JPWO2007023929A1 - フィルム及びその製造方法と、それを用いた偏光板及び液晶表示装置 - Google Patents
フィルム及びその製造方法と、それを用いた偏光板及び液晶表示装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JPWO2007023929A1 JPWO2007023929A1 JP2007532187A JP2007532187A JPWO2007023929A1 JP WO2007023929 A1 JPWO2007023929 A1 JP WO2007023929A1 JP 2007532187 A JP2007532187 A JP 2007532187A JP 2007532187 A JP2007532187 A JP 2007532187A JP WO2007023929 A1 JPWO2007023929 A1 JP WO2007023929A1
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- film
- polarizing plate
- refractive index
- less
- web
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/30—Polarising elements
- G02B5/3083—Birefringent or phase retarding elements
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/30—Polarising elements
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
- G02F1/133528—Polarisers
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
- G02F1/13363—Birefringent elements, e.g. for optical compensation
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Polarising Elements (AREA)
- Manufacture Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
- Moulding By Coating Moulds (AREA)
Abstract
Description
Ro=(nx−ny)×d
Rt={(nx+ny)/2−nz}×d
〔式中、nxはフィルム面内の遅相軸方向の屈折率であり、nyはフィルム面内の進相軸方向の屈折率であり、nzはフィルムの厚み方向の屈折率であり、dはフィルムの膜厚(nm)である。〕
3.前記フィルムが、偏光子の保護フィルムであることを特徴とする前記1に記載のフィルム。
2.0≦X+Y≦2.6
式(II)
0.1≦Y≦1.2
6.前記セルロースエステルに対して1質量%以上、20質量%以下の可塑剤を含有することを特徴とする前記4に記載のフィルム。
フィルム溶液を支持体上に流延してウェブを形成する流延工程と、
支持体からウェブを剥離する剥離工程と、
該ウェブを搬送する搬送工程と、
搬送されて来た前記ウェブを乾燥する乾燥工程と、
該ウェブを裁断して、所定サイズで膜厚が10μm以上、70μm以下のフィルムを形成する工程とを有し、
該搬送工程は、該ウェブのA面と対向するB面が交互に内側になるよう曲げるベンディング工程を有し、該ベンディング工程は、該ウェブを曲げた時の半径をa(mm)とした時、1/aの値が0.013mm−1以上、0.033mm−1以下とし、かつ、ベンディングを150回以上、1000回未満繰り返すことを特徴とするフィルムの製造方法。
Ro=(nx−ny)×d
Rt={(nx+ny)/2−nz}×d
〔式中、nxはフィルム面内の遅相軸方向の屈折率であり、nyはフィルム面内の進相軸方向の屈折率であり、nzはフィルムの厚み方向の屈折率であり、dはフィルムの膜厚(nm)である。〕
2 金属支持体
3 駆動ロール
4 剥離点
5 搬送ロール
6 ベンディングゾーン
7 吸気口
8 排気口
9 テンター
10 偏光膜
11、12 フィルム
13 液晶セル
本発明に係る位相差フィルム、偏光板保護フィルムについて詳細に説明する。
2.0≦X+Y≦2.6
式(II)
0.1≦Y≦1.2
更に、2.4≦X+Y≦2.6、1.4≦X≦2.3であるセルロースアセテートプロピオネート(総アシル基置換度=X+Y)が好ましい。中でも、2.4≦X+Y≦2.6、1.7≦X≦2.3、0.1≦Y≦0.9であるセルロースアセテートプロピオネート(総アシル基置換度=X+Y)が好ましい。アシル基で置換されていない部分は、通常水酸基として存在している。これらのセルロースエステルは、公知の方法で合成することができる。
フタル酸エステル系可塑剤としては、例えば、ジエチルフタレート、ジメトキシエチルフタレート、ジメチルフタレート、ジオクチルフタレート、ジブチルフタレート、ジ−2−エチルヘキシルフタレート、ブチルベンジルフタレート、ジフェニルフタレート、ジシクロヘキシルフタレート等、
トリメリット酸系可塑剤としては、例えば、トリブチルトリメリテート、トリフェニルトリメリテート、トリエチルトリメリテート等、
ピロメリット酸エステル系可塑剤としては、例えば、テトラブチルピロメリテート、テトラフェニルピロメリテート、テトラエチルピロメリテート等、
グリコレート系可塑剤としては、例えば、トリアセチン、トリブチリン、エチルフタリルエチルグリコレート、メチルフタリルエチルグリコレート、ブチルフタリルブチルグリコレート等、
クエン酸エステル系可塑剤としては、例えば、トリエチルシトレート、トリ−n−ブチルシトレート、アセチルトリエチルシトレート、アセチルトリ−n−ブチルシトレート、アセチルトリ−n−(2−エチルヘキシル)シトレート等を好ましく用いることができる。その他のカルボン酸エステルの例には、トリメチロールプロパントリベンゾエート、オレイン酸ブチル、リシノール酸メチルアセチル、セバシン酸ジブチル、種々のトリメリット酸エステルが含まれる。ポリエステル系可塑剤としては、脂肪族二塩基酸、脂環式二塩基酸、芳香族二塩基酸等の二塩基酸とグリコールの共重合ポリマーを用いることができる。脂肪族二塩基酸としては、特に限定されないが、アジピン酸、セバシン酸、フタル酸、テレフタル酸、1,4−シクロヘキシルジカルボン酸等を用いることができる。グリコールとしては、エチレングリコール、ジエチレングリコール、1,3−プロピレングリコール、1,2−プロピレングリコール、1,4−ブチレングリコール、1,3−ブチレングリコール、1,2−ブチレングリコール等を用いることができる。これらの二塩基酸及びグリコールはそれぞれ単独で用いてもよいし、二種以上混合して用いてもよい。
UV−2:2−(2′−ヒドロキシ−3′,5′−ジ−tert−ブチルフェニル)ベンゾトリアゾール
UV−3:2−(2′−ヒドロキシ−3′−tert−ブチル−5′−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール
UV−4:2−(2′−ヒドロキシ−3′,5′−ジ−tert−ブチルフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール
UV−5:2−(2′−ヒドロキシ−3′−(3″,4″,5″,6″−テトラヒドロフタルイミドメチル)−5′−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール
UV−6:2,2−メチレンビス(4−(1,1,3,3−テトラメチルブチル)−6−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)フェノール)
UV−7:2−(2′−ヒドロキシ−3′−tert−ブチル−5′−メチルフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール
UV−8:2−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−6−(直鎖及び側鎖ドデシル)−4−メチルフェノール(TINUVIN171、Ciba製)
UV−9:オクチル−3−〔3−tert−ブチル−4−ヒドロキシ−5−(クロロ−2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)フェニル〕プロピオネートと2−エチルヘキシル−3−〔3−tert−ブチル−4−ヒドロキシ−5−(5−クロロ−2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)フェニル〕プロピオネートの混合物(TINUVIN109、Ciba製)
また、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤としては下記の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されない。
UV−11:2,2′−ジヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン
UV−12:2−ヒドロキシ−4−メトキシ−5−スルホベンゾフェノン
UV−13:ビス(2−メトキシ−4−ヒドロキシ−5−ベンゾイルフェニルメタン)
本発明で好ましく用いられる紫外線吸収剤としては、透明性が高く、偏光板や液晶の劣化を防ぐ効果に優れたベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤やベンゾフェノン系紫外線吸収剤が好ましく、不要な着色がより少ないベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤が特に好ましく用いられる。
本発明に用いられる微粒子の分散液を調製する方法としては、例えば、以下に示すような3つの方法が挙げられる。
溶剤と微粒子を攪拌混合した後、分散機で分散を行う。これを微粒子分散液とする。この微粒子分散液をドープ液に加えて攪拌する。
溶剤と微粒子を攪拌混合した後、分散機で分散を行う。これを微粒子分散液とする。別に、溶剤に少量のセルローストリアセテートを加え、攪拌溶解する。これに前記微粒子分散液を加えて攪拌する。これを微粒子添加液とする。微粒子添加液をインラインミキサーでドープ液と十分混合する。
溶剤に少量のセルローストリアセテートを加え、攪拌溶解する。これに微粒子を加えて分散機で分散を行う。これを微粒子添加液とする。微粒子添加液をインラインミキサーでドープ液と十分混合する。
二酸化珪素微粒子を溶剤などと混合して分散する時の二酸化珪素の濃度は、5質量%〜30質量%が好ましく、10質量%〜25質量%が更に好ましく、15〜20質量%が最も好ましい。分散濃度は高い方が、添加量に対する液濁度は低くなる傾向があり、ヘイズ、凝集物が良化するため好ましい。
次に、本発明に係る位相差フィルム及び本発明に用いられる偏光板保護フィルムの製造方法について、その詳細に説明する。
式中、Mはウェブまたはフィルムを製造中または製造後の任意の時点で採取した試料の質量で、NはMを115℃で1時間の加熱後の質量である。
23℃、55%RHの環境下で試料(フィルム)を24時間放置し、同じ環境下にてアッベ屈折率計(1T)と分光光源を用いて、波長590nmでの位相差フィルムの表面及び裏面の平均屈折率を測定した。ここで、フィルム表面とはドープを流延する際の金属支持体とは反対の面(A面)であり、フィルム裏面とはドープを流延する際の金属支持体側の面(B面)をいう。
下記測定条件にて陽電子消滅寿命と相対強度を測定した。
陽電子線源:22NaCl(強度1.85MBq)
ガンマ線検出器:プラスチック製シンチレーター+光電子増倍管
装置時間分解能:290ps
測定温度:23℃
総カウント数:100万カウント
試料サイズ:20mm×15mmにカットした切片を20枚重ねて約2mmの厚みにした。試料は測定前に24時間真空乾燥を行った。
1チャンネルあたりの時間:23.3ps/ch
上記の測定条件に従って、陽電子消滅寿命測定を実施し、非線形最小二乗法により3成分解析して、消滅寿命の小さいものから、τ1、τ2、τ3とし、それに応じた強度をI1,I2,I3(I1+I2+I3=100%)とした。最も寿命の長い平均消滅寿命τ3から、下記式を用いて自由体積半径R3(nm)を求めた。τ3が空孔での陽電子消滅に対応し、τ3が大きいほど空孔サイズが大きいと考えられている。
ここで、0.166(nm)は空孔の壁から浸出している電子層の厚さに相当する。
更に本発明の位相差フィルム若しくは偏光板保護フィルムを作製するためには、乾燥後の熱処理工程にてフィルムに0.5kPa以上10kPa以下の圧力を厚さ方向に付与することが好ましく、例えばニップロールにより圧力を均一に加えることが好ましい。厚さ方向に圧力を付与する際は充分に乾燥が終了していることが好ましく、その際に0.5kPa以上10kPa以下の圧力をフィルム両面から加えることにより、位相差フィルムの自由体積半径を制御することができる。具体的には平行な二本のニップロールでフィルムに圧力をかける方法である。またカレンダーロールのような方法によってもよい。加圧する際の温度は105〜155℃であることが好ましい。
Ro=(nx−ny)×d
Rt={(nx+ny)/2−nz}×d
式中、nxはフィルム面内の遅相軸方向の屈折率であり、nyはフィルム面内の進相軸方向の屈折率であり、nzはフィルムの厚み方向の屈折率であり、dはフィルムの膜厚(nm)である。
本発明に用いられる偏光板保護フィルムには、機能性層としてハードコート層が設けられていることができる。
本発明に用いられる偏光板保護フィルムは、上記ハードコート層上に、機能性層として更に反射防止層を設けることが好ましい。特に中空微粒子を含有する低屈折率層であることが好ましい。
本発明に用いられる低屈折率層は、中空微粒子を含有することが好ましく、その他に珪素アルコキシド、シランカップリング剤、硬化剤等を含有することがより好ましい。
低屈折率層には、下記の中空微粒子が含有されることが好ましい。
第1工程では、予め、シリカ原料とシリカ以外の無機化合物原料のアルカリ水溶液を個別に調製するか、又は、シリカ原料とシリカ以外の無機化合物原料との混合水溶液を調製しておき、この水溶液を目的とする複合酸化物の複合割合に応じて、pH10以上のアルカリ水溶液中に攪拌しながら徐々に添加して多孔質粒子前駆体を調製する。
第2工程では、前記第1工程で得られた多孔質粒子前駆体から、シリカ以外の無機化合物(珪素と酸素以外の元素)の少なくとも一部を選択的に除去する。具体的な除去方法としては、多孔質粒子前駆体中の無機化合物を鉱酸や有機酸を用いて溶解除去したり、或いは、陽イオン交換樹脂と接触させてイオン交換除去する。
第3工程では、第2工程で調製した多孔質粒子分散液(空洞粒子の場合は空洞粒子前駆体分散液)に加水分解性の有機珪素化合物又はケイ酸液等を加えることにより、粒子の表面を加水分解性有機珪素化合物又はケイ酸液等の重合物で被覆してシリカ被覆層を形成する。
R1−Si(OR2)3
一般式(2)
Si(OR2)4
上記一般式(1)、(2)において、R1はメチル基、エチル基、ビニル基、又はアクリロイル基、メタクリロイル基、アミノ基若しくはエポキシ基を含む有機基を、R2はメチル基又はエチル基を表す。
本発明において低屈折率層塗布液の調製に用いられるアルコキシ珪素化合物(以後アルコキシシランともいう)としては、下記一般式(3)で表されるものが好ましい。
R4−nSi(OR′)n
上記一般式(3)において、R′はアルキル基であり、Rは水素原子又は1価の置換基を表し、nは3又は4を表す。
加水分解触媒としては、酸、アルカリ、有機金属、金属アルコキシド等を挙げることができるが、本発明においては硫酸、塩酸、硝酸、次亜塩素酸、ホウ酸等の無機酸或いは有機酸が好ましく、特に硝酸、酢酸などのカルボン酸、ポリアクリル酸、ベンゼンスルホン酸、パラトルエンスルホン酸、メチルスルホン酸等が好ましく、これらの内特に硝酸、酢酸、クエン酸又は酒石酸等が好ましく用いられる。上記クエン酸や酒石酸の他に、レブリン酸、ギ酸、プロピオン酸、リンゴ酸、コハク酸、メチルコハク酸、フマル酸、オキサロ酢酸、ピルビン酸、2−オキソグルタル酸、グリコール酸、D−グリセリン酸、D−グルコン酸、マロン酸、マレイン酸、シュウ酸、イソクエン酸、乳酸等も好ましく用いられる。
本発明に用いられる低屈折率層は、中空微粒子とフッ素化合物を含有することも好ましく、バインダーマトリックスとして、熱又は電離放射線により架橋する含フッ素樹脂(以下、「架橋前の含フッ素樹脂」ともいう)を含むことが好ましい。該含フッ素樹脂を含むことにより良好な防汚性反射防止フィルムを提供することができる。
低屈折率層塗布液には、更に必要に応じて、シランカップリング剤、硬化剤などの添加剤を含有させても良い。シランカップリング剤は、前記一般式(2)で表される化合物である。
低屈折率層を塗設する際の塗布液に使用する溶媒は、メタノール、エタノール、1−プロパノール、2−プロパノール、ブタノール等のアルコール類;アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類;ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類;エチレングリコール、プロピレングリコール、ヘキシレングリコール等のグリコール類;エチルセルソルブ、ブチルセルソルブ、エチルカルビトール、ブチルカルビトール、ジエチルセルソルブ、ジエチルカルビトール、プロピレングリコールモノメチルエーテル等のグリコールエーテル類;N−メチルピロリドン、ジメチルフォルムアミド、乳酸メチル、乳酸エチル、酢酸メチル、酢酸エチル、水等が挙げられ、それらを単独又は2種以上混合して使用することができる。
低屈折率層の塗布方法としては、ディッピング、スピンコート、ナイフコート、バーコート、エアードクターコート、ブレードコート、スクイズコート、リバースロールコート、グラビアロールコート、カーテンコート、スプレーコート、ダイコート等の公知の塗布方法又は公知のインクジェット法を用いることができ、連続塗布又は薄膜塗布が可能な塗布方法が好ましく用いられる。塗布量はウェット膜厚で0.1〜30μmが適当で、好ましくは0.5〜15μmである。塗布速度は10〜80m/minが好ましい。
セルロースエステルフィルム/ハードコート層/中屈折率層/低屈折率層
セルロースエステルフィルム/ハードコート層/高屈折率層/低屈折率層
セルロースエステルフィルム/ハードコート層/中屈折率層/高屈折率層/低屈折率層
セルロースエステルフィルム/帯電防止層/ハードコート層/中屈折率層/高屈折率層/低屈折率層
セルロースエステルフィルム/ハードコート層/帯電防止層/中屈折率層/高屈折率層/低屈折率層
帯電防止層/セルロースエステルフィルム/ハードコート層/中屈折率層/高屈折率層/低屈折率層
セルロースエステルフィルム/ハードコート層/高屈折率層/低屈折率層/高屈折率層/低屈折率層
(中屈折率層、高屈折率層)
中屈折率層、高屈折率層は所定の屈折率層が得られれば構成成分に特に制限はないが、下記屈折率の高い金属酸化物微粒子、バインダ等よりなることが好ましい。その他に添加剤を含有しても良い。中屈折率層の屈折率は1.55〜1.75であることが好ましく、高屈折率層の屈折率は1.75〜2.20であることが好ましい。高屈折率層及び中屈折率層の厚さは、5nm〜1μmであることが好ましく、10nm〜0.2μmであることが更に好ましく、30nm〜0.1μmであることが最も好ましい。塗布は前記低屈折率層の塗布方法と同様にして行うことができる。
金属酸化物微粒子は、特に限定されないが、例えば、二酸化チタン、酸化アルミニウム(アルミナ)、酸化ジルコニウム(ジルコニア)、酸化亜鉛、アンチモンドープ酸化スズ(ATO)、五酸化アンチモン、酸化インジウム−スズ(ITO)、酸化鉄、等を主成分として用いることができる。また、これらの混合物でもよい。二酸化チタンを用いる場合は二酸化チタンをコアとし、シェルとしてアルミナ、シリカ、ジルコニア、ATO、ITO、五酸化アンチモン等で被覆させたコア/シェル構造を持った金属酸化物粒子を用いることが光触媒活性の抑制の点で好ましい。
バインダは、塗膜の成膜性や物理特性の向上のために添加される。バインダとしては、例えば、前述の電離放射線硬化型樹脂、アクリルアミド誘導体、多官能アクリレート、アクリル樹脂又はメタクリル樹脂などを用いることができる。
その他の添加剤として金属化合物、シランカップリング剤などを添加しても良い。金属化合物、シランカップリング剤はバインダとして用いることもできる。
AnMBx−n
上記一般式(4)において、Mは金属原子、Aは加水分解可能な官能基又は加水分解可能な官能基を有する炭化水素基、Bは金属原子Mに共有結合又はイオン結合した原子団を表す。xは金属原子Mの原子価、nは2以上でx以下の整数を表す。
RmSi(OR′)n
上記一般式(5)において、Rはアルキル基(好ましくは炭素数1〜10のアルキル基)、又は、ビニル基、(メタ)アクリロイル基、エポキシ基、アミド基、スルホニル基、水酸基、カルボキシル基、アルコキシル基等の反応性基を表し、R′はアルキル基(好ましくは炭素数1〜10のアルキル基)を表し、m+nは4である。
次いで、本発明の偏光板について述べる。
本発明の偏光板を表示装置に用いることによって、種々の視認性に優れた本発明の表示装置を作製することができる。本発明の位相差フィルムは、STN、TN、OCB、HAN、VA(MVA、PVA)、IPSなどの各種駆動方式の液晶表示装置に用いることができる。好ましくはVA(MVA,PVA)型液晶表示装置である。特に画面が30型以上の大画面の液晶表示装置であっても、環境変動が少なく、画面周辺部の光漏れが低減された液晶表示装置を得ることができる。特に、本発明の位相差フィルムを用いて製造された液晶表示装置の群では、光漏れが発生する頻度を低減することができる。
《位相差フィルムの作製》
(位相差フィルム101の作製)
セルロースエステルについては、表1に示す置換度及び置換基の種類を変化させたものを用いた。
微粒子(アエロジルR972V(日本アエロジル株式会社製)) 11質量部
(一次粒子の平均径16nm、見掛け比重90g/リットル)
エタノール 89質量部
以上をディゾルバーで50分間攪拌混合した後、マントンゴーリンで分散を行った。
メチレンクロライドを入れた溶解タンクにセルロースエステルAを添加し、加熱して完全に溶解させた後、これを安積濾紙(株)製の安積濾紙No.244を使用して濾過した。濾過後のセルロースエステル溶液を充分に攪拌しながら、ここに上記微粒子分散液をゆっくりと添加した。更に、二次粒子の粒径が所定の大きさとなるようにアトライターにて分散を行った。これを日本精線(株)製のファインメットNFで濾過し、微粒子添加液を調製した。
セルロースエステルA 4質量部
微粒子分散液 11質量部
下記組成の主ドープ液を調製した。まず加圧溶解タンクにメチレンクロライドとエタノールを添加した。溶剤の入った加圧溶解タンクにセルロースエステルCを攪拌しながら投入した。これを加熱し、攪拌しながら、完全に溶解し、更に可塑剤及び紫外線吸収剤を添加、溶解させた。これを安積濾紙(株)製の安積濾紙No.244を使用して濾過し、主ドープ液を調製した。
メチレンクロライド 390質量部
エタノール 80質量部
セルロースエステルC 100質量部
可塑剤:トリメチロールプロパントリベンゾエート 5質量部
可塑剤:エチルフタリルエチルグリコレート 5.5質量部
紫外線吸収剤:チヌビン109(チバスペシャルティケミカルズ(株)製)
1質量部
紫外線吸収剤:チヌビン171(チバスペシャルティケミカルズ(株)製)
1質量部
ドープ液の組成(セルロースエステル)、雰囲気温度、搬送ロール5の径を変化させることによる曲げの半径a(mm)、曲げ回数、膜厚を表2に記載のように変更した以外は、上記と同様にして位相差フィルム102〜114を作製した。
Ro=(nx−ny)×d
Rt=((nx+ny)/2−nz)×d
(式中、nx、ny、nzはそれぞれ屈折率楕円体の主軸x、y、z方向の屈折率を表し、かつ、nx、nyはフィルム面内方向の屈折率を、nzはフィルムの厚み方向の屈折率を表す。また、nx>nyであり、dはフィルムの厚み(nm)を表す。)
アッベ屈折率計(1T)に偏光板付き接眼鏡を付け、分光光源を用いて位相差フィルムの両方の面のフィルム面内の一方向とそれに直行する方向およびフィルム面に垂直方向の屈折率を測定し、それらからの平均値より平均屈折率を求めた。また、市販のマイクロメーターを用いてフィルムの厚さを測定した。
23℃55%RHの環境で試料(フィルム)を24時間放置し、同じ環境にてアッベ屈折率計(1T)を用いて位相差フィルムの表面及び裏面の平均屈折率を測定した。ここでフィルム表面とはドープを流延する際のステンレスバンド支持体とは反対の面であり、フィルム裏面とはドープを流延する際のステンレスバンド支持体側の面をいう。
(偏光板保護フィルム201の作製)
(二酸化珪素分散液)
アエロジル972V(日本アエロジル(株)製) 12質量部
(一次粒子の平均径16nm、見掛け比重90g/リットル)
エタノール 88質量部
以上をディゾルバーで30分間撹拌混合した後、マントンゴーリンで分散を行った。二酸化珪素分散液に88質量部のメチレンクロライドを撹拌しながら投入し、ディゾルバーで30分間撹拌混合し、二酸化珪素分散希釈液を作製した。
チヌビン109(チバスペシャルティケミカルズ(株)製) 11質量部
チヌビン171(チバスペシャルティケミカルズ(株)製) 5質量部
メチレンクロライド 100質量部
以上を密閉容器に投入し、加熱し、撹拌しながら、完全に溶解し、濾過した。
セルロースエステル(リンター綿から合成されたセルローストリアセテート)
100質量部
(Mn=148000、Mw=310000、Mw/Mn=2.1、アセチル基置換度2.92)
トリメチロールプロパントリベンゾエート 5.0質量部
エチルフタリルエチルグリコレート 5.5質量部
メチレンクロライド 440質量部
エタノール 40質量部
以上を密閉容器に投入し、加熱し、撹拌しながら、完全に溶解し、安積濾紙(株)製の安積濾紙No.24を使用して濾過し、ドープ液を調製した。
平均膜厚を60μmに変更した以外は偏光板保護フィルム1の作製と同様にして、1.5m幅、平均膜厚60μmの偏光板保護フィルム202を作製した。
平均膜厚を40μmに変更した以外は偏光板保護フィルム1の作製と同様にして、1.5m幅、平均膜厚40μmの偏光板保護フィルム203を作製した。
〈偏光板の作製〉
厚さ、120μmのポリビニルアルコールフィルムを、一軸延伸(温度110℃、延伸倍率5倍)した。これをヨウ素0.075g、ヨウ化カリウム5g、水100gからなる水溶液に60秒間浸漬し、次いでヨウ化カリウム6g、ホウ酸7.5g、水100gからなる68℃の水溶液に浸漬した。これを水洗、乾燥し膜厚20μmの偏光膜を得た。
液晶パネルを以下のようにして作製し、偏光板及び液晶表示装置としての特性を評価した。
(偏光板カール)
偏光板試料から5mm×5cmの試料を切り出し、温度23℃、55%RHの恒温恒湿室にて24時間放置した後、平板上に置き、曲率スケールを用いて、試料と合致するカーブを有する曲率半径を求め、カールの大きさと取り扱い易さを下記のようにランク評価した。
◎:0〜5未満
○:5〜10未満
△:10〜30未満
×:30以上
ここで、◎、○は取り扱い易さが実用可であるが、△以下は取り扱いが極めて困難になる。
SONY製20型ディスプレイKLV−20AP2の予め貼合されていた偏光板を剥がし上記作製した偏光板1〜22を貼合する作業を各々の偏光板で10回繰り返した時の良品収率を求め、下記基準で評価した。偏光板に浮き、気泡、あるいは角度のずれが発生した場合を不良品とし、良品収率を下記の式で求めた。
◎:良品率95%以上100%
○:良品率85%以上95%未満
△:良品率70%以上85%未満
×:良品率70%未満
上記評価結果を
(反射防止層付き偏光板保護フィルムの作製)
上記作製した偏光板保護フィルム201〜203を用いて、下記手順により各々反射防止層付き偏光板保護フィルムを作製した。
各屈折率層の屈折率は、各層を単独で下記作製したハードコートフィルム上に塗設したサンプルについて、分光光度計の分光反射率の測定結果から求めた。分光光度計はU−4000型(日立製作所製)を用いて、サンプルの測定側の裏面を粗面化処理した後、黒色のスプレーで光吸収処理を行って裏面での光の反射を防止して、5度正反射の条件にて可視光領域(400nm〜700nm)の反射率の測定を行った。
使用する金属酸化物微粒子の粒径は電子顕微鏡観察(SEM)にて各々100個の微粒子を観察し、各微粒子に外接する円の直径を粒子径としてその平均値を粒径とした。
上記作製した偏光板保護フィルム201〜203上に、下記のハードコート層用塗布液を孔径0.4μmのポリプロピレン製フィルターで濾過してハードコート層塗布液を調製し、これをマイクログラビアコーターを用いて塗布し、90℃で乾燥の後、紫外線ランプを用い照射部の照度が100mW/cm2で、照射量を0.1J/cm2として塗布層を硬化させ、ドライ膜厚5μmのハードコート層を形成しハードコートフィルムを作製した。
下記材料を攪拌、混合しハードコート層塗布液とした。
イルガキュア184(チバスペシャルティケミカルズ(株)製) 20質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル 110質量部
酢酸エチル 110質量部
《反射防止層付き偏光板保護フィルムの作製》
上記作製したハードコートフィルム上に、下記のように高屈折率層、次いで、低屈折率層の順に反射防止層を塗設し、反射防止層付き偏光板保護フィルムを作製した。
上記ハードコート層の上に、下記高屈折率層塗布組成物を押し出しコーターで塗布し、80℃で1分間乾燥させ、次いで紫外線を0.1J/cm2照射して硬化させ、更に100℃で1分熱硬化させ、厚さが78nmとなるように高屈折率層を設けた。
金属酸化物微粒子のイソプロピルアルコール溶液(固形分20%、ITO粒子、粒径5nm) 55質量部
金属化合物:Ti(OBu)4(テトラ−n−ブトキシチタン) 1.3質量部
電離放射線硬化型樹脂:ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート 3.2質量部
光重合開始剤:イルガキュア184(チバスペシャルティケミカルズ(株)製)
0.8質量部
直鎖ジメチルシリコーン−EOブロックコポリマー(FZ−2207、日本ユニカー(株)製)の10%プロピレングリコールモノメチルエーテル液 1.5質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル 120質量部
イソプロピルアルコール 240質量部
メチルエチルケトン 40質量部
《反射防止層の形成:低屈折率層》
前記高屈折率層上に下記の低屈折率層塗布組成物を押出しコーターで塗布し、100℃で1分間乾燥させた後、紫外線ランプにて紫外線を0.1J/cm2照射して硬化させ、耐熱性プラスチックコアに巻き長2500mで巻き取り、次いで80℃3日間の加熱処理を行い反射防止層付き偏光板保護フィルム301〜303を作製した。
〈テトラエトキシシラン加水分解物Aの調製〉
テトラエトキシシラン289gとエタノール553gを混和し、これに0.15%酢酸水溶液157gを添加し、25℃のウォーターバス中で30時間攪拌することで加水分解物Aを調製した。
中空シリカ系微粒子分散液 30質量部
KBM503(シランカップリング剤、信越化学(株)製) 4質量部
直鎖ジメチルシリコーン−EOブロックコポリマー(FZ−2207、日本ユニカー(株)製)の10%プロピレングリコールモノメチルエーテル液 3質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル 400質量部
イソプロピルアルコール 400質量部
〈中空シリカ系微粒子分散液の調製〉
平均粒径5nm、SiO2濃度20質量%のシリカゾル100gと純水1900gの混合物を80℃に加温した。この反応母液のpHは10.5であり、同母液にSiO2として0.98質量%のケイ酸ナトリウム水溶液9000gとAl2O3として1.02質量%のアルミン酸ナトリウム水溶液9000gとを同時に添加した。その間、反応液の温度を80℃に保持した。反応液のpHは添加直後、12.5に上昇し、その後、ほとんど変化しなかった。添加終了後、反応液を室温まで冷却し、限外濾過膜で洗浄して固形分濃度20質量%のSiO2・Al2O3核粒子分散液を調製した。(工程(a))
この核粒子分散液500gに純水1700gを加えて98℃に加温し、この温度を保持しながら、ケイ酸ナトリウム水溶液を陽イオン交換樹脂で脱アルカリして得られたケイ酸液(SiO2濃度:3.5質量%)3000gを添加して第1シリカ被覆層を形成した核粒子の分散液を得た。(工程(b))
次いで、限外濾過膜で洗浄して固形分濃度13質量%になった第1シリカ被覆層を形成した核粒子分散液500gに純水1125gを加え、更に濃塩酸(35.5%)を滴下してpH1.0とし、脱アルミニウム処理を行った。次いで、pH3の塩酸水溶液10Lと純水5Lを加えながら限外濾過膜で溶解したアルミニウム塩を分離し、第1シリカ被覆層を形成した核粒子の構成成分の一部を除去したSiO2・Al2O3多孔質粒子の分散液を調製した(工程(c))。上記多孔質粒子分散液1500gと、純水500g、エタノール1,750g及び28%アンモニア水626gとの混合液を35℃に加温した後、エチルシリケート(SiO2:28質量%)104gを添加し、第1シリカ被覆層を形成した多孔質粒子の表面をエチルシリケートの加水分解重縮合物で被覆して第2シリカ被覆層を形成した。次いで、限外濾過膜を用いて溶媒をエタノールに置換した固形分濃度20質量%の中空シリカ系微粒子分散液を調製した。
実施例1の位相差フィルム101を作製する際に、更に下記加熱処理を加えた以外は同様にして下記位相差フィルム401〜403を作製した。
テンターでの延伸の後、ウェブを上下に複数配置したロールによる搬送乾燥工程で105℃の乾燥風にて乾燥させ、残留溶媒量0.3質量%まで乾燥させてフィルムを得た後、さらに得られたフィルムを110℃及び雰囲気置換率25回/時間とした雰囲気内で20分間熱処理する際に多段に設けたニップロールでフィルムの厚み方向に10kPaの圧力で加圧処理を加えた後、室温まで冷却して巻き取り、幅1.5m、かつ端部に幅1cm、高さ8μmのナーリングを有する膜厚50μmの位相差フィルム401を作製した。
〈陽電子消滅寿命法により求められる自由体積半径の測定〉
各位相差フィルムの自由体積半径を前記陽電子消滅寿命法により測定した。
Claims (23)
- 偏光板の偏光子に貼合されるフィルムであって、膜厚が10μm以上、70μm以下であり、A面と該A面と対向するB面を有し、該フィルムのA面と該A面と対向するB面との屈折率差が5×10−4以上、5×10−3以下であることを特徴とするフィルム。
- 前記フィルムが位相差フィルムであって、下記式(A)で表される波長590nmにおける面内位相差Roが30nm以上、300nm以下であり、かつ厚み方向の位相差Rtが80nm以上、400nm以下であることを特徴とする請求の範囲第1項に記載のフィルム。
式(A)
Ro=(nx−ny)×d
Rt={(nx+ny)/2−nz}×d
〔式中、nxはフィルム面内の遅相軸方向の屈折率であり、nyはフィルム面内の進相軸方向の屈折率であり、nzはフィルムの厚み方向の屈折率であり、dはフィルムの膜厚(nm)である。〕 - 前記フィルムが、偏光子の保護フィルムであることを特徴とする請求の範囲第1項に記載のフィルム。
- 前記フィルムの主成分が、セルロースエステルであることを特徴とする請求の範囲第1項乃至第3項のいずれか1項に記載のフィルム。
- 前記セルロースエステルのアセチル基の置換度をXとし、プロピオニル基またはブチリル基の置換度をYとした時、下記式(I)及び(II)を同時に満たすことを特徴とする請求の範囲第4項に記載のフィルム。
式(I)
2.0≦X+Y≦2.6
式(II)
0.1≦Y≦1.2 - 前記セルロースエステルに対して1質量%以上、20質量%以下の可塑剤を含有することを特徴とする請求の範囲第4項に記載のフィルム。
- 前記可塑剤の含有量が、3質量%以上、13質量%以下であることを特徴とする請求の範囲第6項に記載のフィルム。
- 偏光子と、該偏光子の第一面に貼合された請求の範囲第1項に記載のフィルムとを有し、該偏光板の厚みが70μm以上、140μm以下であることを特徴とする偏光板。
- 前記フィルムが膜厚d1の位相差フィルムであり、前記偏光子の第一面に対向する第二面に貼合された膜厚d2の偏光板保護フィルムを有し、前記偏光板保護フィルムと前記位相差フィルムとの膜厚比(d2/d1)が1.1以上、4.0以下であることを特徴とする請求の範囲第8項に記載の偏光板。
- 前記膜厚比(d2/d1)が、1.1以上、2.0以下であることを特徴とする請求の範囲第9項に記載の偏光板。
- 液晶セルと、該液晶セルの視認側に貼合された請求の範囲第8項に記載の偏光板とを有し、該偏光板は、該液晶セルに対し、偏光子の第一面に貼合されたフィルムを、該偏光子と該液晶セルとの間に位置するように貼合されていることを特徴とする液晶表示装置。
- 前記偏光子の第二面に、保護フィルムが貼合されていることを特徴とする請求の範囲第11項に記載の液晶表示装置。
- 前記偏光子の第二面に貼合された前記保護フィルムは、反射防止膜、帯電防止膜及びアンチグレア層から選ばれる少なくとも一つを有することを特徴とする請求の範囲第12項に記載の液晶表示装置。
- 偏光板の偏光子に貼合されるフィルムの製造方法であって、
フィルム溶液を支持体上に流延してウェブを形成する流延工程と、
支持体からウェブを剥離する剥離工程と、
該ウェブを搬送する搬送工程と、
搬送されて来た前記ウェブを乾燥する乾燥工程と、
該ウェブを裁断して、所定サイズで膜厚が10μm以上、70μm以下のフィルムを形成する工程とを有し、
該搬送工程は、該ウェブのA面と対向するB面が交互に内側になるよう曲げるベンディング工程を有し、該ベンディング工程は、該ウェブを曲げた時の半径をa(mm)とした時、1/aの値が0.013mm−1以上、0.033mm−1以下とし、かつ、ベンディングを150回以上、1000回未満繰り返すことを特徴とするフィルムの製造方法。 - 前記ウェブの前記支持体に接する面をB面とし、前記支持体に接しない面をA面とした時に、前記ベンディング工程によりA面よりB面の屈折率を高くし、その屈折率差を5×10-4以上、5×10-3以下とすることを特徴とする請求の範囲第14項に記載のフィルムの製造方法。
- 前記1/aの値が、0.017mm−1以上、0.025mm−1以下であることを特徴とする請求の範囲第14項または第15項に記載のフィルムの製造方法。
- 前記ベンディング回数が、250回以上、1000回未満であることを特徴とする請求の範囲第14項に記載のフィルムの製造方法。
- 前記ベンディング回数が、350回以上、1000回未満であることを特徴とする請求の範囲第17項に記載のフィルムの製造方法。
- 前記ベンディング工程における雰囲気温度は、前記ウェブの構成材料のガラス転移温度±30℃であることを特徴とする請求の範囲第14項に記載のフィルムの製造方法。
- 前記ベンディング工程における雰囲気温度は、前記ウェブの構成材料のガラス転移温度±20℃であることを特徴とする請求の範囲第14項に記載のフィルムの製造方法。
- 前記ベンディング工程における雰囲気は、少なくとも不活性ガスにより構成されていることを特徴とする請求の範囲第14項に記載のフィルムの製造方法。
- 前記ベンディング工程における搬送速度は、10m/分以上、150m/分以下であることを特徴とする請求の範囲第14項に記載のフィルムの製造方法。
- 搬送されて来た前記ウェブの乾燥工程の前に延伸する延伸工程を有し、前記フィルムが位相差フィルムであって、下記式(A)で表される波長590nmにおける面内位相差Roが30nm以上、300nm以下であり、かつ厚み方向の位相差Rtが80nm以上、400nm以下であることを特徴とする請求の範囲第14項に記載のフィルムの製造方法。
式(A)
Ro=(nx−ny)×d
Rt={(nx+ny)/2−nz}×d
〔式中、nxはフィルム面内の遅相軸方向の屈折率であり、nyはフィルム面内の進相軸方向の屈折率であり、nzはフィルムの厚み方向の屈折率であり、dはフィルムの膜厚(nm)である。〕
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007532187A JP4962316B2 (ja) | 2005-08-26 | 2006-08-25 | フィルム及びその製造方法と、それを用いた偏光板及び液晶表示装置 |
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005245741 | 2005-08-26 | ||
JP2005245741 | 2005-08-26 | ||
PCT/JP2006/316672 WO2007023929A1 (ja) | 2005-08-26 | 2006-08-25 | フィルム及びその製造方法と、それを用いた偏光板及び液晶表示装置 |
JP2007532187A JP4962316B2 (ja) | 2005-08-26 | 2006-08-25 | フィルム及びその製造方法と、それを用いた偏光板及び液晶表示装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2007023929A1 true JPWO2007023929A1 (ja) | 2009-02-26 |
JP4962316B2 JP4962316B2 (ja) | 2012-06-27 |
Family
ID=37771667
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007532187A Active JP4962316B2 (ja) | 2005-08-26 | 2006-08-25 | フィルム及びその製造方法と、それを用いた偏光板及び液晶表示装置 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7466377B2 (ja) |
JP (1) | JP4962316B2 (ja) |
KR (1) | KR101222363B1 (ja) |
CN (1) | CN100590464C (ja) |
TW (1) | TWI422913B (ja) |
WO (1) | WO2007023929A1 (ja) |
Families Citing this family (90)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US11026768B2 (en) | 1998-10-08 | 2021-06-08 | Align Technology, Inc. | Dental appliance reinforcement |
US9492245B2 (en) | 2004-02-27 | 2016-11-15 | Align Technology, Inc. | Method and system for providing dynamic orthodontic assessment and treatment profiles |
US7466377B2 (en) * | 2005-08-26 | 2008-12-16 | Konica Minolta Opto, Inc. | Retardation film, manufacturing method thereof, polarizing plate and liquid crystal display apparatus |
EP1873126A1 (en) * | 2006-02-22 | 2008-01-02 | Central Glass Co., Ltd. | Anti-Glare Glass Substrate |
JP2008224744A (ja) * | 2007-03-08 | 2008-09-25 | Furukawa Electric Co Ltd:The | 光ファイバ心線 |
US7878805B2 (en) | 2007-05-25 | 2011-02-01 | Align Technology, Inc. | Tabbed dental appliance |
FR2919878A1 (fr) * | 2007-08-08 | 2009-02-13 | Rhodia Poliamida E Especialidades Ltda | Procede de filage pour la production de fils synthetiques a filaments continus |
US8738394B2 (en) | 2007-11-08 | 2014-05-27 | Eric E. Kuo | Clinical data file |
WO2009069469A1 (ja) * | 2007-11-27 | 2009-06-04 | Zeon Corporation | 延伸フィルム、その製造方法、及び液晶表示装置 |
US8108189B2 (en) | 2008-03-25 | 2012-01-31 | Align Technologies, Inc. | Reconstruction of non-visible part of tooth |
US9492243B2 (en) | 2008-05-23 | 2016-11-15 | Align Technology, Inc. | Dental implant positioning |
US8092215B2 (en) | 2008-05-23 | 2012-01-10 | Align Technology, Inc. | Smile designer |
US8172569B2 (en) | 2008-06-12 | 2012-05-08 | Align Technology, Inc. | Dental appliance |
US8152518B2 (en) | 2008-10-08 | 2012-04-10 | Align Technology, Inc. | Dental positioning appliance having metallic portion |
JP5428045B2 (ja) * | 2009-03-19 | 2014-02-26 | コニカミノルタ株式会社 | 液晶表示装置 |
US8292617B2 (en) | 2009-03-19 | 2012-10-23 | Align Technology, Inc. | Dental wire attachment |
US8765031B2 (en) | 2009-08-13 | 2014-07-01 | Align Technology, Inc. | Method of forming a dental appliance |
JP4888853B2 (ja) | 2009-11-12 | 2012-02-29 | 学校法人慶應義塾 | 液晶表示装置の視認性改善方法、及びそれを用いた液晶表示装置 |
US8319299B2 (en) * | 2009-11-20 | 2012-11-27 | Auman Brian C | Thin film transistor compositions, and methods relating thereto |
WO2011093799A1 (en) * | 2010-01-28 | 2011-08-04 | Agency For Science, Technology And Research | A nano-composite |
US9211166B2 (en) | 2010-04-30 | 2015-12-15 | Align Technology, Inc. | Individualized orthodontic treatment index |
US9241774B2 (en) | 2010-04-30 | 2016-01-26 | Align Technology, Inc. | Patterned dental positioning appliance |
WO2011162198A1 (ja) * | 2010-06-22 | 2011-12-29 | 東洋紡績株式会社 | 液晶表示装置、偏光板および偏光子保護フィルム |
US9273195B2 (en) | 2010-06-29 | 2016-03-01 | Eastman Chemical Company | Tires comprising cellulose ester/elastomer compositions |
US20110319530A1 (en) | 2010-06-29 | 2011-12-29 | Eastman Chemical Company | Processes for making cellulose estate/elastomer compositions |
KR101713277B1 (ko) * | 2010-08-13 | 2017-03-08 | 삼성전자주식회사 | 반사 방지 필름 및 상기 반사 방지 필름을 채용한 접이식 디스플레이 장치 |
TWI405664B (zh) | 2010-12-22 | 2013-08-21 | Ind Tech Res Inst | 有機/無機混成薄膜及其製造方法 |
TWI551919B (zh) | 2011-05-18 | 2016-10-01 | 東洋紡績股份有限公司 | 液晶顯示裝置 |
EP2711765B1 (en) | 2011-05-18 | 2018-07-04 | Toyobo Co., Ltd. | Liquid crystal display device, use of polarizer, use of protective film |
US9128321B2 (en) * | 2011-07-21 | 2015-09-08 | Fujifilm Corporation | Polarizing plate and TN-type liquid crystal display including the same |
US9403238B2 (en) | 2011-09-21 | 2016-08-02 | Align Technology, Inc. | Laser cutting |
US9708473B2 (en) | 2011-12-07 | 2017-07-18 | Eastman Chemical Company | Cellulose esters in pneumatic tires |
JP5051328B1 (ja) | 2012-01-27 | 2012-10-17 | 大日本印刷株式会社 | 光学積層体、偏光板及び画像表示装置 |
US9375300B2 (en) | 2012-02-02 | 2016-06-28 | Align Technology, Inc. | Identifying forces on a tooth |
US9220580B2 (en) | 2012-03-01 | 2015-12-29 | Align Technology, Inc. | Determining a dental treatment difficulty |
WO2013133064A1 (ja) * | 2012-03-07 | 2013-09-12 | 東レ株式会社 | 光学位相差板用ポリエステルフィルムロールおよびその製造方法 |
US9414897B2 (en) | 2012-05-22 | 2016-08-16 | Align Technology, Inc. | Adjustment of tooth position in a virtual dental model |
KR102176450B1 (ko) * | 2013-04-11 | 2020-11-09 | 스미또모 가가꾸 가부시키가이샤 | 광학 이방층 형성용 조성물 |
US10658554B2 (en) * | 2014-06-19 | 2020-05-19 | Inkron Oy | LED lamp with siloxane particle material |
US10772506B2 (en) | 2014-07-07 | 2020-09-15 | Align Technology, Inc. | Apparatus for dental confocal imaging |
US9693839B2 (en) * | 2014-07-17 | 2017-07-04 | Align Technology, Inc. | Probe head and apparatus for intraoral confocal imaging using polarization-retarding coatings |
US9675430B2 (en) | 2014-08-15 | 2017-06-13 | Align Technology, Inc. | Confocal imaging apparatus with curved focal surface |
US9610141B2 (en) | 2014-09-19 | 2017-04-04 | Align Technology, Inc. | Arch expanding appliance |
US10449016B2 (en) | 2014-09-19 | 2019-10-22 | Align Technology, Inc. | Arch adjustment appliance |
US9744001B2 (en) | 2014-11-13 | 2017-08-29 | Align Technology, Inc. | Dental appliance with cavity for an unerupted or erupting tooth |
US10504386B2 (en) | 2015-01-27 | 2019-12-10 | Align Technology, Inc. | Training method and system for oral-cavity-imaging-and-modeling equipment |
US10248883B2 (en) | 2015-08-20 | 2019-04-02 | Align Technology, Inc. | Photograph-based assessment of dental treatments and procedures |
US11554000B2 (en) | 2015-11-12 | 2023-01-17 | Align Technology, Inc. | Dental attachment formation structure |
US11931222B2 (en) | 2015-11-12 | 2024-03-19 | Align Technology, Inc. | Dental attachment formation structures |
US11596502B2 (en) | 2015-12-09 | 2023-03-07 | Align Technology, Inc. | Dental attachment placement structure |
US11103330B2 (en) | 2015-12-09 | 2021-08-31 | Align Technology, Inc. | Dental attachment placement structure |
US10077343B2 (en) | 2016-01-21 | 2018-09-18 | Eastman Chemical Company | Process to produce elastomeric compositions comprising cellulose ester additives |
EP3988048B1 (en) | 2016-06-17 | 2024-01-17 | Align Technology, Inc. | Orthodontic appliance performance monitor |
US10470847B2 (en) | 2016-06-17 | 2019-11-12 | Align Technology, Inc. | Intraoral appliances with sensing |
KR102595753B1 (ko) | 2016-07-27 | 2023-10-30 | 얼라인 테크널러지, 인크. | 치아 진단 기능이 있는 구강 내 스캐너 |
US10507087B2 (en) | 2016-07-27 | 2019-12-17 | Align Technology, Inc. | Methods and apparatuses for forming a three-dimensional volumetric model of a subject's teeth |
DE102016120377A1 (de) * | 2016-10-25 | 2018-04-26 | Anton Paar Optotec Gmbh | Refraktometer und Verfahren zur Ermittlung dynamischer Eigenschaften einer Probe |
KR102425494B1 (ko) | 2017-07-27 | 2022-07-26 | 에스케이씨 주식회사 | 편광판 보호필름 |
KR101985466B1 (ko) | 2017-07-27 | 2019-06-03 | 에스케이씨 주식회사 | 편광판 보호필름 및 이의 제조방법 |
CN117257492A (zh) | 2016-11-04 | 2023-12-22 | 阿莱恩技术有限公司 | 用于牙齿图像的方法和装置 |
PL3547952T3 (pl) | 2016-12-02 | 2021-05-31 | Align Technology, Inc. | Ekspander podniebienny |
US11376101B2 (en) | 2016-12-02 | 2022-07-05 | Align Technology, Inc. | Force control, stop mechanism, regulating structure of removable arch adjustment appliance |
WO2018102702A1 (en) | 2016-12-02 | 2018-06-07 | Align Technology, Inc. | Dental appliance features for speech enhancement |
WO2018102811A1 (en) | 2016-12-02 | 2018-06-07 | Align Technology, Inc. | Methods and apparatuses for customizing rapid palatal expanders using digital models |
US10548700B2 (en) | 2016-12-16 | 2020-02-04 | Align Technology, Inc. | Dental appliance etch template |
US10456043B2 (en) | 2017-01-12 | 2019-10-29 | Align Technology, Inc. | Compact confocal dental scanning apparatus |
US10779718B2 (en) | 2017-02-13 | 2020-09-22 | Align Technology, Inc. | Cheek retractor and mobile device holder |
US10613515B2 (en) | 2017-03-31 | 2020-04-07 | Align Technology, Inc. | Orthodontic appliances including at least partially un-erupted teeth and method of forming them |
US11045283B2 (en) | 2017-06-09 | 2021-06-29 | Align Technology, Inc. | Palatal expander with skeletal anchorage devices |
US11996181B2 (en) | 2017-06-16 | 2024-05-28 | Align Technology, Inc. | Automatic detection of tooth type and eruption status |
WO2019005808A1 (en) | 2017-06-26 | 2019-01-03 | Align Technology, Inc. | BIOCAPTOR PERFORMANCE INDICATOR FOR INTRABUCCAL DEVICES |
US10885521B2 (en) | 2017-07-17 | 2021-01-05 | Align Technology, Inc. | Method and apparatuses for interactive ordering of dental aligners |
WO2019018784A1 (en) | 2017-07-21 | 2019-01-24 | Align Technology, Inc. | ANCHOR OF CONTOUR PALATIN |
CN116327391A (zh) | 2017-07-27 | 2023-06-27 | 阿莱恩技术有限公司 | 用于通过光学相干断层扫描术来处理正畸矫正器的系统和方法 |
US11633268B2 (en) | 2017-07-27 | 2023-04-25 | Align Technology, Inc. | Tooth shading, transparency and glazing |
US11116605B2 (en) | 2017-08-15 | 2021-09-14 | Align Technology, Inc. | Buccal corridor assessment and computation |
US11123156B2 (en) | 2017-08-17 | 2021-09-21 | Align Technology, Inc. | Dental appliance compliance monitoring |
US10813720B2 (en) | 2017-10-05 | 2020-10-27 | Align Technology, Inc. | Interproximal reduction templates |
KR101934448B1 (ko) | 2017-10-17 | 2019-01-02 | 에스케이씨 주식회사 | 편광판용 보호필름 및 이를 포함하는 액정표시장치 |
EP3700458B1 (en) | 2017-10-27 | 2023-06-07 | Align Technology, Inc. | Alternative bite adjustment structures |
CN111295153B (zh) | 2017-10-31 | 2023-06-16 | 阿莱恩技术有限公司 | 具有选择性牙合负荷和受控牙尖交错的牙科器具 |
CN115252177A (zh) | 2017-11-01 | 2022-11-01 | 阿莱恩技术有限公司 | 自动治疗规划 |
US11534974B2 (en) | 2017-11-17 | 2022-12-27 | Align Technology, Inc. | Customized fabrication of orthodontic retainers based on patient anatomy |
CN111417357B (zh) | 2017-11-30 | 2022-07-26 | 阿莱恩技术有限公司 | 用于监测口腔矫治器的传感器 |
US11432908B2 (en) | 2017-12-15 | 2022-09-06 | Align Technology, Inc. | Closed loop adaptive orthodontic treatment methods and apparatuses |
US10980613B2 (en) | 2017-12-29 | 2021-04-20 | Align Technology, Inc. | Augmented reality enhancements for dental practitioners |
US10813727B2 (en) | 2018-01-26 | 2020-10-27 | Align Technology, Inc. | Diagnostic intraoral tracking |
US11937991B2 (en) | 2018-03-27 | 2024-03-26 | Align Technology, Inc. | Dental attachment placement structure |
CN116211501A (zh) | 2018-04-11 | 2023-06-06 | 阿莱恩技术有限公司 | 腭扩张器、腭扩张器设备及系统、腭扩张器的形成方法 |
KR102092879B1 (ko) | 2018-04-26 | 2020-03-24 | 에스케이씨 주식회사 | 편광판용 보호필름 및 이의 제조방법 |
Family Cites Families (17)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3129162C2 (de) * | 1980-07-31 | 1983-10-20 | Nitto Electric Industrial Co., Ltd., Ibaraki, Osaka | Polarisierender Film |
US6778242B1 (en) * | 1997-10-20 | 2004-08-17 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Optical compensatory sheet comprising cellulose acetate support and optically anisotropic layer, an ellipsoidal polarizing plate, and a liquid crystal display |
KR100769779B1 (ko) * | 2000-01-13 | 2007-10-24 | 닛토덴코 가부시키가이샤 | 광학 필름 및 액정 디스플레이 장치 |
JP4609962B2 (ja) * | 2000-02-02 | 2011-01-12 | 日東電工株式会社 | 光学フィルム |
JP2002071949A (ja) * | 2000-09-01 | 2002-03-12 | Fuji Photo Film Co Ltd | 光学補償シート、偏光板およびそれを用いた液晶表示装置 |
JP3942436B2 (ja) * | 2001-07-19 | 2007-07-11 | 日東電工株式会社 | 偏光板およびその製造方法、偏光板用保護フィルム、偏光板を用いた光学フイルムならびに画像表示装置 |
JP2003262725A (ja) * | 2002-03-08 | 2003-09-19 | Fuji Photo Film Co Ltd | 偏光板保護フイルム及び偏光板 |
JP4363005B2 (ja) * | 2002-07-02 | 2009-11-11 | コニカミノルタホールディングス株式会社 | 液晶表示装置、光学補償シート、偏光板 |
JP2004206038A (ja) * | 2002-11-06 | 2004-07-22 | Konica Minolta Holdings Inc | 光学補償フィルム、視野角補償偏光板及び液晶表示装置 |
JP2004184809A (ja) * | 2002-12-05 | 2004-07-02 | Nitto Denko Corp | 偏光板の製造方法、偏光板およびそれを用いた画像表示装置 |
CN100470334C (zh) * | 2003-03-28 | 2009-03-18 | 富士胶片株式会社 | 液晶显示装置 |
JP2005062262A (ja) * | 2003-08-19 | 2005-03-10 | Tosoh Corp | 偏光板 |
JP2005134521A (ja) * | 2003-10-29 | 2005-05-26 | Nippon Kayaku Co Ltd | 光学素子 |
JP2005148519A (ja) * | 2003-11-18 | 2005-06-09 | Konica Minolta Opto Inc | 偏光板及び表示装置 |
JP2005284246A (ja) * | 2004-03-04 | 2005-10-13 | Fuji Photo Film Co Ltd | 偏光板及びその製造方法 |
WO2006001527A1 (en) * | 2004-06-29 | 2006-01-05 | Fujifilm Corporation | Optical cellulose acylate film, polarizing plate and liquid crystal display |
US7466377B2 (en) * | 2005-08-26 | 2008-12-16 | Konica Minolta Opto, Inc. | Retardation film, manufacturing method thereof, polarizing plate and liquid crystal display apparatus |
-
2006
- 2006-08-23 US US11/508,233 patent/US7466377B2/en active Active
- 2006-08-23 TW TW095130995A patent/TWI422913B/zh not_active IP Right Cessation
- 2006-08-25 WO PCT/JP2006/316672 patent/WO2007023929A1/ja active Application Filing
- 2006-08-25 JP JP2007532187A patent/JP4962316B2/ja active Active
- 2006-08-25 CN CN200680030420A patent/CN100590464C/zh active Active
- 2006-08-25 KR KR1020087004335A patent/KR101222363B1/ko not_active IP Right Cessation
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20070046865A1 (en) | 2007-03-01 |
KR20080045151A (ko) | 2008-05-22 |
WO2007023929A1 (ja) | 2007-03-01 |
CN100590464C (zh) | 2010-02-17 |
TW200727020A (en) | 2007-07-16 |
US7466377B2 (en) | 2008-12-16 |
CN101243338A (zh) | 2008-08-13 |
JP4962316B2 (ja) | 2012-06-27 |
TWI422913B (zh) | 2014-01-11 |
KR101222363B1 (ko) | 2013-01-15 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4962316B2 (ja) | フィルム及びその製造方法と、それを用いた偏光板及び液晶表示装置 | |
JP4736562B2 (ja) | 偏光板及び表示装置 | |
JP5038625B2 (ja) | 延伸セルロースエステルフィルム、ハードコートフィルム、反射防止フィルム及び光学補償フィルム、並びにそれらを用いた偏光板及び表示装置 | |
JP5088137B2 (ja) | 光学フィルムの処理方法、光学フィルムの処理装置及び光学フィルムの製造方法 | |
JP5119920B2 (ja) | セルロースエステルフィルム、それを用いた横電界駆動式表示装置用偏光板及び横電界駆動式表示装置 | |
JP5167812B2 (ja) | 光学フィルムの処理方法、光学フィルムの処理装置及び光学フィルムの製造方法 | |
JP2007047536A (ja) | 偏光板及び液晶表示装置 | |
JP2007017845A (ja) | 偏光板及び液晶表示装置 | |
JP4692035B2 (ja) | 位相差フィルムの製造方法 | |
JP4896368B2 (ja) | 防眩性反射防止フィルム | |
JP2005156615A (ja) | 防眩フイルム、防眩性反射防止フィルム及びそれらの製造方法、並びに偏光板及び表示装置 | |
JP2007017946A (ja) | 反射防止フィルム、反射防止フィルムの製造方法、偏光板及び液晶表示装置 | |
JP2005309120A (ja) | 反射防止フィルム、偏光板及び画像表示装置 | |
JP2005338549A (ja) | 反射防止フィルム、偏光板及び画像表示装置 | |
JPWO2007018012A1 (ja) | 光学フィルム、光学フィルムの処理方法及び光学フィルムの処理装置 | |
JP4622701B2 (ja) | 光学フィルム、画像表示装置、液晶表示装置 | |
JP2007003917A (ja) | 透過型液晶表示装置 | |
JP2005134609A (ja) | 反射防止フィルム及び反射防止フィルムの製造方法並びに偏光板及び表示装置 | |
JP2005157037A (ja) | 反射防止フィルム、偏光板および画像表示装置 | |
JP2006212917A (ja) | 光学フィルムの製造方法、光学フィルム、偏光板及び表示装置 | |
JP2007320052A (ja) | ハードコートフィルム、偏光板及び表示装置 | |
JP2007003766A (ja) | 光学フィルム、光学フィルムの製造方法、偏光板及び表示装置 | |
JP5655467B2 (ja) | 防眩性反射防止フィルムの製造方法 | |
JP2007047537A (ja) | 偏光板及び液晶表示装置 | |
JP2007047382A (ja) | 偏光板及び液晶表示装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20090618 |
|
RD03 | Notification of appointment of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7423 Effective date: 20110816 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20111018 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20111215 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20120228 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20120312 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4962316 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150406 Year of fee payment: 3 |
|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313111 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |