JPWO2013058222A1 - 固相接合ウエハの支持基板の剥離方法および半導体装置の製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
(A)レーザー光
光源:半導体レーザー励起Nd:YAGレーザー
波長:1064nm
レーザー光スポット断面積:3.14×10−8cm2
発振形態:Qスイッチパルス
繰り返し周波数:100kHz
パルス幅:30ns
出力:出力<1mJ/パルス
レーザー光品質:TEM00
偏光特性:直線偏光
(B)集光用レンズ
レーザー光波長に対する透過率:60%
(C)Si固相接合ウエハを載置する載置台の移動速度:100mm/秒
吸着装置12は、吸着装置12の吸着面と吸着装置13の吸着面を面一の状態で同時に可動し、さらに、吸着装置13とは独立して吸着装置12のみでも可動できるように構成されている。
そして、吸着装置13は静止した状態で吸着装置12をSiウエハ1cの端部を持ち上げる方向(図8(c)の矢印の方向)へ持ち上げる。そして、Siウエハ1cとSi支持ウエハ2cの固相接合界面端部(各ウエハの外周端部)の破断層6を剥離し、固相接合界面全体を剥離するきっかけ(剥離部)を作る(図8(c))。
このときの端部を持ち上げる方向は、吸着装置12,13の吸着面に垂直の方向よりややSiウエハの内側に傾斜した方向である。内側への傾斜が大きいと、固相接合界面の端部の剥離のきっかけを作りやすいが、吸着装置12と吸着装置13との境界付近に大きな応力がかかってしまう。したがって、Siウエハ1cが割れない程度(たとえば5°程度)に、傾けてSiウエハ1cの外周を持ち上げるとよい。
その後、吸着装置12の吸着面を吸着装置13の吸着面と面一の状態に戻し、続いて、吸着装置12,13の吸着面を面一に保ったまま、先に吸着装置12によって形成された剥離部から連続して剥離する方向(図8(d)の矢印の方向)に持ち上げる。吸着装置12,13の吸着面を徐々に傾けていき、固相接合界面全体を剥離する(図8(d))。吸着装置12と吸着装置13を段階的に引っ張ることにより、破断層6の剥離を起点にして固相接合界面に沿って亀裂が生じることで、固相接合界面にて剥離することができる。この例では、固相接合界面にはボイド10があり、ボイド10の部分では固相接合がされていないため、剥離が容易である。
ここで、吸着装置12によって吸着するのは、図5(d)のように、ウエハの一部にのみレーザーを照射した場合は、そのレーザーを照射した箇所とするのがよい。
図8に示したように、吸着装置12,13を備えた剥離装置は、固相接合界面にはボイド10のある場合に限らず用いることができる。たとえば、ボイド10を設けずに固相接合し、図5(c)(d)のようにレーザーを照射した半導体基板に対しても適用できる。
図9に示した構成は、固相接合界面にはボイド10のある場合に限らず用いることができる。たとえば、ボイド10を設けずに固相接合し、図5(c)(d)のようにレーザーを照射した半導体基板に対しても適用できる。
2a、2b、2c、2d Si支持ウエハ、支持基板
3a、3b、3c、3d Si固相接合ウエハ
4 おもて面側機能構造
5 レーザー光
6 破断層
7 P+コレクタ層
8 コレクタ電極
9 IGBTチップ
10 ボイド
11 酸化膜
12 吸着装置
13 吸着装置
14 ウエハ固定ステージ
15 接着剤
16 サポート材
17 ウエハ固定ステージ
(A)レーザー光
光源:半導体レーザー励起Nd:YAGレーザー
波長:1064nm
レーザー光スポット断面積:3.14×10−8cm2
発振形態:Qスイッチパルス
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パルス幅:30ns
出力:出力<1mJ/パルス
レーザー光品質:TEM00
偏光特性:直線偏光
(B)集光用レンズ
レーザー光波長に対する透過率:60%
(C)Si固相接合ウエハを載置する載置台の移動速度:100mm/秒
吸着装置12は、吸着装置12の吸着面と吸着装置13の吸着面を面一の状態で同時に可動し、さらに、吸着装置13とは独立して吸着装置12のみでも可動できるように構成されている。
そして、吸着装置13は静止した状態で吸着装置12をSiウエハ1cの端部を持ち上げる方向(図8(c)の矢印の方向)へ持ち上げる。そして、Siウエハ1cとSi支持ウエハ2cの固相接合界面端部(各ウエハの外周端部)の破断層6を剥離し、固相接合界面全体を剥離するきっかけ(剥離部)を作る(図8(c))。
このときの端部を持ち上げる方向は、吸着装置12,13の吸着面に垂直の方向よりややSiウエハの内側に傾斜した方向である。内側への傾斜が大きいと、固相接合界面の端部の剥離のきっかけを作りやすいが、吸着装置12と吸着装置13との境界付近に大きな応力がかかってしまう。したがって、Siウエハ1cが割れない程度(たとえば5°程度)に、傾けてSiウエハ1cの外周を持ち上げるとよい。
その後、吸着装置12の吸着面を吸着装置13の吸着面と面一の状態に戻し、続いて、吸着装置12,13の吸着面を面一に保ったまま、先に吸着装置12によって形成された剥離部から連続して剥離する方向(図8(d)の矢印の方向)に持ち上げる。吸着装置12,13の吸着面を徐々に傾けていき、固相接合界面全体を剥離する(図8(d))。吸着装置12と吸着装置13を段階的に引っ張ることにより、破断層6の剥離を起点にして固相接合界面に沿って亀裂が生じることで、固相接合界面にて剥離することができる。この例では、固相接合界面にはボイド10があり、ボイド10の部分では固相接合がされていないため、剥離が容易である。
ここで、吸着装置12によって吸着するのは、図5(d)のように、ウエハの一部にのみレーザーを照射した場合は、そのレーザーを照射した箇所とするのがよい。
図8に示したように、吸着装置12,13を備えた剥離装置は、固相接合界面にはボイド10のある場合に限らず用いることができる。たとえば、ボイド10を設けずに固相接合し、図5(c)(d)のようにレーザーを照射した半導体基板に対しても適用できる。
図9に示した構成は、固相接合界面にはボイド10のある場合に限らず用いることができる。たとえば、ボイド10を設けずに固相接合し、図5(c)(d)のようにレーザーを照射した半導体基板に対しても適用できる。
2a、2b、2c、2d Si支持ウエハ、支持基板
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5 レーザー光
6 破断層
7 P + コレクタ層
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10 ボイド
11 酸化膜
12 吸着装置
13 吸着装置
14 ウエハ固定ステージ
15 接着剤
16 サポート材
17 ウエハ固定ステージ
Claims (14)
- Siウエハと当該Siウエハの裏面に固相接合された支持基板とを含む固相接合ウエハから前記支持基板を剥離する方法であって、
前記Siウエハと前記支持基板との固相接合界面に集光点を合わせて、Siウエハに透過性の波長光を用いたレーザー光を照射して、前記固相接合界面の外周部の少なくとも一部に破断層を形成する破断層形成工程と、
前記破断層を剥離する破断層剥離工程と、
前記固相接合界面を剥離する接合界面剥離工程と
を少なくとも含む固相接合ウエハから支持基板を剥離する方法。 - 前記Siウエハと前記支持基板との固相接合界面にボイドが存在する請求項1記載の固相接合ウエハから支持基板を剥離する方法。
- 前記Siウエハと前記支持基板との固相接合界面に酸化膜が存在する請求項1または請求項2記載の固相接合ウエハから支持基板を剥離する方法。
- 前記レーザー光が固相接合ウエハの側面から照射される請求項1〜請求項3のいずれかに記載の固相接合ウエハから支持基板を剥離する方法。
- 前記レーザー光が固相接合ウエハ面に垂直方向から照射される請求項1〜請求項3のいずれかに記載の固相接合ウエハから支持基板を剥離する方法。
- 前記支持基板がSiウエハ、表面にSiO層を有するSiウエハ、SiCウエハから選ばれるいずれかの基板である請求項1〜請求項5のいずれかに記載の固相接合ウエハから支持基板を剥離する方法。
- 前記Siウエハの厚さが6インチ径で300μm未満、8インチ径で400μm未満である請求項1〜請求項6のいずれかに記載の固相接合ウエハから支持基板を剥離する方法。
- 半導体装置の製造方法であって、
Siウエハの裏面に支持基板を固相接合する固相接合工程と、
前記Siウエハの表面に機能構造を形成する機能構造形成工程と、
前記Siウエハと前記支持基板との固相接合界面に集光点を合わせて、Siウエハに透過性の波長光を用いたレーザー光を照射して、前記固相接合界面の外周部の少なくとも一部に破断層を形成する破断層形成工程と、
前記破断層を剥離する破断層剥離工程と、
前記固相接合界面を剥離する接合界面剥離工程と、
接合界面剥離工程後のSiウエハの裏面に裏面処理をする裏面処理工程と
を少なくとも含む半導体装置の製造方法。 - 前記Siウエハと前記支持基板との固相接合界面にボイドが存在する請求項8記載の半導体装置の製造方法。
- 前記Siウエハと前記支持基板との固相接合界面に酸化膜が存在する請求項8または請求項9記載の半導体装置の製造方法。
- 前記レーザー光が固相接合ウエハの側面から照射される請求項8〜請求項10のいずれかに記載の半導体装置の製造方法。
- 前記レーザー光が固相接合ウエハ面に垂直方向から照射される請求項8〜請求項10のいずれかに記載の半導体装置の製造方法。
- 前記支持基板がSiウエハ、表面にSiO層を有するSiウエハ、SiCウエハから選ばれるいずれかの基板である請求項8〜請求項12のいずれかに記載の半導体装置の製造方法。
- 前記Siウエハの厚さが6インチ径で300μm未満、8インチ径で400μm未満である請求項8〜請求項13のいずれかに記載の半導体装置の製造方法。
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JP2011228545 | 2011-10-18 | ||
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JP2013539639A Active JP5725430B2 (ja) | 2011-10-18 | 2012-10-16 | 固相接合ウエハの支持基板の剥離方法および半導体装置の製造方法 |
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Families Citing this family (17)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
TWI610374B (zh) | 2013-08-01 | 2018-01-01 | 格芯公司 | 用於將搬運器晶圓接合至元件晶圓以及能以中段波長紅外光雷射燒蝕釋出之接著劑 |
WO2015087192A1 (en) * | 2013-12-12 | 2015-06-18 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Peeling method and peeling apparatus |
WO2016112975A1 (de) * | 2015-01-14 | 2016-07-21 | Ev Group E. Thallner Gmbh | Verfahren und vorrichtung zum lösen eines substrats von einem substratstapel |
JP6699111B2 (ja) | 2015-08-18 | 2020-05-27 | 富士電機株式会社 | 半導体装置及び半導体装置の製造方法 |
JP6608732B2 (ja) * | 2016-03-01 | 2019-11-20 | 株式会社ディスコ | ウエーハの加工方法 |
JP2017162855A (ja) * | 2016-03-07 | 2017-09-14 | 株式会社ディスコ | ウエーハの加工方法 |
DE102016110378B4 (de) | 2016-06-06 | 2023-10-26 | Infineon Technologies Ag | Entfernen eines Verstärkungsrings von einem Wafer |
CN106783716B (zh) * | 2016-12-05 | 2020-03-20 | 厦门市三安集成电路有限公司 | 一种降低易碎基底在半导体制程中破片率的方法 |
CN106876247B (zh) * | 2017-02-15 | 2020-02-07 | 纳晶科技股份有限公司 | 柔性器件的制备方法 |
JP6985031B2 (ja) * | 2017-05-19 | 2021-12-22 | 株式会社ディスコ | Ledディスプレーパネルの製造方法 |
CN110785833A (zh) * | 2017-06-19 | 2020-02-11 | 罗姆股份有限公司 | 半导体装置的制造方法及晶片粘合结构体 |
CN111146083B (zh) | 2018-11-01 | 2022-08-19 | 精材科技股份有限公司 | 晶片封装体的制造方法及晶片封装体 |
CN110148569B (zh) * | 2019-05-16 | 2021-08-24 | 武汉新芯集成电路制造有限公司 | 一种键合结构的缺陷扫描方法及设备 |
CN110571163B (zh) * | 2019-09-18 | 2021-12-03 | 武汉新芯集成电路制造有限公司 | 晶圆键合工艺的气泡缺陷处理方法 |
KR20220006155A (ko) * | 2020-07-07 | 2022-01-17 | 삼성디스플레이 주식회사 | 디스플레이 장치의 제조 방법 |
WO2022059473A1 (ja) * | 2020-09-17 | 2022-03-24 | ローム株式会社 | 半導体装置の製造方法およびウエハ構造物 |
CN115223851B (zh) * | 2022-09-21 | 2022-12-09 | 西北电子装备技术研究所(中国电子科技集团公司第二研究所) | 一种机械式晶片分离方法及装置 |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001525991A (ja) * | 1997-05-12 | 2001-12-11 | シリコン・ジェネシス・コーポレーション | 制御された劈開プロセス |
JP2003531492A (ja) * | 2000-04-14 | 2003-10-21 | エス オー イ テク シリコン オン インシュレータ テクノロジース | 特に半導体材料製の基板又はインゴットから少なくとも一枚の薄層を切り出す方法 |
US20040178173A1 (en) * | 2003-03-13 | 2004-09-16 | Industrial Technology Research Institute | Method for laminating a material layer onto a transparent substrate |
JP2005129652A (ja) * | 2003-10-22 | 2005-05-19 | Fuji Electric Holdings Co Ltd | 半導体装置の製造方法 |
JP2009266892A (ja) * | 2008-04-22 | 2009-11-12 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 化合物半導体結晶基材の製造方法 |
Family Cites Families (59)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100500520B1 (ko) * | 1996-08-27 | 2005-07-12 | 세이코 엡슨 가부시키가이샤 | 전사 방법 및 액티브 매트릭스 기판 제조 방법 |
US6033974A (en) * | 1997-05-12 | 2000-03-07 | Silicon Genesis Corporation | Method for controlled cleaving process |
US7470600B2 (en) * | 1998-02-19 | 2008-12-30 | Silicon Genesis Corporation | Method and device for controlled cleaving process |
US5994207A (en) * | 1997-05-12 | 1999-11-30 | Silicon Genesis Corporation | Controlled cleavage process using pressurized fluid |
JP4085459B2 (ja) * | 1998-03-02 | 2008-05-14 | セイコーエプソン株式会社 | 3次元デバイスの製造方法 |
JP4476390B2 (ja) * | 1998-09-04 | 2010-06-09 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 半導体装置の作製方法 |
JP2000323797A (ja) * | 1999-05-10 | 2000-11-24 | Pioneer Electronic Corp | 窒化物半導体レーザ及びその製造方法 |
US6387829B1 (en) * | 1999-06-18 | 2002-05-14 | Silicon Wafer Technologies, Inc. | Separation process for silicon-on-insulator wafer fabrication |
FR2795865B1 (fr) * | 1999-06-30 | 2001-08-17 | Commissariat Energie Atomique | Procede de realisation d'un film mince utilisant une mise sous pression |
US6573126B2 (en) * | 2000-08-16 | 2003-06-03 | Massachusetts Institute Of Technology | Process for producing semiconductor article using graded epitaxial growth |
US8507361B2 (en) * | 2000-11-27 | 2013-08-13 | Soitec | Fabrication of substrates with a useful layer of monocrystalline semiconductor material |
FR2840731B3 (fr) * | 2002-06-11 | 2004-07-30 | Soitec Silicon On Insulator | Procede de fabrication d'un substrat comportant une couche utile en materiau semi-conducteur monocristallin de proprietes ameliorees |
US6784071B2 (en) * | 2003-01-31 | 2004-08-31 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | Bonded SOI wafer with <100> device layer and <110> substrate for performance improvement |
US8294172B2 (en) * | 2002-04-09 | 2012-10-23 | Lg Electronics Inc. | Method of fabricating vertical devices using a metal support film |
US7378332B2 (en) * | 2002-05-20 | 2008-05-27 | Sumitomo Mitsubishi Silicon Corporation | Laminated substrate, method of manufacturing the substrate, and wafer outer periphery pressing jigs used for the method |
US6995075B1 (en) * | 2002-07-12 | 2006-02-07 | Silicon Wafer Technologies | Process for forming a fragile layer inside of a single crystalline substrate |
AU2003260374A1 (en) * | 2002-08-06 | 2004-02-25 | Xsil Technology Limited | Laser machinining |
KR100511656B1 (ko) * | 2002-08-10 | 2005-09-07 | 주식회사 실트론 | 나노 에스오아이 웨이퍼의 제조방법 및 그에 따라 제조된나노 에스오아이 웨이퍼 |
WO2004040648A1 (ja) * | 2002-10-30 | 2004-05-13 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | 半導体装置および半導体装置の作製方法 |
US7765861B2 (en) * | 2002-11-06 | 2010-08-03 | Nxp B.V. | Method of adhesion measurement at the interface between layers |
US7482249B2 (en) * | 2002-11-29 | 2009-01-27 | Fraunhofer-Gesellschaft Zur Forderung Der Angewandten Forschung E.V. | Method and device for machining a wafer, in addition to a wafer comprising a separation layer and a support layer |
TWI401302B (zh) * | 2003-06-06 | 2013-07-11 | Hitachi Chemical Co Ltd | 切割背膠一體型黏著片 |
US7091108B2 (en) * | 2003-09-11 | 2006-08-15 | Intel Corporation | Methods and apparatuses for manufacturing ultra thin device layers for integrated circuit devices |
US7084045B2 (en) * | 2003-12-12 | 2006-08-01 | Seminconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Method for manufacturing semiconductor device |
JP4634047B2 (ja) * | 2004-01-23 | 2011-02-16 | パイオニア株式会社 | 集積型半導体発光素子及びその製造方法 |
US7202141B2 (en) * | 2004-03-29 | 2007-04-10 | J.P. Sercel Associates, Inc. | Method of separating layers of material |
JP4622720B2 (ja) * | 2004-07-21 | 2011-02-02 | 日亜化学工業株式会社 | 窒化物半導体ウエハ又は窒化物半導体素子の製造方法 |
US7094666B2 (en) * | 2004-07-29 | 2006-08-22 | Silicon Genesis Corporation | Method and system for fabricating strained layers for the manufacture of integrated circuits |
JP4634089B2 (ja) | 2004-07-30 | 2011-02-16 | 浜松ホトニクス株式会社 | レーザ加工方法 |
US7148124B1 (en) * | 2004-11-18 | 2006-12-12 | Alexander Yuri Usenko | Method for forming a fragile layer inside of a single crystalline substrate preferably for making silicon-on-insulator wafers |
US7691730B2 (en) * | 2005-11-22 | 2010-04-06 | Corning Incorporated | Large area semiconductor on glass insulator |
EP1798764A1 (en) * | 2005-12-14 | 2007-06-20 | STMicroelectronics S.r.l. | Process for manufacturing wafers usable in the semiconductor industry |
JP2007281316A (ja) * | 2006-04-11 | 2007-10-25 | Sumco Corp | Simoxウェーハの製造方法 |
US7608521B2 (en) * | 2006-05-31 | 2009-10-27 | Corning Incorporated | Producing SOI structure using high-purity ion shower |
US7579654B2 (en) * | 2006-05-31 | 2009-08-25 | Corning Incorporated | Semiconductor on insulator structure made using radiation annealing |
US20070281440A1 (en) * | 2006-05-31 | 2007-12-06 | Jeffrey Scott Cites | Producing SOI structure using ion shower |
US7929587B2 (en) * | 2007-04-27 | 2011-04-19 | Sanyo Electric Co., Ltd. | Semiconductor laser diode element and method of manufacturing the same |
US8275013B2 (en) * | 2007-06-18 | 2012-09-25 | Sanyo Electric Co., Ltd. | Semiconductor laser device and method of manufacturing the same |
JP5527956B2 (ja) * | 2007-10-10 | 2014-06-25 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 半導体基板の製造方法 |
JP5490393B2 (ja) * | 2007-10-10 | 2014-05-14 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 半導体基板の製造方法 |
JP5336101B2 (ja) * | 2008-04-01 | 2013-11-06 | 信越化学工業株式会社 | Soi基板の製造方法 |
CN104538507B (zh) * | 2008-06-02 | 2017-08-15 | Lg伊诺特有限公司 | 用于制备半导体发光装置的方法 |
KR20100008123A (ko) * | 2008-07-15 | 2010-01-25 | 고려대학교 산학협력단 | 이중 히트 씽크층으로 구성된 지지대를 갖춘 고성능수직구조의 반도체 발광소자 |
JP2010103424A (ja) | 2008-10-27 | 2010-05-06 | Showa Denko Kk | 半導体発光素子の製造方法 |
US8003491B2 (en) * | 2008-10-30 | 2011-08-23 | Corning Incorporated | Methods and apparatus for producing semiconductor on insulator structures using directed exfoliation |
US7816225B2 (en) * | 2008-10-30 | 2010-10-19 | Corning Incorporated | Methods and apparatus for producing semiconductor on insulator structures using directed exfoliation |
JP5496608B2 (ja) * | 2008-11-12 | 2014-05-21 | 信越化学工業株式会社 | Soi基板の作製方法 |
JP5132534B2 (ja) * | 2008-12-01 | 2013-01-30 | 日本電波工業株式会社 | 光学部品の製造方法 |
US8820728B2 (en) * | 2009-02-02 | 2014-09-02 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | Semiconductor wafer carrier |
US8298917B2 (en) * | 2009-04-14 | 2012-10-30 | International Business Machines Corporation | Process for wet singulation using a dicing singulation structure |
US8871609B2 (en) * | 2009-06-30 | 2014-10-28 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | Thin wafer handling structure and method |
JP5534763B2 (ja) * | 2009-09-25 | 2014-07-02 | 株式会社東芝 | 半導体発光装置の製造方法及び半導体発光装置 |
WO2011070855A1 (ja) * | 2009-12-11 | 2011-06-16 | シャープ株式会社 | 半導体装置の製造方法および半導体装置 |
US20110188532A1 (en) * | 2010-02-04 | 2011-08-04 | Sanyo Electric Co., Ltd. | Semiconductor Laser Apparatus |
JP4976522B2 (ja) * | 2010-04-16 | 2012-07-18 | 日東電工株式会社 | 熱硬化型ダイボンドフィルム、ダイシング・ダイボンドフィルム、及び、半導体装置の製造方法 |
JP5611751B2 (ja) | 2010-09-30 | 2014-10-22 | 芝浦メカトロニクス株式会社 | 支持基板、基板積層体、貼り合わせ装置、剥離装置、および基板の製造方法 |
JP5714859B2 (ja) | 2010-09-30 | 2015-05-07 | 芝浦メカトロニクス株式会社 | 基板積層体、貼り合わせ装置、剥離装置、および基板の製造方法 |
JP6001568B2 (ja) * | 2011-02-28 | 2016-10-05 | ダウ コーニング コーポレーションDow Corning Corporation | ウェハ接着システム、及びその接着並びに剥離方法 |
US20140144593A1 (en) * | 2012-11-28 | 2014-05-29 | International Business Machiness Corporation | Wafer debonding using long-wavelength infrared radiation ablation |
-
2012
- 2012-10-16 CN CN201280051546.9A patent/CN103890908B/zh active Active
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-
2014
- 2014-04-10 US US14/249,480 patent/US9147599B2/en active Active
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001525991A (ja) * | 1997-05-12 | 2001-12-11 | シリコン・ジェネシス・コーポレーション | 制御された劈開プロセス |
JP2003531492A (ja) * | 2000-04-14 | 2003-10-21 | エス オー イ テク シリコン オン インシュレータ テクノロジース | 特に半導体材料製の基板又はインゴットから少なくとも一枚の薄層を切り出す方法 |
US20040178173A1 (en) * | 2003-03-13 | 2004-09-16 | Industrial Technology Research Institute | Method for laminating a material layer onto a transparent substrate |
JP2005129652A (ja) * | 2003-10-22 | 2005-05-19 | Fuji Electric Holdings Co Ltd | 半導体装置の製造方法 |
JP2009266892A (ja) * | 2008-04-22 | 2009-11-12 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 化合物半導体結晶基材の製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US9147599B2 (en) | 2015-09-29 |
US20140220765A1 (en) | 2014-08-07 |
WO2013058222A1 (ja) | 2013-04-25 |
DE112012004373T5 (de) | 2014-07-10 |
CN103890908B (zh) | 2016-08-24 |
JP5725430B2 (ja) | 2015-05-27 |
CN103890908A (zh) | 2014-06-25 |
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