用中間膜の白化を防止することができる。上記ポリビニルアセタールＹの水酸基量を２８モル％以上とすることにより、合わせガラス用中間膜の耐貫通性が高くなる。

上記ポリビニルアセタールＹは、アセタール基量の好ましい下限が６０モル％、好ましい上限が８０モル％である。上記アセタール基量を６０モル％以上とすることにより、充分な耐貫通性を発揮するのに必要な量の可塑剤を含有させることができる。上記アセタール基量を８０モル％以下とすることにより、上記保護層とガラスとの接着力を確保することができる。上記アセタール基量のより好ましい下限は６５モル％、より好ましい上限は６９モル％である。

上記ポリビニルアセタールＹのアセチル基量の好ましい上限は７モル％である。上記ポリビニルアセタールＹのアセチル基量を７モル％以下とすることにより、保護層の疎水性を高くして、白化を防止することができる。上記アセチル基量のより好ましい上限は２モル％であり、好ましい下限は０．１モル％である。なお、ポリビニルアセタールＡ、Ｂ、及び、Ｙの水酸基量、アセタール基量、及び、アセチル基量は、ポリビニルアセタールＸと同様の方法で測定できる。

上記保護層における可塑剤の含有量は、上記ポリビニルアセタールＹ１００質量部に対する好ましい下限が２０質量部、好ましい上限が４５質量部である。上記可塑剤の含有量を２０質量部以上とすることにより、耐貫通性を確保することができ、４５質量部以下とすることにより、可塑剤のブリードアウトを防止して、合わせガラス用中間膜の透明性や接着性の低下を防止することができる。上記可塑剤の含有量のより好ましい下限は３０質量部、更に好ましい下限は３５質量部、より好ましい上限は４３質量部、更に好ましい上限は４１質量部である。合わせガラスの遮音性がよりいっそう向上することから、上記保護層における可塑剤の含有量は、上記遮音層における可塑剤の含有量よりも少ないことが好ましい。

合わせガラスの遮音性がより一層向上することから、ポリビニルアセタールＹの水酸基量はポリビニルアセタールＸの水酸基量より大きいことが好ましく、１モル％以上大きいことがより好ましく、５モル％以上大きいことが更に好ましく、８モル％以上大きいことが特に好ましい。ポリビニルアセタールＸ及びポリビニルアセタールＹの水酸基量を調整することにより、上記遮音層及び上記保護層における可塑剤の含有量を制御することができ、上記遮音層のガラス転移温度が低くなる。結果として、合わせガラスの遮音性がより一層向上する。
また、合わせガラスの遮音性がより一層向上することから、上記遮音層におけるポリビニルアセタールＸ１００質量部に対する、可塑剤の含有量（以下、含有量Ｘともいう。）は、上記保護層におけるポリビニルアセタールＹ１００質量部に対する、可塑剤の含有量（以下、含有量Ｙともいう。）より多いことが好ましく、５質量部以上多いことがより好ましく、１５質量部以上多いことが更に好ましく、２０質量部以上多いことが特に好ましい。含有量Ｘ及び含有量Ｙを調整することにより、上記遮音層のガラス転移温度が低くなる。結果として、合わせガラスの遮音性がより一層向上する。

上記保護層の厚さとしての好ましい下限は２００μｍ、好ましい上限は１０００μｍである。上記保護層の厚さを２００μｍ以上とすることにより、耐貫通性を確保することができる。
上記保護層の厚みのより好ましい下限は３００μｍ、より好ましい上限は７００μｍである。

上記遮音中間膜を製造する方法としては特に限定されず、例えば、上記遮音層と保護層とを、押し出し法、カレンダー法、プレス法等の通常の製膜法によりシート状に製膜した後、積層する方法等が挙げられる。

本発明の合わせガラス用中間膜が、一対のガラス板の間に積層されている合わせガラスもまた、本発明の１つである。
上記ガラス板は、一般に使用されている透明板ガラスを使用することができる。例えば、フロート板ガラス、磨き板ガラス、型板ガラス、網入りガラス、線入り板ガラス、着色された板ガラス、熱線吸収ガラス、熱線反射ガラス、グリーンガラス等の無機ガラスが挙げられる。また、ガラスの表面に紫外線遮蔽コート層が形成された紫外線遮蔽ガラスも用いることができる。更に、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリアクリレート等の有機プラスチックス板を用いることもできる。
上記ガラス板として、２種類以上のガラス板を用いてもよい。例えば、透明フロート板ガラスと、グリーンガラスのような着色されたガラス板との間に、本発明の合わせガラス用中間膜を積層した合わせガラスが挙げられる。また、上記ガラス板として、２種以上の厚さの異なるガラス板を用いてもよい。

本発明の合わせガラスの製造方法としては特に限定されず、従来公知の製造方法を用いることができる。

本発明によれば、２層以上の多層構造を有しながら光学歪みの小さい合わせガラス用中間膜、及び、該合わせガラス用中間膜を用いた合わせガラスを提供することができる。

表面に底部が連続した溝形状である凹部が等間隔、かつ、隣接する凹部が平行して並列している合わせガラス用中間膜の一例を表す模式図である。 表面に底部が連続した溝形状である凹部が等間隔、かつ、隣接する凹部が平行して並列している合わせガラス用中間膜の一例を表す模式図である。 表面に底部が連続した溝形状である凹部が規則的に並列している合わせガラス用中間膜の表面を、３次元粗さ測定器（ＫＥＹＥＮＣＥ社製、「ＫＳ−１１００」、先端ヘッド型番「ＬＴ−９５１０ＶＭ」）を用いて測定した３次元粗さの画像データである。 本発明の合わせガラス用中間膜が３層構造である場合の樹脂膜１及び樹脂膜２の採取位置を説明する模式図である。

以下に実施例を挙げて本発明の態様を更に詳しく説明するが、本発明はこれら実施例にのみ限定されるものではない。

（実施例１）
（１）遮音層用樹脂組成物の調製
平均重合度が２３００のポリビニルアルコールをｎ−ブチルアルデヒドでアセタール化することにより得られたポリビニルブチラール（アセチル基量１２．５モル％、ブチラール基量６４．５モル％、水酸基量２３．０モル％）１００質量部に対して、可塑剤としてトリエチレングリコール−ジ−２−エチルヘキサノエート（３ＧＯ）６０質量部を添加し、ミキシングロールで充分に混練し、遮音層用樹脂組成物を得た。

（２）保護層用樹脂の合成
撹拌装置を備えた反応器に、イオン交換水２７００ｍＬ、平均重合度１７００、けん化度９９モル％のポリビニルアルコールを３００ｇ投入し、撹拌しながら加熱溶解し、溶液を得た。次に、この溶液に触媒として６０重量％硝酸を、硝酸濃度が０．４重量％となるように添加し、温度を１５℃に調整した後、撹拌しながらｎ−ブチルアルデヒド２３ｇを添加した。その後、ｎ−ブチルアルデヒド１４０ｇを添加したところ、白色粒子状のポリビニルブチラールが析出した。ポリビニルブチラールが析出してから１５分後に、６０重量％硝酸を、硝酸濃度が１．６重量％となるように添加し、６５℃に加熱し、６５℃で２時間熟成させた。次いで、溶液を冷却し、中和した後、ポリビニルブチラールを水洗し、乾燥させることにより、ポリビニルブチラールを得た。

（３）保護層用樹脂組成物の調製
上記「（２）保護層用樹脂の合成」で最終的に得られたポリビニルブチラール１００質量部に対して、可塑剤としてトリエチレングリコール−ジ−２−エチルヘキサノエート（３ＧＯ）４０質量部を添加し、ミキシングロールで充分に混練し、保護層用樹脂組成物を得た。

（４）合わせガラス用中間膜の作製
（４−１）積層体の作製
得られた遮音層用樹脂組成物と保護層用樹脂組成物を、共押出機を用いて共押出することにより、保護層用樹脂組成物からなる厚さ３４０μｍの第１の表面層（保護層）、遮音層用樹脂組成物からなる厚さ１００μｍの中間層（遮音層）及び保護層用樹脂組成物からなる厚さ３７０μｍの第２の表面層（保護層）がこの順に積層された３層構造の積層体を得た。

（４−２）凹部及び凸部の形成
多数の微細な凹部と多数の微細な凸部とが形成された一対のエンボスロールを微細凹凸転写装置として用い、得られた積層体をこのエンボスロールに通し、多数の微細な凹部と多数の微細な凸部とが形成された積層体を得た。
更に三角形斜線型ミルを用いて表面にミル加工を施した金属ロールと４５〜７５のＪＩＳ硬度を有するゴムロールとからなる一対のエンボスロールを凹凸形状転写装置として用い、得られた多数の微細な凹部と多数の微細な凸部とが形成された積層体をこのエンボスロールに通し、積層体の第１の表面層の表面及び第２の表面層の表面に、底部が連続した溝形状（刻線状）である凹部が平行して等間隔に形成された、表面粗さ（Ｒｚ）３１μｍの凹凸を付与し、合わせガラス用中間膜を得た。なお、上記表面粗さＲｚはＪＩＳ Ｂ−０６０１（１９９４）に準拠した方法によって測定した。溝形状（刻線状）である凹部を形成する際の転写条件として、積層体の温度を９５℃、ロール温度を１３０℃、プレス圧を５００ｋＰａとした。

（５）合わせガラスの製造
得られた合わせガラス用中間膜を用いて、合わせガラス用中間膜の伸展率がそれぞれ１倍、１．２倍である２種類の合わせガラスを作製した。
まず、合わせガラス用中間膜の伸展率が１倍である合わせガラスを下記の手順に従って作製した。
「（４）合わせガラス用中間膜の作製」で得られた合わせガラス用中間膜をＪＩＳ Ｒ ３２０２（１９９６）に準拠した二枚のクリアガラス板（縦３０ｃｍ×横３０ｃｍ×厚さ２．５ｍｍ）の間に挟み、はみ出た部分を切り取り、合わせガラス構成体を得た。得られた合わせガラス構成体をゴムバッグ内に移し、ゴムバッグを吸引減圧機に接続し、加熱すると同時に−６０ｋＰａ（絶対圧力１６ｋＰａ）の減圧下で１０分間保持し、合わせガラス構成体の温度（予備圧着温度）が７０℃となるように加熱した後、大気圧に戻して予備圧着を終了した。予備圧着された合わせガラス構成体をオートクレーブ中に入れ、温度１４０℃、圧力１３００ｋＰａの条件下で１０分間保持した後、５０℃まで温度を下げ大気圧に戻すことにより本圧着を終了して、合わせガラスを得た。
次に、合わせガラス用中間膜の伸展率が１．２倍である合わせガラスを下記の手順に従って作製した。
「（４）合わせガラス用中間膜の作製」で得られた合わせガラス用中間膜の膜表面温度が１２０℃になるようにギアオーブンで加熱した。その後、加熱前の長さの１．２倍になるように５ｃｍ〜１５ｃｍ／ｓの速度で伸展し、１．２倍伸展が維持されるように治具で固定した後、２５℃の水にて冷却した。冷却した膜を固定した状態で、温度２５℃、湿度３０％ＲＨの環境下に１２時間静置し、乾燥させた。乾燥後の合わせガラス用中間膜をＪＩＳ Ｒ ３２０２（１９９６）に準拠した二枚のクリアガラス板（縦３０ｃｍ×横３０ｃｍ×厚さ２．５ｍｍ）の間に挟み、はみ出た部分を切り取り、合わせガラス構成体を得た。得られた合わせガラス構成体をゴムバッグ内に移し、ゴムバッグを吸引減圧機に接続し、加熱すると同時に−６０ｋＰａ（絶対圧力１６ｋＰａ）の減圧下で１０分間保持し、合わせガラス構成体の温度（予備圧着温度）が７０℃となるように加熱した後、大気圧に戻して予備圧着を終了した。予備圧着された合わせガラス構成体をオートクレーブ中に入れ、温度１４０℃、圧力１３００ｋＰａの条件下で１０分間保持した後、５０℃まで温度を下げ大気圧に戻すことにより本圧着を終了して、合わせガラスを得た。

（実施例２）
「（４−２）凹部及び凸部の形成」において、溝形状（刻線状）である凹部を形成する際の積層体の温度及びエンボスの粗さを表１に示したようにしたこと以外は、実施例１と同様にして合わせガラス用中間膜及び合わせガラスを得た。

（実施例３）
「（２）保護層用樹脂の合成」において、６５℃で２時間の熟成時間を６５℃で２時間１５分に変更したこと以外は、実施例１と同様にしてポリビニルブチラールを得た。「（３）保護層用樹脂組成物の調製」において、得られたポリビニルブチラールを用いて保護層用樹脂組成物を調製し、「（４−２）凹部及び凸部の形成」において、溝形状（刻線状）である凹部を形成する際の積層体の温度及びエンボスの粗さを表１に示したようにしたこと以外は、実施例１と同様にして合わせガラス用中間膜及び合わせガラスを得た。

（実施例４）
「（４−２）凹部及び凸部の形成」において、溝形状（刻線状）である凹部を形成する際の積層体の温度及びエンボスの粗さを表１に示したようにしたこと以外は、実施例１と同様にして合わせガラス用中間膜及び合わせガラスを得た。

（実施例５）
「（４−２）凹部及び凸部の形成」において、多数の微細な凹部と多数の微細な凸部とを形成する際のエンボスの粗さ、並びに、溝形状（刻線状）である凹部を形成する際の積層体の温度及びエンボスの粗さを表１に示したようにしたこと以外は、実施例１と同様にして合わせガラス用中間膜及び合わせガラスを得た。

（実施例６）
「（４−２）凹部及び凸部の形成」において、多数の微細な凹部と多数の微細な凸部とを形成する際のエンボスの粗さを表１に示したようにしたこと以外は、実施例１と同様にして多数の微細な凹部と多数の微細な凸部とが形成された積層体を作製し、得られた多数の微細な凹部と多数の微細な凸部とが形成された積層体に溝形状（刻線状）である凹部を形成せずに合わせガラス用中間膜とした。得られた合わせガラス用中間膜を用いて、実施例１と同様にして合わせガラスを得た。

（実施例７）
「（４−１）積層体の作製」において、各樹脂層の厚みを表１に示したようにしたこと以外は、実施例１と同様にして積層体を得た。得られた積層体を用い、「（４−２）凹部及び凸部の形成」において、多数の微細な凹部と多数の微細な凸部とを形成する際のエンボスの粗さを表１に示したようにしたこと以外は、実施例１と同様にして多数の微細な凹部と多数の微細な凸部とが形成された積層体を作製し、得られた多数の微細な凹部と多数の微細な凸部とが形成された積層体に溝形状（刻線状）である凹部を形成せずに合わせガラス用中間膜とした。得られた合わせガラス用中間膜を用いて、実施例１と同様にして合わせガラスを得た。

（実施例８）
実施例１の「（１）遮音層用樹脂組成物の調製」の手順を以下のように変更した。
（１）遮音層用樹脂組成物の調製
平均重合度が２３００のポリビニルアルコールをｎ−ブチルアルデヒドでアセタール化することにより得られたポリビニルブチラール（アセチル基量０．５モル％、ブチラール基量８１．１モル％、水酸基量１８．５モル％）１００質量部に対して、可塑剤としてトリエチレングリコール−ジ−２−エチルヘキサノエート（３ＧＯ）６０質量部を添加し、ミキシングロールで充分に混練し、遮音層用樹脂組成物を得た。
実施例１の「（２）保護層用樹脂の合成」の手順を以下のように変更した。
（２）保護層用樹脂の合成
撹拌装置を備えた反応器に、イオン交換水２７００ｍＬ、平均重合度１７００、けん化度９９モル％のポリビニルアルコールを３００ｇ投入し、撹拌しながら加熱溶解し、溶液を得た。次に、この溶液に触媒として６０重量％硝酸を、硝酸濃度が０．４重量％となるように添加し、温度を１５℃に調整した後、撹拌しながらｎ−ブチルアルデヒド２３ｇを添加した。その後、ｎ−ブチルアルデヒド１４０ｇとグルタルアルデヒド６ｍｇを添加したところ、白色粒子状のポリビニルブチラールが析出した。ポリビニルブチラールが析出してから１５分後に、６０重量％硝酸を、硝酸濃度が１．６重量％となるように添加し、６４℃に加熱し、６４℃で２時間熟成させた。次いで、溶液を冷却し、中和した後、ポリビニルブチラールを水洗し、乾燥させることにより、ポリビニルブチラールを得た。
実施例１の「（３）保護層用樹脂組成物の調製」の手順を以下のように変更した。
（３）保護層用樹脂組成物の調製
上記「（２）保護層用樹脂の合成」で最終的に得られたポリビニルブチラール１００質量部に対して、可塑剤としてトリエチレングリコール−ジ−２−エチルヘキサノエート（３ＧＯ）４０質量部を添加し、ミキシングロールで充分に混練し、保護層用樹脂組成物を得た。
実施例１の「（４−１）積層体の作製」の手順を以下のように変更した。
（４−１）積層体の作製
「（１）遮音層用樹脂組成物の調製」及び（３）保護層用樹脂組成物の調製で得られた遮音層用樹脂組成物と保護層用樹脂組成物を、共押出機を用いて共押出することにより、保護層用樹脂組成物からなる厚さ３４５μｍの第１の表面層（保護層）、遮音層用樹脂組成物からなる厚さ１００μｍの中間層（遮音層）及び保護層用樹脂組成物からなる厚さ３５０μｍの第２の表面層（保護層）がこの順に積層された３層構造の積層体を得た。共押出しの際の条件を以下の条件に設定することで、メルトフラクチャーを制御することにより、多数の微細な凹部と多数の微細な凸部とが形成された積層体を得た。具体的には、金型巾４００ｍｍで押し出し量を７０ｋｇ／ｈｒ・ｍ、金型のリップ間隙を０．７ｍｍ、金型から出た直後の膜表面温度を１９０℃と設定した。
更に、「（４−２）凹部及び凸部の形成」において、溝形状（刻線状）である凹部を形成する際の積層体の温度及びエンボスの粗さを表１に示したようにしたこと以外は、実施例１と同様にして合わせガラス用中間膜及び合わせガラスを得た。

（実施例９）
実施例１の「（１）遮音層用樹脂組成物の調製」の手順を以下のように変更した。
（１）遮音層用樹脂組成物の調製
平均重合度が２３００のポリビニルアルコールをｎ−ブチルアルデヒドでアセタール化することにより得られたポリビニルブチラール（アセチル基量７．６モル％、ブチラール基量６８．１モル％、水酸基量２４．３モル％）１００質量部に対して、可塑剤としてトリエチレングリコール−ジ−２−エチルヘキサノエート（３ＧＯ）６０質量部を添加し、ミキシングロールで充分に混練し、遮音層用樹脂組成物を得た。
実施例１の「（４−１）積層体の作製」の手順を以下のように変更した。
（４−１）積層体の作製
「（１）遮音層用樹脂組成物の調製」及び（３）保護層用樹脂組成物の調製で得られた遮音層用樹脂組成物と保護層用樹脂組成物を、共押出機を用いて共押出することにより、保護層用樹脂組成物からなる厚さ３３７μｍの第１の表面層（保護層）、遮音層用樹脂組成物からなる厚さ１０７μｍの中間層（遮音層）及び保護層用樹脂組成物からなる厚さ３８２μｍの第２の表面層（保護層）がこの順に積層された３層構造の積層体を得た。共押出しの際の条件を以下の条件に設定することで、メルトフラクチャーを制御することにより、多数の微細な凹部と多数の微細な凸部とが形成された積層体を得た。具体的には、金型巾４００ｍｍで押し出し量を７０ｋｇ／ｈｒ・ｍ、金型のリップ間隙を０．７ｍｍ、金型から出た直後の膜表面温度を１９０℃と設定した。
更に、「（４−２）凹部及び凸部の形成」において、溝形状（刻線状）である凹部を形成する際の積層体の温度及びエンボスの粗さを表１に示したようにしたこと以外は、実施例１と同様にして合わせガラス用中間膜及び合わせガラスを得た。

（実施例１０）
実施例１の「（１）遮音層用樹脂組成物の調製」の手順を以下のように変更した。
（１）遮音層用樹脂組成物の調製
平均重合度が２３００のポリビニルアルコールをｎ−ブチルアルデヒドでアセタール化することにより得られたポリビニルブチラール（アセチル基量７．６モル％、ブチラール基量６８．１モル％、水酸基量２４．３モル％）１００質量部に対して、可塑剤としてトリエチレングリコール−ジ−２−エチルヘキサノエート（３ＧＯ）６０質量部を添加し、ミキシングロールで充分に混練し、遮音層用樹脂組成物を得た。
実施例１の「（４−１）積層体の作製」の手順を以下のように変更した。
（４−１）積層体の作製
「（１）遮音層用樹脂組成物の調製」及び（３）保護層用樹脂組成物の調製で得られた遮音層用樹脂組成物と保護層用樹脂組成物を、共押出機を用いて共押出することにより、保護層用樹脂組成物からなる厚さ３３７μｍの第１の表面層（保護層）、遮音層用樹脂組成物からなる厚さ１０７μｍの中間層（遮音層）及び保護層用樹脂組成物からなる厚さ３８２μｍの第２の表面層（保護層）がこの順に積層された３層構造の積層体を得た。共押出しの際の条件を以下の条件に設定することで、メルトフラクチャーを制御することにより、多数の微細な凹部と多数の微細な凸部とが形成された積層体を得た。具体的には、金型巾４００ｍｍで押し出し量を７０ｋｇ／ｈｒ・ｍ、金型のリップ間隙を０．７ｍｍ、金型から出た直後の膜表面温度を１８５℃と設定した。
更に、「（４−２）凹部及び凸部の形成」において、溝形状（刻線状）である凹部を形成しなかったこと以外は、実施例１と同様にして合わせガラス用中間膜及び合わせガラスを得た。

（比較例１）
「（２）保護層用樹脂の合成」において、６５℃で２時間の熟成時間を６５℃で１時間に変更したこと以外は、実施例１と同様にしてポリビニルブチラールを得た。「（３）保護層用樹脂組成物の調製」において、得られたポリビニルブチラールを用いて保護層用樹脂組成物を調製し、「（４−１）積層体の作製」において、各樹脂層の厚みを表１に示したようにし、「（４−２）凹部及び凸部の形成」において、溝形状（刻線状）である凹部を形成する際の積層体の温度及びエンボスの粗さを表１に示したようにしたこと以外は、実施例１と同様にして合わせガラス用中間膜及び合わせガラスを得た。

（比較例２）
「（２）保護層用樹脂の合成」において、６５℃で２時間の熟成時間を６５℃で３０分に変更したこと以外は、実施例１と同様にしてポリビニルブチラールを得た。「（３）保護層用樹脂組成物の調製」において、得られたポリビニルブチラールを用いて保護層用樹脂組成物を調製し、「（４−２）凹部及び凸部の形成」において、溝形状（刻線状）である凹部を形成する際の積層体の温度及びエンボスの粗さを表１に示したようにしたこと以外は、実施例１と同様にして合わせガラス用中間膜及び合わせガラスを得た。

（評価）
実施例、比較例で得られた合わせガラス用中間膜について、以下の評価を行った。結果を表１に示した。

（１）中間膜から採取した樹脂膜１及び樹脂膜２の表面粗さ（Ｒｚ）の評価
得られた合わせガラス用中間膜を２３℃、湿度３０％ＲＨ下に３時間放置した後に、平坦なアクリル板に接着剤（セメダイン社製、「３０００ ＧＯＬＤ Ｌｉｑｕｉｄ」）を使用して第２の表面層の外側の表面がアクリル板と接するように接着し、２３℃にて２４時間乾燥した。次いで、２３℃、湿度３０％ＲＨ下で３時間放置した後に、ミクロトーム（Ｌｅｉｃａ社製、「ＲＭ２２６５」、刃のグレード「Ｌｅｉｃａ ８１９ Ｂｌａｄｅ」）を用いて、２３℃、湿度３０％ＲＨ下で、合わせガラス用中間膜を水平方向に切断して複数の樹脂膜に分割した。切断方向は製膜時の流れ方向と平行とした。
ここで、第１の表面層と中間層との界面から第１の表面層側に８０〜９０μｍの位置で切断し、次いで該切断面より更に第２の層の表面層側に５０μｍの位置で切断して、厚さ５０μｍの樹脂膜１を得た。
平坦なアクリル板に接着する面を、第２の表面層の外側の表面から第１の表面層の外側の表面が接するように変更したこと以外は同様にして、第２の表面層と中間層との界面から第２の表面層側に８０〜９０μｍの位置で切断し、次いで該切断面より更に第１の層の表面層側に５０μｍの位置で切断して、厚さ５０μｍの樹脂膜２を得た。

得られた樹脂膜１及び樹脂膜２を切断後、温度２３℃、湿度３０％ＲＨ下に３時間放置した後、３次元粗さ測定器（ＫＥＹＥＮＣＥ社製、「ＫＳ−１１００」、先端ヘッド型番「ＬＴ−９５１０ＶＭ」）を用いて界面側の表面粗さ（Ｒｚ）を測定した。測定条件は測定範囲（Ｘ軸１２５００μｍ、Ｙ軸５０００μｍ）、測定ピッチ（Ｘ軸・Ｙ軸ともに１０μｍ）、移動速度（１０００μｍ／秒）と設定し、温度２３℃、湿度３０％ＲＨ下で測定した。解析ソフト（ＫＥＹＥＮＣＥ社製、「ＫＳ−Ａｎａｌｙｚｅｒ」を用いて、ＪＩＳ Ｂ−０６０１（１９９４）に準ずる方法により界面側の表面粗さ（Ｒｚ）を算出した。表面粗さを測定する際カットオフ２．５ｍｍとした。表面粗さ（Ｒｚ）はミクロトームによる切創傷や異物、発泡等がない部分を評価し、３点の平均値を採用した。なお、測定は３６０分以内に完了した。

（２）中間膜の屈折率差の測定
保護層用樹脂組成物を二軸スクリュー式押出機に供給して溶融混錬し、Ｔダイに導入して拡幅したのち開口部から吐出させ、直ちに冷却固化し厚さ７６０μｍの熱可塑性樹脂膜を得た。上記熱可塑性樹脂膜を２３℃、３０％ＲＨ下で３時間放置した。上記熱可塑性樹脂膜の幅方向中央部分より幅１０ｍｍ、長さ３０ｍｍの採寸で切出したシート片を得た。得られたシート片について、アッベ屈折計（株式会社アタゴ製「ＮＡＲ−１Ｔ ＳＯＬＩＤ」）を用いて、ＪＩＳ Ｋ７１４２に準拠し、２５℃で、Ｄ線（波長５８９．３ｎｍ）により屈折率ｎＤを測定した。屈折率ｎＤを、保護層用樹脂組成物の屈折率、すなわち、第１の表面層の屈折率及び第２の表面層の屈折率とした。また、同様の方法により、遮音層用樹脂組成物の屈折率ｎＤを測定し、中間層の屈折率とした。

（３）中間膜の８０℃クリープ伸び率及び８０℃クリープ弾性率の測定
温度２５℃、湿度２５％ＲＨ下に２４時間放置して調温調湿した所定の断面積（８．１ｍｍ^２）を有する合わせガラス用中間膜を、その下端に所定の荷重の錘（２０ｇ）を吊り下げた状態で、所定の温度（８０℃）下に３０分間放置した後、合わせガラス用中間膜の伸びを測定し、下式により８０℃クリープ伸び率（％）を算出した。
８０℃クリープ伸び率（％）＝（試験後の長さ（ｃｍ）−試験前の長さ（ｃｍ））／試験前の長さ（ｃｍ）×１００
また、得られた８０℃クリープ伸び率を用いて、下式により８０℃クリープ弾性率（ＭＰａ）を算出した。
８０℃クリープ弾性率（ＭＰａ）＝（錘の荷重（Ｎ））／（試験片の初期の断面積（ｍｍ^２）×８０℃クリープ伸び率（％）／１００）

（４）合わせガラスの光学歪みの評価
実施例及び比較例で得られた、合わせガラス用中間膜の伸展率が１倍である合わせガラス及び合わせガラス用中間膜の伸展率が１．２倍である合わせガラスに、光源（ハロゲンランプ）からスリットを透過させた光を当て、スクリーンに写った投影歪みをセンサー（カメラ）にて受信し、コンピュータにてデータ処理を行い、光学歪み値とした。光学歪み値が高いほど光学歪み（像のゆがみ）が大きいといえる。
以下に、光学歪み値の測定方法の詳細を述べる。特開平７−３０６１５２号公報に記載された装置、即ち、透光性を有する被検査物に向けて照明光を照射する光源ユニットと、スリットと、被検査物を透過した該照明光を投影する投影面と、投影面を撮像して濃淡画像を生成する画像入力部と、画像入力部で得られた濃淡画像の濃淡レベルのばらつきの度合いに基づいて歪の有無を判定する画像処理部とを有する光学的歪検査装置を用いて、光学歪み値を測定した。具体的には、光源として岩崎電気社製のＥＹＥ ＤＩＣＨＯ−ＣＯＯＬ ＨＡＬＯＧＥＮ（１５Ｖ１００Ｗ）を用い、ＪＩＳ Ｒ ３２１１（１９８８）での可視光線透過率（Ａ光Ｙ値、Ａ−Ｙ（３８０〜７８０ｎｍ））が８８％（日立ハイテクテクノロジー社製、「Ｕ４１００」を使用）の単層膜から構成される合わせガラスの光学歪み値が１．１４、ガラスなしの状態の光学歪み値が１．３０になるように光源の照度、光学歪み像が投影されるスクリーンの角度、カメラの角度を調整して光学歪み値を評価した。光学歪みの評価は合わせガラス温度が２５℃の条件下で行った。光学歪み値として、縦と横の値が算出されるが、数値の低い方を採用した。なお、温度計として接触式温度計を使用した。
なお、自動車用フロントガラスとして用いるためには、伸展率１倍での光学歪みが１．８未満であること、及び、伸展率１倍での光学歪みに対する伸展率１．２倍での光学歪みの比（伸展率１．２倍での光学歪み／伸展率１倍での光学歪み）が１．２以下であることが求められる。それ以外の用途、例えば、建築用合わせガラスとして用いるためには、伸展率１倍での光学歪みが３以下であり、伸展率１．２倍での光学歪が５以下であることが好ましい。

本発明によれば、２層以上の多層構造を有しながら光学歪みの小さい合わせガラス用中間膜、及び、該合わせガラス用中間膜を用いた合わせガラスを提供することができる。

Claims (7)

1. 少なくとも一方の表面に、多数の微細な凹部と多数の微細な凸部とを有し、
   第１の表面層と第２の表面層とを含む２層以上の熱可塑性樹脂と可塑剤とを含有する樹脂層が積層された合わせガラス用中間膜であって、
   合わせガラス用中間膜を２３℃、湿度３０％ＲＨ下に３時間放置した後に、
   ２３℃、湿度３０％ＲＨ下でミクロトームを用いて合わせガラス用中間膜を水平方向に、前記第１の表面層と該第１の表面層の内側に接する樹脂層との界面から第１の表面層側に８０〜９０μｍの位置で切断し、次いで該切断面より更に第２の表面層側に５０μｍの位置で切断して得られた厚さ５０μｍの樹脂膜１について、切断後に温度２３℃、湿度３０％ＲＨ下に３時間放置した後にＪＩＳ Ｂ−０６０１（１９９４）に準ずる方法により測定した表面粗さ（Ｒｚ）が２．５μｍ未満である
   ことを特徴とする合わせガラス用中間膜。
2. 請求項１記載の合わせガラス用中間膜であって、
   合わせガラス用中間膜を２３℃、湿度３０％ＲＨ下に３時間放置した後に、
   前記第２の表面層と該第２の表面層の内側に接する樹脂層との界面から第２の表面層側に８０〜９０μｍの位置で切断し、次いで該切断面より更に第１の表面層側に５０μｍの位置で切断して得られた厚さ５０μｍの樹脂膜２について、切断後に温度２３℃、湿度３０％ＲＨ下に３時間放置した後にＪＩＳ Ｂ−０６０１（１９９４）に準ずる方法により測定した表面粗さ（Ｒｚ）が２．５μｍ未満である
   ことを特徴とする合わせガラス用中間膜。
3. 請求項１又は２記載の合わせガラス用中間膜であって、
   合わせガラス用中間膜を２３℃、湿度３０％ＲＨ下に３時間放置した後に、
   ２３℃、湿度３０％ＲＨ下でミクロトームを用いて合わせガラス用中間膜を水平方向に、前記第１の表面層と該第１の表面層の内側に接する樹脂層との界面から第１の表面層側に８０〜９０μｍの位置で切断し、次いで該切断面より更に第２の表面層側に５０μｍの位置で切断して得られた厚さ５０μｍの樹脂膜１について、切断後に温度２３℃、湿度３０％ＲＨ下に３時間放置した後にＪＩＳ Ｂ−０６０１（１９９４）に準ずる方法により測定した表面粗さ（Ｒｚ）が１．９μｍ以下である
   ことを特徴とする合わせガラス用中間膜。
4. 請求項２又は３記載の合わせガラス用中間膜であって、
   合わせガラス用中間膜を２３℃、湿度３０％ＲＨ下に３時間放置した後に、
   前記第２の表面層と該第２の表面層の内側に接する樹脂層との界面から第２の表面層側に８０〜９０μｍの位置で切断し、次いで該切断面より更に第１の表面層側に５０μｍの位置で切断して得られた厚さ５０μｍの樹脂膜２について、切断後に温度２３℃、湿度３０％ＲＨ下に３時間放置した後にＪＩＳ Ｂ−０６０１（１９９４）に準ずる方法により測定した表面粗さ（Ｒｚ）が１．９μｍ以下である
   ことを特徴とする合わせガラス用中間膜。
5. ８０℃におけるクリープ弾性率が０．０３０ＭＰａ以上であることを特徴とする請求項１、２、３又は４記載の合わせガラス用中間膜。
6. ８０℃におけるクリープ伸び率が８０％以下であることを特徴とする請求項１、２、３、４又は５記載の合わせガラス用中間膜。
7. 請求項１、２、３、４、５又は６記載の合わせガラス用中間膜が、一対のガラス板の間に積層されていることを特徴とする合わせガラス。