JPS6370142U - - Google Patents
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- Publication number
- JPS6370142U JPS6370142U JP16398886U JP16398886U JPS6370142U JP S6370142 U JPS6370142 U JP S6370142U JP 16398886 U JP16398886 U JP 16398886U JP 16398886 U JP16398886 U JP 16398886U JP S6370142 U JPS6370142 U JP S6370142U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- cap
- gas inlet
- attached
- rotation mechanism
- rotating
- Prior art date
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- Granted
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 3
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 claims description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims 1
Description
第１図は本考案の一実施例を示す縦断面図、第
２図は第１図におけるＡ―Ｂ線位置での断面図、
第３図は第１図中のＣ―Ｄ線位置から見たキヤツ
プ部分の上面図である。 ２……プロセスチユーブ、４……ガス導入口、
６……下端開口、８……ガス拡散板、１０，１２
……ヒータ、１４……キヤツプ、２５……第１の
回転機構、２６―１〜２６―４……ウエハ支持台
、２８―１〜２８―４……第２の回転機構、３０
……ウエハ。
２図は第１図におけるＡ―Ｂ線位置での断面図、
第３図は第１図中のＣ―Ｄ線位置から見たキヤツ
プ部分の上面図である。 ２……プロセスチユーブ、４……ガス導入口、
６……下端開口、８……ガス拡散板、１０，１２
……ヒータ、１４……キヤツプ、２５……第１の
回転機構、２６―１〜２６―４……ウエハ支持台
、２８―１〜２８―４……第２の回転機構、３０
……ウエハ。
Claims (1)
- 上端にガス導入口をもち、下端が開口している
縦型プロセスチユーブ内の前記ガス導入口の下方
に多数の孔をもつガス拡散板を前記ガス導入口に
対向して設け、このプロセスチユーブの中心部及
び外側側面にヒータを設け、回転可能に支持され
たキヤツプをこのプロセスチユーブの下端開口に
着脱可能に設けるとともに、このキヤツプを回転
させる第１の回転機構を設け、このキヤツプには
ウエハを水平方向に支持して垂直方向に配列する
複数のウエハ支持台を前記ヒータの間に空間に挿
入されるように位置決めして取りつけ、これらの
各ウエハ支持台を自転させる第２の回転機構を設
けた熱処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1986163988U JPH075630Y2 (ja) | 1986-10-24 | 1986-10-24 | 熱処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1986163988U JPH075630Y2 (ja) | 1986-10-24 | 1986-10-24 | 熱処理装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6370142U true JPS6370142U (ja) | 1988-05-11 |
| JPH075630Y2 JPH075630Y2 (ja) | 1995-02-08 |
Family
ID=31092694
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1986163988U Expired - Lifetime JPH075630Y2 (ja) | 1986-10-24 | 1986-10-24 | 熱処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH075630Y2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH03285328A (ja) * | 1990-03-31 | 1991-12-16 | Tokyo Electron Sagami Ltd | 縦型熱処理装置 |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5565242B2 (ja) * | 2010-09-29 | 2014-08-06 | 東京エレクトロン株式会社 | 縦型熱処理装置 |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5787055U (ja) * | 1980-11-13 | 1982-05-28 | ||
| JPS6025143U (ja) * | 1983-07-26 | 1985-02-20 | 三洋電機株式会社 | 半導体熱処理炉 |
| JPS61212014A (ja) * | 1985-03-18 | 1986-09-20 | Tokyo Erekutoron Kk | 化学的気相成長法による半導体ウエハ処理装置 |
| JPS61214512A (ja) * | 1985-03-20 | 1986-09-24 | Hitachi Ltd | 処理装置 |
-
1986
- 1986-10-24 JP JP1986163988U patent/JPH075630Y2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5787055U (ja) * | 1980-11-13 | 1982-05-28 | ||
| JPS6025143U (ja) * | 1983-07-26 | 1985-02-20 | 三洋電機株式会社 | 半導体熱処理炉 |
| JPS61212014A (ja) * | 1985-03-18 | 1986-09-20 | Tokyo Erekutoron Kk | 化学的気相成長法による半導体ウエハ処理装置 |
| JPS61214512A (ja) * | 1985-03-20 | 1986-09-24 | Hitachi Ltd | 処理装置 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH03285328A (ja) * | 1990-03-31 | 1991-12-16 | Tokyo Electron Sagami Ltd | 縦型熱処理装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH075630Y2 (ja) | 1995-02-08 |