JPWO2011093323A1 - Method for producing (meth) acryloyl group-containing polysiloxane resin for light control material, (meth) acryloyl group-containing polysiloxane resin for light control material obtained thereby, light control material and light control film using the same - Google Patents

Method for producing (meth) acryloyl group-containing polysiloxane resin for light control material, (meth) acryloyl group-containing polysiloxane resin for light control material obtained thereby, light control material and light control film using the same Download PDF

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Abstract

エネルギー線を照射することにより硬化する樹脂マトリックス原料と、光調整粒子が流動可能な状態で分散媒中に分散した光調整懸濁液と、を含有する調光材料用の樹脂マトリックス原料に含まれる調光材料用(メタ)アクリロイル基含有ポリシロキサン樹脂の製造方法を下記工程を含むものとする:(a)(メタ)アクリロイル基含有アルコキシシラン化合物を、酸処理して(メタ)アクリロイル基含有シラノール化合物に変換するシラノール変換工程;(b)前記(メタ)アクリロイル基含有シラノール化合物と、シラノール基含有シロキサン系モノマー及び/又はオリゴマーと、を含む縮合原料を脱水縮合して、(メタ)アクリロイル基含有ポリシロキサン樹脂を得る脱水縮合工程。それにより、調光材料用(メタ)アクリロイル基含有ポリシロキサン樹脂の製造において、縮合原料由来の(メタ)アクリロイル基を効率よく、ポリシロキサン樹脂に導入できる。Included in a resin matrix raw material for a light-modulating material containing a resin matrix raw material that cures when irradiated with energy rays, and a light control suspension that is dispersed in a dispersion medium so that the light control particles can flow The manufacturing method of the (meth) acryloyl group containing polysiloxane resin for light control materials shall include the following process: (a) (meth) acryloyl group containing alkoxysilane compound is acid-treated, and (meth) acryloyl group containing silanol compound is obtained. (B) The dehydration condensation of the condensation raw material containing the (meth) acryloyl group-containing silanol compound and the silanol group-containing siloxane monomer and / or oligomer, and (meth) acryloyl group-containing polysiloxane Dehydration condensation process to obtain a resin. Thereby, in the production of the (meth) acryloyl group-containing polysiloxane resin for light control material, the (meth) acryloyl group derived from the condensation raw material can be efficiently introduced into the polysiloxane resin.

Description

本発明は、電界の印可により調光機能を有する調光フィルムに用いる調光材料用ポリシロキサン樹脂の製造方法、それにより得られる調光材料用ポリシロキサン樹脂、それを用いた調光材料並びに調光フィルムに関する。   The present invention relates to a method for producing a polysiloxane resin for a light control material used for a light control film having a light control function by applying an electric field, a polysiloxane resin for a light control material obtained thereby, a light control material using the same, and a light control material It relates to an optical film.

光調整懸濁液を含む調光硝子は、エドウィン・ランド(Edwin.Land)により最初に発明されたもので、その形態は、狭い間隔を有する2枚の透明導電性基材の間に、液体状態の光調整懸濁液を注入した構造になっている(例えば、特許文献1及び2参照)。エドウィン・ランドの発明によると、2枚の透明導電性基材の間に注入されている液状の光調整懸濁液は、電界を印加していない状態では懸濁液中に分散されている光調整粒子のブラウン運動により、入射光の大部分が光調整粒子により反射、散乱又は吸収され、ごく一部分だけが透過することになる。   A dimming glass containing a light conditioning suspension was first invented by Edwin. Land, and its form is a liquid between two transparent conductive substrates with a narrow spacing. It has a structure in which a light control suspension in a state is injected (see, for example, Patent Documents 1 and 2). According to Edwin Land's invention, the liquid light-regulating suspension injected between two transparent conductive substrates is light dispersed in the suspension when no electric field is applied. Due to the Brownian motion of the conditioning particles, most of the incident light is reflected, scattered or absorbed by the light conditioning particles and only a small portion is transmitted.

即ち、光調整懸濁液に分散されている光調整粒子の形状、性質、濃度及び照射される光エネルギーの量により、透過、反射、散乱又は吸収の程度が決められる。前記構造の調光硝子を用いた調光窓に電界を印加すると、透明導電性基材を通じて光調整懸濁液に電場が形成され、光調整機能を表す光調整粒子が分極を起こし、電場に対して平行に配列され、光調整粒子と光調整粒子の間を光が透過し、最終的に調光硝子は透明になる。しかし、このような初期の調光装置は、実用上、光調整懸濁液内での光調整粒子の凝集、自重による沈降、熱による色相変化、光学密度の変化、紫外線照射による劣化、基材の間隔維持及びその間隔内への光調整懸濁液の注入が困難等であるために、実用化が難しかった。   That is, the degree of transmission, reflection, scattering, or absorption is determined by the shape, properties, concentration, and amount of light energy applied to the light control particles dispersed in the light control suspension. When an electric field is applied to the light control window using the light control glass having the above structure, an electric field is formed in the light control suspension through the transparent conductive substrate, and the light control particles representing the light control function cause polarization, The light adjustment particles are arranged in parallel to each other, and light is transmitted between the light adjustment particles and the light adjustment particles. Finally, the light control glass becomes transparent. However, such an initial light control device is practically agglomeration of light control particles in a light control suspension, sedimentation due to its own weight, hue change due to heat, change in optical density, deterioration due to ultraviolet irradiation, base material However, it was difficult to put it into practical use because it was difficult to maintain the interval and to inject the light adjusting suspension into the interval.

ロバート・エル・サックス(Robert.L.Saxe)、エフ・シー・ローウェル(F.C.Lowell)、又はアール・アイ・トンプソン(R.I.Thompson)は、調光窓の初期問題点、即ち、光調整粒子の凝集及び沈降、光学密度の変化等を補完した調光硝子を用いた調光窓を開示している(例えば、特許文献3〜9参照)。これらの特許等では、針状の光調整結晶粒子、結晶粒子分散用懸濁剤、分散調整剤及び安定剤等からなる液体状態の光調整懸濁液によって、光調整粒子と懸濁剤の密度を殆ど同様に合わせて光調整粒子の沈降を防止しながら、分散調整剤を添加して光調整粒子の分散性を高めることにより光調整粒子の凝集を防止し、初期の問題点を解決している。   Robert L. Saxe, FC Lowell, or R. I. Thompson is the initial problem with dimming windows, namely: In addition, there is disclosed a light control window using a light control glass supplemented with aggregation and sedimentation of light adjusting particles, changes in optical density, and the like (see, for example, Patent Documents 3 to 9). In these patents, etc., the density of the light adjusting particles and the suspending agent is determined by a liquid state light adjusting suspension composed of acicular light adjusting crystal particles, a suspension for dispersing crystal particles, a dispersion adjusting agent, a stabilizer, and the like. In order to prevent the light adjustment particles from aggregating by adding a dispersion adjusting agent to improve the dispersibility of the light adjustment particles while preventing the precipitation of the light adjustment particles. Yes.

しかし、これらの調光硝子もやはり従来の調光硝子のように、2枚の透明導電性基材の間隔内に液状の光調整懸濁液を封入した構造になっているため、大型製品製造の場合、2枚の透明導電性基材の間隔内への均一な懸濁液の封入が困難で、製品上下間の水圧差による下部の膨張現象が起こりやすい問題がある。
また、外部環境、例えば、風圧によって基材の間隔が変化することにより、その結果、光学密度が変化して色相が不均質になり、又は透明導電性基材の間に液体をためるための周辺の密封材が破壊され、光調整材料が漏れる問題がある。また、紫外線による劣化、透明導電性基材の周辺部と中央部間の電圧降下により、応答時間にむらが発生する。
However, these light control glasses, like the conventional light control glass, have a structure in which a liquid light control suspension is enclosed within the interval between two transparent conductive substrates, so that large-scale products can be manufactured. In this case, it is difficult to enclose a uniform suspension within the interval between two transparent conductive substrates, and there is a problem that a lower swelling phenomenon is likely to occur due to a water pressure difference between the upper and lower parts of the product.
Also, due to changes in the distance between the substrates due to the external environment, for example, wind pressure, the optical density changes and the hue becomes inhomogeneous, or the periphery for collecting liquid between the transparent conductive substrates. There is a problem that the light-sealing material leaks due to destruction of the sealing material. Further, the response time varies due to deterioration due to ultraviolet rays and a voltage drop between the peripheral portion and the central portion of the transparent conductive substrate.

これを改善する方法として、液状の光調整懸濁液を硬化性の高分子樹脂の溶液と混合し、重合による相分離法、溶媒揮発による相分離法、又は温度による相分離法等を利用してフィルムを製造する方法が提案されている(例えば、特許文献10参照)。
なお、上記方法においては、調光層を構成する樹脂マトリックスは、エチレン性不飽和結合を有する置換基をもつシリコーン樹脂(以下、「ポリシロキサン樹脂」ともいう)と光重合開始剤等を含む樹脂マトリックス原料(以下、「高分子媒体」ともいう)からなり、紫外線等のエネルギー線を照射することにより硬化したものである。
As a method for improving this, a liquid light control suspension is mixed with a curable polymer resin solution, and a phase separation method by polymerization, a phase separation method by solvent volatilization, or a phase separation method by temperature is used. A method of manufacturing a film has been proposed (see, for example, Patent Document 10).
In the above method, the resin matrix constituting the light control layer is a resin containing a silicone resin having a substituent having an ethylenically unsaturated bond (hereinafter also referred to as “polysiloxane resin”) and a photopolymerization initiator. It is made of a matrix material (hereinafter also referred to as “polymer medium”), and is cured by irradiation with energy rays such as ultraviolet rays.

米国特許第1,955,923号明細書US Pat. No. 1,955,923 米国特許第1,963,496号明細書US Pat. No. 1,963,496 米国特許第3,756,700号明細書US Pat. No. 3,756,700 米国特許第4,247,175号明細書US Pat. No. 4,247,175 米国特許第4,273,422号明細書U.S. Pat. No. 4,273,422 米国特許第4,407,565号明細書US Pat. No. 4,407,565 米国特許第4,422,963号明細書US Pat. No. 4,422,963 米国特許第3,912,365号明細書US Pat. No. 3,912,365 米国特許第4,078,856号明細書U.S. Pat. No. 4,078,856 特開2002−189123号公報JP 2002-189123 A

エネルギー線を照射することにより硬化するマトリックス樹脂(以下、「高分子媒体」ともいう)となるマトリックス樹脂原料の構成成分として、(メタ)アクリロイル基を含有するポリシロキサン樹脂が好ましく用いられる。しかし、このポリシロキサン樹脂中の(メタ)アクリロイル基導入量により調光フィルムの特性が大きく影響を受け、(メタ)アクリロイル基の導入量が少なすぎても多すぎても耐熱性が劣る問題があることが、本発明者等の検討で明らかとなった。
また、(メタ)アクリロイル基含有ポリシロキサン樹脂を製造するために、縮合原料として通常用いられる(メタ)アクリロイル基含有アルコキシシラン化合物をそのまま合成に使用すると、アルコキシシラン化合物の反応性が低いため、良好な耐熱性を発現するために必要な量の(メタ)アクリロイル基をポリシロキサン樹脂中に導入できない問題がある。
A polysiloxane resin containing a (meth) acryloyl group is preferably used as a constituent component of a matrix resin raw material that becomes a matrix resin (hereinafter also referred to as “polymer medium”) that is cured by irradiation with energy rays. However, the properties of the light control film are greatly affected by the amount of (meth) acryloyl groups introduced in the polysiloxane resin, and the heat resistance is poor even if the amount of (meth) acryloyl groups introduced is too small or too large. This has been clarified by the study of the present inventors.
In addition, in order to produce a (meth) acryloyl group-containing polysiloxane resin, a (meth) acryloyl group-containing alkoxysilane compound, which is usually used as a condensation raw material, is used as it is in the synthesis, so that the reactivity of the alkoxysilane compound is low, which is good. There is a problem that a necessary amount of (meth) acryloyl groups cannot be introduced into the polysiloxane resin in order to develop excellent heat resistance.

本発明は、良好な耐熱性を発現するために必要な量の(メタ)アクリロイル基をポリシロキサン樹脂中に導入するための、調光材料用(メタ)アクリロイル基含有ポリシロキサン樹脂の製造方法と、この手法で合成した(メタ)アクリロイル基含有量の制御されたポリシロキサン樹脂、これを用いた調光材料及び調光フィルムを提供することを目的とするものである。   The present invention provides a method for producing a (meth) acryloyl group-containing polysiloxane resin for a light-modulating material for introducing a necessary amount of (meth) acryloyl group into the polysiloxane resin to exhibit good heat resistance, An object of the present invention is to provide a polysiloxane resin having a controlled (meth) acryloyl group content synthesized by this method, a light control material and a light control film using the same.

本発明者等は、鋭意検討した結果、(メタ)アクリロイル基含有アルコキシシラン化合物を酸などで(メタ)アクリロイル基含有シラノール化合物に変換した後に、シラノール基含有シロキサン系モノマー及び/又はオリゴマーと脱水縮合することで上記問題を解決できることを見出した。   As a result of intensive studies, the present inventors have converted a (meth) acryloyl group-containing alkoxysilane compound into a (meth) acryloyl group-containing silanol compound with an acid or the like, and then dehydrated condensation with a silanol group-containing siloxane monomer and / or oligomer. It has been found that the above problem can be solved by doing so.

すなわち、本発明は以下の通りである。
(1)エネルギー線を照射することにより硬化する樹脂マトリックス原料と、光調整粒子が流動可能な状態で分散媒中に分散した光調整懸濁液と、を含有する調光材料の樹脂マトリックス原料に用いるポリシロキサン樹脂の製造方法であって、
下記工程(a)〜(b)を含むことを特徴とする調光材料用(メタ)アクリロイル基含有ポリシロキサン樹脂の製造方法。
(a)(メタ)アクリロイル基含有アルコキシシラン化合物を、酸処理して(メタ)アクリロイル基含有シラノール化合物に変換するシラノール変換工程、
(b)上記(メタ)アクリロイル基含有シラノール化合物と、シラノール基含有シロキサン系モノマー及び/又はオリゴマーと、を含む縮合原料を脱水縮合して、(メタ)アクリロイル基含有ポリシロキサン樹脂を得る脱水縮合工程。
That is, the present invention is as follows.
(1) A resin matrix material of a light control material comprising: a resin matrix material that is cured by irradiation with energy rays; and a light conditioning suspension that is dispersed in a dispersion medium so that the light conditioning particles can flow. A method for producing a polysiloxane resin to be used,
The manufacturing method of the (siloxane) group containing polysiloxane resin for light control materials characterized by including the following process (a)-(b).
(A) a silanol conversion step of converting a (meth) acryloyl group-containing alkoxysilane compound into an (meth) acryloyl group-containing silanol compound by acid treatment;
(B) Dehydration condensation step of dehydrating and condensing a condensation raw material containing the (meth) acryloyl group-containing silanol compound and the silanol group-containing siloxane monomer and / or oligomer to obtain a (meth) acryloyl group-containing polysiloxane resin. .

(2)上記(b)脱水縮合工程において、上記(メタ)アクリロイル基含有シラノール化合物が、上記縮合原料総量の2.0〜8.0質量%である、上記(1)記載の調光材料用(メタ)アクリロイル基含有ポリシロキサン樹脂の製造方法。 (2) In the (b) dehydrating condensation step, the (meth) acryloyl group-containing silanol compound is 2.0 to 8.0% by mass of the total amount of the condensing raw material. A method for producing a (meth) acryloyl group-containing polysiloxane resin.

(3)上記(メタ)アクリロイル基含有アルコキシシラン化合物が、(3−アクリロキシプロピル)メチルジメトキシシラン、(3−メタクリロキシプロピル)メチルジメトキシシラン及び(3−メタクリロキシプロピル)メチルジエトキシシランからなる群から選ばれる1種以上であり、
上記シラノール基含有シロキサン系モノマー及び/又はオリゴマーが、両末端シラノール基含有ポリジメチルシロキサン、両末端シラノール基含有ポリジフェニルシロキサン及び両末端シラノール基含有ポリメチルフェニルシロキサンからなる群から選ばれる2種以上である、上記(1)又は(2)に記載の調光材料用(メタ)アクリロイル基含有ポリシロキサン樹脂の製造方法。
(3) The (meth) acryloyl group-containing alkoxysilane compound comprises (3-acryloxypropyl) methyldimethoxysilane, (3-methacryloxypropyl) methyldimethoxysilane, and (3-methacryloxypropyl) methyldiethoxysilane. One or more selected from the group,
The silanol group-containing siloxane monomer and / or oligomer is at least two selected from the group consisting of both-end silanol group-containing polydimethylsiloxane, both-end silanol group-containing polydiphenylsiloxane, and both-end silanol group-containing polymethylphenylsiloxane. The manufacturing method of the (meth) acryloyl group containing polysiloxane resin for light control materials as described in said (1) or (2).

(4)上記(1)〜(3)のいずれか一つに記載の製造方法により得られるポリシロキサン樹脂であって、(メタ)アクリロイル基を含有する構造単位量が、構造単位量全体の1.3〜5.0質量%である調光材料用(メタ)アクリロイル基含有ポリシロキサン樹脂。 (4) A polysiloxane resin obtained by the production method according to any one of (1) to (3) above, wherein the amount of structural units containing a (meth) acryloyl group is 1 in the total amount of structural units. A (meth) acryloyl group-containing polysiloxane resin for a light-modulating material, which is 3 to 5.0% by mass.

(5)重量平均分子量が35,000〜60,000である上記(4)に記載の調光材料用(メタ)アクリロイル基含有ポリシロキサン樹脂。
(6)上記(4)又は(5)に記載の調光材料用ポリシロキサン樹脂を含む樹脂マトリックス原料と、光調整粒子が流動可能な状態で分散媒中に分散した光調整懸濁液と、を含有する調光材料。
(7)上記(6)に記載の調光材料を用いて作製した調光フィルム。
(5) The (meth) acryloyl group-containing polysiloxane resin for a light control material according to the above (4), which has a weight average molecular weight of 35,000 to 60,000.
(6) A resin matrix raw material containing the polysiloxane resin for light modulating material according to (4) or (5) above, a light adjusting suspension dispersed in a dispersion medium in a state where the light adjusting particles can flow, Dimming material containing
(7) The light control film produced using the light control material as described in said (6).

本発明の調光材料用(メタ)アクリロイル基含有ポリシロキサン樹脂の製造方法により、耐熱性が良好な調光フィルムの製造に適した調光材料用(メタ)アクリロイル基含有ポリシロキサン樹脂を得ることができる。
本願の開示は、2010年12月17日に出願された特願2010−281296号、2010年1月26日に出願された特願2010−14191号、2010年1月26日に出願された特願2010−14200号及び2010年8月9日に出願された特願2010−178665号に記載の主題と関連しており、それらの開示内容は引用によりここに援用される。
Obtaining a (meth) acryloyl group-containing polysiloxane resin for a light control material suitable for manufacturing a light control film having good heat resistance by the method for manufacturing a (meth) acryloyl group-containing polysiloxane resin for a light control material of the present invention Can do.
The disclosure of the present application is disclosed in Japanese Patent Application No. 2010-281296 filed on December 17, 2010, Japanese Patent Application No. 2010-14191 filed on January 26, 2010, and Japanese Patent Application No. 2010-26191 filed on January 26, 2010. This is related to the subject matter described in Japanese Patent Application No. 2010-14200 and Japanese Patent Application No. 2010-178665 filed on Aug. 9, 2010, the disclosures of which are incorporated herein by reference.

本発明の調光フィルムの一態様の断面構造概略図である。It is a sectional structure schematic diagram of one mode of a light control film of the present invention. 図1の調光フィルムの電界が印加されていない場合の作動を説明するための概略図である。It is the schematic for demonstrating the action | operation when the electric field of the light control film of FIG. 1 is not applied. 図1の調光フィルムの電界が印加されている場合の作動を説明するための概略図である。It is the schematic for demonstrating the action | operation when the electric field of the light control film of FIG. 1 is applied. 調光フィルムの端部の状態を説明するための概略図である。液滴3の中の光調整粒子10は図示を省略した。It is the schematic for demonstrating the state of the edge part of a light control film. The light control particles 10 in the droplet 3 are not shown.

調光フィルムの調光材料に用いられる樹脂マトリックス(「高分子媒体」ともいう)原料の構成成分として、エネルギー線を照射することにより硬化するための(メタ)アクリロイル基を含むユニットと、屈折率の調整のためのユニットと、を含むポリシロキサン樹脂が好ましく用いることができることが本発明者等の検討でわかった。
本発明は、これらのユニットを含むように縮合原料を用いて合成する際に、特定の工程を有することで、効率よく所望の(メタ)アクリロイル基含有ポリシロキサン樹脂が得られることが可能な調光材料用(メタ)アクリロイル基含有ポリシロキサン樹脂の製造方法に関する。
A unit containing a (meth) acryloyl group for curing by irradiating energy rays as a constituent of a resin matrix (also referred to as “polymer medium”) raw material used for a light control material of a light control film, and a refractive index The present inventors have found that a polysiloxane resin containing a unit for adjusting the above can be preferably used.
In the present invention, when a synthesis raw material is synthesized so as to include these units, a specific (meth) acryloyl group-containing polysiloxane resin can be efficiently obtained by having a specific step. The present invention relates to a method for producing a (meth) acryloyl group-containing polysiloxane resin for optical materials.

<本発明の調光材料用(メタ)アクリロイル基含有ポリシロキサン樹脂の製造方法>
本発明における調光材料用(メタ)アクリロイル基含有ポリシロキサン樹脂は、エネルギー線を照射することにより硬化する樹脂マトリックス原料と、光調整粒子が流動可能な状態で分散媒中に分散した光調整懸濁液と、を含有する調光材料用の上記樹脂マトリックス原料に含まれるものであり、その製造方法は、下記工程(a)〜(b)を含むことを特徴する。
(a)(メタ)アクリロイル基含有アルコキシシラン化合物を、酸処理して(メタ)アクリロイル基含有シラノール化合物に変換するシラノール変換工程、
(b)上記(メタ)アクリロイル基含有シラノール化合物と、シラノール基含有シロキサン系モノマー及び/又はオリゴマーと、を含む縮合原料を脱水縮合して、(メタ)アクリロイル基含有ポリシロキサン樹脂を得る脱水縮合工程。
さらに、上記(b)脱水縮合工程において、上記(メタ)アクリロイル基含有シラノール化合物が、上記縮合原料総量の2.0〜8.0質量%であることが好ましい。
<The manufacturing method of the (meth) acryloyl group containing polysiloxane resin for light control materials of this invention>
The (meth) acryloyl group-containing polysiloxane resin for light control material in the present invention is a resin matrix raw material that is cured by irradiation with energy rays, and a light adjustment suspension dispersed in a dispersion medium in a state where the light adjustment particles can flow. And the production method includes the following steps (a) to (b).
(A) a silanol conversion step of converting a (meth) acryloyl group-containing alkoxysilane compound into an (meth) acryloyl group-containing silanol compound by acid treatment;
(B) Dehydration condensation step of dehydrating and condensing a condensation raw material containing the (meth) acryloyl group-containing silanol compound and the silanol group-containing siloxane monomer and / or oligomer to obtain a (meth) acryloyl group-containing polysiloxane resin. .
Furthermore, in the (b) dehydration condensation step, the (meth) acryloyl group-containing silanol compound is preferably 2.0 to 8.0% by mass of the total amount of the condensation raw materials.

本発明においては、(メタ)アクリロイル基含有アルコキシシラン化合物を酸などでシラノール化合物に変換した後に、該シラノール化合物と、シラノール基含有シロキサン系モノマー及び/又はオリゴマーと、を含む縮合原料を脱水縮合することによって、従来の製造方法の問題点、即ち、良好な耐熱性を発現するために必要な量の(メタ)アクリロイル基をポリシロキサン樹脂中に導入できないといった問題が解決される。   In the present invention, after the (meth) acryloyl group-containing alkoxysilane compound is converted into a silanol compound with an acid or the like, a condensation raw material containing the silanol compound and the silanol group-containing siloxane monomer and / or oligomer is subjected to dehydration condensation. This solves the problem of the conventional manufacturing method, that is, the problem that the amount of (meth) acryloyl groups necessary for developing good heat resistance cannot be introduced into the polysiloxane resin.

以下、本発明の調光材料用(メタ)アクリロイル基含有ポリシロキサン樹脂の製造方法について、工程ごとに説明する。
<1>シラノール変換工程
本発明の製造方法におけるシラノール変換工程は、(メタ)アクリロイル基含有アルコキシシラン化合物を、酸処理して(メタ)アクリロイル基含有シラノール化合物に変換する工程である。
Hereinafter, the manufacturing method of the (meth) acryloyl group containing polysiloxane resin for light control materials of this invention is demonstrated for every process.
<1> Silanol Conversion Step The silanol conversion step in the production method of the present invention is a step of converting a (meth) acryloyl group-containing alkoxysilane compound into a (meth) acryloyl group-containing silanol compound by acid treatment.

本発明における(メタ)アクリロイル基含有アルコキシシラン化合物は、エネルギー線を照射することにより硬化するための(メタ)アクリロイル基を含むユニットを構成するための縮合原料となり得る。しかし、そのままポリシロキサン樹脂の脱水縮合に用いると、アルコキシシランの反応性が低いためポリシロキサン樹脂中に所望の量を導入できない場合が多い。そのため、本発明においては、(メタ)アクリロイル基含有アルコキシシラン化合物を酸などで(メタ)アクリロイル基含有シラノール化合物に変換した後に、屈折率の調整のためのユニットを構成するその他の縮合原料と脱水縮合することが好ましい。
なお、屈折率の調整のためのユニットを構成するその他の縮合原料は、シラノール基含有シロキサン系モノマー及び/又はオリゴマーが挙げられる。
The (meth) acryloyl group-containing alkoxysilane compound in the present invention can be a condensation raw material for constituting a unit containing a (meth) acryloyl group for curing by irradiation with energy rays. However, if the polysiloxane resin is used as it is for dehydration condensation, the desired amount cannot be introduced into the polysiloxane resin because the reactivity of alkoxysilane is low. Therefore, in the present invention, after the (meth) acryloyl group-containing alkoxysilane compound is converted to a (meth) acryloyl group-containing silanol compound with an acid or the like, the other condensation raw materials constituting the unit for adjusting the refractive index are dehydrated. Condensation is preferred.
In addition, the other condensation raw material which comprises the unit for adjustment of a refractive index includes a silanol group containing siloxane type monomer and / or an oligomer.

(メタ)アクリロイル基含有アルコキシシラン化合物は、(メタ)アクリロイル基及びアルコキシ基を含有し、且つアルコキシ基をシラノール基へ変換した後に、シラノール基含有シロキサン系モノマー及び/又はオリゴマーなどのその他の縮合原料との脱水縮合によってポリシロキサン樹脂を形成し得るものであればよい。(メタ)アクリロキシアルキルアルキルジアルコキシシランが好ましいものとして挙げられ、具体的には(3−アクリロキシプロピル)メチルジメトキシシラン、(3−メタクリロキシプロピル)メチルジメトキシシラン、(3−メタクリロキシプロピル)メチルジエトキシシランなどがより好ましいものとして挙げられるが、これらに限定されるものではない。   The (meth) acryloyl group-containing alkoxysilane compound contains a (meth) acryloyl group and an alkoxy group, and after converting the alkoxy group to a silanol group, other condensation raw materials such as a silanol group-containing siloxane monomer and / or oligomer As long as it can form a polysiloxane resin by dehydration condensation. (Meth) acryloxyalkylalkyldialkoxysilane is preferred, and specifically, (3-acryloxypropyl) methyldimethoxysilane, (3-methacryloxypropyl) methyldimethoxysilane, (3-methacryloxypropyl) Methyldiethoxysilane and the like are more preferable, but are not limited thereto.

(メタ)アクリロイル基含有アルコキシシラン化合物の市販品としては、(3−アクリロキシプロピル)メチルジメトキシシラン(KBM−5102)、3−メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン(KBM−502)、3−メタクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン(KBE−502)(以上、信越化学工業(株)製)、3−メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン(Z−6033)(東レ・ダウコーニング(株)製)などが挙げられる。   Commercially available products of (meth) acryloyl group-containing alkoxysilane compounds include (3-acryloxypropyl) methyldimethoxysilane (KBM-5102), 3-methacryloxypropylmethyldimethoxysilane (KBM-502), and 3-methacryloxypropyl. Examples thereof include methyldiethoxysilane (KBE-502) (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), 3-methacryloxypropylmethyldimethoxysilane (Z-6033) (manufactured by Toray Dow Corning Co., Ltd.), and the like.

(メタ)アクリロイル基含有アルコキシシラン化合物のアルコキシ基のシラノール基への変換率は、赤外分光測定における水酸基由来のピーク(3435cm−1付近)の強度(A)とアルコキシ基由来のピーク(2835cm−1付近)の強度(B)から変換率=A/(A+B)×100により求められ、ポリシロキサン樹脂の合成には変換率40〜70%のものが好ましく、45〜65%のものがさらに好ましい。The conversion ratio of the alkoxy group of the (meth) acryloyl group-containing alkoxysilane compound to the silanol group is determined by the intensity (A) of the peak derived from the hydroxyl group (near 3435 cm −1 ) and the peak derived from the alkoxy group (2835 cm Conversion ratio = A / (A + B) × 100 from the strength (B) in the vicinity of 1 ). For the synthesis of the polysiloxane resin, the conversion ratio is preferably 40 to 70%, more preferably 45 to 65%. .

シラノール変換工程においては、酸を用いて(メタ)アクリロイル基含有アルコキシシラン化合物のアルコキシ基をシラノール基へ変換する。酸としては、酢酸、蟻酸、プロピオン酸、p−トルエンスルホン酸などの有機酸などが挙げられる。
酸の使用量は、(メタ)アクリロイル基含有アルコキシシラン化合物に対し、0.1〜5.0質量%添加することが好ましく、0.1〜1.0質量%とすることが好ましい。
なお、シラノール変換工程においては、溶媒を用いることも可能であり、メタノール、エタノール、イソプロプルアルコールなどが挙げられるが、蒸留水を含むメタノール/エタノールの混合溶媒が好ましい。溶媒の使用量は、質量比で(メタ)アクリロイル基含有アルコキシシラン化合物/混合溶媒=1/0.5〜1/1が好ましく、1/0.7〜1/1がさらに好ましい。
シラノール変換の反応は、63〜67℃において、攪拌回転数は150±10rpmで5〜6時間反応させることで行う。反応の終了は、上記シラノール基への変換率測定法により45〜65%の範囲になったら反応溶液を40℃以下に冷却することで反応を終了させる。
In the silanol conversion step, the alkoxy group of the (meth) acryloyl group-containing alkoxysilane compound is converted into a silanol group using an acid. Examples of the acid include organic acids such as acetic acid, formic acid, propionic acid, and p-toluenesulfonic acid.
The amount of the acid used is preferably 0.1 to 5.0% by mass, and preferably 0.1 to 1.0% by mass with respect to the (meth) acryloyl group-containing alkoxysilane compound.
In the silanol conversion step, a solvent may be used, and examples thereof include methanol, ethanol, isopropyl alcohol, etc., but a methanol / ethanol mixed solvent containing distilled water is preferable. The amount of the solvent used is preferably (meth) acryloyl group-containing alkoxysilane compound / mixed solvent = 1 / 0.5 to 1/1, more preferably 1 / 0.7 to 1/1, in terms of mass ratio.
The reaction for silanol conversion is carried out at 63 to 67 ° C. by reacting at a stirring speed of 150 ± 10 rpm for 5 to 6 hours. When the reaction is completed, the reaction solution is cooled to 40 ° C. or lower when the range of 45 to 65% is obtained by the method for measuring the conversion rate to the silanol group.

<2>脱水縮合工程
本発明の製造方法における脱水縮合工程は、上記(メタ)アクリロイル基含有シラノール化合物と、シラノール基含有シロキサン系モノマー及び/又はオリゴマーと、を含む縮合原料を脱水縮合して、(メタ)アクリロイル基含有ポリシロキサン樹脂を得る工程である。
上記シラノール変換工程により得られた(メタ)アクリロイル基含有シラノール化合物と共に、シラノール基含有シロキサン系モノマー及び/又はオリゴマーを縮合原料として用いる。
シラノール基含有シロキサン系モノマー及び/又はオリゴマーは、調光フィルムにおける屈折率の調整のためのユニット構成の縮合原料となる。
<2> Dehydration-condensation step The dehydration-condensation step in the production method of the present invention involves dehydrating and condensing a condensation raw material containing the (meth) acryloyl group-containing silanol compound and the silanol group-containing siloxane monomer and / or oligomer, This is a step of obtaining a (meth) acryloyl group-containing polysiloxane resin.
A silanol group-containing siloxane monomer and / or oligomer is used as a condensing raw material together with the (meth) acryloyl group-containing silanol compound obtained by the silanol conversion step.
The silanol group-containing siloxane monomer and / or oligomer serves as a condensing raw material having a unit structure for adjusting the refractive index in the light control film.

シラノール基含有シロキサン系モノマーとしては、シラノール基を含有するシロキサンモノマーであれば特に制限はなく、ジメチルジメトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジイソプロピルジメトキシシラン、ジイソブチルジメトキシシランなどの2つの炭化水素基と2つのアルコキシ基を有するシラン化合物のアルコキシ基を加水分解してシラノール基としたシラノール化合物などが挙げられる。
シラノール基含有シロキサン系オリゴマーとしては、シラノール基を含有するシロキサンオリゴマーであれば特に制限はなく、ジメチルジアルコキシシラン、ジフェニルジアルコキシシランなどのシラン化合物のアルコキシ基を加水分解してシラノール基とした後、脱水縮合反応によってシロキサン結合を形成したオリゴマーが挙げられる。また、予めシロキサン結合が形成されており、両末端がシラノール基となっているオリゴマーなども挙げられる。具体的には両末端シラノール基含有ポリジメチルシロキサン、両末端シラノール基含有ポリジフェニルシロキサン、両末端シラノール基含有ポリメチルフェニルシロキサンなどが挙げられる。
The silanol group-containing siloxane monomer is not particularly limited as long as it is a siloxane monomer having a silanol group, and two hydrocarbons such as dimethyldimethoxysilane, diphenyldimethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, diisopropyldimethoxysilane, and diisobutyldimethoxysilane. And a silanol compound obtained by hydrolyzing an alkoxy group of a silane compound having a group and two alkoxy groups to form a silanol group.
The silanol group-containing siloxane oligomer is not particularly limited as long as it is a siloxane oligomer containing a silanol group, and after hydrolyzing an alkoxy group of a silane compound such as dimethyl dialkoxysilane or diphenyl dialkoxysilane to form a silanol group. And oligomers in which a siloxane bond is formed by a dehydration condensation reaction. Moreover, the oligomer etc. by which the siloxane bond is formed previously and the both terminal is a silanol group are mentioned. Specifically, both terminal silanol group-containing polydimethylsiloxane, both terminal silanol group-containing polydiphenylsiloxane, both terminal silanol group-containing polymethylphenylsiloxane and the like can be mentioned.

ジメチルジメトキシシランの市販品としては、Z−6329(東レ・ダウコーニング(株))などが挙げられ、ジフェニルジメトキシシランの市販品としてはZ−6329(東レ・ダウコーニング(株))など、ジメチルジエトキシシランの市販品としてはKBE−22(信越化学(株))など、ジイソプロピルジメトキシシランの市販品としてはZ−6258(東レ・ダウコーニング(株))など、ジイソブチルジメトキシシランの市販品としてはZ−6275(東レ・ダウコーニング(株))などが挙げられる。   Examples of commercially available dimethyldimethoxysilane include Z-6329 (Toray Dow Corning), and examples of commercially available diphenyldimethoxysilane include Z-6329 (Toray Dow Corning) and dimethyldimethoxysilane. Commercial products of ethoxysilane such as KBE-22 (Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), commercial products of diisopropyldimethoxysilane, such as Z-6258 (Toray Dow Corning Co., Ltd.), and commercial products of diisobutyldimethoxysilane, such as Z -6275 (Toray Dow Corning Co., Ltd.).

両末端シラノール基含有ポリジメチルシロキサンの市販品としては、X−21−3114(信越化学工業(株)製)、DMS−S12、DMS−S14(以上、Gelest社製)が挙げられる。
両末端シラノール基含有ポリジフェニルシロキサンの市販品としては、PDS−9931(Gelest社製)などが挙げられる。
両末端シラノール基含有ポリメチルフェニルシロキサンの市販品としては、X−21−3193B(信越化学工業(株)製)、PDS−1615(Gelest社製)などが挙げられる。
As a commercial item of polydimethylsiloxane containing both terminal silanol groups, X-21-3114 (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), DMS-S12, DMS-S14 (manufactured by Gelest Co., Ltd.) can be mentioned.
PDS-9931 (made by Gelest) etc. are mentioned as a commercial item of both terminal silanol group containing polydiphenylsiloxane.
Examples of commercially available products of both-end silanol group-containing polymethylphenylsiloxanes include X-21-3193B (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), PDS-1615 (manufactured by Gelest) and the like.

なお、ポリシロキサン樹脂の製造時の各種縮合原料の仕込み配合において、(3−アクリロキシプロピル)メチルジメトキシシランなどの(メタ)アクリロイル基含有アルコキシシラン化合物を酸処理して得られた(メタ)アクリロイル基含有シラノール化合物の量は、ポリシロキサン樹脂の構造単位の縮合原料総量の2.0〜8.0質量%とすることが重要であり、2.3〜6.9質量%とすることが好ましい。
なお、縮合原料には、反応を効率よく停止するために用いるエンドギャップ剤も含むものとする。エンドギャップ剤については後述する。
(メタ)アクリロイル基含有アルコキシシラン化合物を酸処理して得られた(メタ)アクリロイル基含有シラノール化合物の量は、2.0質量%未満であると、最終的に得られるポリシロキサン樹脂の(メタ)アクリロイル基濃度が所望の濃度より低くなりすぎる傾向があり、8.0質量%を超えると得られるポリシロキサン樹脂の(メタ)アクリロイル基濃度が所望の濃度より高くなりすぎる傾向がある。
(Meth) acryloyl obtained by acid-treating a (meth) acryloyl group-containing alkoxysilane compound such as (3-acryloxypropyl) methyldimethoxysilane in the charging and blending of various condensation raw materials during the production of the polysiloxane resin. The amount of the group-containing silanol compound is important to be 2.0 to 8.0% by mass of the total amount of condensation raw materials of the structural unit of the polysiloxane resin, and preferably 2.3 to 6.9% by mass. .
The condensing raw material includes an end gap agent used for efficiently stopping the reaction. The end gap agent will be described later.
When the amount of the (meth) acryloyl group-containing silanol compound obtained by acid treatment of the (meth) acryloyl group-containing alkoxysilane compound is less than 2.0% by mass, ) The acryloyl group concentration tends to be too lower than the desired concentration, and if it exceeds 8.0% by mass, the (meth) acryloyl group concentration of the resulting polysiloxane resin tends to be too higher than the desired concentration.

(メタ)アクリロイル基含有アルコキシシラン化合物を酸処理して得られた(メタ)アクリロイル基含有シラノール化合物を、上記縮合原料総量の2.0〜8.0質量%とすることで、得られる(メタ)アクリロイル基含有ポリシロキサン樹脂の(メタ)アクリロイル基含有構造単位(即ち、ポリシロキサンの主鎖において−Si−O−の結合を構造単位として、上記Siの側鎖に(メタ)アクリロイル基が結合している構造単位の量を1.3〜5.0質量%とすることができる。より好ましい量は1.5〜4.5質量%である。これにより、得られる(メタ)アクリロイル基含有ポリシロキサン樹脂の耐熱性が良好となる。   It is obtained by setting the (meth) acryloyl group-containing silanol compound obtained by acid treatment of the (meth) acryloyl group-containing alkoxysilane compound to 2.0 to 8.0% by mass of the total amount of the above condensation raw materials (meta ) A (meth) acryloyl group-containing structural unit of an acryloyl group-containing polysiloxane resin (that is, a (meth) acryloyl group is bonded to a side chain of the Si, with a -Si-O- bond as a structural unit in the main chain of the polysiloxane) The amount of the structural unit is 1.3 to 5.0% by mass, more preferably 1.5 to 4.5% by mass, and the resulting (meth) acryloyl group is contained. The heat resistance of the polysiloxane resin is improved.

脱水縮合工程には脱水縮合触媒を用いることが好ましい。脱水縮合触媒としては、一般的な脱水縮合触媒を用いることができる。その具体例としては、メタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、p−トルエンスルホン酸、硫酸などのスルホン酸類;ピリジニウムp−トルエンスルホネートなどのスルホン酸塩類;ポリリン酸などが挙げられる。   It is preferable to use a dehydration condensation catalyst in the dehydration condensation step. A general dehydration condensation catalyst can be used as the dehydration condensation catalyst. Specific examples thereof include sulfonic acids such as methanesulfonic acid, benzenesulfonic acid, p-toluenesulfonic acid and sulfuric acid; sulfonates such as pyridinium p-toluenesulfonate; polyphosphoric acid and the like.

脱水縮合工程に用いる脱水縮合触媒として、上記触媒の他に有機錫化合物、金属錯体、塩基性化合物、有機燐化合物などが挙げられる。
脱水縮合触媒としての有機錫化合物の具体例としては、以下の例には限定されないが、ジブチル錫ジラウレート、ジブチル錫ジオクテート、ジブチル錫ジマレエート、ジブチル錫フタレート、ジブチル錫ジアセテート、オクチル酸第1錫、ジブチル錫メトキシド、ジブチル錫ジアセチルアセテート、ジブチル錫ジバーサテート、ジブチル錫オキサイド、ジブチル錫モノキレート、ジブチル錫オキサイドとフタル酸ジエステルとの反応物、ジオクチル錫ジラウレート、ジオクチル錫ジオクテート、ジオクチル錫ジアセテート、ジオクタンサン第1錫、酢酸第1錫、ジブチル錫マレイン酸塩ポリマー、ジメチル錫メルカプトプロピオン酸塩ポリマーなどのカルボン酸金属塩ポリマーなどが挙げられる。
Examples of the dehydration condensation catalyst used in the dehydration condensation process include organic tin compounds, metal complexes, basic compounds, and organic phosphorus compounds in addition to the above catalysts.
Specific examples of the organic tin compound as the dehydration condensation catalyst include, but are not limited to, dibutyltin dilaurate, dibutyltin dioctate, dibutyltin dimaleate, dibutyltin phthalate, dibutyltin diacetate, stannous octylate, Dibutyltin methoxide, dibutyltin diacetylacetate, dibutyltin diversate, dibutyltin oxide, dibutyltin monochelate, reaction product of dibutyltin oxide and phthalic acid diester, dioctyltin dilaurate, dioctyltin dioctate, dioctyltin diacetate, dioctanesan first Examples thereof include carboxylic acid metal salt polymers such as tin, stannous acetate, dibutyltin maleate polymer, and dimethyltin mercaptopropionate polymer.

脱水縮合触媒としての金属錯体の具体例としては、以下の例には限定されないが、ナフテン酸鉛、オクチル酸鉛、ナフテン酸コバルト、2−エチルヘキセン酸鉄、ナフテン酸ニッケル、オクチル酸ビスマス、ビスマスバーサテートなどのカルボン酸金属塩、テトラブチルチタネート、テトラノニルチタネート、テトライソプロピルチタネート、トリエタノールアミンチタネートなどのチタネート化合物類;
ビス(アセチルアセトニル)ジープロピルチタネートなどのチタン酸エステルキレート類;
アルミニウムアセチルアセトナート錯体、バナジウムアセチルアセトナート錯体などの金属アセチルアセトナート錯体などが挙げられる。
Specific examples of the metal complex as a dehydration condensation catalyst include, but are not limited to, the following examples: lead naphthenate, lead octylate, cobalt naphthenate, iron 2-ethylhexenoate, nickel naphthenate, bismuth octylate, bismuth Carboxylic acid metal salts such as versatate, titanate compounds such as tetrabutyl titanate, tetranonyl titanate, tetraisopropyl titanate, triethanolamine titanate;
Titanate chelates such as bis (acetylacetonyl) dipropyl titanate;
Examples thereof include metal acetylacetonate complexes such as aluminum acetylacetonate complexes and vanadium acetylacetonate complexes.

脱水縮合触媒としての塩基性化合物としては、以下の例には限定されないが、例えば、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシランなどのアミノシラン類;
テトラメチルアンモニウムクロライド、ベンザルコニウムクロライドなどの第4級アンモニウム塩類;
三共エアプロダクツ(株)製の「DABCO(登録商標)」シリーズ、同社製の「DABCO BL」シリーズ;1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデセ−7−エンなどの複数の窒素を含む直鎖又は環状の第3アミン及び第4級アンモニウム塩などが挙げられる。
The basic compound as the dehydration condensation catalyst is not limited to the following examples. For example, aminosilanes such as γ-aminopropyltrimethoxysilane and γ-aminopropyltriethoxysilane;
Quaternary ammonium salts such as tetramethylammonium chloride and benzalkonium chloride;
"DABCO (registered trademark)" series manufactured by Sankyo Air Products Co., Ltd., "DABCO BL" series manufactured by the same company; including multiple nitrogen such as 1,8-diazabicyclo [5.4.0] undec-7-ene Examples thereof include linear or cyclic tertiary amines and quaternary ammonium salts.

脱水縮合触媒としての有機燐化合物としては、以下の例には限定されないが、例えば、モノメチル燐酸、ジ−n−ブチル燐酸、燐酸トリフェニルなどが挙げられる。   The organic phosphorus compound as the dehydration condensation catalyst is not limited to the following examples, and examples thereof include monomethyl phosphoric acid, di-n-butyl phosphoric acid, and triphenyl phosphate.

これらの脱水縮合触媒のうち、本発明においては有機錫化合物が好ましく用いられる。   Of these dehydration condensation catalysts, organotin compounds are preferably used in the present invention.

脱水縮合工程には、通常、下記の特性を満たす溶媒が用いられるが、ヘプタン、オクタンなどの溶媒を用いることができる。
(1)原料及び生成物が溶解する。
(2)脱水又は脱アルコール反応が進行する温度より沸点が高い。
(3)脱水縮合工程後(脱溶工程において)、完全に溶媒を除去できる程度に沸点が低い。
In the dehydration condensation step, a solvent satisfying the following characteristics is usually used, but a solvent such as heptane or octane can be used.
(1) Raw materials and products are dissolved.
(2) The boiling point is higher than the temperature at which the dehydration or dealcoholization reaction proceeds.
(3) The boiling point is low enough to completely remove the solvent after the dehydration condensation step (in the desorption step).

脱水縮合は還流で行い、脱水縮合の停止は、適宜ゲル浸透クロマトグラフィー(GPC)で分子量測定の行いながら、反応生成物の重量平均分子量が30,000〜55,000になった時点で温度を下げて反応停止することが好ましい。このように反応停止をすることで、得られる(メタ)アクリロイル基含有ポリシロキサン樹脂の重量平均分子量を35,000〜60,000とすることができる。   The dehydration condensation is carried out at reflux, and the dehydration condensation is stopped by appropriately measuring the molecular weight by gel permeation chromatography (GPC) and adjusting the temperature when the weight average molecular weight of the reaction product reaches 30,000 to 55,000. The reaction is preferably stopped by lowering. By stopping the reaction in this manner, the weight average molecular weight of the resulting (meth) acryloyl group-containing polysiloxane resin can be 35,000 to 60,000.

脱水縮合の後、シラノール基末端をエンドキャップする目的でトリメチルメトキシシランなどのトリアルキルアルコキシシランなどをエンドギャップ剤として加えることが、得られるポリシロキサン樹脂の重量平均分子量や粘度を所望の範囲に調製できることから好ましい。   After dehydration condensation, trialkylalkoxysilane such as trimethylmethoxysilane can be added as an end gap agent for the purpose of end-capping the end of silanol group, adjusting the weight average molecular weight and viscosity of the resulting polysiloxane resin to the desired range. It is preferable because it is possible.

調光材料の樹脂マトリックス原料に含まれる(メタ)アクリロイル基含有ポリシロキサン樹脂は、無溶媒の形態で好ましく用いられるものである。ポリシロキサン樹脂を得るための脱水縮合は溶媒を用いるため、脱水縮合工程後に脱溶工程を行うこととなる。
ポリシロキサン樹脂合成後、反応溶媒を除去するために脱溶工程を行うが、エンドキャップ剤による反応停止を行っても反応停止が充分に進行しない場合があり、脱溶工程でさらにポリシロキサン樹脂の重量平均分子量が増大してしまうことがある。この重量平均分子量増大を抑制するため、脱水縮合触媒の失活処理を行うのが好ましく、失活処理にリン酸エステルが用いられることが好ましい。
リン酸エステルとしては、酸性リン酸エステル、ホスホン酸エステル、アルキルホスホン酸などが挙げられるが、酸性リン酸エステルが用いられることがさらに好ましい。
The (meth) acryloyl group-containing polysiloxane resin contained in the resin matrix material of the light control material is preferably used in a solvent-free form. Since dehydration condensation for obtaining a polysiloxane resin uses a solvent, a desolubilization step is performed after the dehydration condensation step.
After the synthesis of the polysiloxane resin, a desorption step is performed to remove the reaction solvent. However, the reaction may not stop sufficiently even if the reaction is stopped by the end cap agent. The weight average molecular weight may increase. In order to suppress this increase in weight average molecular weight, it is preferable to carry out a deactivation treatment of the dehydration condensation catalyst, and it is preferable to use a phosphate ester for the deactivation treatment.
Examples of phosphoric acid esters include acidic phosphoric acid esters, phosphonic acid esters, and alkylphosphonic acids, and it is more preferable to use acidic phosphoric acid esters.

酸性リン酸エステルの具体例としては、以下の例には限定されないが、リン酸モノメチル、リン酸ジメチル、リン酸モノエチル、リン酸ジエチル、リン酸モノプロピル、リン酸ジプロピル、リン酸モノイソプロピル、リン酸ジイソプロピル、リン酸モノブチル、リン酸ジブチル、リン酸モノペンチル、リン酸ジペンチル、リン酸モノヘキシル、リン酸ジヘキシル、リン酸モノオクチル、リン酸ジオクチル、リン酸モノ2−エチルヘキシル、リン酸ジ2−エチルヘキシル、リン酸モノデシル、リン酸ジデシル、リン酸モノイソデシル、リン酸ジイソデシル、リン酸モノウンデシル、リン酸ジウンデシル、リン酸モノドデシル、リン酸ジドデシル、リン酸モノテトラデシル、リン酸ジテトラデシル、リン酸モノヘキサデシル、リン酸ジヘキサデシル、リン酸モノオクタデシル、リン酸ジオクタデシル、リン酸モノフェニル、リン酸ジフェニル、リン酸モノベンジル、リン酸ジベンジルなどが挙げられる。   Specific examples of the acidic phosphate ester are not limited to the following examples, but include monomethyl phosphate, dimethyl phosphate, monoethyl phosphate, diethyl phosphate, monopropyl phosphate, dipropyl phosphate, monoisopropyl phosphate, phosphorus Diisopropyl phosphate, monobutyl phosphate, dibutyl phosphate, monopentyl phosphate, dipentyl phosphate, monohexyl phosphate, dihexyl phosphate, monooctyl phosphate, dioctyl phosphate, mono-2-ethylhexyl phosphate, di-2-ethylhexyl phosphate Monodecyl phosphate, didecyl phosphate, monoisodecyl phosphate, diisodecyl phosphate, monoundecyl phosphate, diundecyl phosphate, monododecyl phosphate, didodecyl phosphate, monotetradecyl phosphate, ditetradecyl phosphate, monohexadecyl phosphate, Dihexadecyl phosphate , Phosphoric acid mono-octadecyl, phosphoric acid dioctadecyl phosphate monophenyl, diphenyl phosphate, phosphoric acid mono benzyl, and phosphoric acid dibenzyl is.

ホスホン酸エステルとしては、ホスホン酸モノメチル、ホスホン酸モノエチル、ホスホン酸モノプロピル、ホスホン酸モノイソプロピル、ホスホン酸モノブチル、ホスホン酸モノペンチル、ホスホン酸モノヘキシル、ホスホン酸モノオクチル、ホスホン酸モノエチルヘキシル、ホスホン酸モノデシル、ホスホン酸モノイソデシル、ホスホン酸モノウンデシル、ホスホン酸モノドデシル、ホスホン酸モノテトラデシル、ホスホン酸モノヘキサデシル、ホスホン酸モノオクタデシル、ホスホン酸モノフェニル、ホスホン酸モノベンジルなどが挙げられる。   Phosphonic acid esters include monomethyl phosphonate, monoethyl phosphonate, monopropyl phosphonate, monoisopropyl phosphonate, monobutyl phosphonate, monopentyl phosphonate, monohexyl phosphonate, monooctyl phosphonate, monoethylhexyl phosphonate, monodecyl phosphonate Monoisodecyl phosphonate, monoundecyl phosphonate, monododecyl phosphonate, monotetradecyl phosphonate, monohexadecyl phosphonate, monooctadecyl phosphonate, monophenyl phosphonate, monobenzyl phosphonate, and the like.

モノメチルホスホン酸、ジメチルホスホン酸、モノエチルホスホン酸、ジエチルホスホン酸、モノプロピルホスホン酸、ジプロピルホスホン酸、モノイソプロピルホスホン酸、ジイソプロピルホスホン酸、モノブチルホスホン酸、ジブチルホスホン酸、モノペンチルホスホン酸、ジペンチルホスホン酸、モノヘキシルホスホン酸、ジヘキシルホスホン酸、イソオクチルホスホン酸、ジオクチルホスホン酸、モノエチルヘキシルホスホン酸、ジエチルヘキシルホスホン酸、モノデシルホスホン酸、ジデシルホスホン酸、モノイソデシルホスホン酸、ジイソデシルホスホン酸、モノウンデシルホスホン酸、ジウンデシルホスホン酸、モノドデシルホスホン酸、ジドデシルホスホン酸、モノテトラデシルホスホン酸、ジテトラデシルホスホン酸、モノヘキサデシルホスホン酸、ジヘキサデシルホスホン酸、モノオクタデシルホスホン酸、ジオクタデシルホスホン酸などのアルキルホスホン酸、モノフェニルホスホン酸、ジフェニルホスホン酸、モノベンジルホスホン酸、ジベンジルホスホン酸などのアリール又はアラルキルホスホン酸などが挙げられる。   Monomethylphosphonic acid, dimethylphosphonic acid, monoethylphosphonic acid, diethylphosphonic acid, monopropylphosphonic acid, dipropylphosphonic acid, monoisopropylphosphonic acid, diisopropylphosphonic acid, monobutylphosphonic acid, dibutylphosphonic acid, monopentylphosphonic acid, Dipentylphosphonic acid, monohexylphosphonic acid, dihexylphosphonic acid, isooctylphosphonic acid, dioctylphosphonic acid, monoethylhexylphosphonic acid, diethylhexylphosphonic acid, monodecylphosphonic acid, didecylphosphonic acid, monoisodecylphosphonic acid, diisodecylphosphonic Acid, monoundecylphosphonic acid, diundecylphosphonic acid, monododecylphosphonic acid, didodecylphosphonic acid, monotetradecylphosphonic acid, ditetradecylphosphonic acid, Hexadecylphosphonic acid, dihexadecylphosphonic acid, monooctadecylphosphonic acid, dioctadecylphosphonic acid and other alkylphosphonic acids, monophenylphosphonic acid, diphenylphosphonic acid, monobenzylphosphonic acid, dibenzylphosphonic acid and other aryl or aralkylphosphonic acids An acid etc. are mentioned.

失活処理に用いるリン酸エステルの添加量は脱水縮合触媒100質量部に対して25〜150質量部であることが好ましく、50〜100質量部であることがさらに好ましい。リン酸エステルの使用量が上記範囲であることにより、脱水縮合触媒の失活処理を効率よく行うことができる。   The addition amount of the phosphate ester used for the deactivation treatment is preferably 25 to 150 parts by mass, and more preferably 50 to 100 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the dehydration condensation catalyst. When the usage-amount of phosphate ester is the said range, the deactivation process of a dehydration condensation catalyst can be performed efficiently.

失活処理は、通常、70〜80℃の範囲で、約20分間行う。   The deactivation treatment is usually performed in the range of 70 to 80 ° C. for about 20 minutes.

上記失活工程の後、脱水縮合の際の溶媒を脱溶し、(メタ)アクリロイル基含有ポリシロキサン樹脂を得る。
本発明の調光材料用(メタ)アクリロイル基含有ポリシロキサン樹脂の製造方法は、脱水縮合触媒をリン酸エステルにより失活処理した後に140℃以下で脱溶することが好ましい。140℃を超えて脱溶する場合、リン酸エステルにより重合触媒を失活処理した場合であっても、得られる(メタ)アクリロイル基含有ポリシロキサン樹脂の分子量を制御できない可能性がある。それにより、(メタ)アクリロイル基含有ポリシロキサン樹脂の粘度が上昇して調光フィルムに使用できなくなる可能性がある。
脱水縮合工程で用いる溶媒の種類にもよるが、好ましい脱溶温度は、85℃以上かつ140℃以下であり、より好ましくは110℃以上かつ120℃以下である。温度が140℃より高くなると分子量が増大し、粘度が上昇して調光フィルムに使用できなくなる。
なお、常圧において140℃以下で脱溶出来ない場合は、減圧しながら脱溶することも可能である。
After the deactivation step, the solvent during dehydration condensation is dissolved to obtain a (meth) acryloyl group-containing polysiloxane resin.
In the method for producing a (meth) acryloyl group-containing polysiloxane resin for a light control material according to the present invention, it is preferable that the dehydration condensation catalyst is deactivated with a phosphoric acid ester and then dissolved at 140 ° C. or lower. When desolubilization exceeds 140 ° C., the molecular weight of the resulting (meth) acryloyl group-containing polysiloxane resin may not be controlled even when the polymerization catalyst is deactivated with a phosphate ester. As a result, the viscosity of the (meth) acryloyl group-containing polysiloxane resin may increase, making it impossible to use the light control film.
Although depending on the type of solvent used in the dehydration condensation step, the preferred desorption temperature is 85 ° C. or higher and 140 ° C. or lower, more preferably 110 ° C. or higher and 120 ° C. or lower. When the temperature is higher than 140 ° C., the molecular weight increases, the viscosity increases, and it cannot be used for the light control film.
In addition, when it cannot desorb at 140 degreeC or less in normal pressure, it is also possible to demelt while reducing pressure.

<本発明の調光材料用(メタ)アクリロイル基含有ポリシロキサン樹脂>
本発明の調光材料用ポリシロキサン樹脂(以下、具体的に「調光材料用(メタ)アクリロイル基含有ポリシロキサン樹脂」ともいう)は、構造単位が、ジメチルシロキサン単位、ジフェニルシロキサン単位及び(メタ)アクリロキシアルキルメチルシロキサン単位の3種類からなることが好ましく、上記(メタ)アクリロキシアルキルメチルシロキサン単位としては(3−アクリロキシプロピル)メチルシロキサン単位であることがより好ましい。
ジメチル体とジフェニル体の割合によりポリシロキサン樹脂の屈折率を制御することできる。
<(Meth) acryloyl group-containing polysiloxane resin for light control material of the present invention>
The polysiloxane resin for light modulating material of the present invention (hereinafter also specifically referred to as “(meth) acryloyl group-containing polysiloxane resin for light modulating material”) has a structural unit of dimethylsiloxane unit, diphenylsiloxane unit, and (meta ) It is preferably composed of three types of acryloxyalkylmethylsiloxane units, and the (meth) acryloxyalkylmethylsiloxane unit is more preferably a (3-acryloxypropyl) methylsiloxane unit.
The refractive index of the polysiloxane resin can be controlled by the ratio of the dimethyl body and the diphenyl body.

本発明の(メタ)アクリロイル基含有ポリシロキサン樹脂中の(メタ)アクリロイル基を含有する構造単位量は、構造単位量全体の1.3〜5.0質量%であることが好ましく、1.5〜4.5質量%であることがさらに好ましい。   The amount of the structural unit containing the (meth) acryloyl group in the (meth) acryloyl group-containing polysiloxane resin of the present invention is preferably 1.3 to 5.0% by mass based on the total amount of the structural unit. More preferably, it is -4.5 mass%.

本発明の(メタ)アクリロイル基含有ポリシロキサン樹脂中の(メタ)アクリロイル基を含有する構造単位量を、構造単位量全体の1.3〜5.0質量%とするためには、上述したようにポリシロキサン樹脂の製造方法において、(メタ)アクリロイル基含有シラノール化合物を、ポリシロキサン樹脂の縮合原料総量(シラノール基含有シロキサン系モノマー及び/又はオリゴマー、(メタ)アクリロイル基含有シラノール化合物及び必要により添加するエンドギャップ剤の合計総量)の2.0〜8.0質量%とすることにより達成可能である。   In order to make the structural unit amount containing the (meth) acryloyl group in the (meth) acryloyl group-containing polysiloxane resin of the present invention 1.3 to 5.0% by mass of the entire structural unit amount, as described above. In the production method of polysiloxane resin, (meth) acryloyl group-containing silanol compound is added to the total amount of polysiloxane resin condensation raw material (silanol group-containing siloxane monomer and / or oligomer, (meth) acryloyl group-containing silanol compound and if necessary The total amount of the end gap agents is 2.0 to 8.0% by mass.

本発明の(メタ)アクリロイル基含有ポリシロキサン樹脂の重量平均分子量は、35,000〜60,000であることが好ましく、37,000〜58,000であることがさらに好ましく、40,000〜55,000であることがより好ましい。
(メタ)アクリロイル基含有ポリシロキサン樹脂の重量平均分子量を上記範囲とするには、上述したように脱水縮合工程において、GPCで分子量の測定を行いながら30,000〜55,000になった時点で温度を下げて反応を停止すればよい。
The weight average molecular weight of the (meth) acryloyl group-containing polysiloxane resin of the present invention is preferably 35,000 to 60,000, more preferably 37,000 to 58,000, and 40,000 to 55. Is more preferable.
In order to make the weight average molecular weight of the (meth) acryloyl group-containing polysiloxane resin within the above range, when the molecular weight is measured by GPC in the dehydration condensation process as described above, the molecular weight becomes 30,000 to 55,000. The reaction may be stopped by lowering the temperature.

なお、本発明の(メタ)アクリロイル基含有ポリシロキサン樹脂は、置換基として、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、tert−ブチル基、アミル基、イソアミル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基などのアルキル基、フェニル基、ナフチル基などのアリール基を有することが、調光性能、耐久性などの点から好ましい。
これらの置換基を有するための縮合原料としては、ジメチルジメトキシシラン(商品名:Z−6329、東レ・ダウコーニング(株)製)、ジメチルジエトキシシラン(商品名:KBE−22、信越化学(株)製)、ジフェニルジメトキシシラン(商品名:Z−6329、東レ・ダウコーニング(株)製)、ジイソプロピルジメトキシシラン(商品名:Z−6258、東レ・ダウコーニング(株)製)、ジイソブチルジメトキシシラン(商品名:Z−6275、東レ・ダウコーニング(株)製)などのジアルキルジアルコキシシラン、アルキルアリールジアルコキシシラン、ジアリールジアルコキシシランなどの2つのアルコキシを有するシラン化合物、ジアルキルシロキサンオリゴマーで末端がシラノール又はアルコキシ基のもの(例えば、商品名X−21−3114、信越化学(株)製)、ジアルキルジフェニルシロキサンオリゴマーで末端がシラノール又はアルコキシ基のもの(X−21−3193B、信越化学(株)製)、n−プロピルトリメトキシシラン(商品名:Z−6265、東レ・ダウコーニング(株)製)、n−オクチルメトキシシロキサン(商品名:Z−6288、東レ・ダウコーニング(株)製)、エチルトリメトキシシラン(商品名:Z−6321、東レ・ダウコーニング(株)製、n−オクチルトリエトキシシラン(商品名:Z−6341、東レ・ダウコーニング(株)製、n−ヘキシルトリメトキシシラン(商品名:Z−6582、東レ・ダウコーニング(株)製)、n−ヘキシルトリエトキシシラン(商品名:Z−6586、東レ・ダウコーニング(株)製)、シクロヘキシルメチルジメトキシシラン(商品名:Z−6187、東レ・ダウコーニング(株)製)などの3つ以上のアルコキシ基を有するシラン化合物及びシロキサンなどが挙げられるが、ジアルキルジアルコキシシラン、アルキルアリールジアルコキシシラン、ジアリールジアルコキシシラン、上記ジアルキルシロキサンオリゴマー、上記ジアルキルジフェニルシロキサンオリゴマーなどを用いることが好ましい。また分子量を調整するために、トリアルキルアルコキシシランなどのエンドキャップ剤を使用することも可能である。
The (meth) acryloyl group-containing polysiloxane resin of the present invention has, as a substituent, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, an isobutyl group, a tert-butyl group, an amyl group, an isoamyl group, and a hexyl group. Group, an alkyl group such as a cyclohexyl group, and an aryl group such as a phenyl group and a naphthyl group are preferable in terms of light control performance and durability.
Condensation raw materials for having these substituents include dimethyldimethoxysilane (trade name: Z-6329, manufactured by Toray Dow Corning Co., Ltd.), dimethyldiethoxysilane (trade name: KBE-22, Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) ), Diphenyldimethoxysilane (trade name: Z-6329, manufactured by Toray Dow Corning), diisopropyldimethoxysilane (trade name: Z-6258, manufactured by Toray Dow Corning), diisobutyldimethoxysilane ( Product name: Z-6275, manufactured by Toray Dow Corning Co., Ltd.) Dialkyl dialkoxysilanes, alkylaryl dialkoxysilanes, diaryl dialkoxysilanes and other alkoxy-containing silane compounds, dialkylsiloxane oligomers and terminal silanols Or of an alkoxy group (eg Trade name X-21-3114, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), dialkyldiphenylsiloxane oligomer having terminal silanol or alkoxy group (X-21-3193B, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), n-propyltrimethoxysilane (Trade name: Z-6265, manufactured by Toray Dow Corning Co., Ltd.), n-octylmethoxysiloxane (trade name: Z-6288, manufactured by Toray Dow Corning Co., Ltd.), ethyltrimethoxysilane (trade name: Z -6321, manufactured by Toray Dow Corning Co., Ltd., n-octyltriethoxysilane (trade name: Z-6341, manufactured by Toray Dow Corning Co., Ltd., n-hexyltrimethoxysilane (trade name: Z-6582, Toray Industries, Inc.)・ Dow Corning Co., Ltd.), n-hexyltriethoxysilane (trade name: Z-6586, Toray Dow Corning) Silane compound having three or more alkoxy groups such as cyclohexylmethyldimethoxysilane (trade name: Z-6187, manufactured by Toray Dow Corning Co., Ltd.), and siloxane. , Alkylaryl dialkoxysilane, diaryl dialkoxysilane, the above dialkylsiloxane oligomer, the above dialkyldiphenylsiloxane oligomer, etc. In order to adjust the molecular weight, an end cap agent such as trialkylalkoxysilane is used. Is also possible.

<本発明の調光材料及び調光フィルム>
本発明の調光フィルムは、2つの透明導電性樹脂基材と、上記2つの透明導電性樹脂基材に挟持された調光層と、を有し、上記調光層が、樹脂マトリックスと上記樹脂マトリックス中に分散した光調整懸濁液とを含む調光材料からなるものである。
<Light control material and light control film of the present invention>
The light control film of the present invention has two transparent conductive resin substrates and a light control layer sandwiched between the two transparent conductive resin substrates, and the light control layer includes a resin matrix and the above. It consists of a light control material containing the light control suspension dispersed in the resin matrix.

(調光層)
本発明における調光層は、一般に、調光材料を用いて形成することが可能である。本発明における調光材料は、紫外線、可視光線、電子線などのエネルギー線を照射することにより硬化する樹脂マトリックス原料と、光調整粒子が流動可能な状態で分散媒中に分散した光調整懸濁液と、を含有する。光調整懸濁液中の分散媒が、樹脂マトリックス原料(高分子媒体)及びその硬化物(樹脂マトリックス)と相分離しうるものであることが好ましい。互いに非相溶又は部分相溶性の樹脂マトリックス原料(高分子媒体)と分散媒とを組み合わせて用いることが好ましい。
なお、樹脂マトリックス原料は、本願の調光材料用(メタ)アクリロイル基含有ポリシロキサン樹脂(A)と光重合開始剤(B)とを含む。
すなわち、本発明の調光フィルムの調光層では、液状の光調整懸濁液が、樹脂マトリックス原料が硬化した固体状の樹脂マトリックス内に微細な液滴の形態で分散されている。光調整懸濁液に含まれる光調整粒子は、棒状又は針状であることが好ましい。
(Light control layer)
The light control layer in the present invention can generally be formed using a light control material. The light-modulating material in the present invention includes a resin matrix raw material that is cured by irradiating energy rays such as ultraviolet rays, visible rays, and electron beams, and a light-regulating suspension dispersed in a dispersion medium in a state where the light-regulating particles can flow. Liquid. It is preferable that the dispersion medium in the light control suspension is capable of phase separation from the resin matrix raw material (polymer medium) and its cured product (resin matrix). It is preferable to use a combination of incompatible or partially compatible resin matrix raw materials (polymer medium) and a dispersion medium.
In addition, a resin matrix raw material contains the (meth) acryloyl group containing polysiloxane resin (A) for photochromic materials of this application, and a photoinitiator (B).
That is, in the light control layer of the light control film of the present invention, the liquid light control suspension is dispersed in the form of fine droplets in the solid resin matrix obtained by curing the resin matrix raw material. The light adjusting particles contained in the light adjusting suspension are preferably rod-shaped or needle-shaped.

このような調光フィルムに電界を印加すると、樹脂マトリックス中に分散されている光調整懸濁液の液滴中に、浮遊分散されている電気的双極子モーメントをもつ光調整粒子が、電界に対し平行に配列されることにより、液滴が入射光に対して透明な状態に転換され、視野角度による散乱、又は透明性低下が殆どない状態で入射光を透過させる。   When an electric field is applied to such a light control film, the light adjusting particles having an electric dipole moment suspended and dispersed in the droplets of the light adjusting suspension dispersed in the resin matrix are applied to the electric field. By arranging them parallel to each other, the droplets are converted to a transparent state with respect to the incident light, and the incident light is transmitted with almost no scattering due to a viewing angle or a decrease in transparency.

上記光重合開始剤(B)の使用量は、上記(メタ)アクリロイル基含有ポリシロキサン樹脂(A)100質量部に対して0.1〜20質量部であることが好ましく、0.2〜10質量部であることがより好ましい。   It is preferable that the usage-amount of the said photoinitiator (B) is 0.1-20 mass parts with respect to 100 mass parts of said (meth) acryloyl group containing polysiloxane resins (A), 0.2-10. More preferably, it is part by mass.

光重合開始剤(B)としては、エネルギー線に露光するとラジカル重合を活性化する光重合開始剤を用いることができる。   As the photopolymerization initiator (B), a photopolymerization initiator that activates radical polymerization when exposed to energy rays can be used.

光重合開始剤としては、光照射により分解してラジカルを発生して重合性化合物の重合を開始し得るものであればよく、例えばアセトフェノン、アセトフェノンベンジルケタール、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2,2−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノン、キサントン、フルオレノン、ベンズアルデヒド、アントラキノン、トリフェニルアミン、カルバゾール、3−メチルアセトフェノン、4−クロロベンゾフェノン、4,4’−ジメトキシベンゾフェノン、4,4’−ジアミノベンゾフェノン、ミヒラーケトン、ベンゾインプロピルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンジルジメチルケタール、1−(4−イソプロピルフェニル)−2−ヒドロキシ−2−メチルプロパン−1−オン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、チオキサントン、ジエチルチオキサントン、2−イソプロピルチオキサントン、2−クロロチオキサントン、2−メチル−1−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルホリノ−プロパン−1−オン、2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド、ビス−(2,6−ジメトキシベンゾイル)−2,4,4−トリメチルペンチルフォスフィンオキシドなどが挙げられるが、これらに限定されるものではない。   Any photopolymerization initiator may be used as long as it can be decomposed by light irradiation to generate radicals to initiate polymerization of the polymerizable compound. For example, acetophenone, acetophenone benzyl ketal, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 2, 2 -Dimethoxy-2-phenylacetophenone, xanthone, fluorenone, benzaldehyde, anthraquinone, triphenylamine, carbazole, 3-methylacetophenone, 4-chlorobenzophenone, 4,4'-dimethoxybenzophenone, 4,4'-diaminobenzophenone, Michler's ketone, Benzoin propyl ether, benzoin ethyl ether, benzyldimethyl ketal, 1- (4-isopropylphenyl) -2-hydroxy-2-methylpropan-1-one, 2-hydroxy-2- Tyl-1-phenylpropan-1-one, thioxanthone, diethylthioxanthone, 2-isopropylthioxanthone, 2-chlorothioxanthone, 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholino-propan-1-one 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide, bis- (2,6-dimethoxybenzoyl) -2,4,4-trimethylpentylphosphine oxide, and the like, but are not limited thereto. .

光重合開始剤の市販品としては、イルガキュア651、イルガキュア184、イルガキュア500、イルガキュア2959、イルガキュア127、イルガキュア754、イルガキュア907、イルガキュア369、イルガキュア379、イルガキュア379EG、イルガキュア1300、イルガキュア819、イルガキュア819DW、イルガキュア1800、イルガキュア1870、イルガキュア784、イルガキュアOXE01、イルガキュアOXE02、イルガキュア250、イルガキュアPAG103、イルガキュアPAG108、イルガキュアPAG121、イルガキュアPAG203、ダロキュア1173、ダロキュアMBF、ダロキュアTPO、ダロキュア4265、ダロキュアEDB、ダロキュアEHA(以上、チバ・ジャパン(株)製)、C0014、B1225、D1640、D2375、D2963、M1245、B0103、C1105、C0292、E0063、P0211、I0678、P1410、P1377、M1209、F0362、B0139、B1275、B0481、D1621、B1267、B1164、C0136、C1485、I0591、F0021、A0061、B0050、B0221、B0079、B0222、B1019、B1015、B0942、B0869、B0083、B2380、B2381、D1801、D3358、D2248、D2238、D2253、B1231、M0792、A1028、B0486、T0157、T2041、T2042、T1188、T1608(以上、東京化成工業(株)製)が挙げられる。   Commercially available photopolymerization initiators include IRGACURE 651, IRGACURE 184, IRGACURE 500, IRGACURE 2959, IRGACURE 127, IRGACURE 754, IRGACURE 907, IRGACURE 369, IRGACURE 379, IRGACURE 379EG, IRGACURE 1300, IRGACURE 819D, IRGACURE 819D, IRGACURE 819D 1800, IRGACURE 1870, IRGACURE 784, IRGACURE OXE01, IRGACURE OXE02, IRGACURE PAG103, IRGACURE PAG108, IRGACURE PAG121, IRGACURE PAG203, DAROCURE 1173, DAROCURE MBF, DAROCURE T65, DAROCURE T65, DAROCURE 42・ Ja C0014, B1225, D1640, D2375, D2963, M1245, B0103, C1105, C0292, E0063, P0211, I0678, P1410, P1377, M1209, F0362, B0139, B1275, B0481, D1621, B1267, B1164 , C0136, C1485, I0591, F0021, A0061, B0050, B0221, B0079, B0222, B1019, B1015, B0942, B0869, B0083, B2380, B2381, D1801, D3358, D2248, D2238, D2253, B1231, M0792, 04 T0157, T2041, T2042, T1188, T1608 (above, manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) And the like.

本発明において、光調整懸濁液中の分散媒としては、上記樹脂マトリックス原料(高分子媒体)及びその硬化物である樹脂マトリックスと相分離するものが用いられる。好ましくは、光調整粒子を流動可能な状態で分散させる役割を果たし、また、光調整粒子に選択的に付着被覆し、樹脂マトリックス原料(高分子媒体)との相分離の際に光調整粒子が相分離された液滴相に移動するように作用し、電気導電性がなく、樹脂マトリックス原料(高分子媒体)とは親和性がなく、調光フィルムとした際に樹脂マトリックス原料(高分子媒体)から形成される樹脂マトリックスとの屈折率が近似した液状共重合体を使用する。
液状共重合体として例えば、フルオロ基及び/又は水酸基を有する(メタ)アクリル酸エステルオリゴマーが好ましく、フルオロ基及び水酸基を有する(メタ)アクリル酸エステルオリゴマーがより好ましい。このような共重合体を使用すると、フルオロ基、水酸基のどちらか1つのモノマー単位は光調整粒子に親和性があり、残りのモノマー単位は樹脂マトリックス原料(高分子媒体)中で光調整懸濁液が液滴として安定に維持するために働くことから、光調整懸濁液内に光調整粒子が分散しやすく、相分離の際に光調整粒子が相分離される液滴内に誘導されやすい。
In the present invention, as the dispersion medium in the light-adjusting suspension, one that is phase-separated from the resin matrix raw material (polymer medium) and a resin matrix that is a cured product thereof is used. Preferably, the light adjusting particles serve to disperse the light adjusting particles in a flowable state. Further, the light adjusting particles are selectively attached and coated on the light adjusting particles, and the light adjusting particles are separated during phase separation from the resin matrix raw material (polymer medium). Resin matrix material (polymer medium) that acts to move into phase-separated droplet phase, has no electrical conductivity, has no affinity for resin matrix material (polymer medium), and is used as a light control film A liquid copolymer having a refractive index close to that of the resin matrix formed from the above is used.
As the liquid copolymer, for example, a (meth) acrylic acid ester oligomer having a fluoro group and / or a hydroxyl group is preferable, and a (meth) acrylic acid ester oligomer having a fluoro group and a hydroxyl group is more preferable. When such a copolymer is used, one monomer unit of either a fluoro group or a hydroxyl group has an affinity for the light control particle, and the remaining monomer unit is a light control suspension in the resin matrix material (polymer medium). Since the liquid works to maintain it stably as droplets, the light adjustment particles are easily dispersed in the light adjustment suspension, and the light adjustment particles are easily induced in the phase-separated droplets during phase separation. .

このようなフルオロ基及び/又は水酸基を有する(メタ)アクリル酸エステルオリゴマーとしては、メタクリル酸2,2,2−トリフルオロエチル/アクリル酸ブチル/アクリル酸2−ヒドロキシエチル共重合体、アクリル酸3,5,5−トリメチルヘキシル/アクリル酸2−ヒドロキシプロピル/フマール酸共重合体、アクリル酸ブチル/アクリル酸2−ヒドロキシエチル共重合体、アクリル酸2,2,3,3−テトラフルオロプロピル/アクリル酸ブチル/アクリル酸2−ヒドロキシエチル共重合体、アクリル酸1H,1H,5H−オクタフルオロペンチル/アクリル酸ブチル/アクリル酸2−ヒドロキシエチル共重合体、アクリル酸1H,1H,2H,2H−ヘプタデカフルオロデシル/アクリル酸ブチル/アクリル酸2−ヒドロキシエチル共重合体、メタクリル酸2,2,2−トリフルオロエチル/アクリル酸ブチル/アクリル酸2−ヒドロキシエチル共重合体、メタクリル酸2,2,3,3−テトラフルオロプロピル/アクリル酸ブチル/アクリル酸2−ヒドロキシエチル共重合体、メタクリル酸1H,1H,5H−オクタフルオロペンチル/アクリル酸ブチル/アクリル酸2−ヒドロキシエチル共重合体、メタクリル酸1H,1H,2H,2H−ヘプタデカフルオロデシル/アクリル酸ブチル/アクリル酸2−ヒドロキシエチル共重合体、メタクリル酸ブチル/メタクリル酸2−ヒドロキシエチル共重合体、メタクリル酸ヘキシル/メタクリル酸2−ヒドロキシエチル共重合体、メタクリル酸オクチル/メタクリル酸2−ヒドロキシエチル共重合体、メタクリル酸デシル/メタクリル酸2−ヒドロキシエチル共重合体、メタクリル酸ウンデシル/メタクリル酸2−ヒドロキシエチル共重合体、メタクリル酸ドデシル/メタクリル酸2−ヒドロキシエチル共重合体、メタクリル酸トリデシル/メタクリル酸2−ヒドロキシエチル共重合体、メタクリル酸テトラデシル/メタクリル酸2−ヒドロキシエチル共重合体、メタクリル酸ヘキサデシル/メタクリル酸2−ヒドロキシエチル共重合体、メタクリル酸オクタデシル/メタクリル酸2−ヒドロキシエチル共重合体などが挙げられる。   Examples of the (meth) acrylic acid ester oligomer having such a fluoro group and / or hydroxyl group include 2,2,2-trifluoroethyl methacrylate / butyl acrylate / 2-hydroxyethyl acrylate copolymer, acrylic acid 3 , 5,5-trimethylhexyl / 2-hydroxypropyl acrylate / fumaric acid copolymer, butyl acrylate / 2-hydroxyethyl acrylate copolymer, 2,2,3,3-tetrafluoropropyl acrylate / acrylic Butyl acrylate / acrylic acid 2-hydroxyethyl copolymer, acrylic acid 1H, 1H, 5H-octafluoropentyl / butyl acrylate / acrylic acid 2-hydroxyethyl copolymer, acrylic acid 1H, 1H, 2H, 2H-hepta Decafluorodecyl / butyl acrylate / 2-hydroxy acrylate Chill copolymer, 2,2,2-trifluoroethyl methacrylate / butyl acrylate / 2-hydroxyethyl acrylate copolymer, 2,2,3,3-tetrafluoropropyl methacrylate / butyl acrylate / acrylic Acid 2-hydroxyethyl copolymer, methacrylic acid 1H, 1H, 5H-octafluoropentyl / butyl acrylate / acrylic acid 2-hydroxyethyl copolymer, methacrylic acid 1H, 1H, 2H, 2H-heptadecafluorodecyl / Butyl acrylate / acrylic acid 2-hydroxyethyl copolymer, butyl methacrylate / methacrylic acid 2-hydroxyethyl copolymer, hexyl methacrylate / methacrylic acid 2-hydroxyethyl copolymer, octyl methacrylate / 2-methacrylic acid 2- Hydroxyethyl copolymer, decyl methacrylate / 2-hydroxyethyl methacrylate copolymer, undecyl methacrylate / 2-hydroxyethyl methacrylate copolymer, dodecyl methacrylate / 2-hydroxyethyl methacrylate copolymer, tridecyl methacrylate / 2-hydroxyethyl methacrylate copolymer Examples include polymers, tetradecyl methacrylate / 2-hydroxyethyl methacrylate copolymer, hexadecyl methacrylate / 2-hydroxyethyl methacrylate copolymer, octadecyl methacrylate / 2-hydroxyethyl methacrylate copolymer, and the like.

これらの(メタ)アクリル酸エステルオリゴマーは、GPCで測定した標準ポリスチレン換算の重量平均分子量が1,000〜20,000であることが好ましく、2,000〜10,000であることがより好ましい。   These (meth) acrylic acid ester oligomers preferably have a standard polystyrene equivalent weight average molecular weight measured by GPC of 1,000 to 20,000, more preferably 2,000 to 10,000.

これらの(メタ)アクリル酸エステルオリゴマーの原料となるフルオロ基含有モノマーの使用量は、原料であるモノマー総量の6〜12モル%であることが好ましく、より効果的には7〜8モル%である。フルオロ基含有モノマーの使用量が12モル%を超える場合には、屈折率が大きくなり、光透過率が低下する傾向がある。また、これらの(メタ)アクリル酸エステルオリゴマーの原料となる、水酸基含有モノマーの使用量は0.5〜22.0モル%であることが好ましく、より効果的には1〜8モル%である。水酸基含有モノマーの使用量が22.0モル%を超える場合には、屈折率が大きくなり、光透過性が低下する傾向がある。   It is preferable that the usage-amount of the fluoro group containing monomer used as the raw material of these (meth) acrylic acid ester oligomers is 6-12 mol% of the monomer total amount which is a raw material, More effectively, it is 7-8 mol%. is there. When the amount of the fluoro group-containing monomer used exceeds 12 mol%, the refractive index tends to increase and the light transmittance tends to decrease. Moreover, it is preferable that the usage-amount of the hydroxyl-containing monomer used as the raw material of these (meth) acrylic acid ester oligomers is 0.5-22.0 mol%, and is 1-8 mol% more effectively. . When the usage-amount of a hydroxyl-containing monomer exceeds 22.0 mol%, there exists a tendency for a refractive index to become large and for light transmittance to fall.

本発明に使用される光調整懸濁液は、分散媒中に光調整粒子が流動可能に分散したものである。光調整粒子としては、例えば、樹脂マトリックス原料(高分子媒体)、又は樹脂マトリックス原料(高分子媒体)中のポリシロキサン樹脂と親和力がなく、また光調整粒子の分散性を高めることができる高分子分散剤の存在下で、光調整粒子の前駆体であるピラジン−2,3−ジカルボン酸・2水和物、ピラジン−2,5−ジカルボン酸・2水和物、ピリジン−2,5−ジカルボン酸・1水和物からなる群の中から選ばれた1つの物質とヨウ素及びヨウ化物を反応させて作ったポリヨウ化物の針状小結晶が、好ましく用いられる。使用しうる高分子分散剤としては、例えば、ニトロセルロースなどが挙げられる。ヨウ化物としては、ヨウ化カルシウムなどが挙げられる。このようにして得られるポリヨウ化物としては、例えば、下記一般式
CaI(C)・XHO (X:1〜2)
CaI(C・cHO (a:3〜7、b:1〜2、c:1〜3)
で表されるものが挙げられる。これらのポリヨウ化物は針状結晶であることが好ましい。
The light adjusting suspension used in the present invention is one in which light adjusting particles are dispersed in a dispersion medium so as to be flowable. Examples of the light control particles include a resin matrix raw material (polymer medium) or a polymer that has no affinity for the polysiloxane resin in the resin matrix raw material (polymer medium) and can improve the dispersibility of the light control particles. Pyrazine-2,3-dicarboxylic acid dihydrate, pyrazine-2,5-dicarboxylic acid dihydrate, pyridine-2,5-dicarboxylic, which is a precursor of light control particles in the presence of a dispersant Polyiodide needle-like crystals produced by reacting one substance selected from the group consisting of acid and monohydrate with iodine and iodide are preferably used. Examples of the polymer dispersant that can be used include nitrocellulose. Examples of iodide include calcium iodide. Examples of the polyiodide thus obtained include, for example, the following general formula CaI 2 (C 6 H 4 N 2 O 4 ) · XH 2 O (X: 1 to 2).
CaI a (C 6 H 4 N 2 O 4 ) b · cH 2 O (a: 3 to 7, b: 1 to 2, c: 1 to 3)
The thing represented by is mentioned. These polyiodides are preferably acicular crystals.

また、調光フィルム用光調整懸濁液に用いる光調整粒子として、米国特許第2,041,138号明細書(E.H.Land)、米国特許第2,306,108号明細書(Landら)、米国特許第2,375,963号明細書(Thomas)、米国特許第4,270,841号明細書(R.L.Saxe)及び英国特許第433,455号明細書に開示されている光調整粒子も、使用することができる。これらの特許によって公知とされたポリヨウ化物の結晶は、ピラジンカルボン酸、又はピリジンカルボン酸の1つを選択して、ヨウ素、塩素又は臭素と反応させることにより、ポリヨウ化物、ポリ塩化物又はポリ臭化物などのポリハロゲン化物とすることによって作製されている。これらのポリハロゲン化物は、ハロゲン原子が無機質又は有機質と反応した錯化合物で、これらの詳しい製法は、例えば、サックスの米国特許第4,422,963号明細書に開示されている。   Further, as light adjusting particles used in the light adjusting suspension for light control film, US Pat. No. 2,041,138 (EH Land), US Pat. No. 2,306,108 (Land) Et al., U.S. Pat. No. 2,375,963 (Thomas), U.S. Pat. No. 4,270,841 (RL Sax) and British Patent 433,455. Light conditioning particles can also be used. The polyiodide crystals known by these patents are obtained by selecting one of pyrazinecarboxylic acid or pyridinecarboxylic acid and reacting with iodine, chlorine or bromine to produce polyiodide, polychloride or polybromide. It is produced by using polyhalides such as. These polyhalides are complex compounds in which a halogen atom reacts with an inorganic substance or an organic substance, and their detailed production methods are disclosed, for example, in US Pat. No. 4,422,963 to Sax.

サックスが開示しているように、光調整粒子を合成する過程において、均一な大きさの光調整粒子を形成させるため、及び、特定の懸濁媒体内での光調整粒子の分散性を向上させるため、上述したように高分子分散剤としてニトロセルロースのような高分子物質を使用することが好ましい。しかしながら、ニトロセルロースを用いると、ニトロセルロースで被覆された結晶が得られ、このような結晶を光調整粒子として用いる場合、光調整粒子は相分離の時に分離される液滴内に浮遊せず、樹脂マトリックス内に残存することがある。これを防ぐためには、樹脂マトリックス原料(高分子媒体)に用いる樹脂を本発明の(メタ)アクリロイル基含有ポリシロキサン樹脂を用いることが好ましく、(メタ)アクリロイル基含有ポリシロキサン樹脂を用いた場合には、調光フィルム製造の際に光調整粒子が相分離により形成された微細な液滴内へ容易に分散、浮遊し、その結果、より優れた可変能力を得ることができる。   As disclosed by Sachs, in the process of synthesizing the light control particles, the light control particles of uniform size are formed, and the dispersibility of the light control particles in a specific suspension medium is improved. Therefore, as described above, it is preferable to use a polymer material such as nitrocellulose as the polymer dispersant. However, when nitrocellulose is used, crystals coated with nitrocellulose are obtained, and when such crystals are used as light control particles, the light control particles do not float in the droplets separated during phase separation, May remain in the resin matrix. In order to prevent this, it is preferable to use the (meth) acryloyl group-containing polysiloxane resin of the present invention as the resin matrix raw material (polymer medium), and when the (meth) acryloyl group-containing polysiloxane resin is used. Can easily disperse and float in the fine droplets formed by phase separation during the production of the light control film, and as a result, better variable ability can be obtained.

調光フィルムに用いられる光調製粒子の粒子サイズは、調光フィルムとしたときの印加電圧に対する応答時間と、光調整懸濁液中の凝集及び沈殿との関係から、以下のサイズが好ましい。   The particle size of the light preparation particles used in the light control film is preferably the following size from the relationship between the response time with respect to the applied voltage when the light control film is formed and the aggregation and precipitation in the light control suspension.

光調整粒子の長径は、225〜625nmが好ましく、250〜550nmがより好ましく、300〜500nmがさらに好ましい。   The major axis of the light control particles is preferably 225 to 625 nm, more preferably 250 to 550 nm, and still more preferably 300 to 500 nm.

光調整粒子の短径に対する長径の比率、すなわちアスペクト比は3〜8が好ましく、3.3〜7がより好ましく、3.6〜6がさらに好ましい。   The ratio of the major axis to the minor axis of the light control particles, that is, the aspect ratio is preferably 3 to 8, more preferably 3.3 to 7, and still more preferably 3.6 to 6.

本発明における光調整粒子の長径と短径は、走査型電子顕微鏡、透過型電子顕微鏡などの電子顕微鏡で光調整粒子を撮影し、撮影した画像より任意に50個の光調整粒子を抽出し、各光調整粒子の長径と短径を平均値として算出することができる。ここで、長径とは、上記撮影した画像により二次元視野内に投影された光調整粒子について、最も長い部分の長さとする。また、短径とは、上記長径に直交する最も長い部分の長さとする。   The major axis and minor axis of the light adjusting particles in the present invention are obtained by photographing the light adjusting particles with an electron microscope such as a scanning electron microscope or a transmission electron microscope, and arbitrarily extracting 50 light adjusting particles from the photographed image. The major axis and minor axis of each light control particle can be calculated as an average value. Here, the major axis is the length of the longest part of the light control particles projected in the two-dimensional visual field by the photographed image. The minor axis is the length of the longest part orthogonal to the major axis.

また、本発明における光調整粒子の粒子径を評価する方法として、光子相関法や動的光散乱法の原理を用いた粒度分布計を用いることができる。この方法では直接粒子の大きさや形状を計測するのではなく、粒子を球状と仮定して相当径を評価することになり、SEM観察とは異なる値となる。特に、シスメックス株式会社製ゼータサイザーナノシリーズを用い、Z averageとして出力される相当径を粒子径とした場合に、光調整粒子の粒子径(以下、「粒度分布測定により求められる粒子径」ともいう)は135〜220nmが好ましく、140〜210nmがより好ましく、145〜205nmがさらに好ましい。   In addition, as a method for evaluating the particle diameter of the light control particles in the present invention, a particle size distribution meter using the principle of a photon correlation method or a dynamic light scattering method can be used. In this method, the size and shape of the particles are not directly measured, but the equivalent diameter is evaluated on the assumption that the particles are spherical, which is different from the SEM observation. In particular, when using the Zetasizer Nano series manufactured by Sysmex Corporation and assuming that the equivalent diameter output as Z average is the particle diameter, the particle diameter of the light control particles (hereinafter also referred to as “particle diameter determined by particle size distribution measurement”) ) Is preferably 135 to 220 nm, more preferably 140 to 210 nm, and still more preferably 145 to 205 nm.

このZ average値は例えば光相関法や動的光散乱法に基づいた、違う粒度分布計の測定値、具体的には上述の透過型電子顕微鏡などの電子顕微鏡で測定される光調整粒子の長径、短径とよい相関を示すことが知られおり、粒子径を評価する指標として適当である。   This Z average value is a measured value of a different particle size distribution meter based on, for example, a light correlation method or a dynamic light scattering method, specifically, a major axis of light adjusting particles measured by an electron microscope such as the above-mentioned transmission electron microscope. It is known to show a good correlation with the short diameter, and is suitable as an index for evaluating the particle diameter.

本発明における光調整懸濁液は、光調整懸濁液の全質量に対し、光調整粒子を1〜15質量%含有することが好ましく、2〜10質量%含有することがより好ましい。また、光調整懸濁液の全質量に対し、分散媒を30〜99質量%含有することが好ましく、50〜96質量%含有することがより好ましい。   The light control suspension in the present invention preferably contains 1 to 15% by weight of light control particles, and more preferably 2 to 10% by weight, based on the total weight of the light control suspension. Moreover, it is preferable to contain 30-99 mass% of dispersion media with respect to the total mass of light adjustment suspension, and it is more preferable to contain 50-96 mass%.

また、調光材料は、光調整懸濁液を、樹脂マトリックス原料(高分子媒体)100質量部に対して、1〜100質量部含有することが好ましく、4〜70質量部含有することがより好ましく、6〜60質量部含有することがさらに好ましく、8〜50質量部含有することが特に好ましい。   Moreover, it is preferable that a light control material contains 1-100 mass parts of light adjustment suspensions with respect to 100 mass parts of resin matrix raw materials (polymer medium), and it is more preferable to contain 4-70 mass parts. Preferably, 6 to 60 parts by mass is contained, and 8 to 50 parts by mass is particularly preferred.

本発明における樹脂マトリックス原料(高分子媒体)の屈折率と分散媒の屈折率は近似していることが好ましい。具体的には、本発明における樹脂マトリックス原料(高分子媒体)と分散媒との屈折率の差は、好ましくは0.005以下、より好ましくは0.003以下である。   In the present invention, the refractive index of the resin matrix material (polymer medium) and the refractive index of the dispersion medium are preferably approximated. Specifically, the difference in refractive index between the resin matrix raw material (polymer medium) and the dispersion medium in the present invention is preferably 0.005 or less, more preferably 0.003 or less.

(透明導電性樹脂基材)
本発明による調光材料を利用して調光フィルムを製造するときに使用される透明導電性樹脂基材としては、一般的に、透明樹脂基材に、透明導電膜(ITO、SnO、In、有機導電膜などの膜)がコーティングされており、透明樹脂基材と透明導電膜を合わせた光透過率が80%以上であって、表面抵抗値が3〜3000Ωの透明導電性樹脂基材を使用することができる。なお、光透過率はJIS K7105の全光線透過率の測定法に準拠して測定することができる。
(Transparent conductive resin substrate)
As a transparent conductive resin base material used when manufacturing a light control film using the light control material according to the present invention, generally, a transparent conductive film (ITO, SnO 2 , In 2 O 3 , a film such as an organic conductive film) is coated, the light transmittance of the transparent resin base material combined with the transparent conductive film is 80% or more, and the surface resistance is 3 to 3000Ω. A resin base material can be used. The light transmittance can be measured according to the total light transmittance measuring method of JIS K7105.

本発明における透明樹脂基材としては、例えば、高分子フィルムなどを使用することができる。
上記高分子フィルムとしては、例えば、ポリエチレンテレフタレートなどのポリエステル系フィルム、ポリプロピレンなどのポリオレフィン系フィルム、ポリ塩化ビニルフィルム、アクリル樹脂系のフィルム、ポリエーテルサルフォンフィルム、ポリアリレートフィルム、ポリカーボネートフィルムなどの樹脂フィルムが挙げられるが、ポリエチレンテレフタレートフィルムが、透明性に優れ、成形性、接着性、加工性などに優れるので好ましい。
As a transparent resin base material in this invention, a polymer film etc. can be used, for example.
Examples of the polymer film include polyester films such as polyethylene terephthalate, polyolefin films such as polypropylene, polyvinyl chloride films, acrylic resin films, polyether sulfone films, polyarylate films, and polycarbonate films. Although a film is mentioned, a polyethylene terephthalate film is preferable because it is excellent in transparency and excellent in moldability, adhesiveness, workability and the like.

透明樹脂基材にコーティングされる透明導電膜の厚みは、10〜5,000nmであることが好ましく、透明樹脂基材の厚みは特に制限はない。例えば、高分子フィルムの場合には10〜200μmが好ましい。透明樹脂基材の間隔が狭く、異物質の混入などにより発生する短絡現象を防止するために、透明導電膜の上に数nm〜1μm程度の厚さの透明絶縁層が形成されている透明樹脂導電性基材を使用してもよい。また、本発明の調光フィルムを反射型の調光窓に利用する場合(例えば、自動車用リアビューミラーなど)は、反射体であるアルミニウム、金、又は銀のような導電性金属の薄膜を電極として直接用いてもよい。   The thickness of the transparent conductive film coated on the transparent resin substrate is preferably 10 to 5,000 nm, and the thickness of the transparent resin substrate is not particularly limited. For example, in the case of a polymer film, 10 to 200 μm is preferable. A transparent resin in which a transparent insulating layer having a thickness of several nanometers to 1 μm is formed on a transparent conductive film in order to prevent a short-circuit phenomenon that occurs due to a narrow interval between transparent resin base materials and mixing of foreign substances. A conductive substrate may be used. When the light control film of the present invention is used for a reflective light control window (for example, a rear view mirror for automobiles), a thin film of conductive metal such as aluminum, gold, or silver as a reflector is used as an electrode. May be used directly.

本発明の調光フィルムは、透明導電性樹脂基材と調光層との密着性を向上させるためのプライマー層を有する2枚の透明導電性樹脂基材に挟持されているか、あるいはプライマー層を有する透明導電性樹脂基材とプライマー層を有さない透明導電性樹脂基材の2枚の透明導電性樹脂基材に挟持されていても良い。   The light control film of the present invention is sandwiched between two transparent conductive resin substrates having a primer layer for improving the adhesion between the transparent conductive resin substrate and the light control layer, or the primer layer It may be sandwiched between two transparent conductive resin substrates having a transparent conductive resin substrate having a primer layer and a transparent conductive resin substrate having no primer layer.

上記プライマー層は、ペンタエリスリトール骨格を含有するウレタンアクリレートを含有する材料、分子内に水酸基を有する(メタ)アクリレートを含有する材料、金属酸化物微粒子を有機バインダー樹脂に分散させた材料、分子内に1つ以上の重合性基を有するリン酸エステル、アミノ基を有するシランカップリング剤などからなる薄膜で形成されるのが好ましい。   The primer layer includes a material containing a urethane acrylate containing a pentaerythritol skeleton, a material containing a (meth) acrylate having a hydroxyl group in the molecule, a material in which metal oxide fine particles are dispersed in an organic binder resin, The thin film is preferably formed of a phosphate ester having one or more polymerizable groups, a silane coupling agent having an amino group, or the like.

本発明における透明導電性樹脂基材のプライマー処理(プライマー層の形成)は、例えば、プライマー層を形成する材料を、バーコーター法、マイヤーバーコーター法、アプリケーター法、ドクターブレード法、ロールコーター法、ダイコーター法、コンマコーター法、グラビアコート法、マイクログラビアコート法、ロールブラッシュ法、スプレーコート法、エアーナイフコート法、含浸法、カーテンコート法などを単独または組み合わせて用いて、透明導電性樹脂基材に塗布することにより行うことができる。なお、塗布する際は必要に応じて適当な溶剤で希釈し、プライマー層を形成する材料の溶液を用いてもよい。溶剤を用いた場合には、透明導電性樹脂基材上に塗布した後乾燥を要する。
なお、プライマー層となる塗膜は必要に応じて透明導電性樹脂基材の片面のみ(透明導電膜側)に形成してもよいし、含浸法やディップコート法によって両面に形成してもよい。
The primer treatment (formation of the primer layer) of the transparent conductive resin substrate in the present invention includes, for example, a material for forming the primer layer, a bar coater method, a Mayer bar coater method, an applicator method, a doctor blade method, a roll coater method, A transparent conductive resin group can be used alone or in combination with a die coater method, comma coater method, gravure coating method, micro gravure coating method, roll brush method, spray coating method, air knife coating method, impregnation method, curtain coating method, etc. This can be done by applying to the material. In addition, when apply | coating, you may dilute with a suitable solvent as needed, and you may use the solution of the material which forms a primer layer. When a solvent is used, drying is required after coating on the transparent conductive resin substrate.
In addition, the coating film used as a primer layer may be formed only on one side (transparent conductive film side) of the transparent conductive resin base material as necessary, or may be formed on both sides by an impregnation method or a dip coating method. .

プライマー層形成に用いる溶剤としては、プライマー層を形成する材料を溶解あるいは分散し、プライマー層形成後に乾燥などにより除去できるものであればよく、イソプロピルアルコール、エタノール、メタノール、1−メトキシ−2−プロパノール、2−メトキシエタノール、シクロヘキサノン、メチルイソブチルケトン、アニソール、メチルエチルケトン、アセトン、テトラヒドロフラン、トルエン、ヘプタン、シクロヘキサン、エチルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチルジグリコール、ジメチルジグリコール、酢酸イソアミル、酢酸ヘキシルなどを用いることができ、これらの混合溶媒でも良い。   The solvent used for forming the primer layer may be any solvent that dissolves or disperses the material forming the primer layer and can be removed by drying after the primer layer is formed. Isopropyl alcohol, ethanol, methanol, 1-methoxy-2-propanol 2-methoxyethanol, cyclohexanone, methyl isobutyl ketone, anisole, methyl ethyl ketone, acetone, tetrahydrofuran, toluene, heptane, cyclohexane, ethyl acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, diethyl diglycol, dimethyl diglycol, isoamyl acetate, hexyl acetate, etc. These solvents can be used.

調光層となる調光材料の塗布には、例えば、バーコーター、アプリケーター、ドクターブレード、ロールコーター、ダイコーター、コンマコーターなどの公知の塗工手段を用いることができる。
調光材料を、透明導電性樹脂基材上に設けたプライマー層面に塗布する、あるいは、一方にプライマー層を有さない透明導電性樹脂基材を用いる場合には、透明導電性樹脂基材に直接塗布する。なお、塗布する際は、必要に応じて、適当な溶剤で希釈してもよい。溶剤を用いた場合には、透明導電性樹脂基材上に塗布した後に乾燥を要する。
For application of the light control material to be the light control layer, known coating means such as a bar coater, an applicator, a doctor blade, a roll coater, a die coater, and a comma coater can be used.
When the light-modulating material is applied to the surface of the primer layer provided on the transparent conductive resin substrate, or when using a transparent conductive resin substrate that does not have a primer layer on one side, the transparent conductive resin substrate Apply directly. In addition, when apply | coating, you may dilute with a suitable solvent as needed. When a solvent is used, drying is required after coating on the transparent conductive resin substrate.

調光材料の塗布に用いる溶剤としては、テトラヒドロフラン、トルエン、ヘプタン、シクロヘキサン、エチルアセテート、エタノール、メタノール、酢酸イソアミル、酢酸ヘキシルなどを用いることができる。
液状の光調整懸濁液が、固体の樹脂マトリックス中に微細な液滴形態で分散されている調光フィルムを形成するためには、調光材料をホモジナイザー、超音波ホモジナイザーなどで混合して樹脂マトリックス原料(高分子媒体)中に光調整懸濁液を微細に分散させる方法、樹脂マトリックス原料(高分子媒体)中の(メタ)アクリロイル基含有ポリシロキサン樹脂の重合による相分離法、溶媒揮発による相分離法、又は温度による相分離法などを利用することができる。
Tetrahydrofuran, toluene, heptane, cyclohexane, ethyl acetate, ethanol, methanol, isoamyl acetate, hexyl acetate, etc. can be used as a solvent used for application of the light modulating material.
In order to form a light control film in which a liquid light control suspension is dispersed in the form of fine droplets in a solid resin matrix, the light control material is mixed with a homogenizer, an ultrasonic homogenizer, etc. A method of finely dispersing the light control suspension in the matrix raw material (polymer medium), a phase separation method by polymerization of the (meth) acryloyl group-containing polysiloxane resin in the resin matrix raw material (polymer medium), and by solvent volatilization A phase separation method, a phase separation method based on temperature, or the like can be used.

(調光フィルム)
本発明の調光フィルムは、調光材料を用いて形成することが可能であり、調光材料は、樹脂マトリックス原料(高分子媒体)から形成された樹脂マトリックスと、樹脂マトリックス中に分散した光調整懸濁液とからなり、調光層を形成する。調光層は2枚の透明導電性樹脂基材に挟持されている。
(Light control film)
The light control film of the present invention can be formed using a light control material. The light control material includes a resin matrix formed from a resin matrix raw material (polymer medium) and light dispersed in the resin matrix. It consists of adjustment suspension and forms a light control layer. The light control layer is sandwiched between two transparent conductive resin substrates.

調光フィルムを得るためには、まず、液状の光調整懸濁液を、樹脂マトリックス原料(高分子媒体)と均質に混合し、光調整懸濁液が樹脂マトリックス原料(高分子媒体)中に液滴状態で分散した混合液からなる調光材料を得る。   In order to obtain a light control film, first, a liquid light control suspension is homogeneously mixed with a resin matrix raw material (polymer medium), and the light control suspension is mixed into the resin matrix raw material (polymer medium). A light control material comprising a mixed liquid dispersed in a droplet state is obtained.

具体的には、以下の通りである。光調整粒子を溶媒に分散した液と光調整懸濁液の分散媒を混合し、ロータリーエバポレーターなどで溶媒を留去し、光調整懸濁液を作製する。
次いで、光調整懸濁液及び樹脂マトリックス原料(高分子媒体)を混合し、光調整懸濁液が樹脂マトリックス原料(高分子媒体)中に液滴状態で分散した混合液(調光材料)とする。
Specifically, it is as follows. A liquid in which the light control particles are dispersed in a solvent and a dispersion medium of the light control suspension are mixed, and the solvent is distilled off with a rotary evaporator or the like to prepare a light control suspension.
Next, the light control suspension and the resin matrix raw material (polymer medium) are mixed, and the light control suspension is mixed in a droplet state in the resin matrix raw material (polymer medium) (light control material) To do.

この調光材料を、透明導電性樹脂基材上に一定な厚さで塗布し、必要に応じて調光材料に含有される溶剤を乾燥除去した後、高圧水銀灯などを用いて紫外線を照射し樹脂マトリックス原料(高分子媒体)を硬化させる。その結果、硬化した樹脂マトリックス中に、光調整懸濁液が液滴状に分散されている調光層ができ上がる。樹脂マトリックス原料(高分子媒体)と光調整懸濁液との混合比率を様々に変えることにより、調光層の光透過率を調節することができる。このようにして形成された調光層の上にもう一方の透明導電性樹脂基材を密着させることにより、調光フィルムが得られる。
あるいは、この調光材料を、透明導電性樹脂基材上に一定な厚さで塗布し、必要に応じて調光材料に含有される溶剤を乾燥除去した後、もう一方の透明導電性樹脂基材でラミネートした後に紫外線を照射し、樹脂マトリックス原料(高分子媒体)を硬化させてもよい。2枚の透明導電性樹脂基材の両方の上に調光層を形成し、それを調光層同士が密着するようにして積層してもよい。調光層の厚みは、5〜1,000μmが好ましく、20〜100μmがより好ましい。
This light-modulating material is applied to a transparent conductive resin substrate with a constant thickness, and if necessary, the solvent contained in the light-modulating material is dried and removed, and then irradiated with ultraviolet light using a high-pressure mercury lamp or the like. The resin matrix raw material (polymer medium) is cured. As a result, a light control layer in which the light control suspension is dispersed in droplets in the cured resin matrix is completed. The light transmittance of the light control layer can be adjusted by variously changing the mixing ratio of the resin matrix material (polymer medium) and the light control suspension. A light control film is obtained by sticking another transparent conductive resin base material on the light control layer formed in this way.
Alternatively, this light-modulating material is applied on the transparent conductive resin substrate at a constant thickness, and if necessary, the solvent contained in the light-modulating material is removed by drying, and then the other transparent conductive resin base After laminating with a material, the resin matrix material (polymer medium) may be cured by irradiating with ultraviolet rays. A light control layer may be formed on both of the two transparent conductive resin substrates, and the light control layers may be laminated so that the light control layers are in close contact with each other. The thickness of the light control layer is preferably 5 to 1,000 μm, and more preferably 20 to 100 μm.

樹脂マトリックス中に分散されている光調整懸濁液の液滴の大きさ(平均液滴径)は、通常0.5〜100μm、好ましくは0.5〜20μm、より好ましいくは1〜5μmである。液滴の大きさは、光調整懸濁液を構成している各成分の濃度、光調整懸濁液及び樹脂マトリックス原料(高分子媒体)の粘度、光調整懸濁液中の分散媒の樹脂マトリックス原料(高分子媒体)に対する相溶性などにより決められる。
平均液滴径は、例えば、SEMを用いて、調光フィルムの一方の面方向から写真などの画像を撮影し、任意に選択した複数の液滴直径を測定し、その平均値として算出することができる。また、調光フィルムの光学顕微鏡での視野画像をデジタルデータとしてコンピュータに取り込み、画像処理インテグレーションソフトウェアを使用し算出することも可能である。
The size (average droplet diameter) of the light control suspension dispersed in the resin matrix is usually 0.5 to 100 μm, preferably 0.5 to 20 μm, more preferably 1 to 5 μm. is there. The size of the droplet is the concentration of each component constituting the light control suspension, the viscosity of the light control suspension and the resin matrix raw material (polymer medium), the resin of the dispersion medium in the light control suspension It is determined by compatibility with the matrix material (polymer medium).
The average droplet diameter is calculated, for example, by taking an image such as a photograph from one surface direction of the light control film using SEM, measuring a plurality of arbitrarily selected droplet diameters, and calculating the average value thereof. Can do. It is also possible to capture a visual field image of the light control film with an optical microscope into a computer as digital data and calculate it using image processing integration software.

上記の方法によれば、電場の形成により任意に光透過率が調節できる調光フィルムが提供される。この調光フィルムは、電場が形成されていない場合にも、光の散乱のない鮮明な着色状態を維持し、電場が形成されると透明な状態に転換される。この能力は、20万回以上の可逆的反復特性を示す。透明な状態においての光透過率増進と、着色された状態における鮮明度の増進のためには、液状の光調整懸濁液の屈折率と、樹脂マトリックスの屈折率を一致させることが好ましい。
調光フィルムを作動させるための使用電源は交流で、10〜100ボルト(実効値)、30Hz〜500kHzの周波数範囲とすることができる。本発明の調光フィルムは、電界に対する応答時間を、消色時には1〜50秒以内、着色時には1〜100秒以内とすることができる。また、紫外線耐久性は、750W紫外線などを利用した紫外線照射試験の結果、250時間が経過した後にも安定な可変特性を示し、−50℃〜90℃で長時間放置した場合にも、初期の可変特性を維持することが可能である。
According to said method, the light control film which can adjust light transmittance arbitrarily by formation of an electric field is provided. Even when no electric field is formed, the light control film maintains a clear coloring state without light scattering, and is converted into a transparent state when the electric field is formed. This ability exhibits a reversible repeat characteristic of over 200,000 times. In order to enhance the light transmittance in the transparent state and the sharpness in the colored state, it is preferable to match the refractive index of the liquid light adjusting suspension with the refractive index of the resin matrix.
The power source used for operating the light control film is alternating current, and can be in the frequency range of 10 to 100 volts (effective value) and 30 Hz to 500 kHz. The light control film of this invention can make the response time with respect to an electric field within 1-50 seconds at the time of decoloring, and within 1-100 seconds at the time of coloring. In addition, as a result of an ultraviolet irradiation test using 750 W ultraviolet light or the like, the ultraviolet durability shows a stable variable characteristic even after 250 hours have passed, and even when left at -50 ° C. to 90 ° C. for a long time, It is possible to maintain variable characteristics.

従来技術である液晶を使用した調光フィルムの製造における、水を用いたエマルジョンによる方法を使用すると、液晶が水分と反応して光調整特性を失うことが多く、同一の特性のフィルムを製造しにくいという問題がある。
本発明においては、液晶ではなく、光調整粒子が光調整懸濁液内に分散されている液状の光調整懸濁液を使用するため、液晶を利用した調光フィルムとは異なり、電界が印加されていない場合にも光が散乱せず、鮮明度が優れて視野角の制限のない着色状態を表す。そして、光調整粒子の含量、液滴形態や膜厚を調節したり、又は電界強度を調節したりすることにより、光可変度を任意に調節できる。
また、本発明の調光フィルムは、液晶を用いないことから、紫外線露光による色調変化及び可変能力の低下、大型製品特有の透明導電性樹脂基材の周辺部と中央部間に生ずる電圧降下に伴う応答時間差も解消される。
In the production of a light control film using liquid crystal, which is a conventional technology, when a method using an emulsion using water is used, the liquid crystal often reacts with moisture and loses its light adjustment characteristics. There is a problem that it is difficult.
In the present invention, not a liquid crystal, but a liquid light adjusting suspension in which light adjusting particles are dispersed in the light adjusting suspension is used. Therefore, unlike a light control film using liquid crystal, an electric field is applied. Even if not, light is not scattered, and it represents a colored state with excellent definition and no viewing angle limitation. Then, the light variability can be arbitrarily adjusted by adjusting the content of the light adjusting particles, the droplet form and the film thickness, or adjusting the electric field strength.
In addition, since the light control film of the present invention does not use liquid crystals, the color change due to ultraviolet exposure and the variable capacity decrease, and the voltage drop generated between the peripheral part and the central part of the transparent conductive resin base material peculiar to large products. The accompanying response time difference is also eliminated.

本発明による調光フィルムに電界が印加されていないときには、光調整懸濁液内の光調整粒子のブラウン運動のため、光調整粒子の光吸収、2色性効果による鮮明な着色状態を示す。しかし、電界が印加されると、液滴又は液滴連結体の中の光調整粒子が電場に平行に配列され、透明な状態に転換される。
また、フィルム状態であるがため、液状の光調整懸濁液をそのまま使用する従来技術による調光硝子の問題点、即ち、2枚の透明導電性樹脂基材の間への液状の懸濁液の注入の困難性、製品の上下間の水圧差による下部の膨張現象、風圧などの外部環境による基材間隔の変化による局部的な色相変化、透明導電性樹脂基材の間の密封材の破壊による調光材料の漏洩が解決される。
When an electric field is not applied to the light control film according to the present invention, the light control particles in the light control suspension exhibit a brown color motion, and the light control particles absorb light and show a clear coloring state due to a dichroic effect. However, when an electric field is applied, the light adjusting particles in the droplet or the droplet connected body are arranged in parallel to the electric field and converted into a transparent state.
In addition, since it is in a film state, there is a problem with the light control glass according to the prior art in which the liquid light adjusting suspension is used as it is, that is, the liquid suspension between the two transparent conductive resin substrates. Difficulty in injecting water, expansion phenomenon in the lower part due to the water pressure difference between the upper and lower parts of the product, local hue change due to changes in the base interval due to the external environment such as wind pressure, destruction of the sealing material between the transparent conductive resin base materials The leakage of the light control material due to is solved.

また、液晶を利用した従来技術による調光窓の場合には、液晶が紫外線に容易に劣化し、またネマチック液晶の熱的特性によりその使用温度の範囲も狭い。更に、光学特性面においても、電界が印加されていない場合には光散乱による乳白色の半透明な状態を示し、電界が印加される場合にも、完全には鮮明化せず、乳濁状態が残存する問題点がある。従って、このような調光窓では、既存の液晶表示素子で動作原理として利用されている光の遮断及び透過による表示機能が不可能である。しかし、本発明による調光フィルムを使用すれば、このような問題点が解決できる。   Further, in the case of a light control window according to the prior art using liquid crystal, the liquid crystal is easily deteriorated to ultraviolet rays, and the operating temperature range is narrow due to the thermal characteristics of nematic liquid crystal. Furthermore, also in terms of optical characteristics, when no electric field is applied, it shows a milky white translucent state due to light scattering, and even when an electric field is applied, it is not completely sharpened and the milky state is There are remaining problems. Therefore, in such a light control window, a display function based on light blocking and transmission, which is used as an operation principle in existing liquid crystal display elements, is impossible. However, such a problem can be solved by using the light control film according to the present invention.

本発明の調光フィルムは、例えば、室内外の仕切り(パーティッション)、建築物用の窓硝子/天窓、電子産業及び映像機器に使用される各種平面表示素子、各種計器板と既存の液晶表示素子の代替品、光シャッター、各種室内外広告及び案内標示板、航空機/鉄道車両/船舶用の窓硝子、自動車用の窓硝子/バックミラー/サンルーフ、眼鏡、サングラス、サンバイザーなどの用途に好適に使用することができる。   The light control film of the present invention includes, for example, indoor and outdoor partitions, window glass / skylights for buildings, various flat display elements used in the electronics industry and video equipment, various instrument panels, and existing liquid crystal display elements. Suitable for applications such as optical shutters, various indoor / outdoor advertising and information sign boards, window glass for aircraft / railcars / ships, window glass / back mirror / sunroof for automobiles, glasses, sunglasses, sun visors, etc. Can be used.

適用法としては、本発明の調光フィルムを直接使用することも可能であるが、用途によっては、例えば、本発明の調光フィルムを2枚の基材に挟持させて使用したり、基材の片面に貼り付けて使用したりしてもよい。上記基材としては、例えば、ガラスや、上記透明樹脂基材と同様の高分子フィルムなどを使用することができる。
本発明による調光フィルムの構造及び動作を図面により更に詳しく説明すると、下記の通りである。
As an application method, it is possible to directly use the light control film of the present invention. However, depending on the application, for example, the light control film of the present invention may be sandwiched between two base materials or used. It may be used by pasting it on one side. As said base material, glass, the polymer film similar to the said transparent resin base material, etc. can be used, for example.
The structure and operation of the light control film according to the present invention will be described in more detail with reference to the drawings.

図1は、本発明の一態様の調光フィルムの構造概略図で、調光層1が、透明導電膜5aがコーティングされている2枚の透明樹脂基材5bからなる透明導電性樹脂基材4の間に挟まれている。調光層1と透明導電性樹脂基材4の間にはプライマー層6が設けられている。スイッチ8の切り換えにより、電源7と2枚の透明導電膜5の接続、非接続を行う。調光層1は、本発明の(メタ)アクリロイル基含有ポリシロキサン樹脂を含む樹脂マトリックス原料(高分子媒体)を紫外線硬化させたフィルム状の樹脂マトリックス2と、樹脂マトリックス2内に液滴3の形態で分散されている液状の光調整懸濁液からなる。   FIG. 1 is a structural schematic diagram of a light control film of one embodiment of the present invention, in which a light control layer 1 is composed of two transparent resin base materials 5b coated with a transparent conductive film 5a. It is sandwiched between four. A primer layer 6 is provided between the light control layer 1 and the transparent conductive resin substrate 4. By switching the switch 8, the power supply 7 and the two transparent conductive films 5 are connected or disconnected. The light control layer 1 includes a film-like resin matrix 2 obtained by UV-curing a resin matrix material (polymer medium) containing the (meth) acryloyl group-containing polysiloxane resin of the present invention, and droplets 3 in the resin matrix 2. It consists of a liquid light conditioning suspension dispersed in form.

図2は、図1に示した調光フィルムの作動を説明するための図面で、スイッチ8が切られ、電界が印加されていない場合を示す。この場合には、液状の光調整懸濁液の液滴3を構成している分散媒9の中に分散している光調整粒子10のブラウン運動により、入射光11は光調整粒子10に吸収、散乱又は反射され、透過できない。しかし、図3に示すように、スイッチ8を接続して電界を印加すると、光調整粒子10が印加された電界によって形成される電場と平行に配列するため、入射光11は配列した光調整粒子10間を通過するようになる。このようにして、散乱及び透明性の低下のない光透過機能が付与される。   FIG. 2 is a view for explaining the operation of the light control film shown in FIG. 1, and shows a case where the switch 8 is turned off and no electric field is applied. In this case, incident light 11 is absorbed by the light adjusting particles 10 due to Brownian motion of the light adjusting particles 10 dispersed in the dispersion medium 9 constituting the droplets 3 of the liquid light adjusting suspension. It is scattered or reflected and cannot be transmitted. However, as shown in FIG. 3, when the switch 8 is connected and an electric field is applied, the light adjusting particles 10 are arranged in parallel with the electric field formed by the applied electric field. 10 passes. In this way, a light transmission function without scattering and a decrease in transparency is provided.

以下、本発明の実施例及びその比較例によって本発明を更に具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。   Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to examples of the present invention and comparative examples thereof, but the present invention is not limited to these examples.

(光調整粒子の製造例)
ヨウ素(JIS試薬特級、和光純薬工業(株)製)と酢酸イソペンチル(試薬特級、和光純薬工業(株)製)から8.5質量%ヨウ素の酢酸イソペンチル溶液を、また硝酸セルロース1/4LIG(商品名:ベルジュラックNC社製)と酢酸イソペンチルから20.0質量%硝酸セルロースの酢酸イソペンチル溶液を調製した。ヨウ化カルシウム水和物(化学用、和光純薬工業(株)製)を加熱乾燥して無水化して酢酸イソペンチルに溶解させ、20.9質量%ヨウ化カルシウム溶液を調整した。
300mlの四口フラスコに撹拌機と冷却管を備え、ヨウ素溶液を65.6g、硝酸セルロース溶液を82.93g、を加え水浴温度を35〜40℃としてフラスコを加熱した。フラスコ内容物の温度が35〜40℃となった後、脱水メタノール(試薬特級、和光純薬工業(株)製)を7.41g、精製水(和光純薬工業(株)製)を0.525g加えて撹拌した。ヨウ化カルシウム溶液を15.6g、次いでピラジン−2,5−ジカルボン酸(日化テクノサービス(株)製)を3.70g加えた。水浴温度を42〜44℃として4時間撹拌した後、放冷した。
(Production example of light control particles)
A 8.5 mass% iodine isopentyl acetate solution from iodine (JIS reagent special grade, manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) and isopentyl acetate (reagent special grade, manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.), and cellulose nitrate 1/4 LIG An isopentyl acetate solution of 20.0 mass% cellulose nitrate was prepared from (trade name: manufactured by Bergerac NC) and isopentyl acetate. Calcium iodide hydrate (chemical use, manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) was dried by heating, dehydrated and dissolved in isopentyl acetate to prepare a 20.9 mass% calcium iodide solution.
A 300 ml four-necked flask was equipped with a stirrer and a condenser, 65.6 g of iodine solution and 82.93 g of cellulose nitrate solution were added, and the flask was heated at a water bath temperature of 35 to 40 ° C. After the temperature of the flask contents reached 35 to 40 ° C., 7.41 g of dehydrated methanol (special grade reagent, manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) and 0.71 of purified water (produced by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) were added. 525 g was added and stirred. 15.6 g of calcium iodide solution was added, and then 3.70 g of pyrazine-2,5-dicarboxylic acid (manufactured by Nikka Techno Service Co., Ltd.) was added. The water bath temperature was set to 42 to 44 ° C., and the mixture was stirred for 4 hours and then allowed to cool.

得られた光調整粒子は粒度分布測定で求められる粒子径139nm、SEM観察で長軸259nm、アスペクト比4.1であった。また、得られた合成液を9260Gで5時間遠心分離後、傾斜して上澄み液を除き、底部に残存した沈殿にこの沈殿の質量の5倍の酢酸イソペンチルを加え超音波で沈殿を分散し、液全体の質量を測定した。この分散した液を1g金属プレートに秤量し、120℃1時間で乾燥後、再び質量を測定し、不揮発分比%を求めた。この不揮発分比と液全体の質量から全不揮発分量、すなわち沈殿収量4.15gを求めた。   The obtained light control particles had a particle diameter of 139 nm determined by particle size distribution measurement, a major axis of 259 nm and an aspect ratio of 4.1 by SEM observation. In addition, after centrifuging the resultant synthesis solution at 9260 G for 5 hours, the supernatant was removed by inclining, and the precipitate remaining at the bottom was added with 5 times the mass of the precipitate, isopentyl acetate to disperse the precipitate with ultrasound, The mass of the whole liquid was measured. The dispersed liquid was weighed on a 1 g metal plate, dried at 120 ° C. for 1 hour, then weighed again to determine the non-volatile content ratio%. From the nonvolatile content ratio and the mass of the entire liquid, the total nonvolatile content, that is, the precipitation yield of 4.15 g was determined.

(光調整懸濁液の製造例)
上記の(光調整粒子の製造例)で得た光調整粒子45.5gを、光調整懸濁液の分散媒としてのアクリル酸ブチル(和光特級、和光純薬工業(株)製)/メタクリル酸2,2,2−トリフルオロエチル(工業用、共栄社化学工業(株)製)/アクリル酸2−ヒドロキシエチル(和光1級、和光純薬工業(株)製)共重合体(モノマーモル比:18/1.5/0.5、重量平均分子量:2,000、屈折率1.4719)50gに加え、撹拌機により30分間混合した。次いで酢酸イソアミルを、ロータリーエバポレーターを用いて133Paの真空で80℃、3時間減圧除去し、光調整粒子の沈降及び凝集現象のない安定な液状の光調整懸濁液を製造した。
(Production example of light control suspension)
Using 45.5 g of the light control particles obtained in the above (Production Example of Light Control Particles), butyl acrylate (Wako Special Grade, Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) / Methacrylic acid as a dispersion medium for the light control suspension 2,2,2-trifluoroethyl (for industrial use, manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.) / 2-hydroxyethyl acrylate (Wako Grade 1, manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) copolymer (monomer molar ratio: 18 /1.5/0.5, weight average molecular weight: 2,000, refractive index 1.4719) In addition to 50 g, the mixture was mixed with a stirrer for 30 minutes. Subsequently, isoamyl acetate was removed under reduced pressure at 80 ° C. for 3 hours under a vacuum of 133 Pa using a rotary evaporator to produce a stable liquid light-conditioning suspension free of sedimentation and aggregation of light-conditioning particles.

(実施例1)
((メタ)アクリロイル基含有ポリシロキサン樹脂の製造例)
[シラノール変換工程]
ディーンスタークトラップ、冷却管、撹拌機、加熱装置を備えた四つ口フラスコに、(メタ)アクリロイル基含有アルコキシシラン化合物としての(3−アクリロキシプロピル)メチルジメトキシシラン(商品名:KBM−5102、信越化学工業(株)製)15.0g、蒸留水1.9g、酢酸(和光純薬工業(株)製)0.04g、質量比でエタノール/メタノール=9/1の混合溶媒8.9gを仕込み、65℃に昇温して5時間反応させた。反応溶液を40℃以下まで冷却した後、100Paに減圧して70℃まで昇温して2時間、脱溶工程を行った。その後、室温まで冷却してアルコキシシラン化合物のアルコキシ基の一部をシラノール基へ変換した(メタ)アクリロイル基含有シラノール化合物14.0gを得た。また、(メタ)アクリロイル基含有シラノール化合物への変換率は54.5%であった。
Example 1
(Production example of (meth) acryloyl group-containing polysiloxane resin)
[Silanol conversion process]
In a four-necked flask equipped with a Dean-Stark trap, condenser, stirrer, and heating device, (3-acryloxypropyl) methyldimethoxysilane (trade name: KBM-5102, as a (meth) acryloyl group-containing alkoxysilane compound, 15.0 g of Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), 1.9 g of distilled water, 0.04 g of acetic acid (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.), 8.9 g of a mixed solvent of ethanol / methanol = 9/1 by mass ratio. The mixture was heated to 65 ° C. and reacted for 5 hours. After cooling the reaction solution to 40 ° C. or lower, the pressure was reduced to 100 Pa, the temperature was raised to 70 ° C., and a desolubilization step was performed for 2 hours. Then, it cooled to room temperature and obtained 14.0 g of (meth) acryloyl group containing silanol compounds which converted a part of alkoxy group of the alkoxysilane compound into the silanol group. Moreover, the conversion rate to the (meth) acryloyl group containing silanol compound was 54.5%.

[シラノールへの変換率の測定方法]
アルコキシシラン化合物のシラノール化合物への変換率は、赤外分光測定における水酸基由来のピーク(3435cm−1付近)の強度(A)とアルコキシ基由来のピーク(2835cm−1付近)の強度(B)から変換率=A/(A+B)×100により求められる。
(3−アクリロキシプロピル)メチルジメトキシシランからのシラノール化合物への変換後の赤外分光測定より、(A)がAbs=0.250、(B)がAbs=0.211であったことから、変換率は54.5%と算出した。
[Measurement method of conversion rate to silanol]
The conversion rate of the alkoxysilane compound to the silanol compound is determined from the intensity (A) of the peak derived from the hydroxyl group (near 3435 cm −1 ) and the intensity (B) of the peak derived from the alkoxy group (near 2835 cm −1 ) in the infrared spectroscopic measurement. Conversion rate = A / (A + B) × 100.
From infrared spectroscopic measurement after conversion from (3-acryloxypropyl) methyldimethoxysilane to a silanol compound, (A) was Abs = 0.250, and (B) was Abs = 0.221. The conversion rate was calculated as 54.5%.

[脱水縮合工程]
ディーンスタークトラップ、冷却管、撹拌機、加熱装置を備えた四つ口フラスコに、両末端シラノール基含有ポリジメチルシロキサン(商品名:X−21−3114、信越化学工業(株)製)48.0g、両末端シラノール基含有ポリメチルフェニルシロキサン(商品名:X−21−3193B、信越化学工業(株)製)170.0g、上記[シラノール変換工程]においてKBM−5102のメトキシ基をシラノール基に変換した(メタ)アクリロイル基含有シラノール化合物9.0g、ビス(2−エチルヘキサン酸)錫(商品名:KCS−405T、城北化学工業(株)製)0.01gを縮合原料として仕込み、ヘプタン中100℃で5時間リフラックスし、反応を行った。
温度を50℃まで冷却し、トリメチルエトキシシラン(商品名:KBM−31、信越化学工業(株)製)109.0gを添加し、再び85℃において2時間リフラックスしてエンドキャップ反応させた。
次いで温度を75℃に冷却してリン酸ジエチル(別名:エチルアシッドホスフェート)(商品名:JP−502、城北化学工業(株)製)0.01g(脱水縮合触媒ビス(2−エチルヘキサン酸)錫に対して100質量部に対して100質量部)を添加し20分攪拌した後30℃まで冷却した。
[Dehydration condensation process]
In a four-necked flask equipped with a Dean-Stark trap, a condenser, a stirrer, and a heating device, 48.0 g of polydimethylsiloxane containing both ends silanol groups (trade name: X-21-3114, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) , 170.0 g of silanol group-containing polymethylphenylsiloxane (trade name: X-21-3193B, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), converting the methoxy group of KBM-5102 into a silanol group in the above [silanol conversion step] 9.0 g of (meth) acryloyl group-containing silanol compound and 0.01 g of bis (2-ethylhexanoic acid) tin (trade name: KCS-405T, manufactured by Johoku Chemical Co., Ltd.) were charged as a condensation raw material, and 100 in heptane The reaction was performed by refluxing at 5 ° C. for 5 hours.
The temperature was cooled to 50 ° C., 109.0 g of trimethylethoxysilane (trade name: KBM-31, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) was added, and the mixture was refluxed again at 85 ° C. for 2 hours to cause an end cap reaction.
Next, the temperature was cooled to 75 ° C. and diethyl phosphate (also known as ethyl acid phosphate) (trade name: JP-502, manufactured by Johoku Chemical Co., Ltd.) 0.01 g (dehydration condensation catalyst bis (2-ethylhexanoic acid)) 100 parts by mass with respect to 100 parts by mass) was added and stirred for 20 minutes, and then cooled to 30 ° C.

次いでメタノールを210g、エタノールを90g添加し20分攪拌した。12時間静置した後アルコール層を除去し、100Paに減圧して115℃に昇温し5時間、脱溶を行い、重量平均分子量46,700、粘度16,000の(メタ)アクリロイル基含有ポリシロキサン樹脂(屈折率1.4744)148.8gを得た。
この時、ポリシロキサン樹脂の縮合原料総量(構造単位の原料シロキサン、(メタ)アクリロイル基含有シラノール化合物、エンドギャップ剤含む)に対する(メタ)アクリロイル基含有シラノール化合物の割合は、2.7質量%であった。
また、NMRの水素積分比からこの樹脂の3−アクリロキシプロピルメチルシロキサン構造単位量は、1.9質量%であった。なお、(メタ)アクリロイル基を含有する構造単位量濃度は下記の方法により測定した。
Next, 210 g of methanol and 90 g of ethanol were added and stirred for 20 minutes. After standing for 12 hours, the alcohol layer was removed, the pressure was reduced to 100 Pa, the temperature was raised to 115 ° C., desorption was performed for 5 hours, and a (meth) acryloyl group-containing polymer having a weight average molecular weight of 46,700 and a viscosity of 16,000 was obtained. 148.8g of siloxane resin (refractive index 1.4744) was obtained.
At this time, the ratio of the (meth) acryloyl group-containing silanol compound to the polysiloxane resin condensation raw material total amount (including the structural unit raw material siloxane, the (meth) acryloyl group-containing silanol compound and the end gap agent) is 2.7% by mass. there were.
From the NMR hydrogen integration ratio, the amount of 3-acryloxypropylmethylsiloxane structural unit of the resin was 1.9% by mass. In addition, the structural unit amount concentration containing a (meth) acryloyl group was measured by the following method.

[(メタ)アクリロイル基を含有する構造単位量濃度の測定方法]
3−アクリロキシプロピルメチルシロキサン構造単位量((メタ)アクリロイル基を含有する構造単位量)は、NMRの水素積分比から算出した((メタ)アクリロイル基の水素の6ppm近傍の積分値、フェニル基の水素の7.5ppm近傍の積分値、及びメチル基の水素の0.1ppm近傍の積分値を使用)。測定溶媒はCDClとした。
上記で製造したポリシロキサン樹脂において、NMRの水素積分比から算出した(ジフェニルシロキサンのメチル基由来H):(ジメチルシロキサンのフェニル基由来H):(3−アクリロキシプロピルメチルシロキサンのビニル基に結合するH)=10.00:27.89:0.61、であった。各構造単位に含まれる水素数は、ジフェニルシロキサンが10個、ジメチルシロキサンが6個、3−アクリロキシプロピルメチルシロキサンのビニル基に結合する水素が3個であるから、全体の中の3−アクリロキシプロピルメチルシロキサン構造単位量((メタ)アクリロイル基を含有する構造単位量)は1.9質量%と算出した。
[Method for measuring concentration of structural unit containing (meth) acryloyl group]
The amount of 3-acryloxypropylmethylsiloxane structural unit (the amount of structural unit containing (meth) acryloyl group) was calculated from the hydrogen integral ratio of NMR (integral value around 6 ppm of hydrogen of (meth) acryloyl group, phenyl group The integral value near 7.5 ppm of hydrogen and the integral value near 0.1 ppm of hydrogen of methyl group are used). Measurement solvent was CDCl 3.
In the polysiloxane resin produced by the above, (methyl group derived from 1 H diphenyl siloxane) was calculated from the hydrogen integral ratio of NMR :( from phenyl dimethylsiloxane 1 H) :( 3- acryloxypropyl vinyl methyl siloxane coupled to 1 H) = 10.00: 27.89: 0.61, was. The number of hydrogen contained in each structural unit is 10 for diphenylsiloxane, 6 for dimethylsiloxane, and 3 for hydrogen bonded to the vinyl group of 3-acryloxypropylmethylsiloxane. The amount of roxypropylmethylsiloxane structural unit (the amount of structural unit containing a (meth) acryloyl group) was calculated to be 1.9% by mass.

(調光材料の調製)
上記((メタ)アクリロイル基含有ポリシロキサン樹脂の製造例)で得た(メタ)アクリロイル基含有ポリシロキサン樹脂7.0g、光重合開始剤としてのビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)フェニルフォスフィンオキサイド(商品名:イルガキュア819、チバ・ジャパン(株)製)0.2g、上記(光調整懸濁液の製造例)で得た光調整懸濁液3.0gを添加し、1分間機械的に混合し、調光材料を製造した。
(Preparation of light control material)
7.0 g of (meth) acryloyl group-containing polysiloxane resin obtained in the above (Production example of (meth) acryloyl group-containing polysiloxane resin), bis (2,4,6-trimethylbenzoyl) phenylphosphine as a photopolymerization initiator 0.2 g of fin oxide (trade name: Irgacure 819, manufactured by Ciba Japan Co., Ltd.) and 3.0 g of the light control suspension obtained in the above (manufacturing example of light control suspension) are added, and the machine is added for 1 minute. Were mixed together to produce a light-modulating material.

(調光フィルムの製造)
一方、ITO(インジウム錫の酸化物)の透明導電膜(厚み300Å)がコーティングされている表面電気抵抗値が200〜700ΩのPETフィルム(300R、東洋紡績(株)製、厚み125μm)からなる透明導電性樹脂基材の上に、上記で得られた調光材料を全面塗布し、次いでその上に同じ透明導電性樹脂基材を、透明導電膜が調光材料の塗布層に向くようにして積層して密着させた。次いで、メタルハライドランプを用いて3000mJ/cmの紫外線を上記積層した透明導電性樹脂基材のポリエステルフィルム側から照射し、光調整懸濁液が球形の液滴として紫外線硬化した樹脂マトリックス内に分散形成されたフィルム状の厚み90μmの調光層が透明導電性樹脂基材に挟まれた厚み340μm調光フィルムを製造した。
(Manufacture of light control film)
On the other hand, a transparent film made of a PET film (300R, manufactured by Toyobo Co., Ltd., thickness 125 μm) having a surface electrical resistance value of 200 to 700Ω coated with a transparent conductive film (thickness 300 mm) of ITO (indium tin oxide). On the conductive resin base material, apply the light-modulating material obtained above on the entire surface, and then apply the same transparent conductive resin base material on it so that the transparent conductive film faces the coating layer of the light-modulating material. Laminated and adhered. Next, using a metal halide lamp, 3000 mJ / cm 2 of ultraviolet light is irradiated from the polyester film side of the laminated transparent conductive resin base material, and the light control suspension is dispersed in the UV cured resin matrix as spherical droplets. A 340 μm-thick dimming film having a film-shaped 90 μm-thick dimming layer formed between transparent conductive resin substrates was produced.

次いで、この調光フィルムの端部から調光層を除去し、端部の透明導電膜を電圧印加用の通電をとるために露出させた(図4参照)。
調光フィルム中の光調整懸濁液の液滴の大きさ(平均液滴径)は、平均3μmであった。調光フィルムの光透過率は、交流電圧を印加しない場合(未印加時:Toff)は1.0%であった。また、50Hzの交流電圧100V(実効値)の印加時の調光フィルムの光透過率(Ton)は49%であり、電界印加時と電界未印加時の光透過率の差(ΔT=Ton−Toff)が48と大きく、良好であった。
Subsequently, the light control layer was removed from the edge part of this light control film, and the transparent conductive film of the edge part was exposed in order to take electricity for voltage application (refer FIG. 4).
The droplet size (average droplet diameter) of the light control suspension in the light control film was 3 μm on average. The light transmittance of the light control film was 1.0% when no AC voltage was applied (not applied: T off ). Further, the light transmittance (T on ) of the light control film when an AC voltage of 100 Hz (effective value) of 50 Hz was applied was 49%, and the difference in light transmittance between when an electric field was applied and when no electric field was applied (ΔT = T on- T off ) was as large as 48 and was good.

さらに、この調光フィルムを110℃で2時間保管した後に同様の測定を行い、耐熱性(%)を次式から求めた。耐熱性=(耐熱試験後のΔT)/(耐熱試験前のΔT)×100。その結果、本調光フィルムの耐熱性は95%と良好であった。   Furthermore, after storing this light control film at 110 degreeC for 2 hours, the same measurement was performed and heat resistance (%) was calculated | required from following Formula. Heat resistance = (ΔT after heat test) / (ΔT before heat test) × 100. As a result, the heat resistance of the light control film was as good as 95%.

目視により調光フィルム端部(調光層が除去され透明導電膜が露出した部分)を観察したところ、調光フィルムの厚み方向中心部へ向かっての透明導電性樹脂基材の曲がりこみは、きわめて小さかった(図4)。
なお、調光フィルム中の光調整懸濁液の液滴の大きさ、調光フィルムの光透過率の評価は下記のように測定した。
When the light control film edge part (part which the light control layer was removed and the transparent conductive film exposed) was observed visually, the bending of the transparent conductive resin base material toward the central part in the thickness direction of the light control film was It was very small (Figure 4).
In addition, evaluation of the magnitude | size of the droplet of the light control suspension liquid in a light control film and the light transmittance of a light control film was measured as follows.

[光調整懸濁液の液滴の大きさの測定方法]
調光フィルムの一方の面方向からSEM写真を撮影し、任意に選択した複数の液滴直径を測定し、その平均値として算出した。
[Measurement method of droplet size of light control suspension]
An SEM photograph was taken from one surface direction of the light control film, a plurality of arbitrarily selected droplet diameters were measured, and the average value was calculated.

[調光フィルムの光透過率の測定方法]
分光式色差計SZ−Σ90(日本電色工業(株)製)を使用し、A光源、視野角2度で測定したY値(%)を光透過率とした。なお、電界印加時と未印加時の光透過率を測定した。
[Measurement method of light transmittance of light control film]
Using a spectroscopic color difference meter SZ-Σ90 (manufactured by Nippon Denshoku Industries Co., Ltd.), the Y value (%) measured with an A light source and a viewing angle of 2 degrees was defined as light transmittance. The light transmittance was measured when an electric field was applied and when it was not applied.

(実施例2)
仕込み縮合原料を、両末端シラノール基含有ポリジメチルシロキサン(X−21−3114)を44.0g、両末端シラノール基含有ポリメチルフェニルシロキサン(X−21−3193B)を156.0g、上記実施例1で得られた(メタ)アクリロイル基含有シラノール化合物22.0g、トリメチルエトキシシラン(KBM−31)を168.0gとしたことを除いては実施例1と同様にしてポリシロキサン樹脂を合成し、重量平均分子量49,000、粘度13,000の(メタ)アクリロイル基含有ポリシロキサン樹脂(屈折率1.4742)188.3gを得た。
この時、ポリシロキサン樹脂の縮合原料総量(構造単位の原料シロキサン、(メタ)アクリロイル基含有シラノール化合物、エンドギャップ剤含む)に対する(メタ)アクリロイル基含有シラノール化合物の割合は、5.6質量%であった。
また、NMRの水素積分比からこの樹脂の3−アクリロキシプロピルメチルシロキサン構造単位量((メタ)アクリロイル基を含有する構造単位量)は、3.5質量%であった。
このポリシロキサン樹脂を用いて作製した調光フィルムの耐熱性は96%と良好であった。
(Example 2)
The charged condensation raw materials were 44.0 g of polydimethylsiloxane having both ends silanol groups (X-21-3114), 156.0 g of polymethylphenylsiloxane having both ends silanol groups (X-21-3193B), Example 1 above. A polysiloxane resin was synthesized in the same manner as in Example 1 except that 22.0 g of the (meth) acryloyl group-containing silanol compound obtained in Step 3 and 168.0 g of trimethylethoxysilane (KBM-31) were used. 188.3 g of (meth) acryloyl group-containing polysiloxane resin (refractive index: 1.4742) having an average molecular weight of 49,000 and a viscosity of 13,000 was obtained.
At this time, the ratio of the (meth) acryloyl group-containing silanol compound to the polysiloxane resin condensation raw material total amount (including the structural unit raw material siloxane, the (meth) acryloyl group-containing silanol compound, and the end gap agent) is 5.6% by mass. there were.
In addition, the amount of 3-acryloxypropylmethylsiloxane structural unit (the amount of structural unit containing a (meth) acryloyl group) in this resin was 3.5% by mass from the hydrogen integral ratio of NMR.
The heat resistance of the light control film produced using this polysiloxane resin was as good as 96%.

(実施例3)
仕込み縮合原料を、両末端シラノール基含有ポリジメチルシロキサン(X−21−3114)を44.0g、両末端シラノール基含有ポリメチルフェニルシロキサン(X−21−3193B)を156.0g、上記実施例1で得られた(メタ)アクリロイル基含有シラノール化合物27.0g、トリメチルエトキシシラン(KBM−31)を166.0gとしたことを除いては実施例1と同様にしてポリシロキサン樹脂を合成し、重量平均分子量48,600、粘度11,200の(メタ)アクリロイル基含有ポリシロキサン樹脂(屈折率1.4745)183.7gを得た。
この時、ポリシロキサン樹脂の縮合原料総量(構造単位の原料シロキサン、(メタ)アクリロイル基含有シラノール化合物、エンドギャップ剤含む)に対する(メタ)アクリロイル基含有シラノール化合物の割合は、6.9質量%であった。
また、NMRの水素積分比からこの樹脂の3−アクリロキシプロピルメチルシロキサン構造単位量((メタ)アクリロイル基を含有する構造単位量)は、4.2質量%であった。
このポリシロキサン樹脂を用いて作製した調光フィルムの耐熱性は96%と良好であった。
(Example 3)
The charged condensation raw materials were 44.0 g of polydimethylsiloxane having both ends silanol groups (X-21-3114), 156.0 g of polymethylphenylsiloxane having both ends silanol groups (X-21-3193B), Example 1 above. A polysiloxane resin was synthesized in the same manner as in Example 1 except that 27.0 g of the (meth) acryloyl group-containing silanol compound obtained in Step 1 and 166.0 g of trimethylethoxysilane (KBM-31) were used. 183.7 g of (meth) acryloyl group-containing polysiloxane resin (refractive index: 1.4745) having an average molecular weight of 48,600 and a viscosity of 11,200 was obtained.
At this time, the ratio of the (meth) acryloyl group-containing silanol compound to the polysiloxane resin condensation raw material total amount (including the structural unit raw material siloxane, the (meth) acryloyl group-containing silanol compound, and the end gap agent) is 6.9% by mass. there were.
In addition, the amount of 3-acryloxypropylmethylsiloxane structural unit (the amount of structural unit containing a (meth) acryloyl group) of this resin was 4.2% by mass from the hydrogen integral ratio of NMR.
The heat resistance of the light control film produced using this polysiloxane resin was as good as 96%.

(実施例4)
仕込み縮合原料を、両末端シラノール基含有ポリジメチルシロキサン(X−21−3114)を45.0g、両末端シラノール基含有ポリメチルフェニルシロキサン(X−21−3193B)を159.0g、上記実施例1で得られた(メタ)アクリロイル基含有シラノール化合物9.0g、トリメチルエトキシシラン(KBM−31)を170.0gとしたことを除いては実施例1と同様にしてポリシロキサン樹脂を合成し、重量平均分子量54,800、粘度16,000の(メタ)アクリロイル基含有ポリシロキサン樹脂(屈折率1.4741)184.4gを得た。
この時、ポリシロキサン樹脂の縮合原料総量(構造単位の原料シロキサン、(メタ)アクリロイル基含有シラノール化合物、エンドギャップ剤含む)に対する(メタ)アクリロイル基含有シラノール化合物の割合は、2.3質量%であった。
また、NMRの水素積分比からこの樹脂の3−アクリロキシプロピルメチルシロキサン構造単位量((メタ)アクリロイル基を含有する構造単位量)は、1.6質量%であった。
このポリシロキサン樹脂を用いて作製した調光フィルムの耐熱性は92%と良好であった。
Example 4
As the charged condensation raw materials, 45.0 g of both-end silanol group-containing polydimethylsiloxane (X-21-3114), 159.0 g of both-end silanol group-containing polymethylphenylsiloxane (X-21-3193B), Example 1 above A polysiloxane resin was synthesized in the same manner as in Example 1 except that 9.0 g of the (meth) acryloyl group-containing silanol compound obtained in Step 1 and 170.0 g of trimethylethoxysilane (KBM-31) were used. 184.4 g of (meth) acryloyl group-containing polysiloxane resin (refractive index: 1.4741) having an average molecular weight of 54,800 and a viscosity of 16,000 was obtained.
At this time, the ratio of the (meth) acryloyl group-containing silanol compound to the polysiloxane resin condensation raw material total amount (including the structural unit raw material siloxane, the (meth) acryloyl group-containing silanol compound, and the end gap agent) is 2.3% by mass. there were.
In addition, the amount of 3-acryloxypropylmethylsiloxane structural unit (the amount of structural unit containing a (meth) acryloyl group) of this resin was 1.6% by mass based on the hydrogen integral ratio of NMR.
The heat resistance of the light control film produced using this polysiloxane resin was as good as 92%.

(比較例1)
(3−アクリロキシプロピル)メチルジメトキシシラン(KBM−5102)のメトキシ基をシラノール基に変換せずにそのままポリシロキサン樹脂の縮合原料として合成に用いたことを除いては、実施例1と同様にしてポリシロキサン樹脂(屈折率1.4745)を合成した。
3−アクリロキシプロピルメチルシロキサン構造単位量((メタ)アクリロイル基を含有する構造単位量)が0.8質量%、重量平均分子量45,000、粘度13,500のポリシロキサン樹脂180.5gを得た。
このポリシロキサン樹脂を用いて作製した調光フィルムの耐熱性は75%と悪かった。
(Comparative Example 1)
Except that the methoxy group of (3-acryloxypropyl) methyldimethoxysilane (KBM-5102) was not directly converted into a silanol group, but was used as it was in the synthesis as a polysiloxane resin condensation raw material, the same as in Example 1. Thus, a polysiloxane resin (refractive index: 1.4745) was synthesized.
180.5 g of a polysiloxane resin having a 3-acryloxypropylmethylsiloxane structural unit amount (a structural unit amount containing a (meth) acryloyl group) of 0.8% by mass, a weight average molecular weight of 45,000 and a viscosity of 13,500 is obtained. It was.
The heat resistance of the light control film produced using this polysiloxane resin was as bad as 75%.

(実施例5)
((メタ)アクリロイル基含有ポリシロキサン樹脂の製造例)
[シラノール変換工程]
ディーンスタークトラップ、冷却管、撹拌機、加熱装置を備えた四つ口フラスコに、(メタ)アクリロイル基含有アルコキシシラン化合物としての(3−アクリロキシプロピル)メチルジメトキシシラン(商品名:KBM−5102、信越化学工業(株)製)10.7g、蒸留水1.4、酢酸(和光純薬工業(株)製)0.03g、質量比でエタノール/メタノール=9/1の混合溶媒6.3gを仕込み、65℃に昇温して5時間反応させた。反応溶液を40℃以下まで冷却した後、水封式真空ポンプで100Paに減圧して70℃まで昇温して2時間、脱溶工程を行った。その後、室温まで冷却してアルコキシシラン化合物のメトキシ基の一部をシラノール基へ変換した(メタ)アクリロイル基含有シラノール化合物10.0gを得た。また、シラノールへの変換率は53.1%であった。
(Example 5)
(Production example of (meth) acryloyl group-containing polysiloxane resin)
[Silanol conversion process]
In a four-necked flask equipped with a Dean-Stark trap, condenser, stirrer, and heating device, (3-acryloxypropyl) methyldimethoxysilane (trade name: KBM-5102, as a (meth) acryloyl group-containing alkoxysilane compound, 10.7 g of Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), 1.43 of distilled water, 0.03 g of acetic acid (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.), and 6.3 g of a mixed solvent of ethanol / methanol = 9/1 by mass ratio. The mixture was heated to 65 ° C. and reacted for 5 hours. After cooling the reaction solution to 40 ° C. or lower, the pressure was reduced to 100 Pa with a water-sealed vacuum pump, the temperature was raised to 70 ° C., and a desolubilization step was performed for 2 hours. Then, it cooled to room temperature and 10.0 g of (meth) acryloyl group containing silanol compounds which converted a part of methoxy group of the alkoxysilane compound into the silanol group were obtained. Moreover, the conversion rate to silanol was 53.1%.

ディーンスタークトラップ、冷却管、撹拌機、加熱装置を備えた四つ口フラスコに、両末端シラノール基含有ポリジメチルシロキサン(商品名:X−21−3114、信越化学工業(株)製)21.2g、両末端シラノール基含有ポリメチルフェニルシロキサン(商品名:X−21−3193B、信越化学工業(株)製)75.0g、前記KBM−5102のメトキシ基をシラノール基に変換した(メタ)アクリロイル基含有シラノール化合物10.0g、ビス(2−エチルヘキサン酸)錫(商品名:KCS−405T、城北化学工業(株)製)0.01gを縮合原料として仕込み、ヘプタン中100℃で5時間リフラックスし、反応を行った。GPC測定で分子量が42,300になった時点で加熱を中止し、反応溶液温度が50℃まで下がった時点でトリメチルエトキシシラン(商品名:KBM−31、信越化学工業(株)製)80.0gを添加し、再び85℃において2時間リフラックスしてエンドキャップ反応させた。
次いで温度を75℃に冷却してリン酸ジエチル(別名:エチルアシッドホスフェート)(商品名:JP−502、城北化学工業(株)製)0.01g(脱水縮合触媒ビス(2−エチルヘキサン酸)錫に対して100質量部に対して100質量部)を添加し20分攪拌した後30℃まで冷却した。
次いでメタノールを210g、エタノールを90g添加し20分攪拌した。12時間静置した後アルコール層を除去し、水封式真空ポンプで100Paに減圧して110℃に昇温し5時間、脱溶を行い、重量平均分子量46,700、粘度11,610mPa・sの(メタ)アクリロイル基含有ポリシロキサン樹脂(屈折率1.4757)90.0gを得た。
In a four-necked flask equipped with a Dean-Stark trap, a condenser, a stirrer, and a heating device, 21.2 g of polydimethylsiloxane containing both ends silanol groups (trade name: X-21-3114, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) , 75.0 g of silanol group-containing polymethylphenylsiloxane (trade name: X-21-3193B, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), (meth) acryloyl group obtained by converting the methoxy group of KBM-5102 into a silanol group Containing 10.0 g of silanol compound, 0.01 g of bis (2-ethylhexanoic acid) tin (trade name: KCS-405T, manufactured by Johoku Chemical Industry Co., Ltd.) as a condensation raw material, refluxed in heptane at 100 ° C. for 5 hours The reaction was performed. When the molecular weight reached 42,300 by GPC measurement, heating was stopped, and when the reaction solution temperature dropped to 50 ° C., trimethylethoxysilane (trade name: KBM-31, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) 0 g was added, and the end cap reaction was performed again by refluxing at 85 ° C. for 2 hours.
Next, the temperature was cooled to 75 ° C. and diethyl phosphate (also known as ethyl acid phosphate) (trade name: JP-502, manufactured by Johoku Chemical Co., Ltd.) 0.01 g (dehydration condensation catalyst bis (2-ethylhexanoic acid)) 100 parts by mass with respect to 100 parts by mass) was added and stirred for 20 minutes, and then cooled to 30 ° C.
Next, 210 g of methanol and 90 g of ethanol were added and stirred for 20 minutes. After standing for 12 hours, the alcohol layer was removed, the pressure was reduced to 100 Pa with a water-sealed vacuum pump, the temperature was raised to 110 ° C., desorption was performed for 5 hours, and the weight average molecular weight was 46,700, and the viscosity was 11,610 mPa · s. 90.0 g of (meth) acryloyl group-containing polysiloxane resin (refractive index: 1.4757) was obtained.

この時、ポリシロキサン樹脂の縮合原料総量(構造単位の原料シロキサン、(メタ)アクリロイル基含有シラノール化合物、エンドギャップ剤含む)に対する(メタ)アクリロイル基含有シラノール化合物の割合は、5.4質量%であった。
また、NMRの水素積分比からこの樹脂の3−アクリロキシプロピルメチルシロキサン構造単位量は、3.5質量%であった。
このポリシロキサン樹脂を用いて作製した調光フィルムの耐熱性は94%であった。
At this time, the ratio of the (meth) acryloyl group-containing silanol compound to the polysiloxane resin condensation raw material total amount (including the structural unit raw material siloxane, the (meth) acryloyl group-containing silanol compound, and the end gap agent) is 5.4% by mass. there were.
From the NMR hydrogen integration ratio, the amount of 3-acryloxypropylmethylsiloxane structural unit of this resin was 3.5% by mass.
The heat resistance of the light control film produced using this polysiloxane resin was 94%.

本発明の調光材料用ポリシロキサン樹脂の製造方法により、ポリシロキサン樹脂中に(メタ)アクリロイル基を必要量導入でき、且つポリシロキサン樹脂の重量平均分子量が制御できる。また、それを用いて作製した調光フィルムは安定した調光機能を発揮することができる。   According to the method for producing a polysiloxane resin for light modulating material of the present invention, a necessary amount of (meth) acryloyl groups can be introduced into the polysiloxane resin, and the weight average molecular weight of the polysiloxane resin can be controlled. Moreover, the light control film produced using it can exhibit the stable light control function.

1 調光層
2 樹脂マトリックス
3 液滴
4 透明導電性樹脂基材
5a 透明導電膜
5b 透明樹脂基材
6 プライマー層
7 電源
8 スイッチ
9 分散媒
10 光調整粒子
11 入射光
12 調光層を除去して露出した透明導電膜の表面
13 透明導電膜に電圧印加する導線
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Light control layer 2 Resin matrix 3 Droplet 4 Transparent conductive resin base material 5a Transparent conductive film 5b Transparent resin base material 6 Primer layer 7 Power supply 8 Switch 9 Dispersion medium 10 Light adjustment particle 11 Incident light 12 The light control layer is removed. Exposed surface 13 of transparent conductive film Conductive wire for applying voltage to transparent conductive film

Claims (7)

エネルギー線を照射することにより硬化する樹脂マトリックス原料と、光調整粒子が流動可能な状態で分散媒中に分散した光調整懸濁液と、を含有する調光材料の樹脂マトリックス原料に用いるポリシロキサン樹脂の製造方法であって、
下記工程(a)〜(b)を含むことを特徴とする調光材料用(メタ)アクリロイル基含有ポリシロキサン樹脂の製造方法。
(a)(メタ)アクリロイル基含有アルコキシシラン化合物を、酸処理して(メタ)アクリロイル基含有シラノール化合物に変換するシラノール変換工程、
(b)前記(メタ)アクリロイル基含有シラノール化合物と、シラノール基含有シロキサン系モノマー及び/又はオリゴマーと、を含む縮合原料を脱水縮合して、(メタ)アクリロイル基含有ポリシロキサン樹脂を得る脱水縮合工程。
A polysiloxane used as a resin matrix material for a light control material, comprising: a resin matrix material that is cured by irradiation with energy rays; and a light control suspension that is dispersed in a dispersion medium so that the light control particles can flow. A resin manufacturing method comprising:
The manufacturing method of the (siloxane) group containing polysiloxane resin for light control materials characterized by including the following process (a)-(b).
(A) a silanol conversion step of converting a (meth) acryloyl group-containing alkoxysilane compound into an (meth) acryloyl group-containing silanol compound by acid treatment;
(B) Dehydration condensation step of dehydrating and condensing a condensation material containing the (meth) acryloyl group-containing silanol compound and a silanol group-containing siloxane monomer and / or oligomer to obtain a (meth) acryloyl group-containing polysiloxane resin. .
前記(b)脱水縮合工程において、前記(メタ)アクリロイル基含有シラノール化合物が、前記縮合原料総量の2.0〜8.0質量%である請求項1に記載の調光材料用(メタ)アクリロイル基含有ポリシロキサン樹脂の製造方法。   2. The (meth) acryloyl for light control material according to claim 1, wherein in the (b) dehydration condensation step, the (meth) acryloyl group-containing silanol compound is 2.0 to 8.0 mass% of the total amount of the condensation raw materials. A method for producing a group-containing polysiloxane resin. 前記(メタ)アクリロイル基含有アルコキシシラン化合物が、(3−アクリロキシプロピル)メチルジメトキシシラン、(3−メタクリロキシプロピル)メチルジメトキシシラン及び(3−メタクリロキシプロピル)メチルジエトキシシランからなる群から選ばれる1種以上であり、
前記シラノール基含有シロキサン系モノマー及び/又はオリゴマーが、両末端シラノール基含有ポリジメチルシロキサン、両末端シラノール基含有ポリジフェニルシロキサン及び両末端シラノール基含有ポリメチルフェニルシロキサンからなる群から選ばれる2種以上である、請求項1又は2に記載の調光材料用(メタ)アクリロイル基含有ポリシロキサン樹脂の製造方法。
The (meth) acryloyl group-containing alkoxysilane compound is selected from the group consisting of (3-acryloxypropyl) methyldimethoxysilane, (3-methacryloxypropyl) methyldimethoxysilane, and (3-methacryloxypropyl) methyldiethoxysilane. One or more
The silanol group-containing siloxane monomer and / or oligomer is at least two selected from the group consisting of both-end silanol group-containing polydimethylsiloxane, both-end silanol group-containing polydiphenylsiloxane, and both-end silanol group-containing polymethylphenylsiloxane. The manufacturing method of the (meth) acryloyl group containing polysiloxane resin for light modulation materials of Claim 1 or 2.
請求項1〜3のいずれか一項に記載の製造方法により得られる(メタ)アクリロイル基含有ポリシロキサン樹脂であって、(メタ)アクリロイル基を含有する構造単位量が、構造単位量全体の1.3〜5.0質量%である調光材料用(メタ)アクリロイル基含有ポリシロキサン樹脂。   It is a (meth) acryloyl group containing polysiloxane resin obtained by the manufacturing method as described in any one of Claims 1-3, Comprising: The structural unit amount containing a (meth) acryloyl group is 1 of the whole structural unit amount. A (meth) acryloyl group-containing polysiloxane resin for a light-modulating material, which is 3 to 5.0% by mass. 重量平均分子量が35,000〜60,000である請求項4に記載の調光材料用(メタ)アクリロイル基含有ポリシロキサン樹脂。   The (meth) acryloyl group-containing polysiloxane resin for light-modulating materials according to claim 4, having a weight average molecular weight of 35,000 to 60,000. 請求項4又は5に記載の調光材料用ポリシロキサン樹脂を含む樹脂マトリックス原料と、光調整粒子が流動可能な状態で分散媒中に分散した光調整懸濁液と、を含有する調光材料。   A light control material comprising: a resin matrix raw material comprising the polysiloxane resin for light control material according to claim 4 or 5; and a light control suspension dispersed in a dispersion medium in a state where the light control particles can flow. . 請求項6に記載の調光材料を用いて作製した調光フィルム。   The light control film produced using the light control material of Claim 6.
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