JPS6396152A - 光学活性な液晶性化合物、それを含む液晶組成物及びそれを用いた液晶素子 - Google Patents
光学活性な液晶性化合物、それを含む液晶組成物及びそれを用いた液晶素子Info
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Landscapes
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- Liquid Crystal Substances (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は新規な光学活性な化合物とそれを含有する液晶
組成物、および該液晶組成物を使用する液晶素子に関す
るものである。
組成物、および該液晶組成物を使用する液晶素子に関す
るものである。
液晶素子に於いて、双安定性を有する液晶素子の使用が
、クラーク(C1ark)およびラガウエル(Lage
rwall)により提案されている(特開昭56−10
7216号公報、米国特許第4367924号明細書等
)゛。双安定性を有する液晶としては、一般に、カイラ
ルスメクテイツクC相(SmC”)又はH相(SmH“
)を有する強誘電性液晶が用いられる。
、クラーク(C1ark)およびラガウエル(Lage
rwall)により提案されている(特開昭56−10
7216号公報、米国特許第4367924号明細書等
)゛。双安定性を有する液晶としては、一般に、カイラ
ルスメクテイツクC相(SmC”)又はH相(SmH“
)を有する強誘電性液晶が用いられる。
この強誘電性液晶は自発分極を有するために非常に速い
応答速度を有する上にメモリー性のある双安定状態を発
現させることができ、さらに視野角特性もすぐれている
ことから大容量大画面のディスプレイとして適している
。
応答速度を有する上にメモリー性のある双安定状態を発
現させることができ、さらに視野角特性もすぐれている
ことから大容量大画面のディスプレイとして適している
。
一方、光学活性を有することを特徴とする光学素子に必
要な機能性材料を合成するための光学活性中間体として
は、2−メチルブタノール、2級オクチルアルコール、
2級ブチルアルコール、塩化p−(2−メチルブチル)
安息香酸、2級フェネチルアルコール、アミノ酸誘導体
、ショウノウ誘導体、コレステロール誘導体等が知られ
ている。
要な機能性材料を合成するための光学活性中間体として
は、2−メチルブタノール、2級オクチルアルコール、
2級ブチルアルコール、塩化p−(2−メチルブチル)
安息香酸、2級フェネチルアルコール、アミノ酸誘導体
、ショウノウ誘導体、コレステロール誘導体等が知られ
ている。
しかし、これらは次のような欠点を有している。
光学活性な鎖状炭化水素誘導体は構造の変更が困難で、
しかも一部のものを除き非常に高価なものである。アミ
ノ酸誘導体は比較的安価な上に構造の変更も容易である
がアミンの水素基が化学的に活性が強く、水素結合や化
学反応を生じやすいために機能性材料の特性を制限して
しまいやすい。ショウノウ誘導体、コレステロール誘導
体は構造の変更が困難なうえに立体的な障害によって機
能性材料の特性に悪影響を与えやすい。
しかも一部のものを除き非常に高価なものである。アミ
ノ酸誘導体は比較的安価な上に構造の変更も容易である
がアミンの水素基が化学的に活性が強く、水素結合や化
学反応を生じやすいために機能性材料の特性を制限して
しまいやすい。ショウノウ誘導体、コレステロール誘導
体は構造の変更が困難なうえに立体的な障害によって機
能性材料の特性に悪影響を与えやすい。
また、光学活性を有することを特徴とする光学素子のう
ち、液晶状態の電界応答光学効果を用いる方法に於いて
は、応答性を高めるために極性基を導入することが行な
われてきたが、上記従来の光学活性中間体は極性の小さ
いものか、あるいは極性基を有効に利用できないものが
ほとんどであった。
ち、液晶状態の電界応答光学効果を用いる方法に於いて
は、応答性を高めるために極性基を導入することが行な
われてきたが、上記従来の光学活性中間体は極性の小さ
いものか、あるいは極性基を有効に利用できないものが
ほとんどであった。
と(に強誘電性液晶に於いては、応答速度は自発分極に
比例することが知られており、高速化のために自発分極
を増加させることが望まれている。
比例することが知られており、高速化のために自発分極
を増加させることが望まれている。
このような点からP、Kellerらは不斉炭素に塩素
基を導入することで自発分極を増加させ応答速度化が可
能であることを示した(C,R,Acad、Sc、Pa
ris。
基を導入することで自発分極を増加させ応答速度化が可
能であることを示した(C,R,Acad、Sc、Pa
ris。
282 C,639(1976))。しかし、不斉炭
素に導入された塩素基は化学的に不安定であるうえに、
原子半径が大きいことから液晶相の安定性が低下すると
いう欠点を有しているためにその改善が望まれている。
素に導入された塩素基は化学的に不安定であるうえに、
原子半径が大きいことから液晶相の安定性が低下すると
いう欠点を有しているためにその改善が望まれている。
上記のような欠点は、種々の材料を開発する上で大きな
制約となっていた。
制約となっていた。
本発明は上記の点に鑑みなされたものである。本発明は
液晶状態の制御に有用な光学活性な化合物、及びこれを
含む液晶組成物、ならびに該液晶組成物を使用する液晶
素子を提供する事を目的とする。
液晶状態の制御に有用な光学活性な化合物、及びこれを
含む液晶組成物、ならびに該液晶組成物を使用する液晶
素子を提供する事を目的とする。
すなわち本発明は
下記一般式(I)
(ただし、R1は炭素数1〜16のアルキル基を示し、
C1は不斉炭素原子を示す。kは2〜5の整数であり、
lは1または2である。
C1は不斉炭素原子を示す。kは2〜5の整数であり、
lは1または2である。
Ylはアルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子(フッ
素、塩素、臭素)又は水素原子を示す。またAは(ただ
しmは1または2、nはOまたは1であり、Zは一〇−
もしくは−8−を示す。R2は炭素数4〜16のアルキ
ル基又はアルコキシ基を示す。Y2はアルキル基、アル
コキシ基、ハロゲン原子(フッ素、塩素、臭素)又は水
素原子を示す。)) で表わされる光学活性な液晶性化合物を提供するもので
ある。また本発明は上記光学活性な液晶性化合物を少な
くとも1種類配合成分として含有する液晶組成物ならび
に該液晶組成物を使用する液晶素子をも提供する。
素、塩素、臭素)又は水素原子を示す。またAは(ただ
しmは1または2、nはOまたは1であり、Zは一〇−
もしくは−8−を示す。R2は炭素数4〜16のアルキ
ル基又はアルコキシ基を示す。Y2はアルキル基、アル
コキシ基、ハロゲン原子(フッ素、塩素、臭素)又は水
素原子を示す。)) で表わされる光学活性な液晶性化合物を提供するもので
ある。また本発明は上記光学活性な液晶性化合物を少な
くとも1種類配合成分として含有する液晶組成物ならび
に該液晶組成物を使用する液晶素子をも提供する。
本発明にしたがい前記式(I)の液晶性化合物を製造す
る方法を説明する。
る方法を説明する。
まず出発原料として下記一般式(n)
へ
(ここでR1は炭素数1−16のアルキル基を示し、C
1は不斉炭素原子を示す。また、kは2〜5を示す。)
で表わされる光学活性アルコールを用いる。この式(I
I)で示される光学活性アルコールは、一般。
1は不斉炭素原子を示す。また、kは2〜5を示す。)
で表わされる光学活性アルコールを用いる。この式(I
I)で示される光学活性アルコールは、一般。
式(I[I)
(ここでR8は低級アルキル基、C”は不斉炭素原子を
示し、XはOまたは1である。) で表わされる化合物、具体的には、2−ヒドロキシプロ
ピオン酸アルキルエステル、3−ヒドロキシ酪酸アルキ
ルエステルより、下記反応工程式(1)および(2)に
従っであるいは工程(2)を繰り返すことによって容易
に合成することができる。
示し、XはOまたは1である。) で表わされる化合物、具体的には、2−ヒドロキシプロ
ピオン酸アルキルエステル、3−ヒドロキシ酪酸アルキ
ルエステルより、下記反応工程式(1)および(2)に
従っであるいは工程(2)を繰り返すことによって容易
に合成することができる。
−工上り口つ−
CI+2
tlo−C1l−(:C13升−COO−Ro (
I[[)H3 R1−0−C1l−(C!lz←C0OR。
I[[)H3 R1−0−C1l−(C!lz←C0OR。
C,Ha
工程(2)
CI+3
■
(上記におい工R’、R,およびXは前記で定義した通
りである。) さらに一般式(II[)で示される光学活性アルコール
を工程(3)に示すようにトシル化あるいはハロゲン化
した後、p−ハイドロ安息香酸、p−ハイドロキシビフ
ェニルカルボン酸と反応させることにより、一般式(I
V)に示される光学活性なカルボン酸を得ることができ
る。(一般式(I)に於いてA=OHに相当) さらに一般式(TV)で示される光学活性なカルボン酸
を工程(4)に示すように塩化チオニルにて酸クロライ
ドとした後一般式(V)で示される化合物と反応させる
ことにより一般式(■)に示される光学活性な化合物を
合成することができる。
りである。) さらに一般式(II[)で示される光学活性アルコール
を工程(3)に示すようにトシル化あるいはハロゲン化
した後、p−ハイドロ安息香酸、p−ハイドロキシビフ
ェニルカルボン酸と反応させることにより、一般式(I
V)に示される光学活性なカルボン酸を得ることができ
る。(一般式(I)に於いてA=OHに相当) さらに一般式(TV)で示される光学活性なカルボン酸
を工程(4)に示すように塩化チオニルにて酸クロライ
ドとした後一般式(V)で示される化合物と反応させる
ことにより一般式(■)に示される光学活性な化合物を
合成することができる。
工程(3)
(II) −a
(1v)
工程(4)
(上記においてR’、 R2,Z、 J I!、 m
、 n。
、 n。
Y、及びY2は前記で定義した通りである。)上記反応
式におけるRIは炭素数の広い範囲にわたって選択する
ことが可能であり、具体的にはヨードブタン、ヨードペ
ンクン、ヨードヘキサン、ヨードへブタン、ヨードオク
タン、ヨードノナン、ヨードデカン、ヨードウンデカン
、ヨードドデカン、ヨードトリデカン、ヨードテトラデ
カン、ヨードペンタデカン、ヨードヘキサデカン、ヨー
ドヘプタデカン、ヨードオクタデカン、ヨードノナデカ
ン、ヨードエイコサン等の直鎖状飽和炭化水素ヨウ化物
;2−ヨードブタン、1−ヨード−2−メチルプロパン
、l−ヨード−3−メチルブタン等の分岐状飽和炭化水
素ヨウ化物;ヨードベンジル、ヨードフェナシル、3−
ヨード−1−シクロヘキセン等の環状不飽和炭化水素ヨ
ウ化物;ヨードシクロペンタン、ヨードシクロヘキサン
、1−ヨード−3−メチルシクロヘキサン、ヨードシク
ロヘプタ、ヨードシクロオクタン等の環状飽和炭化水素
ヨウ化物がある。
式におけるRIは炭素数の広い範囲にわたって選択する
ことが可能であり、具体的にはヨードブタン、ヨードペ
ンクン、ヨードヘキサン、ヨードへブタン、ヨードオク
タン、ヨードノナン、ヨードデカン、ヨードウンデカン
、ヨードドデカン、ヨードトリデカン、ヨードテトラデ
カン、ヨードペンタデカン、ヨードヘキサデカン、ヨー
ドヘプタデカン、ヨードオクタデカン、ヨードノナデカ
ン、ヨードエイコサン等の直鎖状飽和炭化水素ヨウ化物
;2−ヨードブタン、1−ヨード−2−メチルプロパン
、l−ヨード−3−メチルブタン等の分岐状飽和炭化水
素ヨウ化物;ヨードベンジル、ヨードフェナシル、3−
ヨード−1−シクロヘキセン等の環状不飽和炭化水素ヨ
ウ化物;ヨードシクロペンタン、ヨードシクロヘキサン
、1−ヨード−3−メチルシクロヘキサン、ヨードシク
ロヘプタ、ヨードシクロオクタン等の環状飽和炭化水素
ヨウ化物がある。
本発明の液晶組成物は、上記一般式(I)で表わされる
光学活性な化合物を少なくとも1種類配合成分として含
有するものである。
光学活性な化合物を少なくとも1種類配合成分として含
有するものである。
上記組成物のうち下式(1)〜(13)に代表、して示
されるような強誘電性液晶を配合成分とするものは、自
発分極を増大させることが可能であり、さらに粘度を低
下させる効果とあいまって応答速度を改善することがで
き好ましい。このような場合には一藤式(I)で示され
る本発明の光学活性な液晶性化合物を、得られる液晶組
成物の0.1〜99重量%、特に1〜90重量%となる
割合で使用することが好ましい。
されるような強誘電性液晶を配合成分とするものは、自
発分極を増大させることが可能であり、さらに粘度を低
下させる効果とあいまって応答速度を改善することがで
き好ましい。このような場合には一藤式(I)で示され
る本発明の光学活性な液晶性化合物を、得られる液晶組
成物の0.1〜99重量%、特に1〜90重量%となる
割合で使用することが好ましい。
4−オクチルオキシ安息香酸4’ −(2−メチルブチ
ルオキシ)フェニルエステル 4−ノニルオキシ安息香酸4’ −(2−メチルブチル
オキシ)フェニルエステル Cryst、−一會Sm A−−◆Iso。
ルオキシ)フェニルエステル 4−ノニルオキシ安息香酸4’ −(2−メチルブチル
オキシ)フェニルエステル Cryst、−一會Sm A−−◆Iso。
SmC*/’43.5
4−デシルオキシ安息香酸4’ −(2−メチルブチル
オキシ)フェニルエステル Cryst、−−◆SmC*−−争SmA−−φiso
。
オキシ)フェニルエステル Cryst、−−◆SmC*−−争SmA−−φiso
。
4−ウンデシルオキシ安息香酸4’ −(2−メチルブ
チルオキシ)フェニルエステル 4−ドデシルオキシ安息香酸4’ −(2−メチルブチ
ルオキシ)フェニルエステル 4−デシルオキシ安息香酸4’ −(2−メトキシプロ
ピルオキシ)フェニルエステル 4.4′ −アゾキシシンナミックアシッド−ビス(2
−メチルブチル)エステル4−o−(2−メチル)−ブ
チルレゾルシリチン−4′−オクチルアニリン(MBR
A 8) 4− (2’−メチルブチル)フェニル−4′オクチル
オキシビフェニル−4−カルボキシレート 78℃ 80℃ 128.3℃ 171.
0’CI74.2℃結晶;=辷Sm3;=辷Smc*;
=辷Sm摩コレステリック相;=七等方相4−へキシル
オキシフェニル−4−(2’−メチルブチル)ビフェニ
ル−4′−カルボキシレート 4−オクチルオキシフェニル−4−(2’−メチルブチ
ル)ビフェニル−4′−カルボキシレート 4−へブチルフェニル−4−(4’−メチルヘキシル)
ビフェニル−4′−力ルポキシレート 91.5℃ 93℃ 112℃
131℃結晶 ;=辷SmC*;=辷Sm
A−6−ヒコレステリツク相;;−等方相ニルー4′−
カルボキシレート 83.4°C114℃ 結晶□コレステリック相−−−−等方相SmC* 5
SmA 81.OoC また下式l)〜5)で示されるようなそれ自体はカイラ
ルでないスメクチック液晶に配合することにより強誘電
性液晶として使用可能な組成物が得られる。
チルオキシ)フェニルエステル 4−ドデシルオキシ安息香酸4’ −(2−メチルブチ
ルオキシ)フェニルエステル 4−デシルオキシ安息香酸4’ −(2−メトキシプロ
ピルオキシ)フェニルエステル 4.4′ −アゾキシシンナミックアシッド−ビス(2
−メチルブチル)エステル4−o−(2−メチル)−ブ
チルレゾルシリチン−4′−オクチルアニリン(MBR
A 8) 4− (2’−メチルブチル)フェニル−4′オクチル
オキシビフェニル−4−カルボキシレート 78℃ 80℃ 128.3℃ 171.
0’CI74.2℃結晶;=辷Sm3;=辷Smc*;
=辷Sm摩コレステリック相;=七等方相4−へキシル
オキシフェニル−4−(2’−メチルブチル)ビフェニ
ル−4′−カルボキシレート 4−オクチルオキシフェニル−4−(2’−メチルブチ
ル)ビフェニル−4′−カルボキシレート 4−へブチルフェニル−4−(4’−メチルヘキシル)
ビフェニル−4′−力ルポキシレート 91.5℃ 93℃ 112℃
131℃結晶 ;=辷SmC*;=辷Sm
A−6−ヒコレステリツク相;;−等方相ニルー4′−
カルボキシレート 83.4°C114℃ 結晶□コレステリック相−−−−等方相SmC* 5
SmA 81.OoC また下式l)〜5)で示されるようなそれ自体はカイラ
ルでないスメクチック液晶に配合することにより強誘電
性液晶として使用可能な組成物が得られる。
この場合、一般式(I)で示される本発明の光学活性な
液晶性化合物を得られる液晶組成物の011〜99重量
%、特に1〜90重量%で使用することCaHITOe
Coo+ QCsH19(4−ノニルオキシフェニル
)−4′−才クチルオキシビフェニル−4−カルボキシ
レート 4.4′ −デシルオキシアゾキシベンゼン2−(4’
−へキシルオキシフェニル)−5−(4−へキシルオキ
シフェニル)ピリミジン 120℃ 189°c216°C Cryst、 −一−5mC−*−4m−3mA吟−伽
1so。
液晶性化合物を得られる液晶組成物の011〜99重量
%、特に1〜90重量%で使用することCaHITOe
Coo+ QCsH19(4−ノニルオキシフェニル
)−4′−才クチルオキシビフェニル−4−カルボキシ
レート 4.4′ −デシルオキシアゾキシベンゼン2−(4’
−へキシルオキシフェニル)−5−(4−へキシルオキ
シフェニル)ピリミジン 120℃ 189°c216°C Cryst、 −一−5mC−*−4m−3mA吟−伽
1so。
2−(4’−オクチルオキシフェニル)−5−ノニルピ
リミジンCa HI? O+ Coo + QCr、
H。
リミジンCa HI? O+ Coo + QCr、
H。
4′−ペンチルオキシフェニル−4−オクチルオキシベ
ンゾエートここて、記号は、それぞれ以下の相を示す。
ンゾエートここて、記号は、それぞれ以下の相を示す。
Cryst、 :結晶相、 SmA:スメクチッ
クA相、SmB:スメクチツクB相、SmC:スメクチ
ックC相、N :ネマチツク相、Iso、 :等吉相
。
クA相、SmB:スメクチツクB相、SmC:スメクチ
ックC相、N :ネマチツク相、Iso、 :等吉相
。
また、上記一般式(I)の光学活性な液晶性化合物は、
ネマチック液晶に添加することにより、TN型セルにお
けるリバースドメインの発生を防止することに有効であ
る。
ネマチック液晶に添加することにより、TN型セルにお
けるリバースドメインの発生を防止することに有効であ
る。
この場合、式(I)の光学活性な液晶性化合物。
をネマチック液晶に添加することにより得られる液晶組
成物の0.01〜50重量%の割合で式(I)の光学活
性な液晶性化合物を使用することが好ましい。
成物の0.01〜50重量%の割合で式(I)の光学活
性な液晶性化合物を使用することが好ましい。
またネマチック液晶もしくはカイラルネマチック液晶に
添加することにより、カイラルネマチック液晶として、
相転移型液晶素子やホワイト・ティラー形ゲスト・ホス
ト型液晶素子に液晶組成物として使用することが可能で
ある。
添加することにより、カイラルネマチック液晶として、
相転移型液晶素子やホワイト・ティラー形ゲスト・ホス
ト型液晶素子に液晶組成物として使用することが可能で
ある。
第1図は、強誘電性液晶の動作説明のために、セルの例
を模式的に描いたものである。llaと11bは、それ
ぞれIn2O3,5n02あるいはITO(Indiu
m−Tin−Oxide)等の薄膜からなる透明電極で
被覆された基板(ガラス板)であり、その間に液晶分子
層12がガラス面に垂直になるよう配向したS m C
”相又はSmH”相の液晶が封入されている。太線で示
した線13が液晶分子を表わしており、この液晶分子1
3はその分子に直交した方向に双極子モーメント(P上
)14を有している。
を模式的に描いたものである。llaと11bは、それ
ぞれIn2O3,5n02あるいはITO(Indiu
m−Tin−Oxide)等の薄膜からなる透明電極で
被覆された基板(ガラス板)であり、その間に液晶分子
層12がガラス面に垂直になるよう配向したS m C
”相又はSmH”相の液晶が封入されている。太線で示
した線13が液晶分子を表わしており、この液晶分子1
3はその分子に直交した方向に双極子モーメント(P上
)14を有している。
基板21とllb上の電極間に一定の閾値以上の電圧を
印加すると、液晶分子13のらせん構造がほどけ、双極
子モーメント(P土)14がすべて電界方向に向くよう
、液晶分子13は2向方向を変えることができる。液晶
分子13は細長い形状を有しており、その長袖方向と短
軸方向で屈折率異方性を示し、従って、例えばガラス面
の上下に互いにクロスニコルの偏光子を置けば、電圧印
加極性によって光学特性が変わる液晶光学変調素子とな
ることは、容易に理解される。
印加すると、液晶分子13のらせん構造がほどけ、双極
子モーメント(P土)14がすべて電界方向に向くよう
、液晶分子13は2向方向を変えることができる。液晶
分子13は細長い形状を有しており、その長袖方向と短
軸方向で屈折率異方性を示し、従って、例えばガラス面
の上下に互いにクロスニコルの偏光子を置けば、電圧印
加極性によって光学特性が変わる液晶光学変調素子とな
ることは、容易に理解される。
本発明の光学変調素子で好ましく用いられる液晶セルは
、その厚さを充分に薄く(例えば10μ以下)すること
ができる。このように液晶層が薄(なるにしたがい、第
2図に示すように電界を印加していない状態でも液晶分
子のらせん構造がほどけ、その双極子モーメントPaま
たはpbは上向き(24a)又は下向き(24b )の
どちらかの状態をとる。このようなセルに、第2図に示
す如く一定の閾値以上の極性の異る電界Ea又はEbを
電圧印加手段21aと21bにより付与すると、双極子
モーメントは、電界Ea又はEbの電界ベクトルに対応
して番上向き24a又は下向き24bと向きを変え、そ
れに応じて液晶分子は第1の安定状態23aか、あるい
は第2の安定状態23bの何れか一方に配向する。
、その厚さを充分に薄く(例えば10μ以下)すること
ができる。このように液晶層が薄(なるにしたがい、第
2図に示すように電界を印加していない状態でも液晶分
子のらせん構造がほどけ、その双極子モーメントPaま
たはpbは上向き(24a)又は下向き(24b )の
どちらかの状態をとる。このようなセルに、第2図に示
す如く一定の閾値以上の極性の異る電界Ea又はEbを
電圧印加手段21aと21bにより付与すると、双極子
モーメントは、電界Ea又はEbの電界ベクトルに対応
して番上向き24a又は下向き24bと向きを変え、そ
れに応じて液晶分子は第1の安定状態23aか、あるい
は第2の安定状態23bの何れか一方に配向する。
このような強誘電性を光学変調素子として用いることの
利点は、先にも述べたが2つある。
利点は、先にも述べたが2つある。
その第1は、応答速度が極めて速いことであり、第2は
液晶分子の配向が双安定性を有することである。第2の
点を、例えば第2図によって更に説明すると、電界Ea
を印加すると液晶分子は第1の安定状態23aに配向す
るが、この状態は電界を切っても安定である。又、逆向
きの電界Ebを印加すると、液晶分子は第2の安定状態
23bに配向してその分子の向きを変えるが、やはり電
界を切ってもこの状態に留っている。又、与える電界E
aあるいはEbが一定の閾値を越えない限り、それぞれ
前の配向状態にやはり維持されている。このような応答
速度の速さと、双安定性が有効に実現されるにはセルと
しては出来るだけ薄い方が好ましく、一般的には0.5
μ〜20μ、特に1μ〜5μが適している。
液晶分子の配向が双安定性を有することである。第2の
点を、例えば第2図によって更に説明すると、電界Ea
を印加すると液晶分子は第1の安定状態23aに配向す
るが、この状態は電界を切っても安定である。又、逆向
きの電界Ebを印加すると、液晶分子は第2の安定状態
23bに配向してその分子の向きを変えるが、やはり電
界を切ってもこの状態に留っている。又、与える電界E
aあるいはEbが一定の閾値を越えない限り、それぞれ
前の配向状態にやはり維持されている。このような応答
速度の速さと、双安定性が有効に実現されるにはセルと
しては出来るだけ薄い方が好ましく、一般的には0.5
μ〜20μ、特に1μ〜5μが適している。
次に強誘電性液晶の駆動法の具体例を、第3図〜第5図
を用いて説明する。
を用いて説明する。
第3図は、中間に強誘電性液晶化合物(図示せず)が挟
まれたマトリクス電極構造を有するセル31の模式図で
ある。32は、走査電極群であり、33は信号電極群で
ある。最初に走査電極S1が選択された場合について述
べる。第4図(a)と第4図(b)は走査信号であって
、それぞれ選択された走査電極S1に印加される電気信
号とそれ以外の走査電極(選択されない走査電極)S2
.S3.S4・・・に印加される電気信号を示している
。第4図(C)と第4図(d)は、情報信号であってそ
れぞれ選択された信号電極■I+ I3+ II5と選
択されない信号電極I2.I4に与えられる電気信号を
示している。
まれたマトリクス電極構造を有するセル31の模式図で
ある。32は、走査電極群であり、33は信号電極群で
ある。最初に走査電極S1が選択された場合について述
べる。第4図(a)と第4図(b)は走査信号であって
、それぞれ選択された走査電極S1に印加される電気信
号とそれ以外の走査電極(選択されない走査電極)S2
.S3.S4・・・に印加される電気信号を示している
。第4図(C)と第4図(d)は、情報信号であってそ
れぞれ選択された信号電極■I+ I3+ II5と選
択されない信号電極I2.I4に与えられる電気信号を
示している。
第4図および第5図に於いては、それぞれ横軸が時間を
、縦軸が電圧を表す。例えば、動画を表示するような場
合には、走査電極群32は逐次、周期的に選択される。
、縦軸が電圧を表す。例えば、動画を表示するような場
合には、走査電極群32は逐次、周期的に選択される。
今、所定の電圧印加時間t、またはt2に対して双安定
性を有する液晶セルの、第1の安定状態を与えるための
閾値電圧を−vth 、とし、2の安定状態を与えるた
めの閾値電圧を+vth2とすると、選択された走査電
極32(Sl)に与えられる電極信号は、第4図(a)
に示される如(位相(時間)1+では2vを、位相(時
間)tzでは一2vとなるような交番する電圧である。
性を有する液晶セルの、第1の安定状態を与えるための
閾値電圧を−vth 、とし、2の安定状態を与えるた
めの閾値電圧を+vth2とすると、選択された走査電
極32(Sl)に与えられる電極信号は、第4図(a)
に示される如(位相(時間)1+では2vを、位相(時
間)tzでは一2vとなるような交番する電圧である。
。このように選択された走査電極に互いに電圧の異なる
複数の位相間隔を有する電気信号を印加すると、光学的
「暗」あるいは「明」状態に相当する液晶の第1あるい
は第2の安定状態間での状態変化を、速やかに起こさせ
ることができるという′重要な効果が得られる。
複数の位相間隔を有する電気信号を印加すると、光学的
「暗」あるいは「明」状態に相当する液晶の第1あるい
は第2の安定状態間での状態変化を、速やかに起こさせ
ることができるという′重要な効果が得られる。
一方、それ以外の走査電極S2〜S5・・・は、第4図
(b)に示す如くアース状態となっており、電気信号O
である。また、選択された信号電極■I+I3+ I5
に与えられる電気信号は、第4図(C)に示される如(
Vであり、また選択されない信号電極I2.I4に与え
られる電気信号は、第4図(d)に示される如< −V
である。以上に於いて各々の電圧値は、以下の関係を満
足する所望の値に設定される。
(b)に示す如くアース状態となっており、電気信号O
である。また、選択された信号電極■I+I3+ I5
に与えられる電気信号は、第4図(C)に示される如(
Vであり、また選択されない信号電極I2.I4に与え
られる電気信号は、第4図(d)に示される如< −V
である。以上に於いて各々の電圧値は、以下の関係を満
足する所望の値に設定される。
V<Vth 2<3V
−3V<−Vth 、 <−V
この様な電気信号が与えられたときの各画素のうち、例
えば第3図中の画素A、!:Bにそれぞれ印加される電
圧波形を第5図(a)と(b)に示す。
えば第3図中の画素A、!:Bにそれぞれ印加される電
圧波形を第5図(a)と(b)に示す。
すなわち、第5図(a)と(b)より明らかな如(、選
択された走査線上にある画素Aでは、位相t2に於いて
、閾値vth2を越える電圧3vが印加される。また、
同一走査線上に存在する画素Bでは位相t1に於いて閾
値−vth 1を越える電圧−3vが印加される。従っ
て、選択された走査電極線上に於いて、信号電極が選択
されたか否かに応じて、選択された場合には、液晶分子
は第1の安定状態に配向を揃え、選択されない場合には
第2の安定状態に配向を揃える。
択された走査線上にある画素Aでは、位相t2に於いて
、閾値vth2を越える電圧3vが印加される。また、
同一走査線上に存在する画素Bでは位相t1に於いて閾
値−vth 1を越える電圧−3vが印加される。従っ
て、選択された走査電極線上に於いて、信号電極が選択
されたか否かに応じて、選択された場合には、液晶分子
は第1の安定状態に配向を揃え、選択されない場合には
第2の安定状態に配向を揃える。
一方、第5図(C)と(d)に示される如く、選択され
ない走査線上では、すべての画素に印加される電圧はV
または一■であって、いずれも閾値電圧を越えない。従
って、選択された走査線上以外の各画素に於ける液晶分
子は、配向状態を変えることなく前回走査されたときの
信号状態に対応した配向を、そのまま保持している。即
ち、走査電極が選択されたときにその1942分の信号
の書き込みが行われ、lフレームが終了して次回選択さ
れるまでの間は、その信号状態を保持し得るわけである
。従って、走査電極数が増えても、実質的なデユーティ
比はかわらず、コントラストの低下は全く生じない。
ない走査線上では、すべての画素に印加される電圧はV
または一■であって、いずれも閾値電圧を越えない。従
って、選択された走査線上以外の各画素に於ける液晶分
子は、配向状態を変えることなく前回走査されたときの
信号状態に対応した配向を、そのまま保持している。即
ち、走査電極が選択されたときにその1942分の信号
の書き込みが行われ、lフレームが終了して次回選択さ
れるまでの間は、その信号状態を保持し得るわけである
。従って、走査電極数が増えても、実質的なデユーティ
比はかわらず、コントラストの低下は全く生じない。
次に、ディスプレイ装置として駆動を行なった場合の実
際に生じ得る問題点について考えてみる。
際に生じ得る問題点について考えてみる。
第3図に於いて、走査電極S1〜s5・・・と信号電極
11〜I5・・・の交点で形成する画素のうち、斜線部
の画素は「明」状態に、白地で示した画素は、「暗」状
態に対応するものとする。今、第3図中の信号電極11
上の表示に注目すると、走査電極S1に対応する画素(
A)では「明」状態であり、それ以外の画素(B)はす
べて「暗」状態である。
11〜I5・・・の交点で形成する画素のうち、斜線部
の画素は「明」状態に、白地で示した画素は、「暗」状
態に対応するものとする。今、第3図中の信号電極11
上の表示に注目すると、走査電極S1に対応する画素(
A)では「明」状態であり、それ以外の画素(B)はす
べて「暗」状態である。
この場合の駆動法の一例として、走査信号と信号電極I
、に与えられる情報信号及び画素Aに印加される電圧を
時系列的に表わしたものが第6図である。
、に与えられる情報信号及び画素Aに印加される電圧を
時系列的に表わしたものが第6図である。
例えば第6図のようにして駆動した場合、走査信号S1
が走査されたとき、時間t2に於いて画素Aには、閾値
vth2を越える電圧3vが印加されるため、前歴に関
係なく、画素Aは一方向の安定状態、即ち「明」状態に
転移(スイッチ)する。その後は、82〜S5・・・が
走査される間は第6図に示される如<−Vの電圧が印加
され続けるが、これは閾値−vth 、を越えないため
、画素Aは「明」状態を保ち得るはずであるが、実際に
はこのように1つの信号電極上で一方の信号(今の場合
「暗」に対応)が与えられ続けるような情報の表示を行
う場合には、走査線数が極めて多く、しかも高速駆動が
求められるときには反転現象を生じるが、前述した特定
の液晶化合物またはそれを含有した液晶組成物を用いる
ことによって、この様な反転現象は完全に防止される。
が走査されたとき、時間t2に於いて画素Aには、閾値
vth2を越える電圧3vが印加されるため、前歴に関
係なく、画素Aは一方向の安定状態、即ち「明」状態に
転移(スイッチ)する。その後は、82〜S5・・・が
走査される間は第6図に示される如<−Vの電圧が印加
され続けるが、これは閾値−vth 、を越えないため
、画素Aは「明」状態を保ち得るはずであるが、実際に
はこのように1つの信号電極上で一方の信号(今の場合
「暗」に対応)が与えられ続けるような情報の表示を行
う場合には、走査線数が極めて多く、しかも高速駆動が
求められるときには反転現象を生じるが、前述した特定
の液晶化合物またはそれを含有した液晶組成物を用いる
ことによって、この様な反転現象は完全に防止される。
さらに、本発明では、前述の反転現象を防止する上で液
晶セルを構成している対向電極のうち少な(とも一方の
電極に絶縁物質により形成した絶縁膜を設けることが好
ましい。
晶セルを構成している対向電極のうち少な(とも一方の
電極に絶縁物質により形成した絶縁膜を設けることが好
ましい。
この際に使用する絶縁物質としては、特に制限されるも
のではないが、シリコン窒化物、水素を含有するシリコ
ン窒化物、シリコン炭化物、水素を含有するシリコン炭
化物、シリコン酸化物、硼素窒化物、水素を含有する硼
素窒化物、セリウム°酸化物、アルミニウム酸化物、ジ
ルコニウム酸化物、チタン酸化物やフッ化マグネシウム
などの無機絶縁物質、あるいはポリビニルアルコール、
ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリエステルイミド、
ポリパラキシレン、ポリエステル、ポリカーボネート、
ポリビニルアセクール、ポリ塩化ビニル、ポリ酢酸ビニ
ル、ポリアミド、ポリスチレン。
のではないが、シリコン窒化物、水素を含有するシリコ
ン窒化物、シリコン炭化物、水素を含有するシリコン炭
化物、シリコン酸化物、硼素窒化物、水素を含有する硼
素窒化物、セリウム°酸化物、アルミニウム酸化物、ジ
ルコニウム酸化物、チタン酸化物やフッ化マグネシウム
などの無機絶縁物質、あるいはポリビニルアルコール、
ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリエステルイミド、
ポリパラキシレン、ポリエステル、ポリカーボネート、
ポリビニルアセクール、ポリ塩化ビニル、ポリ酢酸ビニ
ル、ポリアミド、ポリスチレン。
セルロース樹脂、メラミン樹脂、ユリャ樹脂、アクリル
樹脂やフォトレジスト樹脂などの有機絶縁物質が絶縁膜
として使用される。これらの絶縁膜の膜厚は5000Å
以下、好ましくは100人〜1000人、特に500人
〜3000人が適している。
樹脂やフォトレジスト樹脂などの有機絶縁物質が絶縁膜
として使用される。これらの絶縁膜の膜厚は5000Å
以下、好ましくは100人〜1000人、特に500人
〜3000人が適している。
以下実施例により、本発明を更に具体的に説明する。
実施例1
4−(3−ペンチルオキシ)−ブチルオキシ安息香酸の
製造。
製造。
3−ヒドロキシ酪酸メチル92.1 gにヨウ化ペンチ
ル389g、酸化銀271gを加え、60℃で26時間
加熱撹拌した。さらに酸化銀54.2gを加え60℃で
58時間加熱撹拌した後、濾過、エーテル洗浄した。そ
の濾液からエーテルを減圧留去し、減圧蒸留により精製
して3−ペンチルオキシ酪酸メチル64.6gを得た。
ル389g、酸化銀271gを加え、60℃で26時間
加熱撹拌した。さらに酸化銀54.2gを加え60℃で
58時間加熱撹拌した後、濾過、エーテル洗浄した。そ
の濾液からエーテルを減圧留去し、減圧蒸留により精製
して3−ペンチルオキシ酪酸メチル64.6gを得た。
水素化リチウムアルミニウム9.4gにエーテル309
m1を加えた。これにエーテル61mfに溶かした3−
ペンチルオキシ酪酸メチル63.6gを徐々に滴下した
(10℃以下、2時間)。20〜25℃で2.5時間撹
拌した後15時間放置した。反応混合物に6N塩酸水溶
液を加えp H1程度にした後エーテルで抽出した。有
機層を水、5%炭酸水素ナトリウム水溶液、水で洗浄し
溶媒留去して褐色液体60.2gを得た。
m1を加えた。これにエーテル61mfに溶かした3−
ペンチルオキシ酪酸メチル63.6gを徐々に滴下した
(10℃以下、2時間)。20〜25℃で2.5時間撹
拌した後15時間放置した。反応混合物に6N塩酸水溶
液を加えp H1程度にした後エーテルで抽出した。有
機層を水、5%炭酸水素ナトリウム水溶液、水で洗浄し
溶媒留去して褐色液体60.2gを得た。
これを、減圧蒸留により精製し、3−ペンチルオキシブ
タノール34.2gを得た。
タノール34.2gを得た。
3−ペンチルオキシブタノール16.5gをピリジン6
4m1に溶かした。これにp−トルエンスルホン酸クロ
ライド23.5gを添加した(10℃以下、30分)。
4m1に溶かした。これにp−トルエンスルホン酸クロ
ライド23.5gを添加した(10℃以下、30分)。
25〜30℃で3.5時間撹拌した後、反応混合物を冷
水に注入し、ベンゼンにより抽出した。有機層を5%塩
酸水溶液、水で洗浄した後溶媒留去して、3−ペンチル
オキシブチル−p−トルエンスルホネート32gを得た
。
水に注入し、ベンゼンにより抽出した。有機層を5%塩
酸水溶液、水で洗浄した後溶媒留去して、3−ペンチル
オキシブチル−p−トルエンスルホネート32gを得た
。
p−ヒドロキシ安息香酸11.9gに85%水酸化カリ
ウム11.3g、メタノール19mI!、エタノール9
5m1を加えた。これに3−ペンチルオキシブチル−p
−トルエンスルホネート32gを滴下した(25°C9
30分)。その後10時間加熱還流した後、エタノール
を減圧留去した。10%水酸化カリウム水溶液27.5
gを加えた後、2時間加熱還流し冷却後ベンゼンによ
り抽出した。有機層を水洗後溶媒留去して、白色結晶1
7gを得た。これをエタノール/水工1/l溶液から再
結晶し、4−(3−ペンチルオキシ)−ブチルオキシ安
息香酸10.5gを得た。
ウム11.3g、メタノール19mI!、エタノール9
5m1を加えた。これに3−ペンチルオキシブチル−p
−トルエンスルホネート32gを滴下した(25°C9
30分)。その後10時間加熱還流した後、エタノール
を減圧留去した。10%水酸化カリウム水溶液27.5
gを加えた後、2時間加熱還流し冷却後ベンゼンによ
り抽出した。有機層を水洗後溶媒留去して、白色結晶1
7gを得た。これをエタノール/水工1/l溶液から再
結晶し、4−(3−ペンチルオキシ)−ブチルオキシ安
息香酸10.5gを得た。
I R(c m−’ )
2928. 2866、 1675. 1599
. 14231293、 1248. 1170
. 845. 768実施例2 4−(4−ペンチルオキシ)−ペンチルオキシ安息香酸
の製造。
. 14231293、 1248. 1170
. 845. 768実施例2 4−(4−ペンチルオキシ)−ペンチルオキシ安息香酸
の製造。
乳酸エチル271gにヨウ化ペンチル910g、酸化銀
694gを加え、50〜60℃で21時間加熱撹拌した
。反応混合物を濾過、エーテル洗浄し、その洗液からエ
ーテルを減圧留去した後、減圧蒸留により精製して2−
ペンチルオキシプロピオン酸エチル319gを得た。
694gを加え、50〜60℃で21時間加熱撹拌した
。反応混合物を濾過、エーテル洗浄し、その洗液からエ
ーテルを減圧留去した後、減圧蒸留により精製して2−
ペンチルオキシプロピオン酸エチル319gを得た。
水素化リチウムアルミニウム58gにエーテル1740
mI!を加えた。これにエーテル320 m I!に溶
かした2−ペンチルオキシプロピオン酸エチル319g
を徐々に滴下した(10℃以下、3時間)。その後室温
で14時間放置した。反応混合物に6N塩酸水溶液を加
えpH1程度にした後、エーテルで抽出した。有機層を
水、5%炭酸水素ナトリウム水溶液、水で洗浄した後、
溶媒留去し、さらに減圧蒸留により精製し、2−ペンチ
ルオキプロパツール3104gを得た。
mI!を加えた。これにエーテル320 m I!に溶
かした2−ペンチルオキシプロピオン酸エチル319g
を徐々に滴下した(10℃以下、3時間)。その後室温
で14時間放置した。反応混合物に6N塩酸水溶液を加
えpH1程度にした後、エーテルで抽出した。有機層を
水、5%炭酸水素ナトリウム水溶液、水で洗浄した後、
溶媒留去し、さらに減圧蒸留により精製し、2−ペンチ
ルオキプロパツール3104gを得た。
2−ペンチルオキシプロパノール103gをピリジン4
44m1に溶かした。これにp−)ルエンスルホン酸ク
ロライド160gを添加した(10℃以下、50分)。
44m1に溶かした。これにp−)ルエンスルホン酸ク
ロライド160gを添加した(10℃以下、50分)。
25〜25℃で3時間撹拌した後、反応混合物を冷水に
注入し、ベンゼンにより抽出した。有機層を5%塩酸水
溶液、水で洗浄した後、溶媒留去して、2−ペンチルオ
キシプロピル−p−トルエンスルホネート200gを得
た。95%ナトリウムエトキシド47.8gをエタノー
ル381m1に溶かし、マロン酸ジエチル131gを3
3〜37℃で50分で滴下した。35℃で30分撹拌し
た後、2−ペンチルオキシプロピル−p−トルエンスル
ホン酸)200gを35〜37℃で45分で滴下した。
注入し、ベンゼンにより抽出した。有機層を5%塩酸水
溶液、水で洗浄した後、溶媒留去して、2−ペンチルオ
キシプロピル−p−トルエンスルホネート200gを得
た。95%ナトリウムエトキシド47.8gをエタノー
ル381m1に溶かし、マロン酸ジエチル131gを3
3〜37℃で50分で滴下した。35℃で30分撹拌し
た後、2−ペンチルオキシプロピル−p−トルエンスル
ホン酸)200gを35〜37℃で45分で滴下した。
18時間加熱還流した後、反応混合物を冷水中に注入し
た。ベンゼンにより抽出し有機層を水洗した後、溶媒留
去し、さらに減圧蒸留により精製し、4−ペンチルオキ
シ−2−エトキシカルボニル吉草酸エチル228gを得
た。
た。ベンゼンにより抽出し有機層を水洗した後、溶媒留
去し、さらに減圧蒸留により精製し、4−ペンチルオキ
シ−2−エトキシカルボニル吉草酸エチル228gを得
た。
85%水酸化カリウム88.3gを水88 、3 m
lに溶かしこれに4−ペンチルオキシ−2−エトキシカ
ルボニル吉草酸エチル112gを17〜25で1.5時
間で滴下した。90〜95℃で2時間加熱撹拌した後冷
却した。濃硫酸139gを水196 m j!に溶かし
、これを200C以下で1時間で滴下した。90〜93
℃で3時間撹拌した後、室温まで冷却し、ベンゼンによ
り抽出した。これを飽和食塩水で洗浄した後、溶媒留去
し、さらに減圧蒸留により精製し、無色透明液体57g
を得た。これに5%水酸化ナトリウム水溶液を加え、p
H11程度とした後ベンゼンにより抽出した。ベンゼン
層を5%水酸化ナトリウム水溶液で洗浄し、その洗液を
水層に加えた。これに6N塩酸水溶液を加え、pH1程
度とした後ベンゼンにより抽出した。これを飽和食塩水
で洗浄した後、溶媒留去し、4−ペンチルオキシ吉草酸
49gを得た。
lに溶かしこれに4−ペンチルオキシ−2−エトキシカ
ルボニル吉草酸エチル112gを17〜25で1.5時
間で滴下した。90〜95℃で2時間加熱撹拌した後冷
却した。濃硫酸139gを水196 m j!に溶かし
、これを200C以下で1時間で滴下した。90〜93
℃で3時間撹拌した後、室温まで冷却し、ベンゼンによ
り抽出した。これを飽和食塩水で洗浄した後、溶媒留去
し、さらに減圧蒸留により精製し、無色透明液体57g
を得た。これに5%水酸化ナトリウム水溶液を加え、p
H11程度とした後ベンゼンにより抽出した。ベンゼン
層を5%水酸化ナトリウム水溶液で洗浄し、その洗液を
水層に加えた。これに6N塩酸水溶液を加え、pH1程
度とした後ベンゼンにより抽出した。これを飽和食塩水
で洗浄した後、溶媒留去し、4−ペンチルオキシ吉草酸
49gを得た。
水酸化リチウムアルミニウムl1gにエーテル237m
j2を加えた。これにエーテル48 m jl!に溶か
した4−ペンチルオキシ吉草酸49gを、10°C以下
で2時間で滴下した。20°C〜25°Cで3時間撹拌
した後、室温で15時間放置した。反応混合物に5%塩
酸水溶液を10°C以下で滴下し、pH1程度にした後
、エーテルにより抽出した。有機層を水5%水水酸ナナ
トリラム水溶液、水で洗浄した後、溶媒留去し、さらに
減圧蒸留により精製して、4−ペンチルオキシペンタノ
ール39gを得た。
j2を加えた。これにエーテル48 m jl!に溶か
した4−ペンチルオキシ吉草酸49gを、10°C以下
で2時間で滴下した。20°C〜25°Cで3時間撹拌
した後、室温で15時間放置した。反応混合物に5%塩
酸水溶液を10°C以下で滴下し、pH1程度にした後
、エーテルにより抽出した。有機層を水5%水水酸ナナ
トリラム水溶液、水で洗浄した後、溶媒留去し、さらに
減圧蒸留により精製して、4−ペンチルオキシペンタノ
ール39gを得た。
4−ペンチルオキシペンタノール5.0gをピリジン1
7.7mj!に溶かし、これにp−トルエンスルホン酸
クロライド6.6gを10℃以下で15分かけて添加し
た。20〜25℃で3.5時間撹拌した後、反応混合物
を冷水にあけ、ベンゼンにより抽出した。有機層を5%
塩酸水溶液、水で洗った後、溶媒留去して、4−ペンチ
ルオキシペンチル−p−)ルエンスルホネート8.9g
を得た。
7.7mj!に溶かし、これにp−トルエンスルホン酸
クロライド6.6gを10℃以下で15分かけて添加し
た。20〜25℃で3.5時間撹拌した後、反応混合物
を冷水にあけ、ベンゼンにより抽出した。有機層を5%
塩酸水溶液、水で洗った後、溶媒留去して、4−ペンチ
ルオキシペンチル−p−)ルエンスルホネート8.9g
を得た。
p−ヒドロキシ安息香酸3.2g、85%水酸化カリウ
ム3.0gをメタノール5.1mI!及びエタノール2
5゜3mj!に溶かした。これに4−ペンチルオキシペ
ンチル−p−トルエンスルホネート8.9gを20〜2
3℃で30分かけて滴下した。10時間加熱還流した後
、エタノールを減圧留去した。これに10%水酸化カリ
ウム水溶液7.3gを加え、2時間加熱還流した後室温
まで冷却し、ベンゼンにより抽出した。ベンゼン層を5
%水酸化ナトリウム水溶液で洗浄し、その洗液を水層に
加えた。これに6N塩酸水溶液を加え、pH1程度とし
た後、ベンゼンにより抽出した。有機層を水洗した後、
溶媒留去し、白色結晶6.2gを得た。
ム3.0gをメタノール5.1mI!及びエタノール2
5゜3mj!に溶かした。これに4−ペンチルオキシペ
ンチル−p−トルエンスルホネート8.9gを20〜2
3℃で30分かけて滴下した。10時間加熱還流した後
、エタノールを減圧留去した。これに10%水酸化カリ
ウム水溶液7.3gを加え、2時間加熱還流した後室温
まで冷却し、ベンゼンにより抽出した。ベンゼン層を5
%水酸化ナトリウム水溶液で洗浄し、その洗液を水層に
加えた。これに6N塩酸水溶液を加え、pH1程度とし
た後、ベンゼンにより抽出した。有機層を水洗した後、
溶媒留去し、白色結晶6.2gを得た。
これを、シリカゲルカラムクロスト精製(ヘキサン/エ
ーテル=1/2)L、4−(4−ペンチルオキシ)−ペ
ンチルオキシ安息香酸3,1gを得た。
ーテル=1/2)L、4−(4−ペンチルオキシ)−ペ
ンチルオキシ安息香酸3,1gを得た。
■R(cm−1)
2936、 2871. 1682. 1603142
6、 1289. 1256. 1170同様にして下
記の化合物が合成された。
6、 1289. 1256. 1170同様にして下
記の化合物が合成された。
4−(5−ペンチルオキシ)−へキシルオキシ安息香酸
4−(6−ペンチルオキシ)−へブチルオキシ安息香酸
4−(4−へキシルオキシ)−ペンチルオキシ安息香酸
4−(4−へブチルオキシ)−ペンチルオキシ安息香酸
4−(6−オクチルオキシ)−へブチルオキシ安息香酸
4−(6−ブチルオキシ)−へブチルオキシ安息香酸4
−(6−ドブチルオキシ)−へブチルオキシビフェニル
−4′−カルボン酸 4−(3−ブチルオキシ)−ブチルオキシビフェニル−
47−カルボン酸 4−(3−へキシルオキジ)−ブチルオキシビフェニル
−41−カルボン酸 4−(3−プロピルオキシ)−ブチルオキシビフェニル
−4′−カルボン酸 4−(4−オクチルオキシ)−ペンチルオキシビフェニ
ル−4′−カルボン酸 4−(5−テトラデシルオキシ)−へキシルオキシビフ
ェニル−47−カルボン酸 4−(5−ペンタデシルオキシ)−へキシルオキシビフ
ェニル−4′−カルボン酸 4−(5〜ドデシルオキシ)−へキシルオキシビフェニ
ル−4′−カルポン酸 実施例3 4−(4−ペンチルオキシ)−ペンチルオキシ安息香酸
−4−オクチルオキシフェニルの製造。
4−(6−ペンチルオキシ)−へブチルオキシ安息香酸
4−(4−へキシルオキシ)−ペンチルオキシ安息香酸
4−(4−へブチルオキシ)−ペンチルオキシ安息香酸
4−(6−オクチルオキシ)−へブチルオキシ安息香酸
4−(6−ブチルオキシ)−へブチルオキシ安息香酸4
−(6−ドブチルオキシ)−へブチルオキシビフェニル
−4′−カルボン酸 4−(3−ブチルオキシ)−ブチルオキシビフェニル−
47−カルボン酸 4−(3−へキシルオキジ)−ブチルオキシビフェニル
−41−カルボン酸 4−(3−プロピルオキシ)−ブチルオキシビフェニル
−4′−カルボン酸 4−(4−オクチルオキシ)−ペンチルオキシビフェニ
ル−4′−カルボン酸 4−(5−テトラデシルオキシ)−へキシルオキシビフ
ェニル−47−カルボン酸 4−(5−ペンタデシルオキシ)−へキシルオキシビフ
ェニル−4′−カルボン酸 4−(5〜ドデシルオキシ)−へキシルオキシビフェニ
ル−4′−カルポン酸 実施例3 4−(4−ペンチルオキシ)−ペンチルオキシ安息香酸
−4−オクチルオキシフェニルの製造。
実施例2で合成した4−(4−ペンチルオキシ)−ペン
チルオキシ安息香酸を出発原料として上記エステルを製
造した。
チルオキシ安息香酸を出発原料として上記エステルを製
造した。
4−(4−ペンチルオキシ)−ペンチルオキシ安息香酸
0.98gに塩化チオニル4 m lを加え、5時間加
熱還流した。過剰の塩化チオニルを減圧上留去し、4−
(4−ペンチルオキシ)−ペンチルオキシ安息香酸クロ
ライドを得た。
0.98gに塩化チオニル4 m lを加え、5時間加
熱還流した。過剰の塩化チオニルを減圧上留去し、4−
(4−ペンチルオキシ)−ペンチルオキシ安息香酸クロ
ライドを得た。
4−オクチルオキシフェノール0.81gをピリジン5
mf、トルエン14mj!に溶かし、水冷した後、トル
エン7mI!に溶かした4−(4−ペンチルオキシ)−
ペンチルオキシ安息香酸クロライドを滴下した(5℃以
下、10分)。その後、室温にて18.5時間撹拌した
。反応混合物を氷水150mfに注入し、6N塩酸水溶
液でpHを2〜3とした後、有機層を水洗し、さらに5
%炭酸水素ナトリウム水溶液、水での洗浄を行い、無水
硫酸マグネシウムで乾燥させた後、溶媒留去して、淡黄
色油状物1.74gを得た。
mf、トルエン14mj!に溶かし、水冷した後、トル
エン7mI!に溶かした4−(4−ペンチルオキシ)−
ペンチルオキシ安息香酸クロライドを滴下した(5℃以
下、10分)。その後、室温にて18.5時間撹拌した
。反応混合物を氷水150mfに注入し、6N塩酸水溶
液でpHを2〜3とした後、有機層を水洗し、さらに5
%炭酸水素ナトリウム水溶液、水での洗浄を行い、無水
硫酸マグネシウムで乾燥させた後、溶媒留去して、淡黄
色油状物1.74gを得た。
これをシリカゲルカラムクロスト精製(n−ヘキサンノ
酢酸エチル=10/1)を行い、4−(4−ペンチルオ
キシ)−ペンチルオキシ安息香酸−4−オクチルオキシ
フェニル0.66gを得た。
酢酸エチル=10/1)を行い、4−(4−ペンチルオ
キシ)−ペンチルオキシ安息香酸−4−オクチルオキシ
フェニル0.66gを得た。
JR(cm−1)
2932、 2856. 1734. 1608
. 15101256、 1196. 1168
. 1074相転移温度(℃) 同様にして下記の化合物が合成された。
. 15101256、 1196. 1168
. 1074相転移温度(℃) 同様にして下記の化合物が合成された。
4−(4−ペンチルオキシ)−ペンチルオキシ安息香酸
−4−オクチルオキシカルボニルフェニル (a)4−
(4−へキシルオキシ)−ペンチルオキシ安息香酸−4
′−オクチルオキシビフェニル (b) 4−(3−へキシルオキシ)−ブチルオキシ安息香酸−
4′−オクチルオキシカルボニルビフェニル (C)4
−(6−ペンチルオキシ)−へブチルオキシチオ安息香
酸−8−4−オクチルオキジフェニル (d)4−(3
−へキシルオキシ)−ブチルオキシチオ安息香酸−3−
4−デシルオキシカルボニルフェニル (e)4−(6
−ペンチルオキシ)−へブチルオキシチオ安息香酸−8
−4′ −デシルオキシビフェニル ([)4−(4−
へキシルオキシ)−ペンチルオキシチオ安息香酸−8−
4′ −デシルオキシカルボニルビフェニル (g)4
’ −(4−へキシルオキシ)−ペンチルオキシビフェ
ニル−4−カルボン酸−4−デシルオキシフェニル (
h)4’ −(3−へキシルオキシ)−ブチルオキシビ
フェニル−4−カルボン酸−4−デシルオキシカルボニ
ルフェニル (i)4’ −(4−オクチルオキシ)−
ペンチルオキシビフェニル−4−チオカルボン酸−4−
ドデシルオキシフェニル (j)4’ −(4−オクチ
ルオキシ)−ペンチルオキシビフェニル−4−チオカル
ボン酸−4−ドデシルオキシカルボニルフェニル(k)
実施例4 リクソンGR−63(チッソ製ビフェニル液晶混合物)
99重量部に4−(4−ペンチルオキシ)−ペンチルオ
キシ安息香酸−4−オクチルオキシフェニルを1重量部
を加えた液晶混合物を使用したTNセルは、この光学活
性な液晶性化合物を添加しないで製造したTNセルに比
較してリバースドメインが大幅に減少していることが観
察された。
−4−オクチルオキシカルボニルフェニル (a)4−
(4−へキシルオキシ)−ペンチルオキシ安息香酸−4
′−オクチルオキシビフェニル (b) 4−(3−へキシルオキシ)−ブチルオキシ安息香酸−
4′−オクチルオキシカルボニルビフェニル (C)4
−(6−ペンチルオキシ)−へブチルオキシチオ安息香
酸−8−4−オクチルオキジフェニル (d)4−(3
−へキシルオキシ)−ブチルオキシチオ安息香酸−3−
4−デシルオキシカルボニルフェニル (e)4−(6
−ペンチルオキシ)−へブチルオキシチオ安息香酸−8
−4′ −デシルオキシビフェニル ([)4−(4−
へキシルオキシ)−ペンチルオキシチオ安息香酸−8−
4′ −デシルオキシカルボニルビフェニル (g)4
’ −(4−へキシルオキシ)−ペンチルオキシビフェ
ニル−4−カルボン酸−4−デシルオキシフェニル (
h)4’ −(3−へキシルオキシ)−ブチルオキシビ
フェニル−4−カルボン酸−4−デシルオキシカルボニ
ルフェニル (i)4’ −(4−オクチルオキシ)−
ペンチルオキシビフェニル−4−チオカルボン酸−4−
ドデシルオキシフェニル (j)4’ −(4−オクチ
ルオキシ)−ペンチルオキシビフェニル−4−チオカル
ボン酸−4−ドデシルオキシカルボニルフェニル(k)
実施例4 リクソンGR−63(チッソ製ビフェニル液晶混合物)
99重量部に4−(4−ペンチルオキシ)−ペンチルオ
キシ安息香酸−4−オクチルオキシフェニルを1重量部
を加えた液晶混合物を使用したTNセルは、この光学活
性な液晶性化合物を添加しないで製造したTNセルに比
較してリバースドメインが大幅に減少していることが観
察された。
実施例5
実施例4の4−(4−ペンチルオキシ)−ペンチルオキ
シ安息香酸−4−オクチルオキシフェニルを実施例3中
の(a)〜(k)に表わされた各化合物にかえて、それ
ぞれ11個のTNセルを作成したところ、皆、実施例4
の結果と同様にネマチック液晶のリバースドメインの大
幅に減少した液晶素子にすることができた。
シ安息香酸−4−オクチルオキシフェニルを実施例3中
の(a)〜(k)に表わされた各化合物にかえて、それ
ぞれ11個のTNセルを作成したところ、皆、実施例4
の結果と同様にネマチック液晶のリバースドメインの大
幅に減少した液晶素子にすることができた。
実施例6
交差した帯状のITOで形成した対向マトリクス電極の
それぞれに1000人の膜厚を有するポリイミド膜(ピ
ロメリット酸無水物と4.4′ −ジアミノジフェニル
エーテルとの結合物からなるポリアミック酸樹脂の5重
量%N−メチルピロリドン溶液を塗布し、250℃の温
度で加熱閉環反応により形成した)を設け、このポリイ
ミド膜の表面を互いに平行になる様にラビングし、セル
厚を1μにしたセルを作成した。
それぞれに1000人の膜厚を有するポリイミド膜(ピ
ロメリット酸無水物と4.4′ −ジアミノジフェニル
エーテルとの結合物からなるポリアミック酸樹脂の5重
量%N−メチルピロリドン溶液を塗布し、250℃の温
度で加熱閉環反応により形成した)を設け、このポリイ
ミド膜の表面を互いに平行になる様にラビングし、セル
厚を1μにしたセルを作成した。
次いで、下記組成物Aを等吉相下で前述のセル中に真空
注入法によって注入し、封口した。しかる後に、徐冷(
1’C/時間)によってS m C*の液晶セルを作成
した。
注入法によって注入し、封口した。しかる後に、徐冷(
1’C/時間)によってS m C*の液晶セルを作成
した。
液り日1成U
ぞ
イ
%
この液晶セルの両側のクロスニコルの偏光子と検光子を
配置し、対向マトリクス電極間に第4図及び第5図に示
す波形の信号を印加した。この際、走査信号は第4図(
a)に示す+8ボルトと一8ボルトの交番波形とし、書
込み情報は、それぞれ+4ボルトと一4ボルトとした。
配置し、対向マトリクス電極間に第4図及び第5図に示
す波形の信号を印加した。この際、走査信号は第4図(
a)に示す+8ボルトと一8ボルトの交番波形とし、書
込み情報は、それぞれ+4ボルトと一4ボルトとした。
また、1フレ一ム期間を30m11secとした。
この結果、この液晶素子は前述のメモリー駆動型時分割
駆動を行なっても、書込み状態は、何ら反転することな
(正常な動画表示が得られた。
駆動を行なっても、書込み状態は、何ら反転することな
(正常な動画表示が得られた。
比較例1
実施例5の液晶素子を作成する際に用いた液晶組成物中
の、前述の一般式(I)で示される光学活性な液晶性化
合物を省略した下記・比較用液晶Bを。
の、前述の一般式(I)で示される光学活性な液晶性化
合物を省略した下記・比較用液晶Bを。
調整し、比較用液晶を用いて液晶素子を作成した。
これらの液晶素子を前述と同様の方法で駆動させたが、
反転現象を生じているために、正常な動画が表示されな
かった。
反転現象を生じているために、正常な動画が表示されな
かった。
比較用液晶B
〔発明の効果〕
本発明の特定の液晶性化合物、は不斉炭素原子と骨格部
分の間にメチレン鎖を導入し、その間の距離を広げ、か
つエステル結合部分のカルボニル側に光学活性基を有し
ているので、これを有する液晶材料は低温域まで広がっ
た、温度範囲の広いカイラルスメクチックC相(SmC
”)をもっている。
分の間にメチレン鎖を導入し、その間の距離を広げ、か
つエステル結合部分のカルボニル側に光学活性基を有し
ているので、これを有する液晶材料は低温域まで広がっ
た、温度範囲の広いカイラルスメクチックC相(SmC
”)をもっている。
又、該液晶材料を用いた液晶素子による効果を以下に示
す。
す。
(1)リバースドメインの大幅な減少。
(2)応答速度の増大。
(3)応答速度を速くしても書込み状態が反転しない正
常な動画表示。
常な動画表示。
第1図および第2図は本発明で用いる時分割駆動用液晶
素子を模式的に表わす斜視図、第3図は本発明で用いる
マトリクス電極構造の平面図、第4図(a)〜(d)は
、マトリクス電極に印加する電気信号を表わす説明図、
第5図(a)〜(d)はマトリクス電極間に付与された
電圧の波形を表わす説明図、第6図は本発明の液晶素子
に印加する電気信号を表わしたタイムチャートの説明図
である。 11 a 、 1 l b ・一基板、12・・・液晶
分子層、 13・・・液晶分子、 14・・・双極子モーメント(P)、 23a・・・第1の安定状態、 23b・・・第2の安定状態、 24a・・・上向き双極子モーメント、24b・・・下
向き双極子モーメント、31・・・セル、 32・・・(S、、S2.S3.・・・・・・)・・・
走査電極群、33・・・(I+ 、I2. I3+・・
・・・・)・・・信号電極群。 If(2 33福引電極群 (Q) (b) 第6図
素子を模式的に表わす斜視図、第3図は本発明で用いる
マトリクス電極構造の平面図、第4図(a)〜(d)は
、マトリクス電極に印加する電気信号を表わす説明図、
第5図(a)〜(d)はマトリクス電極間に付与された
電圧の波形を表わす説明図、第6図は本発明の液晶素子
に印加する電気信号を表わしたタイムチャートの説明図
である。 11 a 、 1 l b ・一基板、12・・・液晶
分子層、 13・・・液晶分子、 14・・・双極子モーメント(P)、 23a・・・第1の安定状態、 23b・・・第2の安定状態、 24a・・・上向き双極子モーメント、24b・・・下
向き双極子モーメント、31・・・セル、 32・・・(S、、S2.S3.・・・・・・)・・・
走査電極群、33・・・(I+ 、I2. I3+・・
・・・・)・・・信号電極群。 If(2 33福引電極群 (Q) (b) 第6図
Claims (3)
- (1)下記一般式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) (ただし、R^1は炭素数1〜16のアルキル基を示し
、C^*は不斉炭素原子を示す。kは2〜5の整数であ
り、lは1または2である。 Y_1はアルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子(フ
ッ素、塩素、臭素)又は水素原子を示す。またAはOH
基、ハロゲン又は▲数式、化学式、表等があります▼基
である。 (ただしmは1または2、nは0または1であり、Zは
−O−もしくは−S−を示す。R^2は炭素数4〜16
のアルキル基又はアルコキシ基を示す。Y_2はアルキ
ル基、アルコキシ基、ハロゲン原子(フッ素、塩素、臭
素)又は水素原子を示す。)) で表わされる化合物。 - (2)下記一般式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) (ただし、R^1は炭素数1〜16のアルキル基を示し
、C^*は不斉炭素原子を示す。kは2〜5の整数であ
り、lは1または2である。 Y_1はアルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子(フ
ッ素、塩素、臭素)又は水素原子を示す。またAはOH
基、ハロゲン又は▲数式、化学式、表等があります▼基
である。 (ただしmは1または2、nは0または1であり、Zは
−O−もしくは−S−を示す。R^2は炭素数4〜16
のアルキル基又はアルコキシ基を示す。Y_2はアルキ
ル基、アルコキシ基、ハロゲン原子(フッ素、塩素、臭
素)又は水素原子を示す。)) で表わされる化合物を少なくとも1種類含有することを
特徴とする液晶組成物。 - (3)下記一般式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) (ただし、R^1は炭素数1〜16のアルキル基を示し
、C^*は不斉炭素原子を示す。kは2〜5の整数であ
り、lは1または2である。 Y_1はアルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子(フ
ッ素、塩素、臭素)又は水素原子を示す。またAはOH
基、ハロゲン又は▲数式、化学式、表等があります▼基
である。 (ただしmは1または2、nは0または1であり、Zは
−O−もしくは−S−を示す。R^2は炭素数4〜16
のアルキル基又はアルコキシ基を示す。Y_2はアルキ
ル基、アルコキシ基、ハロゲン原子(フッ素、塩素、臭
素)又は水素原子を示す。)) で表わされる化合物を少なくとも1種類含有する液晶組
成物を使用することを特徴とする液晶素子。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61243682A JPH0617336B2 (ja) | 1986-10-13 | 1986-10-13 | 光学活性な液晶性化合物、それを含む液晶組成物及びそれを用いた液晶素子 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61243682A JPH0617336B2 (ja) | 1986-10-13 | 1986-10-13 | 光学活性な液晶性化合物、それを含む液晶組成物及びそれを用いた液晶素子 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6396152A true JPS6396152A (ja) | 1988-04-27 |
JPH0617336B2 JPH0617336B2 (ja) | 1994-03-09 |
Family
ID=17107418
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP61243682A Expired - Lifetime JPH0617336B2 (ja) | 1986-10-13 | 1986-10-13 | 光学活性な液晶性化合物、それを含む液晶組成物及びそれを用いた液晶素子 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0617336B2 (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0328498A2 (en) * | 1988-02-08 | 1989-08-16 | SKF Nova AB | Anionic compounds derived from non-ionic surface active agents and compositions containing anionic compounds derived from non-ionic surface active agents |
EP0331085A2 (en) * | 1988-02-29 | 1989-09-06 | Montefibre S.p.A. | Polyoxyalkylene ether derivatives of carboxylic acid salts and esters |
US5068054A (en) * | 1989-03-13 | 1991-11-26 | International Business Machines Corporation | Ferroelectric liquid crystals |
EP0512352A2 (en) * | 1991-05-09 | 1992-11-11 | F. Hoffmann-La Roche Ag | Substituted carboxylic acid derivatives |
-
1986
- 1986-10-13 JP JP61243682A patent/JPH0617336B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0328498A2 (en) * | 1988-02-08 | 1989-08-16 | SKF Nova AB | Anionic compounds derived from non-ionic surface active agents and compositions containing anionic compounds derived from non-ionic surface active agents |
EP0331085A2 (en) * | 1988-02-29 | 1989-09-06 | Montefibre S.p.A. | Polyoxyalkylene ether derivatives of carboxylic acid salts and esters |
US5068054A (en) * | 1989-03-13 | 1991-11-26 | International Business Machines Corporation | Ferroelectric liquid crystals |
EP0512352A2 (en) * | 1991-05-09 | 1992-11-11 | F. Hoffmann-La Roche Ag | Substituted carboxylic acid derivatives |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0617336B2 (ja) | 1994-03-09 |
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