JPWO2014203919A1 - マグネシウム合金製品の製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
試験片を5mm×10mmの寸法に切断し、エポキシ樹脂に包埋してから、切断面を研磨して鏡面を得た。試料の断面方向から、日本電子株式会社製X線マイクロアナライザー「JXA−8500FS」を用いて電子顕微鏡写真を撮影し、膜厚を測定した。
JIS Z 2371に準拠して、試験片に対して5%塩水噴霧試験を120時間行った。120時間経過後、試験片を取り出して腐食の有無を肉眼で観察した。そして、試験片が全く腐食していなかった場合をA、試験片の一部が腐食していた場合をB、試験片の全面が腐食していた場合をCとする、A、B、Cの3段階評価を行った。
[試験片]
マグネシウム85重量%、リチウム14重量%、アルミニウム1重量%からなるマグネシウム合金を原料とした圧延板(170mm×50mm×0.3mmの寸法)を試験片として使用した。
前処理1として、上記試験片を、0.25mol/Lのリン酸と微量の界面活性剤を含有する65℃の酸性水溶液に60秒浸漬し、イオン交換水で洗浄した。
前処理2として、上記試験片を、3.2mol/L、pH2の25℃のフッ化水素水溶液に60秒浸漬し、イオン交換水で洗浄した。
前処理3として、上記試験片を、3.8mol/Lの80℃の水酸化ナトリウム水溶液に60秒浸漬し、イオン交換水で洗浄した。
上記前処理1〜3の後、以下の条件で成膜処理を行った。リン酸水溶液とアンモニア水とを混合して、リン酸根を0.25mol/L、アンモニア又はアンモニウムイオンをその合計量で1.5mol/L含有する電解液を調製し、15℃に保った。この電解液のpHは10.5であった。この中に上記の前処理を施した試験片を陽極として浸漬して、陽極酸化処理を行った。このときの陰極としては、上記陽極の4倍の表面積を有するSUS316Lの板を使用した。定電流電源を使用し陽極表面の電流密度が3A/dm2となるようにして180秒間通電した。通電開始時には低い印加電圧であったのが、通電終了時には約300ボルトまで上昇した。通電終了後、イオン交換水で洗浄してから乾燥した。
比較例1では、実施例1の前処理2を行わなかった以外は実施例1と同じ処理を行った。この陽極酸化皮膜の膜厚は約1μmであった。得られた試験片を塩水噴霧試験に供したところ、試験片の全面に腐食が観察された。結果を表1に示す。
参考例1では、以下に説明する試験片を用いて、実施例1の前処理及び成膜処理を行った。本参考例は本発明の実施例を構成するものではないが、本発明の構成を理解するのに有用なものである。陽極酸化皮膜の化学組成分析は、日本電子株式会社製X線マイクロアナライザー「JXA−8500FS」を用いて、皮膜の断面方向から分析を行った。試料ごとに2ヶ所ずつ測定を行った。測定は、加速電圧15kV、試料照射電流2×10−8Aの条件で行った。データ解析は、ZAF補正によって行った。
参考例2では、参考例1において、前処理2を行わなかった以外は参考例1と同じ処理を行った。この陽極酸化皮膜の膜厚は約10μmであった。得られた陽極酸化皮膜は、マグネシウム元素を24.0重量%、酸素元素を47.6重量%、リン元素を25.6重量%、アルミニウム元素を2.8重量%含有していた。得られた試験片を塩水噴霧試験に供したところ、腐食は観察されなかった。結果を表1に示す。
Claims (6)
- リチウムを含有するマグネシウム合金の表面を、フッ化水素を含有する水溶液で処理した後、陽極酸化することにより該表面に陽極酸化皮膜を形成することを特徴とするマグネシウム合金製品の製造方法。
- 前記マグネシウム合金が、マグネシウムを80〜95重量%含有し、かつリチウムを5〜20重量%含有する請求項1に記載のマグネシウム合金製品の製造方法。
- 前記水溶液が、フッ化水素を0.5〜10mol/L含有し、かつpHが1〜5である請求項1又は2に記載のマグネシウム合金製品の製造方法。
- リン酸根を0.1〜1mol/L含有し、かつpHが8〜14である電解液中で陽極酸化する請求項1〜3のいずれかに記載のマグネシウム合金製品の製造方法。
- 前記電解液が、アンモニア又はアンモニウムイオンを0.2〜5mol/L含有する請求項4に記載のマグネシウム合金製品の製造方法。
- 前記陽極酸化皮膜の厚さが0.1〜50μmである請求項1〜5のいずれかに記載のマグネシウム合金製品の製造方法。
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Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5611392A (en) * | 1979-07-11 | 1981-02-04 | Fuji Photo Film Co Ltd | Method and device for converting radiation image |
JPH09241897A (ja) * | 1996-03-08 | 1997-09-16 | Dipsol Chem Co Ltd | マグネシウム又はその合金表面の前処理方法 |
JP2002515092A (ja) * | 1997-03-24 | 2002-05-21 | マグネシウム テクノロジー リミティド | マグネシウムとマグネシウム合金の陽極酸化 |
JP2003328188A (ja) * | 2002-05-10 | 2003-11-19 | Mitsui Mining & Smelting Co Ltd | マグネシウム合金の表面処理法 |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4184926A (en) * | 1979-01-17 | 1980-01-22 | Otto Kozak | Anti-corrosive coating on magnesium and its alloys |
EP0573585B1 (en) * | 1991-02-26 | 1994-12-14 | Technology Applications Group, Inc. | Two-step chemical/electrochemical process for coating magnesium |
US5264113A (en) * | 1991-07-15 | 1993-11-23 | Technology Applications Group, Inc. | Two-step electrochemical process for coating magnesium alloys |
CN100510197C (zh) * | 2004-12-20 | 2009-07-08 | 中国科学院金属研究所 | 一种环保型镁合金微弧氧化电解液以及微弧氧化方法 |
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CN100540753C (zh) * | 2005-07-21 | 2009-09-16 | 北京航空航天大学 | 溶胶作用下的镁合金基体表面阳极氧化处理方法 |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5611392A (en) * | 1979-07-11 | 1981-02-04 | Fuji Photo Film Co Ltd | Method and device for converting radiation image |
JPH09241897A (ja) * | 1996-03-08 | 1997-09-16 | Dipsol Chem Co Ltd | マグネシウム又はその合金表面の前処理方法 |
JP2002515092A (ja) * | 1997-03-24 | 2002-05-21 | マグネシウム テクノロジー リミティド | マグネシウムとマグネシウム合金の陽極酸化 |
JP2003328188A (ja) * | 2002-05-10 | 2003-11-19 | Mitsui Mining & Smelting Co Ltd | マグネシウム合金の表面処理法 |
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