JPWO2010061621A1 - trans−{4−[(アルキルアミノ)メチル]シクロヘキシル}酢酸エステルの製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
また、本発明の別の課題は、trans−{4−[(アルキルアミノ)メチル]シクロヘキシル}酢酸エステルを安価な原料化合物から効率的かつ高収率に製造するために有用な新規な製造用中間体を提供することにある。
従って、別の観点からは、本発明により、上記の一般式(6)(式中のR1及びR2は上記と同義である)で表される化合物、及び上記の一般式(1)で表されるtrans−{4−[(アルキルアミノ)メチル]シクロヘキシル}酢酸エステルの製造用中間体として用いるための上記の一般式(6)で表される化合物が提供される。上記の一般式(6)で表される化合物においてR1がメチル基であることが好ましい。
上記の一般式(6)(式中のR1及びR2は上記と同義である)で表される化合物の製造方法であって、上記の一般式(3)(式中のR1は上記と同義である)で表される化合物をハロゲン化剤又は活性エステル化剤と反応させて上記の一般式(4)(式中のR1は上記と同義であり、Xはハロゲン原子又は活性エステル残基を示す)で表される化合物を製造する工程;得られた上記の一般式(4)で表される化合物をジアゾメタン又はトリメチルシリルジアゾメタンと反応させて上記の一般式(5)(式中のR1は上記と同義である)で表される化合物を製造する工程;及び得られた上記の一般式(5)(式中のR1は上記と同義である)で表される化合物を銀塩及び3級アミンの存在下にR2−OH(式中のR2は上記と同義である)で表されるアルコール化合物と反応させる工程を含む方法が本発明により提供される。
(a)トラネキサム酸(2)をアシル化して上記の一般式(3)(式中のR1は上記と同義である)で表される化合物を製造する工程;
(b)上記工程(a)で得られた上記の一般式(3)(式中のR1は上記と同義である)で表される化合物をハロゲン化剤又は活性エステル化剤と反応させて上記の一般式(4)(式中のR1は上記と同義であり、Xはハロゲン原子又は活性エステル残基を示す)で表される化合物を製造する工程;
(c)上記工程(b)で得られた上記の一般式(4)で表される化合物をジアゾメタン又はトリメチルシリルジアゾメタンと反応させて上記の一般式(5)(式中のR1は上記と同義である)で表される化合物を製造する工程;
(d)上記工程(c)で得られた上記の一般式(5)(式中のR1は上記と同義である)で表される化合物を銀塩及び3級アミンの存在下にR2−OH(式中のR2は上記と同義である)で表されるアルコール化合物と反応させて上記の一般式(6)(式中のR1及びR2は上記と同義である)で表される化合物を製造する工程;及び
(e)上記工程(d)で得られた上記の一般式(6)(式中のR1及びR2は上記と同義である)で表される化合物のアミド基を還元する工程
を含む方法、及び上記の一般式(1)(式中、R1及びR2は上記と同義である)で表されるtrans−{4−[(アルキルアミノ)メチル]シクロヘキシル}酢酸エステルの製造方法であって、上記の工程(a)ないし(e)からなる群から選ばれる1以上の工程を含む方法が提供される。
また、本発明により提供される上記の一般式(6)で表される新規化合物は、上記のtrans−{4−[(アルキルアミノ)メチル]シクロヘキシル}酢酸エステルを効率的かつ高収率に製造するために製造用中間体として有用である。
本発明において、C3-6シクロアルキル基とは環状の炭素数1−6のアルキル基を意味しており、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等が挙げられる。
本発明において、C6-10アリール基とは炭素数6−10の芳香族炭化水素基を意味し、例えば、フェニル基、ナフチル基、アズレニル基等が挙げられる。
本発明において、C7-12アラルキル基とはフェニル基が置換したC1-6アルキル基を意味しており、例えば、ベンジル基、フェネチル基、フェニルプロピル基、フェニルブチル基、フェニルペンチル基、フェニルへキシル基等が挙げられる。
本発明において、活性エステル残基とは、例えば、フェノキシ基、p−ニトロフェノキシ基、1,3,5−トリクロロフェノキシ基、ペンタフルオロフェノキシ基、2,4−ジニトロフェノキシ基、(ピリジンー2−イル)オキシ基、N−ヒドロキシスクシンイミドからのエステル残基、N−ヒドロキシピペリジンからのエステル残基、N−ヒドロキシ−5−ノルボルネン−2,3−ジカルボン酸イミドからのエステル残基、8−ヒドロキシキノリンからのエステル残基等が挙げられる。
上記に説明した具体的化合物を製造するための上記の一般式(6)で表される化合物も好ましい。
上記に説明した具体的化合物を製造するための上記の一般式(6)で表される化合物も好ましい。
(a)トラネキサム酸(2)をアシル化して上記の一般式(3)(式中のR1は上記と同義である)で表される化合物を製造する工程;
(b)上記工程(a)で得られた上記の一般式(3)(式中のR1は上記と同義である)で表される化合物をハロゲン化剤又は活性エステル化剤と反応させて上記の一般式(4)(式中のR1は上記と同義であり、Xはハロゲン原子又は活性エステル残基を示す)で表される化合物を製造する工程;
(c)上記工程(b)で得られた上記の一般式(4)で表される化合物をジアゾメタン又はトリメチルシリルジアゾメタンと反応させて上記の一般式(5)(式中のR1は上記と同義である)で表される化合物を製造する工程;
(d)上記工程(c)で得られた上記の一般式(5)(式中のR1は上記と同義である)で表される化合物を銀塩及び3級アミンの存在下にR2−OH(式中のR2は上記と同義である)で表されるアルコール化合物と反応させて上記の一般式(6)(式中のR1及びR2は上記と同義である)で表される化合物を製造する工程;及び
(e)上記工程(d)で得られた上記の一般式(6)(式中のR1及びR2は上記と同義である)で表される化合物のアミド基を還元する工程
アシル化は、例えば、酸無水物中で触媒量の硫酸の存在下に行うことができる。酸無水物としては、例えば、無水酢酸、無水プロピオン酸、無水ブタン酸、無水ペンタン酸、無水ヘキサン酸等の対称酸無水物、酢酸プロピオン酸無水物、酢酸ブタン酸無水物等の混合酸無水物を使用することができるが、対称酸無水物が好ましく、無水酢酸が特に好ましい。使用する酸無水物の量は特に限定されないが、例えば、トラネキサム酸(2)に対して、1.5〜15.0倍モル程度、好ましくは8.0〜10.0倍モル程度である。
また、本反応は、酸無水物に変えてアセチルクロリド、アセチルブロミド、プロピオニルクロリド、ブチリルクロリド等の酸ハロリド化物を用いて同様に反応処理することによっても、目的とするアミド体(3)を製造することができる。
本反応に使用するハロゲン化剤としては、例えば、オキザリルクロリド、チオニルクロリド、チオニルブロミド、四塩化炭素とトリフェニルホスフィン、四臭化炭素とトリフェニルホスフィン、シアヌル酸クロリドとトリエチルアミン等が挙げられるが、好ましくは、チオニルクロリドを用いることができる。活性エステル化剤としては、例えば、ペンタフルオロフェノール、p−ニトロフェノール等のフェノール類とDCC、WSC等の縮合剤の組合せのほか、トリエチルアミンとクロル炭酸エチル、クロル炭酸イソブチル、トリフルオロ酢酸クロリド、又はトリクロロ酢酸クロリドなどとを組み合わせてもよい。使用するハロゲン化剤又は活性エステル化剤の量は特に限定されないが、例えば該カルボン酸体(3)に対して1.0〜50.0倍モル程度、好ましくは1.5〜10.0倍モル程度である。
反応温度は通常−30〜120℃の範囲であり、好ましくは0〜50℃である。反応時間は通常1〜36時間が好ましく、3〜15時間がより好ましい。
本反応に用いられるジアゾメタン又はトリメチルシリルジアゾメタンの量は、例えば、化合物(4)に対して1.0〜10.0倍モル程度、好ましくは1.5〜5.0倍モル程度である。
本反応は溶媒中で行うことが好ましい。使用する溶媒としては、例えば、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、1,4−ジオキサン、1,3−ジオキサン、t−ブチルメチルエーテル、モノグライム、ジグライム等のエーテル系溶媒、塩化メチレン、1,2−ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素系溶媒、アセトニトリル等が挙げられる。ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、1,4−ジオキサン、1,3−ジオキサン、t−ブチルメチルエーテル、モノグライム、ジグライム等のエーテル系溶媒、アセトニトリルが好ましく、テトラヒドロフランとアセトニトリルとの組合せが特に好ましい。
反応温度は通常−35〜30℃の範囲であり、好ましくは−20〜20℃である。反応時間は通常1〜12時間が好ましく、2〜8時間がより好ましい。
本反応で使用するアルコール化合物を種々変更することにより、多様なtrans−{4−[(アルキルアミノ)メチル]シクロヘキシル}酢酸エステル(1)を製造することができる。R2OH で表されるアルコール化合物において、R2 は前記したC1-6アルキル基、C3-6シクロアルキル基、C3-6シクロアルキルC1-6アルキル基、C6-10アリール基又はC7-12アラルキル基を示すが、R2 がC1-6アルキル基であることが好ましく、R2 がエチル基であるエタノールがより好ましい。また、本反応はアルコール系溶媒単独でも進行するが、エーテル系溶媒などの不活性溶媒を組み合わせて使用することができる。このような溶媒としては、例えばエーテル、テトラヒドロフラン、1,4−ジオキサンなどが挙げられる。
反応温度は、通常−20〜120℃の範囲であり、好ましくは20〜80℃である。反応時間は通常1分〜12時間が好ましく、5分〜6時間がより好ましい。
本工程はアミド体(6)を還元反応に付してtrans−{4−[(アルキルアミノ)メチル]シクロヘキシル}酢酸エステル(1)を製造する工程である。
還元剤としては、例えば、水素化ホウ素ナトリウム、水素化シアノホウ素ナトリウム、トリアセトキシ水素化ホウ素ナトリウム、水素化ホウ素リチウム、水素化リチウムアルミニウム、ボランコンプレックス等が挙げられ、水素化ホウ素ナトリウムが好ましい。還元剤の使用量は特に限定されないが、例えば、化合物(6)1モルに対して通常約2〜約10モル程度である。
反応温度は、通常、0〜140℃であり、室温〜溶媒の沸点付近の温度が好ましい。反応時間は、通常、1〜24時間であり、3〜12時間が好ましい。
トラネキサム酸(10g, 63.6mmol)を無水酢酸(50mL)に懸濁し、この懸濁溶液に室温で濃硫酸(0.01mL)を加え、同温にて終夜攪拌した。氷冷下、水(100mL)を加え室温にて1時間攪拌し、過剰の無水酢酸を分解した。反応溶液を減圧濃縮し、さらにトルエン共沸した。得られた析出物を濾取し、エーテル洗浄後、減圧乾燥することにより、trans−{4−[(アセチルアミノ)メチル]シクロヘキシル}カルボン酸を白色固体として得た(12.46g,98%)。
trans−{4−[(アセチルアミノ)]シクロヘキシル}カルボン酸(2.0g, 10.0mmol)のトルエン懸濁溶液(10mL)に塩化チオニル(2.38g,20.0 mmol)を加え、室温にて12時間撹拌した後、減圧留去した。残渣をテトラヒドロフラン:アセトニトリル=1:1(15mL)に溶解し−15℃にて冷却下、トリメチルシリルジアゾメタン (2M エーテル溶液、10.0mL,20.0mmol)のテトラヒドロフラン:アセトニトリルの1:1溶液(15mL)を加えた後、0℃にて4時間撹拌した。反応溶液を5%クエン酸水溶液(50mL)で希釈し、クロロホルム(50mL)で抽出した。有機層を飽和重曹水及び飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧濃縮し、ジアゾケトン体(5)を淡黄色結晶として得た(2.28g)。
IR(ATR) cm-1: 3301, 2912, 2849, 1724, 1644, 1557, 1448, 1418, 1376, 1303, 1282, 1236, 1219, 1199, 1176, 1146, 1134, 1037, 747.
1H-NMR(400MHz, CDCl3) δ: 0.93-1.04(4H, m), 1.25(3H, t, J = 7.2 Hz), 1.41-1.43(1H, m), 1.72-1.80(5H, m), 1.98(3H, s), 2.18(2H, d, J = 7.2 Hz), 3.10(2H, t, J = 6.4 Hz), 4.12(2H, q, J = 7.2 Hz), 5.49(1H, br-s).
mp 74-76 ℃
元素分析:C13H23NO3として
計算値:C, 64.70;H, 9.61;N, 5.80
実測値:C, 64.69;H, 9.47;N, 5.84
trans−{4−[(アセチルアミノ)メチル]シクロヘキシル}酢酸エチル(1.19g, 4.93mmol)をテトラヒドロフラン(25mL)に溶解し、水素化ホウ素ナトリウム(932mg,24.66mmol)を加え、加熱還流下、酢酸(1.48 g、24.66mmol)のテトラヒドロフラン溶液(25mL)を1時間かけて滴下し、同温にて6時間攪拌した。反応液を氷冷撹拌下、水を滴下してクエンチした。2M水酸化ナトリウム水溶液でアルカリ性とし酢酸エチルで抽出し、有機層を水及び飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下、溶媒留去し得られたtrans−{4−[(エチルアミノ)メチル]シクロヘキシル}酢酸エチルの粗生成物をエタノール(20mL)に溶解し、4M塩酸−酢酸エチル(6mL)を加え、12時間攪拌した。反応液を酢酸エチルで希釈し、有機層を2M水酸化ナトリウム、水、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下、溶媒留去すると、目的とするtrans−{4−[(エチルアミノ)メチル]シクロヘキシル}酢酸エチルを淡褐色油状物として得た(1.12 g,99 % )。
Claims (13)
- 還元剤として水素化ホウ素ナトリウムを用いる請求項1に記載の方法。
- R1がメチル基である請求項1又は2に記載の方法。
- 請求項1に記載の一般式(6)(式中のR1及びR2は上記と同義である)で表される化合物。
- R1がメチル基である請求項4に記載の化合物。
- 請求項1に記載の一般式(1)(式中、R1は水素原子又はC1-6アルキル基を示し、R2はC1-6アルキル基、C3-6シクロアルキル基、C3-6シクロアルキルC1-6アルキル基、C6-10アリール基、又はC7-12アラルキル基を示す)で表されるtrans−{4−[(アルキルアミノ)メチル]シクロヘキシル}酢酸エステルの製造用中間体として用いる請求項4に記載の化合物。
- 請求項4又は5に記載の一般式(6)(式中のR1及びR2は上記と同義である)で表される化合物の製造方法であって、下記の一般式(3):
- 請求項4又は5に記載の一般式(6)(式中のR1及びR2は上記と同義である)で表される化合物の製造方法であって、トラネキサム酸をアシル化して請求項9に記載の一般式(3)(式中のR1は上記と同義である)で表される化合物を製造する工程;得られた一般式(3)(式中のR1は上記と同義である)で表される化合物をハロゲン化剤又は活性エステル化剤と反応させて請求項8に記載の一般式(4)(式中のR1は上記と同義であり、Xはハロゲン原子又は活性エステル残基を示す)で表される化合物を製造する工程;得られた一般式(4)で表される化合物をジアゾメタン又はトリメチルシリルジアゾメタンと反応させて請求項7に記載の一般式(5)(式中のR1は上記と同義である)で表される化合物を製造する工程;及び得られた一般式(5)(式中のR1は上記と同義である)で表される化合物を銀塩及び3級アミンの存在下にR2−OH(式中のR2は上記と同義である)で表されるアルコール化合物と反応させる工程を含む方法。
- 請求項1に記載の一般式(1)(式中、R1及びR2は上記と同義である)で表されるtrans−{4−[(アルキルアミノ)メチル]シクロヘキシル}酢酸エステルの製造方法であって、下記の工程:
(a)トラネキサム酸をアシル化して請求項8に記載の一般式(3)(式中のR1は上記と同義である)で表される化合物を製造する工程;
(b)上記工程(a)で得られた一般式(3)(式中のR1は上記と同義である)で表される化合物をハロゲン化剤又は活性エステル化剤と反応させて請求項9に記載の一般式(4)(式中のR1は上記と同義であり、Xはハロゲン原子又は活性エステル残基を示す)で表される化合物を製造する工程;
(c)上記工程(b)で得られた一般式(4)で表される化合物をジアゾメタン又はトリメチルシリルジアゾメタンと反応させて請求項7に記載の一般式(5)(式中のR1は上記と同義である)で表される化合物を製造する工程;
(d)上記工程(c)で得られた一般式(5)(式中のR1は上記と同義である)で表される化合物を銀塩及び3級アミンの存在下にR2−OH(式中のR2は上記と同義である)で表されるアルコール化合物と反応させて請求項4に記載の一般式(6)(式中のR1及びR2は上記と同義である)で表される化合物を製造する工程;及び
(e)上記工程(d)で得られた一般式(6)(式中のR1及びR2は上記と同義である)で表される化合物のアミド基を還元する工程
を含む方法。 - 請求項1に記載の一般式(1)(式中、R1及びR2は上記と同義である)で表されるtrans−{4−[(アルキルアミノ)メチル]シクロヘキシル}酢酸エステルの製造方法であって、請求項10に記載の工程(a)ないし(e)からなる群から選ばれる1以上の工程を含む方法。
- R1がメチル基である請求項11又は12に記載の方法。
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