JPWO2010071152A1 - 光学用成形体及びそれを用いた導光板及び光拡散体 - Google Patents
光学用成形体及びそれを用いた導光板及び光拡散体 Download PDFInfo
- Publication number
- JPWO2010071152A1 JPWO2010071152A1 JP2010542986A JP2010542986A JPWO2010071152A1 JP WO2010071152 A1 JPWO2010071152 A1 JP WO2010071152A1 JP 2010542986 A JP2010542986 A JP 2010542986A JP 2010542986 A JP2010542986 A JP 2010542986A JP WO2010071152 A1 JPWO2010071152 A1 JP WO2010071152A1
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- styrene
- light
- styrene resin
- mass
- molded body
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims abstract description 94
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 448
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims abstract description 194
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims abstract description 194
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 claims abstract description 37
- UEXCJVNBTNXOEH-UHFFFAOYSA-N phenyl acethylene Natural products C#CC1=CC=CC=C1 UEXCJVNBTNXOEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 33
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 claims abstract description 21
- -1 phenylacetylene compound Chemical class 0.000 claims abstract description 17
- 238000000465 moulding Methods 0.000 claims abstract description 16
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 claims abstract description 8
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims description 55
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 42
- VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L Calcium carbonate Chemical compound [Ca+2].[O-]C([O-])=O VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 36
- 229910000019 calcium carbonate Inorganic materials 0.000 claims description 18
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 14
- KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N disiloxane Chemical class [SiH3]O[SiH3] KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 14
- 238000010528 free radical solution polymerization reaction Methods 0.000 claims description 7
- 229920003066 styrene-(meth)acrylic acid ester copolymer Polymers 0.000 claims description 4
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 3
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 abstract description 54
- 238000000034 method Methods 0.000 description 92
- 239000000047 product Substances 0.000 description 53
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 50
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 32
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 20
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 12
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 10
- 239000013500 performance material Substances 0.000 description 10
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 9
- 229920001890 Novodur Polymers 0.000 description 8
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 description 8
- 102100032484 Down syndrome critical region protein 8 Human genes 0.000 description 7
- 101001016533 Homo sapiens Down syndrome critical region protein 8 Proteins 0.000 description 7
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 7
- XESZUVZBAMCAEJ-UHFFFAOYSA-N 4-tert-butylcatechol Chemical compound CC(C)(C)C1=CC=C(O)C(O)=C1 XESZUVZBAMCAEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 6
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 6
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 6
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 6
- 238000001746 injection moulding Methods 0.000 description 6
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 6
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 6
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000008188 pellet Substances 0.000 description 6
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000001125 extrusion Methods 0.000 description 5
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 5
- 239000000463 material Substances 0.000 description 5
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- RGSFGYAAUTVSQA-UHFFFAOYSA-N Cyclopentane Chemical compound C1CCCC1 RGSFGYAAUTVSQA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- YNQLUTRBYVCPMQ-UHFFFAOYSA-N Ethylbenzene Chemical compound CCC1=CC=CC=C1 YNQLUTRBYVCPMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- TZCXTZWJZNENPQ-UHFFFAOYSA-L barium sulfate Chemical compound [Ba+2].[O-]S([O-])(=O)=O TZCXTZWJZNENPQ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- 239000012986 chain transfer agent Substances 0.000 description 4
- 238000005984 hydrogenation reaction Methods 0.000 description 4
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 3
- 239000004611 light stabiliser Substances 0.000 description 3
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 3
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 3
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 description 3
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 3
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 3
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 3
- VBQCFYPTKHCPGI-UHFFFAOYSA-N 1,1-bis(2-methylpentan-2-ylperoxy)cyclohexane Chemical compound CCCC(C)(C)OOC1(OOC(C)(C)CCC)CCCCC1 VBQCFYPTKHCPGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N Methyl acrylate Chemical compound COC(=O)C=C BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 2
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 2
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 2
- 230000003078 antioxidant effect Effects 0.000 description 2
- 239000002216 antistatic agent Substances 0.000 description 2
- 230000005587 bubbling Effects 0.000 description 2
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 2
- 239000012295 chemical reaction liquid Substances 0.000 description 2
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 2
- 238000006356 dehydrogenation reaction Methods 0.000 description 2
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 2
- WNAHIZMDSQCWRP-UHFFFAOYSA-N dodecane-1-thiol Chemical compound CCCCCCCCCCCCS WNAHIZMDSQCWRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 2
- 238000005227 gel permeation chromatography Methods 0.000 description 2
- DMEGYFMYUHOHGS-UHFFFAOYSA-N heptamethylene Natural products C1CCCCCC1 DMEGYFMYUHOHGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 239000000314 lubricant Substances 0.000 description 2
- FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N maleic anhydride Chemical compound O=C1OC(=O)C=C1 FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 2
- 238000010526 radical polymerization reaction Methods 0.000 description 2
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 2
- 239000013557 residual solvent Substances 0.000 description 2
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 2
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZOKCNEIWFQCSCM-UHFFFAOYSA-N (2-methyl-4-phenylpent-4-en-2-yl)benzene Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(C)(C)CC(=C)C1=CC=CC=C1 ZOKCNEIWFQCSCM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FYRCDEARNUVZRG-UHFFFAOYSA-N 1,1,5-trimethyl-3,3-bis(2-methylpentan-2-ylperoxy)cyclohexane Chemical compound CCCC(C)(C)OOC1(OOC(C)(C)CCC)CC(C)CC(C)(C)C1 FYRCDEARNUVZRG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000005206 1,2-dihydroxybenzenes Chemical class 0.000 description 1
- 150000005208 1,4-dihydroxybenzenes Chemical class 0.000 description 1
- NVZWEEGUWXZOKI-UHFFFAOYSA-N 1-ethenyl-2-methylbenzene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C=C NVZWEEGUWXZOKI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JZHGRUMIRATHIU-UHFFFAOYSA-N 1-ethenyl-3-methylbenzene Chemical compound CC1=CC=CC(C=C)=C1 JZHGRUMIRATHIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YAJYJWXEWKRTPO-UHFFFAOYSA-N 2,3,3,4,4,5-hexamethylhexane-2-thiol Chemical compound CC(C)C(C)(C)C(C)(C)C(C)(C)S YAJYJWXEWKRTPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GOXQRTZXKQZDDN-UHFFFAOYSA-N 2-Ethylhexyl acrylate Chemical compound CCCCC(CC)COC(=O)C=C GOXQRTZXKQZDDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YAQDPWONDFRAHF-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-2-(2-methylpentan-2-ylperoxy)pentane Chemical compound CCCC(C)(C)OOC(C)(C)CCC YAQDPWONDFRAHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LWZNQGJGMBRAII-UHFFFAOYSA-N 2-methylhexyl prop-2-enoate Chemical compound CCCCC(C)COC(=O)C=C LWZNQGJGMBRAII-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MUZDXNQOSGWMJJ-UHFFFAOYSA-N 2-methylprop-2-enoic acid;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.CC(=C)C(O)=O MUZDXNQOSGWMJJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JLBJTVDPSNHSKJ-UHFFFAOYSA-N 4-Methylstyrene Chemical compound CC1=CC=C(C=C)C=C1 JLBJTVDPSNHSKJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLZUEZXRPGMBCV-UHFFFAOYSA-N Butylhydroxytoluene Chemical compound CC1=CC(C(C)(C)C)=C(O)C(C(C)(C)C)=C1 NLZUEZXRPGMBCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VSCAVBFZSRRKNK-UHFFFAOYSA-M CC(C)(C)C(C=C1O)=CC=C1O.[OH-].[Na+] Chemical compound CC(C)(C)C(C=C1O)=CC=C1O.[OH-].[Na+] VSCAVBFZSRRKNK-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N Calcium Chemical compound [Ca] OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L Carbonate Chemical compound [O-]C([O-])=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acrylate Chemical compound CCOC(=O)C=C JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 1
- 229920000297 Rayon Polymers 0.000 description 1
- 241000519996 Teucrium chamaedrys Species 0.000 description 1
- 238000002835 absorbance Methods 0.000 description 1
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 125000005396 acrylic acid ester group Chemical group 0.000 description 1
- XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N alpha-Methylstyrene Chemical compound CC(=C)C1=CC=CC=C1 XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N alpha-acetylene Natural products C#C HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010539 anionic addition polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 239000012752 auxiliary agent Substances 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- MPMBRWOOISTHJV-UHFFFAOYSA-N but-1-enylbenzene Chemical compound CCC=CC1=CC=CC=C1 MPMBRWOOISTHJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N butyl acrylate Chemical compound CCCCOC(=O)C=C CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000011575 calcium Substances 0.000 description 1
- ODINCKMPIJJUCX-UHFFFAOYSA-N calcium oxide Inorganic materials [Ca]=O ODINCKMPIJJUCX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000011088 calibration curve Methods 0.000 description 1
- 238000010538 cationic polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 239000000498 cooling water Substances 0.000 description 1
- 238000012718 coordination polymerization Methods 0.000 description 1
- FWLDHHJLVGRRHD-UHFFFAOYSA-N decyl prop-2-enoate Chemical compound CCCCCCCCCCOC(=O)C=C FWLDHHJLVGRRHD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000002845 discoloration Methods 0.000 description 1
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000002534 ethynyl group Chemical group [H]C#C* 0.000 description 1
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 1
- 239000006081 fluorescent whitening agent Substances 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 1
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 1
- 238000004898 kneading Methods 0.000 description 1
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 238000000691 measurement method Methods 0.000 description 1
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 1
- 125000005397 methacrylic acid ester group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- 150000001451 organic peroxides Chemical class 0.000 description 1
- 238000005453 pelletization Methods 0.000 description 1
- PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N pent‐4‐en‐2‐one Natural products CC(=O)CC=C PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 1
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 238000002310 reflectometry Methods 0.000 description 1
- 230000011514 reflex Effects 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- 238000007493 shaping process Methods 0.000 description 1
- 238000000807 solvent casting Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 239000006228 supernatant Substances 0.000 description 1
- 238000005292 vacuum distillation Methods 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 description 1
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
- G02B1/04—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements made of organic materials, e.g. plastics
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J5/00—Manufacture of articles or shaped materials containing macromolecular substances
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F212/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by an aromatic carbocyclic ring
- C08F212/02—Monomers containing only one unsaturated aliphatic radical
- C08F212/04—Monomers containing only one unsaturated aliphatic radical containing one ring
- C08F212/06—Hydrocarbons
- C08F212/08—Styrene
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L25/00—Compositions of, homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by an aromatic carbocyclic ring; Compositions of derivatives of such polymers
- C08L25/02—Homopolymers or copolymers of hydrocarbons
- C08L25/04—Homopolymers or copolymers of styrene
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/30—Polarising elements
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/02—Diffusing elements; Afocal elements
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
- G02B6/0001—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings specially adapted for lighting devices or systems
- G02B6/0011—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings specially adapted for lighting devices or systems the light guides being planar or of plate-like form
- G02B6/0065—Manufacturing aspects; Material aspects
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
- Manufacture Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
- Optical Elements Other Than Lenses (AREA)
Abstract
Description
例えば、特許文献1では、メタクリル酸メチルとスチレン系単量体とを主成分とする共重合体からなる樹脂成形体が、また、特許文献2では、スチレン−(メタ)アクリル酸エステル系共重合樹脂からなる導光板が提案されている。また、特許文献3及び4では、芳香族ビニル系単量体とメタクリル酸メチル単量体とからなる共重合体からなる樹脂組成物が提案されている。また、特許文献5にはスチレン系重合体やスチレン系単量体−メタクリル酸メチル共重合体の多層拡散板が提案されている。
これらの問題に対し、上記のように、種々のスチレン系樹脂が提案され使用されているが、スチレン系樹脂はアクリル樹脂に比べ透明性や耐光性に劣るため、使用に制限があった。
特に、光学用成形体の中で光線透過距離が長い(以下「長光路」)用途における成形体、例えば、20インチ以上の中〜大型ディスプレイの導光板には、光透過率の低いスチレン系樹脂が使用できないという問題があった。
また、本発明の目的は、液晶ディスプレイ用の導光板や照明用の導光板または種々の光拡散体として有用である光学用成形体、特にLEDを光源とする中〜大型液晶ディスプレイ用の導光板として有用である導光板、または照明等の用途に有用である光拡散体を提供することである。
本願明細書において、「〜」という記号は「以上」及び「以下」を意味する。例えば、「A〜B」なる記載は、A以上でありB以下であることを意味する。
本明細書において、「光学用成形体」とは、例えば、導光板、拡散板、レンズ等の光学用途に用いるものを意味する。
また、本明細書においては、(メタ)アクリル酸エステル系単量体とは、アクリル酸エステル単量体及びメタクリル酸エステル単量体の総称である。
本実施形態に係る光学用成形体は、重合禁止剤が10ppm未満であり、かつ、フェニルアセチレン系化合物が50ppm以下のスチレン系単量体を重合反応させることにより得られるスチレン系樹脂を成形してなる光学用成形体である。
スチレン系樹脂は、スチレン系単量体を重合してなる重合体である。
スチレン系単量体としては、スチレン、α−メチルスチレン、p−メチルスチレン、o−メチルスチレン、m−メチルスチレン、エチルスチレン、p−t−ブチルスチレン等を挙げることができるが、好ましくはスチレンである。これらのスチレン系単量体は単独であっても二種以上混合したものであってもよい。
上記スチレン系樹脂がスチレン−(メタ)アクリル酸エステル系共重合体であることにより、耐光性が良いという効果を得ることができる。
スチレン系単量体単位の比が3質量%以上であると、光学用成形体の吸湿性が低くなり、熱安定性が良好となる。スチレン系単量体単位の比が、6質量%〜90質量%であれば、光学用成形体の吸湿性が低くなり、熱安定性が良好となるばかりか、長光路の光透過率の損失が少ないという効果を得ることができる。
(メタ)アクリル酸エステル系単量体単位の比が97質量%以下であると、光学用成形体の吸湿性が低くなり、熱安定性が良好となる。(メタ)アクリル酸エステル系単量体単位の比が10質量%〜94質量%であれば、光学用成形体の吸湿性が低くなり、熱安定性が良好となるばかりか、長光路の光透過率の損失が少ないという効果を得ることができる。
エチレン系不飽和単量体単位の比が35質量%以下であると、スチレン系樹脂の特徴である低吸湿性や成形加工性を失うことなく、耐熱性等を向上できるという効果を得ることができる。
スチレン系樹脂の分子量としては、GPC(ゲル・パーミエーション・クロマトグラフィー)にて測定されるポリスチレン換算の重量平均分子量Mwが7〜45万であることが好ましく、分子量分布(重量平均分子量Mw/数平均分子量Mn)は1.7〜2.3であることが好ましい。
Mwが7万以上であると強い成形体が得られ、45万以下であると射出成形時の加工性が良好となる。また、Mw/Mnが1.7以上であると押出成形時の加工性が良好となり、2.3以下であると強い成形体を得ることができる。なお、MwやMw/Mnは重合時の温度や重合開始剤量等で調整できる。
スチレン系樹脂の光弾性係数は、−6×10-12〜6×10-12/Paであることが好ましい。さらに好ましくは、−4×10-12〜4×10-12/Paである。
光弾性係数が−6×10-12〜6×10-12/Paの場合は、導光板とした場合に輝度ムラが少なくなり好ましい。なお、光弾性係数は、重合の際のスチレン系単量体と共重合可能な単量体の割合で調整できる。
スチレン系樹脂のメルトマスフローレイト(MFR、JIS K7210に基づき、温度200℃、荷重49Nで測定したもの)は、好ましくは0.5〜30g/10分、さらに好ましくは3〜20g/10分である。
MFRが0.5g/10分以上では射出成形性が良好であり、30g/10分以下では押し出し成形性が良好であり好ましい。MFRは、分子量、スチレン系単量体と共重合可能な単量体の種類や重合の際のその割合で調整できる。
スチレン系樹脂の形状は、ペレット形状であることが好ましい。ペレット化の方法は公知の方法が採用でき、特に限定されないが、例えば、ダイスノズルから直径が2〜5mmのストランドを溶融押出し、さらに冷却水槽に通して冷却したストランドを、長さ2〜4mmに切断することにより得られる。
なお、切粉は、例えばタイラー20メッシュの金網篩を用い、スチレン系樹脂100gを5分間篩った時の金網を通過した切粉量を計測することにより算出できる。切粉量はストランド切断条件や分級等により調整できる。
スチレン系樹脂中に残存する単量体と溶剤の合計量が1000ppm未満の場合は、成形時の臭気や長期使用における変色を少なくすることができる。残存する単量体や残溶剤は脱揮における温度や圧力条件等で調整できる。
本実施形態に係る光学用成形体は、スチレン系単量体中の重合禁止剤の含有量が10ppm未満であることを特徴とする。重合禁止剤を10ppm未満とすることで、長光路における光透過率が高くなり、耐光性が良好なものとなる。
通常、市場で入手できるスチレン系単量体には10〜30ppm程度の重合禁止剤が含まれているため、除去または減少させる必要がある。除去または減少させる方法としては、特に制限はなく、蒸留や吸着等の公知の手法が採用できる。この方法としては、減圧蒸留が好ましい。
なお、スチレン系単量体と共重合可能な単量体を共重合する場合、スチレン系単量体と共重合可能な単量体中の重合禁止剤も夫々10ppm未満とすることが好ましい。
本実施形態に係る光学用成形体は、スチレン系単量体中のフェニルアセチレン系化合物の含有量が50ppm以下であることを特徴とする。フェニルアセチレン系化合物を50ppm以下とすることで、長光路における光透過率が高くなり、耐光性が良好なものとなる。
本実施形態に係る光学用成形体に使用するスチレン系樹脂は、重合反応の中でも、特に溶液重合により得ることが好ましい。
溶剤の使用量は、使用する単量体の合計100質量部に対して、好ましくは1〜70質量部、さらに好ましくは2〜30質量部である。
溶剤の使用量が、使用する単量体の合計100質量部に対して、1〜70質量部であれば、溶液重合により重合時の粘度制御が容易であるばかりか、共重合する場合、共重合組成分布が狭くなり長光路の光透過率の損失が少ないものとなる。
ラジカル重合時に、ラジカル発生源として、有機過酸化物やアゾ化合物等公知の重合開始剤を添加することができる。
重合開始剤としては、1時間半減期温度が95〜140℃で、水素引き抜き能が低く、ベンゼン環を含まないものが好ましい。水素引き抜き能が低いものは、ミクロなゲル成分が発生しにくいため、長光路の光透過率の損失が少ないものとなる。また、ベンゼン環を含まないものは、着色成分が生成しにくく、長光路の光透過率の損失が少ないものとなる。
また、ラジカル重合時に、n−ドデシルメルカプタン、t−ドデシルメルカプタンや2、4−ジフェニル−4−メチル−1−ペンテン等の公知の連鎖移動剤を添加してもよい。
連鎖移動剤の添加量は、好ましくは単量体の合計100質量部に対して、0.001〜0.5質量部、さらに好ましくは0.005〜0.2質量部である。連鎖移動剤の添加量が0.001〜0.5質量部であると、長光路における光透過率が高くなり、耐光性が良好なものとなる。
本実施形態に係る光学用成形体に使用するスチレン系単量体及び溶剤は、溶存酸素を除去した後に重合に供することが好ましい。溶存酸素を除去する方法としては特に制限はなく、窒素ガスを使用してバブリング処理する方法等が採用できる。
溶存酸素を除去すると、成形体の色が無色で光学用途に対し、良好なものとなる場合がある。なお、スチレン系単量体と共重合可能な単量体を共重合する場合、スチレン系単量体と共重合可能な単量体の溶存酸素も除去した後に重合に供することが好ましい。
また、本実施形態に係る光学用成形体に使用するスチレン系単量体及び溶剤は、異物を除去した後に重合に供することが好ましい。異物を除去する方法としては特に制限はなく、フィルターで濾過する方法等が採用できる。
異物を除去すると、長光路の光透過率が高くなる場合がある。なお、スチレン系単量体と共重合可能な単量体を共重合する場合、スチレン系樹脂と共重合可能な単量体の異物も除去した後に重合に供することが好ましい。
成形条件には特に制限は無いが、200〜300℃で成形することが好ましい。
本実施形態に係る光学用成形体の用途としては、導光板、拡散板、レンズ等が挙げられる。特に、本実施形態に係る光学用成形体は、長光路における光透過率の損失が少なく、特に400nm以上の波長の光に対する耐光性が良好であるため、液晶ディスプレイ用の導光板や照明用の導光板として有用であり、特に、LEDを光源とする中〜大型液晶ディスプレイ用の導光板として有用である。
また、本実施形態に係る光学用成形体の用途として光拡散体である場合にも、全光線透過率(あるいは光透過率)や拡散率などの光学物性が良好なものとなる。そのため、照明など様々な用途に用いられる光拡散体として有用である。
以下、上記実施形態に係る光学用成形体、特に導光板及び光拡散体の作用効果について説明する。
スチレン系単量体を準備する工程と、スチレン系単量体に含まれる重合禁止剤を10ppm未満に減少させる工程と、スチレン系単量体に含まれるフェニルアセチレン系化合物を50ppm以下に減少させる工程と、スチレン系単量体を重合反応させてスチレン系樹脂を得る重合反応工程と、スチレン系樹脂を成形する成形工程とを含む光学用成形体の製造方法。
上記製造方法によって得られる光学用成形体は、吸湿性が低いため反りや寸法変化が少なく、長光路における光透過率の損失が少なく、耐光性が良好である。
先ず、実施例及び比較例で用いるスチレン系単量体について説明する。
(スチレン−1)
工業的なスチレンを準備したところ、重合禁止剤として4−t−ブチルカテコールが12ppm、不純物としてフェニルアセチレンが130ppm含まれていることがわかった。この工業的なスチレンを水素化触媒の存在下で水素化処理して、含有するフェニルアセチレンを選択的に水素化し、その後減圧蒸留して、4−t−ブチルカテコールが0.1ppm未満で、フェニルアセチレンが10ppm含まれるスチレン−1を得た。
(スチレン−2)
スチレン−1に4−t−ブチルカテコールを添加して、4−t−ブチルカテコールが7ppm含まれるスチレン−2を得た。
(スチレン−3)
スチレン−1に4−t−ブチルカテコールを添加して、4−t−ブチルカテコールが12ppm含まれるスチレン−3を得た。
(スチレン−4)
スチレン−1にフェニルアセチレンを添加して、フェニルアセチレンが43ppm含まれるスチレン−4を得た。
(スチレン−5)
スチレン−1にフェニルアセチレンを添加して、フェニルアセチレンが130ppm含まれるスチレン−5を得た。
(MMA−1)
次に、(メタ)アクリル酸エステル系単量体について説明する。
工業的なメタクリル酸メチルを準備したところ、重合禁止剤としてトパノールが5ppm含まれることがわかった。これを、MMA−1とする。
上記スチレン−1を52質量部、上記MMA−1を48質量部、溶剤としてエチルベンゼンを12質量部混合し、窒素で1時間バブリングして溶存酸素を除去した後、上澄みを1μmのフィルターで濾過して原料溶液とした。
そして、撹拌機を付した容積約5リットルの第一完全混合型反応器、容積約15リットルの第二完全混合型反応器、容積約40リットルの塔式プラグフロー型反応器、予熱器を付した脱揮槽を直列に接続して構成した。
原料溶液に1、1−ジ(t−ヘキシルパーオキシ)−シクロヘキサン(日本油脂社製パーヘキサHC)0.03質量部、n−ドデシルメルカプタン(花王社製チオカルコール20)0.015質量部を混合し、毎時6kgで温度95℃に制御した第一完全混合型反応器に導入した。
また、第二完全混合型反応器の攪拌機の回転速度は180rpmで実施した。第二完全混合型反応器より反応液を連続的に抜き出し、流れの方向に向かって温度125℃から160℃の勾配がつくように調整した塔式プラグフロー型反応器に導入した。
そして、この樹脂液をギアポンプで抜き出してストランド状に押出し、冷却しながら切断することによりペレット形状のスチレン系樹脂を得た。なお、ペレット中に含まれる微粉は分級により除去した。
なお、切粉は、タイラー20メッシュの金網篩を用い、スチレン系樹脂100gを5分間篩った時の金網を通過した切粉量を計測することにより算出した。
スチレン−1を40質量部、MMA−1を60質量部とした以外は実施例1と同様に行った。その結果を表1に示す。
スチレン−1を11質量部、MMA−1を89質量部とした以外は実施例1と同様に行った。その結果を表1に示す。
スチレン−1を100質量部、MMA−1を0質量部とした以外は実施例1と同様に行った。その結果を表1に示す。
スチレン−1の代わりに、スチレン−2を用いた以外は実施例1と同様に行った。その結果を表1に示す。
スチレン−1の代わりに、スチレン−4を用いた以外は実施例1と同様に行った。その結果を表1に示す。
(1)重合禁止剤(4−t−ブチルカテコール)
試料に水酸化ナトリウムを加え撹拌し、着色した液を分光光度計で吸光度を測定(波長486nm)し、あらかじめ作成しておいた検量線より濃度を算出した。
(2)残存単量体、残存溶剤、フェニルアセチレン
下記記載のGC測定条件で測定した。
装置名:島津製作所社製 GC12A FID検出器
カラム:ガラスカラム φ3mm×3m
充填剤:ポリエチレングリコール
キャリヤー:窒素
温度:カラム115℃、注入口220℃
試料ペレット0.5g、シクロペンタン0.001g、N、N−ジメチルホルムアミドを溶解させ、シクロペンタンを内部標準として測定した。
(3)吸湿性
成形したプレートを用い、JIS K7209に基づき、A法で飽和吸水率(単位:%)を求めた。1.5%未満を合格とした。
(4)Haze
成形したプレートの2mm厚み部を、JIS K7105に基づき、ヘーズメーター(日本電色工業社製NDH2000)を用いてヘーズ(単位:%)を測定した。0.3%未満を合格とした。
(5)長光路の透明性(光透過率)
成形したプレートの端面を、メガロテクニカ(株)社製ゲート加工機GCPBを用いて研磨した。日本電色工業(株)社製長光路測定機ASA−300Aを用いて、研磨した面を垂直に透過する光の透過率(単位:%)を測定した。
(6)屈折率
成形したプレートの2mm厚み部を、アッベ屈折計((株)アタゴ社製アッベ屈折計2−T)を用いて屈折率を測定した。
(7)反射率
下式を用い、(6)で測定した屈折率を用い、反射率(単位:%)を算出した。
下式を用い、(5)で測定した長光路の光透過率と、(7)で算出した反射率を用いて、透明損失率(単位:%)を算出した。なお、反射率を2倍しているのは、入光面と出光面の2面を表す。8%未満を合格とした。
IKG社製単軸押出機PMS40を用いて、シリンダー温度230℃の条件で、三菱レイヨン(株)社製PMMA VH5、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)社製紫外線吸収剤TinuvinP、クラリアントジャパン(株)社製光安定剤HostavinPR−25を99:0.5:0.5の質量比で溶融混練し、紫外光フィルター用樹脂を得た。この樹脂を電動射出成形機(株)日本製鋼所社製J350ELIIIにより、成形温度270℃で縦292.5mm、横220mm、厚さ2mmの紫外光フィルターを得た。この紫外光フィルターは、波長が400nm未満の光はほとんど透過しないことを確認した。
実施例・比較例で得たスチレン系樹脂の成形体と紫外光フィルターを重ね、アトラス社製ウエザオメータCi65Aを用いて、温度63℃、照射強度0.35W/m2(340nmにおける強度)の条件で紫外光フィルター側からキセノン光源の光を200時間照射した。すなわち、スチレン系樹脂の成形体には紫外光フィルターを透過した400nm以上の光が当たるようにした。光照射した成形体の2mm部におけるb値(単位:−)を、日本電色工業(株)社製色差計Σ80を用いて、JIS K7105に準拠して測定し、下記の式によりΔbを算出した。Δbが1未満を合格とした。
Δb=200時間照射後のb値−照射前のb値
スチレン−1を0質量部、MMA−1を100質量部とした以外は実施例1と同様に行った。その結果を表1に示す。
スチレン−1の代わりに、スチレン−3を用いた以外は実施例1と同様に行った。その結果を表1に示す。
スチレン−1の代わりに、スチレン−5を用いた以外は実施例1と同様に行った。その結果を表1に示す。
本発明に係る実施例の光学用成形体は、吸湿性が低いため反りや寸法変化が少なく、長光路における光透過率の損失が少なく、400nm以上の耐光性が良好であった。
また、比較例2では、長光路の光透過率が低く、長光路の光透過率損失が大きい。さらには、Δbの値が大きく耐光性が悪いことがわかる。これは、重合禁止剤の含有量が10ppm以上であるためだと考えられる。
また、比較例3では、長光路の透明損失が大きく、特に、Δbの値が著しく大きく耐光性が悪いことがわかる。これは、フェニルアセチレン系化合物の含有量が50ppm以上であるためだと考えられる。
また、本発明に係る光学用成形体を導光板として用いた場合、液晶ディスプレイ用の導光板や照明用の導光板として有用であり、特に、400nm以上の波長の光に対する耐光性が良好であるため、LEDを光源とする中〜大型液晶ディスプレイ用の導光板として有用である。
本発明に係る光拡散体の詳細な内容について、実施例を用いて説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。
実施例及び比較例で用いるスチレン系樹脂について説明する。
東芝機械(株)製、二軸押出機TEM−35Bを用いて、先端温度230℃の条件でスチレン系樹脂1を96質量%、光拡散剤として根本特殊化学(株)製炭酸カルシウム(製品名:ルミパールDSN−7)を4質量%の混合比となるように混練混合し、ペレット形状の樹脂組成物を得た。このペレット形状の樹脂組成物を(株)日本製鋼所製、射出成形機J140AD−180Hを用いて、シリンダー温度230℃、金型温度60℃の条件で成形し、縦90mm横90mm厚さ2mmの成形体を得た。
スチレン系樹脂としてスチレン系樹脂1、光拡散剤として積水化成品工業(株)製、架橋アクリル粒子(製品名:テクポリマーMBX−8)を用いた以外は実施例7と同様に行った。
スチレン系樹脂としてスチレン系樹脂1を98質量%、光拡散剤としてモメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ製、シロキサン樹脂粒子(製品名:トスパール120)を2質量%用いた以外は実施例7と同様に行った。
スチレン系樹脂としてスチレン系樹脂2、光拡散剤として積水化成品工業(株)製、架橋スチレン粒子(製品名:テクポリマーSBX−8)を用いた以外は実施例7と同様に行った。
スチレン系樹脂としてスチレン系樹脂2、光拡散剤として根本特殊化学(株)製炭酸カルシウム(製品名:ルミパールDSN−7)を用いた以外は実施例7と同様に行った。
スチレン系樹脂としてスチレン系樹脂2を98質量%、光拡散剤としてモメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ製、シロキサン樹脂粒子(製品名:トスパール120)を2質量%用いた以外は実施例7と同様に行った。
スチレン系樹脂としてスチレン系樹脂3、光拡散剤として積水化成品工業(株)製、架橋スチレン粒子(製品名:テクポリマーSBX−8)を用いた以外は実施例7と同様に行った。
スチレン系樹脂としてスチレン系樹脂3、光拡散剤として根本特殊化学(株)製炭酸カルシウム(製品名:ルミパールDSN−7)を用いた以外は実施例7と同様に行った。
スチレン系樹脂としてスチレン系樹脂4、光拡散剤として積水化成品工業(株)製、架橋アクリル粒子(製品名:テクポリマーMBX−8)を用いた以外は実施例7と同様に行った。
スチレン系樹脂としてスチレン系樹脂5、光拡散剤として根本特殊化学(株)製炭酸カルシウム(製品名:ルミパールDSN−7)を用いた以外は実施例7と同様に行った。
スチレン系樹脂としてスチレン系樹脂5、光拡散剤として積水化成品工業(株)製、架橋アクリル粒子(製品名:テクポリマーMBX−8)を用いた以外は実施例7と同様に行った。
スチレン系樹脂としてスチレン系樹脂5を98質量%、光拡散剤としてモメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ製、シロキサン樹脂粒子(製品名:トスパール120)を2質量%用いた以外は実施例7と同様に行った。
スチレン系樹脂としてスチレン系樹脂6、光拡散剤として積水化成品工業(株)製、架橋スチレン粒子(製品名:テクポリマーSBX−8)を用いた以外は実施例7と同様に行った。
スチレン系樹脂としてスチレン系樹脂6、光拡散剤として根本特殊化学(株)製炭酸カルシウム(製品名:ルミパールDSN−7)を用いた以外は実施例7と同様に行った。
スチレン系樹脂としてスチレン系樹脂6を98質量%、光拡散剤としてモメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ製、シロキサン樹脂粒子(製品名:トスパール120)を2質量%用いた以外は実施例7と同様に行った。
スチレン系樹脂としてスチレン系樹脂7、光拡散剤として積水化成品工業(株)製、架橋スチレン粒子(製品名:テクポリマーSBX−8)を用いた以外は実施例7と同様に行った。
スチレン系樹脂としてスチレン系樹脂7、光拡散剤として根本特殊化学(株)製炭酸カルシウム(製品名:ルミパールDSN−7)を用いた以外は実施例7と同様に行った。
スチレン系樹脂としてスチレン系樹脂8、光拡散剤として積水化成品工業(株)製、架橋アクリル粒子(製品名:テクポリマーMBX−8)を用いた以外は実施例7と同様に行った。
スチレン系樹脂としてスチレン系樹脂13、光拡散剤として根本特殊化学(株)製炭酸カルシウム(製品名:ルミパールDSN−7)を用いた以外は実施例7と同様に行った。
スチレン系樹脂としてスチレン系樹脂13、光拡散剤として積水化成品工業(株)製、架橋アクリル粒子(製品名:テクポリマーMBX−8)を用いた以外は実施例7と同様に行った。
スチレン系樹脂としてスチレン系樹脂13を98質量%、光拡散剤としてモメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ製、シロキサン樹脂粒子(製品名:トスパール120)を2質量%用いた以外は実施例7と同様に行った。
スチレン系樹脂としてスチレン系樹脂14、光拡散剤として積水化成品工業(株)製、架橋スチレン粒子(製品名:テクポリマーSBX−8)を用いた以外は実施例7と同様に行った。
スチレン系樹脂としてスチレン系樹脂14、光拡散剤として根本特殊化学(株)製炭酸カルシウム(製品名:ルミパールDSN−7)を用いた以外は実施例7と同様に行った。
スチレン系樹脂としてスチレン系樹脂14を98質量%、光拡散剤としてモメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ製、シロキサン樹脂粒子(製品名:トスパール120)を2質量%用いた以外は実施例7と同様に行った。
スチレン系樹脂としてスチレン系樹脂15、光拡散剤として積水化成品工業(株)製、架橋スチレン粒子(製品名:テクポリマーSBX−8)を用いた以外は実施例7と同様に行った。
スチレン系樹脂としてスチレン系樹脂15、光拡散剤として根本特殊化学(株)製炭酸カルシウム(製品名:ルミパールDSN−7)を用いた以外は実施例7と同様に行った。
スチレン系樹脂としてスチレン系樹脂16、光拡散剤として積水化成品工業(株)製、架橋アクリル粒子(製品名:テクポリマーMBX−8)を用いた以外は実施例7と同様に行った。
スチレン系樹脂としてスチレン系樹脂9、光拡散剤として根本特殊化学(株)製炭酸カルシウム(製品名:ルミパールDSN−7)を用いた以外は実施例7と同様に行った。
スチレン系樹脂としてスチレン系樹脂9、光拡散剤として積水化成品工業(株)製、架橋アクリル粒子(製品名:テクポリマーMBX−8)を用いた以外は実施例7と同様に行った。
スチレン系樹脂としてスチレン系樹脂9を98質量%、光拡散剤としてモメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ製、シロキサン樹脂粒子(製品名:トスパール120)を2質量%用いた以外は実施例7と同様に行った。
スチレン系樹脂としてスチレン系樹脂10、光拡散剤として積水化成品工業(株)製、架橋スチレン粒子(製品名:テクポリマーSBX−8)を用いた以外は実施例7と同様に行った。
スチレン系樹脂としてスチレン系樹脂10、光拡散剤として根本特殊化学(株)製炭酸カルシウム(製品名:ルミパールDSN−7)を用いた以外は実施例7と同様に行った。
スチレン系樹脂としてスチレン系樹脂10を98質量%、光拡散剤としてモメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ製、シロキサン樹脂粒子(製品名:トスパール120)を2質量%用いた以外は実施例7と同様に行った。
スチレン系樹脂としてスチレン系樹脂11、光拡散剤として積水化成品工業(株)製、架橋スチレン粒子(製品名:テクポリマーSBX−8)を用いた以外は実施例7と同様に行った。
スチレン系樹脂としてスチレン系樹脂11、光拡散剤として根本特殊化学(株)製炭酸カルシウム(製品名:ルミパールDSN−7)を用いた以外は実施例7と同様に行った。
スチレン系樹脂としてスチレン系樹脂12、光拡散剤として積水化成品工業(株)製、架橋アクリル粒子(製品名:テクポリマーMBX−8)を用いた以外は実施例7と同様に行った。
スチレン系樹脂としてスチレン系樹脂17、光拡散剤として根本特殊化学(株)製炭酸カルシウム(製品名:ルミパールDSN−7)を用いた以外は実施例7と同様に行った。
スチレン系樹脂としてスチレン系樹脂17、光拡散剤として積水化成品工業(株)製、架橋アクリル粒子(製品名:テクポリマーMBX−8)を用いた以外は実施例7と同様に行った。
スチレン系樹脂としてスチレン系樹脂17を98質量%、光拡散剤としてモメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ製、シロキサン樹脂粒子(製品名:トスパール120)を2質量%用いた以外は実施例7と同様に行った。
スチレン系樹脂としてスチレン系樹脂18、光拡散剤として積水化成品工業(株)製、架橋スチレン粒子(製品名:テクポリマーSBX−8)を用いた以外は実施例7と同様に行った。
スチレン系樹脂としてスチレン系樹脂18、光拡散剤として根本特殊化学(株)製炭酸カルシウム(製品名:ルミパールDSN−7)を用いた以外は実施例7と同様に行った。
スチレン系樹脂としてスチレン系樹脂18を98質量%、光拡散剤としてモメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ製、シロキサン樹脂粒子(製品名:トスパール120)を2質量%用いた以外は実施例7と同様に行った。
スチレン系樹脂としてスチレン系樹脂19、光拡散剤として積水化成品工業(株)製、架橋スチレン粒子(製品名:テクポリマーSBX−8)を用いた以外は実施例7と同様に行った。
スチレン系樹脂としてスチレン系樹脂19、光拡散剤として根本特殊化学(株)製炭酸カルシウム(製品名:ルミパールDSN−7)を用いた以外は実施例7と同様に行った。
スチレン系樹脂としてスチレン系樹脂20、光拡散剤として積水化成品工業(株)製、架橋アクリル粒子(製品名:テクポリマーMBX−8)を用いた以外は実施例7と同様に行った。
(10)全光線透過率、Haze
JIS K7105に基づき、ヘーズメーター(日本電色工業社製、NDH5000)を用いて成形体の全光線透過率及びHaze(単位:%)を測定した。
(11)拡散率
変角光度計(日本電色工業社製、GC5000L)を用いて、成形体の各角度における光透過率を測定した。特定の角度における光透過率の数値を用いて以下の式で定義される拡散率(%)を計算した(拡散率:JIS Z8113 番号04100)。
照度計(TOKYO OPTICAL製、IM−3)を用いてJIS C7612に基づき、以下に示す方法で照度測定をした。照明に取り付けた成形体からの垂直距離が1mである水平面における照度分布で、半値幅(単位:cm)を照度の分散とした。
[照度測定方法]
LED照明(東芝ライテック製、ミゼットレフ型、LEL−SL5N−F 40W)に備え付けのカバーを外し、各成形体を貼り付けた(LEDチップと成形体の距離は8mm)。これを暗所にて点灯し、30分以上放置し光源を安定させた後、所定の場所の照度を測定した。
(13)耐光性
試験品に実施例7ないし実施例33及び比較例4ないし比較例21の各成形体を用いた以外は「(9)耐光性」試験と同様に行った。
表2から表4に示される様に、本発明に係る実施例の光学用成形体は、全光線透過率や拡散率が良好であり、400nm以上の耐光性が良好であった。
また、400nm以上の波長の光に対する耐光性が良好であるため、LEDを光源として用いた光拡散体(拡散板や拡散カバーなど)としても有用である。
Claims (6)
- 重合禁止剤が10ppm未満であり、かつ、フェニルアセチレン系化合物が50ppm以下のスチレン系単量体を重合反応させることにより得られるスチレン系樹脂を成形してなる光学用成形体。
- 前記スチレン系樹脂がスチレン−(メタ)アクリル酸エステル系共重合体である請求項1に記載の光学用成形体。
- 前記重合反応がラジカル溶液重合反応である請求項1又は2に記載の光学用成形体。
- 請求項1ないし3のいずれかに記載の光学用成形体を用いた導光板。
- 請求項1ないし3のいずれかに記載の光学用成形体を用いた光拡散体。
- 架橋アクリル系粒子、架橋スチレン系粒子、シロキサン樹脂粒子、炭酸カルシウムの群から選択される少なくとも1種の光拡散剤を0.1質量%以上10質量%以下含む請求項5記載の光拡散体。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010542986A JP5597550B2 (ja) | 2008-12-17 | 2009-12-16 | 光学用成形体及びそれを用いた導光板及び光拡散体 |
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008321677 | 2008-12-17 | ||
JP2008321677 | 2008-12-17 | ||
JP2010542986A JP5597550B2 (ja) | 2008-12-17 | 2009-12-16 | 光学用成形体及びそれを用いた導光板及び光拡散体 |
PCT/JP2009/070978 WO2010071152A1 (ja) | 2008-12-17 | 2009-12-16 | 光学用成形体及びそれを用いた導光板及び光拡散体 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2010071152A1 true JPWO2010071152A1 (ja) | 2012-05-31 |
JP5597550B2 JP5597550B2 (ja) | 2014-10-01 |
Family
ID=42268823
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2010542986A Active JP5597550B2 (ja) | 2008-12-17 | 2009-12-16 | 光学用成形体及びそれを用いた導光板及び光拡散体 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5597550B2 (ja) |
KR (1) | KR101653849B1 (ja) |
CN (1) | CN102257021B (ja) |
TW (1) | TWI471341B (ja) |
WO (1) | WO2010071152A1 (ja) |
Families Citing this family (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN101891855B (zh) * | 2010-07-09 | 2013-03-20 | 哈尔滨工程大学 | 以聚乳酸为侧链的新型光学活性聚苯乙炔合成方法 |
WO2013094641A1 (ja) * | 2011-12-20 | 2013-06-27 | 東洋スチレン株式会社 | 光学用スチレン系樹脂組成物 |
TWI551613B (zh) * | 2012-04-02 | 2016-10-01 | Ps Japan股份有限公司 | 聚苯乙烯系樹脂組成物及將該組成物成形而成之導光板 |
JP6038497B2 (ja) * | 2012-06-18 | 2016-12-07 | Psジャパン株式会社 | ポリスチレン系樹脂組成物及び導光板 |
JP6166058B2 (ja) * | 2013-02-20 | 2017-07-19 | デンカ株式会社 | 導光板 |
JP6104653B2 (ja) * | 2013-03-11 | 2017-03-29 | Psジャパン株式会社 | 導光板用ポリスチレン系樹脂組成物及び導光板 |
JP6220663B2 (ja) * | 2013-12-17 | 2017-10-25 | 株式会社カネカ | 難燃性を付与した発泡性スチレン系樹脂粒子とその製造方法 |
JP6205278B2 (ja) * | 2014-01-27 | 2017-09-27 | 株式会社カネカ | 発泡性スチレン系樹脂粒子とその製造方法 |
JP6575979B2 (ja) * | 2014-07-09 | 2019-09-18 | 出光興産株式会社 | 芳香族ポリカーボネート樹脂組成物及びその成形品 |
CN107250255B (zh) * | 2015-02-12 | 2020-12-29 | 电化株式会社 | 光学用苯乙烯系树脂组合物 |
WO2021132001A1 (ja) * | 2019-12-24 | 2021-07-01 | デンカ株式会社 | 光拡散板及び直下型面光源ユニット |
MX2022011738A (es) * | 2020-04-01 | 2022-10-13 | Denka Company Ltd | Composicion optica de resina a base de estireno, placa de guia de luz y unidad de fuente de luz plana tipo luz de borde. |
Family Cites Families (18)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3632626A (en) * | 1968-06-17 | 1972-01-04 | American Cyanamid Co | Process for removing inhibitors from alkenyl monomers |
US4748222A (en) * | 1986-03-31 | 1988-05-31 | The Dow Chemical Company | Preparation of highly pure alpha-methylstyrene polymer |
AU628194B2 (en) * | 1989-07-28 | 1992-09-10 | Idemitsu Kosan Co. Ltd | Process for producing styrene polymers |
EP0417724B1 (en) * | 1989-09-14 | 1996-05-15 | The Dow Chemical Company | Coordination polymerization of styrene monomer |
JPH03234746A (ja) * | 1990-02-02 | 1991-10-18 | Dow Chem Co:The | 熱抵抗性高衝撃ポリスチレンブレンド |
JP2001342263A (ja) | 2000-03-31 | 2001-12-11 | Sumitomo Chem Co Ltd | 光学材料用樹脂成形体およびそれからなる導光板 |
JP2001316404A (ja) * | 2000-05-08 | 2001-11-13 | Asahi Kasei Corp | スチレン系樹脂の製造法 |
JP2001342208A (ja) * | 2000-06-05 | 2001-12-11 | Asahi Kasei Corp | スチレン系樹脂シート |
JP2003075648A (ja) | 2001-09-07 | 2003-03-12 | Denki Kagaku Kogyo Kk | 導光板 |
JP4130133B2 (ja) * | 2003-02-21 | 2008-08-06 | 電気化学工業株式会社 | スチレン−(メタ)アクリル酸系共重合樹脂の製造方法 |
JP2006052349A (ja) | 2004-08-13 | 2006-02-23 | Nippon A & L Kk | 低吸湿性光学用芳香族ビニル系樹脂組成物 |
JP2006052350A (ja) | 2004-08-13 | 2006-02-23 | Nippon A & L Kk | 光学特性に優れる芳香族ビニル系樹脂組成物 |
JP2006133567A (ja) * | 2004-11-08 | 2006-05-25 | Denki Kagaku Kogyo Kk | 光拡散板 |
JP2008208147A (ja) * | 2005-06-17 | 2008-09-11 | Denki Kagaku Kogyo Kk | スチレン系樹脂及びそれからなる光学用樹脂成形体 |
WO2007061041A1 (ja) * | 2005-11-28 | 2007-05-31 | Asahi Kasei Chemicals Corporation | 光学フィルム |
JP4821597B2 (ja) | 2006-01-06 | 2011-11-24 | 住友化学株式会社 | 多層光拡散板 |
EP2100918B1 (en) * | 2006-12-25 | 2012-04-11 | Mitsubishi Rayon Co. Ltd. | Fluidity improving agent, aromatic polycarbonate resin composition, and molded article thereof |
JP5415788B2 (ja) * | 2009-03-09 | 2014-02-12 | 東洋スチレン株式会社 | 導光板 |
-
2009
- 2009-12-16 KR KR1020117016492A patent/KR101653849B1/ko active IP Right Grant
- 2009-12-16 TW TW98143189A patent/TWI471341B/zh active
- 2009-12-16 CN CN200980151249XA patent/CN102257021B/zh active Active
- 2009-12-16 JP JP2010542986A patent/JP5597550B2/ja active Active
- 2009-12-16 WO PCT/JP2009/070978 patent/WO2010071152A1/ja active Application Filing
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TW201030027A (en) | 2010-08-16 |
CN102257021A (zh) | 2011-11-23 |
CN102257021B (zh) | 2013-07-17 |
TWI471341B (zh) | 2015-02-01 |
JP5597550B2 (ja) | 2014-10-01 |
WO2010071152A1 (ja) | 2010-06-24 |
KR20110105810A (ko) | 2011-09-27 |
KR101653849B1 (ko) | 2016-09-02 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5597550B2 (ja) | 光学用成形体及びそれを用いた導光板及び光拡散体 | |
KR101958719B1 (ko) | 중합용 분산제를 이용하여 제조된 가교 고분자 입자를 포함하는 광확산 수지 조성물 및 이를 포함하는 광확산 성형체 | |
JP5616573B2 (ja) | 光拡散板用スチレン系樹脂組成物及びその製造方法 | |
KR102126164B1 (ko) | 스티렌계 도광판 | |
KR20190038866A (ko) | 입자들을 포함하는 (메타)아크릴계 조성물, 그 제조 방법, 그 용도 및 그것을 포함하는 오브젝트 | |
TW201007217A (en) | Resin composition and light diffusion plate with thermal resistance and impact resistance | |
JP2003276047A (ja) | ビニル脂環式炭化水素重合体組成物の成形方法及び成形体 | |
JP4361393B2 (ja) | 光学部材用メタクリル系樹脂組成物およびそれを用いた光学部材 | |
JP6151422B1 (ja) | メタクリル系樹脂組成物、及び光学部品 | |
JP2005326761A (ja) | 光学特性に優れた導光体 | |
KR101968378B1 (ko) | 열가소성 수지 | |
JP2008291250A (ja) | (メタ)アクリル酸エステル−スチレン系共重合体の製造法 | |
JPWO2011138953A1 (ja) | 熱可塑性透明樹脂組成物 | |
KR102492892B1 (ko) | 고내열성 아크릴계 공중합체 및 이를 포함하는 광확산판용 복합시트 | |
TWI723584B (zh) | 甲基丙烯酸系樹脂、甲基丙烯酸系樹脂之製造方法、甲基丙烯酸系樹脂組合物、成形體、光學零件及汽車零件 | |
JP4479894B2 (ja) | 光拡散性樹脂 | |
JP2018028043A (ja) | メタクリル系樹脂、及びメタクリル系樹脂組成物 | |
JP4360268B2 (ja) | メタクリル樹脂製導光体の製造方法 | |
JP2006052350A (ja) | 光学特性に優れる芳香族ビニル系樹脂組成物 | |
JP2016196522A (ja) | 熱可塑性透明樹脂組成物 | |
JP2005105102A (ja) | 吸湿性に優れた導光体用樹脂組成物および導光体製品 | |
JP2023119465A (ja) | 光照射ペレット及び成形体 | |
JP2003165885A (ja) | 吸湿性に優れた導光体用樹脂組成物および導光体製品 | |
JP5457617B2 (ja) | スチレン系樹脂組成物および成形体 | |
JP2020132801A (ja) | 成形体の製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20120911 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20140218 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20140805 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20140811 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5597550 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |