JPS6344622A - Display element - Google Patents

Display element

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Publication number
JPS6344622A
JPS6344622A JP61188732A JP18873286A JPS6344622A JP S6344622 A JPS6344622 A JP S6344622A JP 61188732 A JP61188732 A JP 61188732A JP 18873286 A JP18873286 A JP 18873286A JP S6344622 A JPS6344622 A JP S6344622A
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JP
Japan
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light
shielding layer
display element
light shield
shielding
Prior art date
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Application number
JP61188732A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Yoshio Sugimoto
杉本 四士男
Yutaka Uchida
裕 内田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Kyocera Display Corp
AGC Inc
Original Assignee
Asahi Glass Co Ltd
Kyocera Display Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Asahi Glass Co Ltd, Kyocera Display Corp filed Critical Asahi Glass Co Ltd
Priority to JP61188732A priority Critical patent/JPS6344622A/en
Publication of JPS6344622A publication Critical patent/JPS6344622A/en
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  • Electrochromic Elements, Electrophoresis, Or Variable Reflection Or Absorption Elements (AREA)
  • Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
  • Liquid Crystal (AREA)

Abstract

PURPOSE:To prevent an upper and a lower electrode from being short-circuited at a light shield layer part by forming the light shield layer of the 1st light shield layer which contains a conductive material and the 2nd light shield material made of only a non-conductive material. CONSTITUTION:A part 8 where powder of a conductive pigment coagulates in the 1st light shield layer 3 increases the thickness of the light shield layer to form a projection structure. The 2nd light shield layer 4 is laminated on the 1st light shield layer 3. Therefore, even if an electrode 2B on a lower substrate contacts a light shield layer formed on an upper substrate at the time of the application of pressure to the substrates of a liquid crystal display element, the electrode that this electrode contacts is the 2nd light shield layer 4 which has no conductivity, so the upper and lower electrodes 2A and 2B are never short-circuited.

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、内面に遮光層を形成した表示素子に関するも
のである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Industrial Field of Application] The present invention relates to a display element having a light shielding layer formed on its inner surface.

[従来の技術] 液晶表示素子のような一対の電極付の基板間に液晶等の
電気光学的表示媒体を挟持し、これら電極間に電圧を印
加することにより、電気光学的表示媒体の光学的状態を
変化させて表示を行う表示素子の表示品位を向上させる
ために、非表示部の透過光縫を軽減し、表示オン部と背
景部のコントラストを同上させるために、非表示部に遮
光層が形成されるようになってきている。
[Prior Art] An electro-optic display medium such as a liquid crystal is sandwiched between a pair of electrode-attached substrates such as a liquid crystal display element, and a voltage is applied between these electrodes to increase the optical power of the electro-optic display medium. In order to improve the display quality of display elements that perform display by changing the state, a light-shielding layer is added to the non-display area in order to reduce the transmitted light stitching in the non-display area and to improve the contrast between the display-on area and the background area. are beginning to form.

このC光層は、表示素子のセル内部または外部に形成さ
れるが、セル外部の場合には、その遮光層が目立ってし
まったり、斜め方向から見た場合に基板のノHみによっ
て表示と遮光層がずれて見えたりするため、セル内部に
遮光層を形成し、表示のオフ部と遮光層による非表示部
との差が目立たなくするとともにそのずれを防止するよ
うな構造が望まれている。
This C light layer is formed inside or outside the cell of the display element, but if it is outside the cell, the light shielding layer may become noticeable or the display may be obscured due to the heat of the substrate when viewed from an oblique direction. Since the light-shielding layer may appear shifted, a structure is desired in which a light-shielding layer is formed inside the cell to make the difference between the off-display area and the non-display area due to the light-shielding layer less noticeable, and to prevent this shift. There is.

また、この遮光層を形成する方法としては。Also, as a method for forming this light shielding layer.

染色法、メツキ法、蒸着法、印刷法等の方法が知られて
いる。
Methods such as a dyeing method, a plating method, a vapor deposition method, and a printing method are known.

この染色法では、微細なバターニングは可能ではあるが
、染色層の形成、染色層のバターニング、染色、防染処
理、バターニングレジストの除去と工程が複雑であり、
微細なカラーフィル々−の形成等には適しているが、こ
のような遮光層の形成としては作業性が、「コく、コス
トが高いという欠点があった。
Although fine patterning is possible with this dyeing method, the process is complicated, including formation of the dyed layer, patterning of the dyed layer, dyeing, resist dyeing treatment, and removal of the patterning resist.
Although it is suitable for forming fine color films, etc., it has the drawbacks of being difficult to work with and high cost for forming such a light-shielding layer.

メツキ法では、電解メツキ、%17tt解メツキの2種
類の方法があるが、いずれの場合にも、C光層が電極と
重なる場合には、メツキ層と電極層との間に絶縁層が必
要となる。このメー7キによる遮光層はその遮光という
目的からして、かなり広い面積を有しており、かつその
全面にわたって導電性が高い、このため、絶縁層を形成
してもその絶縁層にピンホールがあれば、電極とメツキ
層と電極により電極間に短絡を生じることとなり、大き
な問題となっていた。
There are two types of plating methods: electrolytic plating and %17tt deplating. In either case, if the C light layer overlaps the electrode, an insulating layer is required between the plating layer and the electrode layer. becomes. Considering the purpose of blocking light, the light-shielding layer formed by this makeup has a fairly wide area and is highly conductive over its entire surface.For this reason, even if an insulating layer is formed, there will be pin holes in the insulating layer. If there were, a short circuit would occur between the electrodes, the plating layer, and the electrodes, which would be a big problem.

また、メツキ法による遮光層のバターニングを行うには
2つの方法がある。その1つは、遮光層の形成前にバタ
ーニングする場合であり、この場合にはメツキ電極パタ
ーンを予め所定のパターンに形成しておく必要がある。
Furthermore, there are two methods for patterning the light-shielding layer using the plating method. One of them is the case where patterning is performed before forming the light-shielding layer, and in this case, it is necessary to form the plating electrode pattern into a predetermined pattern in advance.

また2つ目は、遮光層形成後にバターニングする場合で
あり、フォトリングラフィまたは印刷法でレジストパタ
ーンを付与しなけれぼらない、このため、いずれの方法
をとっても工程が増加し、作業性が悪く、コストも高い
ものであった。
The second case is when buttering is performed after forming the light-shielding layer, and a resist pattern must be applied using photolithography or printing. Therefore, no matter which method is used, the number of steps increases and workability is poor. However, the cost was also high.

さらに、このメーノキ法で形成された遮光層はメタリッ
ク感じとなり、そのような感じを望まれる場合にはよか
ったが、メタリックな感じを跨望されない場合には好ま
しいものではなく、その自由度が低いものであった。
Furthermore, the light-shielding layer formed by this method has a metallic feel, which is good when such a feeling is desired, but it is not preferable when a metallic feel is not desired, and the degree of freedom is low. Met.

蒸着法は、真空下で行うため、生産性が悪くコストが高
いものであり、メツキ法と同様にメタリックな感じのも
のとなる。
The vapor deposition method is performed under vacuum, resulting in poor productivity and high cost, and results in a metallic appearance similar to the plating method.

これに対して印刷法は、着色インクを使用して、遮光層
の形成と同時にそのバターニングも行うことができるた
め、生産性がよく、コストも安く、その見た目の感じも
種々のものが容易に得られる。
On the other hand, the printing method uses colored ink and can perform patterning at the same time as forming the light-shielding layer, so productivity is high, costs are low, and it is easy to create a variety of looks. can be obtained.

この遮光層用の着色インクとしては、黒い顔料によるも
のと、シアン、マゼンダ、イエローの3色の顔料を混合
する等して黒い色調としたもの等がある。この顔料とし
て、これら3色の顔料を混合して使用する場合には、こ
れらの顔料は導電性がないため、これら顔ネ4の微粉を
使用すれば、この遮光層も絶縁性となり、短絡等の問題
を生じないが、高い遮光性が得られにくいという問題点
があった。
Colored inks for the light-shielding layer include those using black pigments and those that have a black tone by mixing pigments of three colors, cyan, magenta, and yellow. When using a mixture of these three color pigments as this pigment, these pigments are not conductive, so if you use the fine powder of these three colors, this light-shielding layer will also become insulating, which will prevent short circuits, etc. Although this method does not cause any problems, it does have the problem that it is difficult to obtain high light-shielding properties.

このため、顔料に導電性はあるが高い遮光性を示すカー
ボンの微粉を使用すことが提案されている。このカーボ
ンを顔料として使用した場合においても、遮光層部分で
2枚の基板の電極が対向していなければ、何ら問題を生
じていなかった。
For this reason, it has been proposed to use fine carbon powder, which has electrical conductivity but exhibits high light-shielding properties, as a pigment. Even when this carbon was used as a pigment, no problem occurred as long as the electrodes of the two substrates did not face each other in the light-shielding layer portion.

[発明の解決しようとする問題点コ しかし、表示が複雑化し、非表示部にも表示電極へのリ
ード配線が多数引き廻されることとなり、遮光層部で多
くの電極がt4向するようになり、また、表示素子が大
型化する等して上下の基板がたわみやすくなってきたこ
ともあり。
[Problems to be solved by the invention] However, the display becomes complicated, and many lead wires to the display electrodes are routed even in the non-display area, and many electrodes are oriented in the t4 direction in the light-shielding layer. Also, as display elements have become larger, the upper and lower substrates have become more flexible.

遮光層部で上下の電極が短絡を生じることが起り始めて
いる。
Short circuits are starting to occur between the upper and lower electrodes in the light-shielding layer.

従来カーボンの微粉を顔料として使用していても、この
カーボンの微粉は細かい粉として混入されているのみで
あり、導電性接若材のようにこの微粉がつながって電気
を流すことはほとんど考えられなく、事実隣接する電極
間で短絡を生じることは生じていなかった。
Even if fine carbon powder is conventionally used as a pigment, this fine carbon powder is only mixed in as a fine powder, and it is almost impossible to imagine that this fine powder connects and conducts electricity like in conductive adhesives. In fact, no short circuit occurred between adjacent electrodes.

しかし、この上下の電極が短絡を生じた表示素子を調査
したところ次のようなことがわかった。まず、このカー
ボン微粉は例えば液晶セルのセル間隙である5〜10μ
m程度に比して充分に細かくされてはいるが、インク中
で完全に分散していないことがわかった。このため、第
2図に示すように、このインクを使用して基板1に印刷
した際に、カーボンの微粉が凝集した部分がカーボンを
多く含んだ突起2として形成され、その凝集部分が導電
性先イイすることがわかった畳 このような突起を有する遮光層が形成された基板を使用
してでル化を行うと、2!板へのわずかな加圧で、他方
の基板の電極とこの遮光層の形成された側の電極とが、
この遮光層の突起部分で接触して短絡を生じることがわ
かった。
However, when we investigated a display element in which a short circuit occurred between the upper and lower electrodes, we found the following. First, this carbon fine powder is, for example, 5 to 10 μm, which is the cell gap of a liquid crystal cell.
It was found that although the particles were sufficiently finely divided compared to about m, they were not completely dispersed in the ink. Therefore, as shown in Fig. 2, when this ink is used to print on the substrate 1, parts where carbon fine powder has aggregated are formed as protrusions 2 containing a large amount of carbon, and the aggregated parts become conductive. If you use a substrate on which a light-shielding layer with such protrusions is formed to make a tatami mat, which has been found to be effective, 2! By applying slight pressure to the plate, the electrode on the other substrate and the electrode on the side where this light shielding layer is formed,
It was found that contact occurred at the protruding portion of the light shielding layer, causing a short circuit.

これは電極の引き廻しが増え、非表示部で′上極が対向
している部分が増えていること及び表示、に子が大型化
し、外部からの圧力で表示素子の基板が部分的に押され
て、基板間隙が部分的に狭くなるということからこの現
象が目立ち始めてきたものであり、この短絡の解決が望
まれていた。
This is due to an increase in the number of electrodes being routed, an increase in the number of areas where the upper electrode faces the non-display area, and an increase in the size of the display panel, causing the substrate of the display element to be partially pushed due to external pressure. As a result, this phenomenon has become noticeable as the gap between the substrates becomes partially narrow, and a solution to this short circuit has been desired.

これを防止するために、遮光層の膜厚を薄くすることも
考えられたが、遮光性が低下し実用的でなかった。また
、カーボンの量を減らし。
In order to prevent this, it was considered to reduce the thickness of the light-shielding layer, but the light-shielding properties deteriorated and this was not practical. Also, reduce the amount of carbon.

それによる遮光性の低下を他の非導電性の顔料の添加で
補うことも考えられたが、突起の数は減少しても完全に
なくすことができなく、短絡の解決にはなっていなかっ
た。さらに、非4電性ItrJ料のみを使用することも
考えられたが、遮光層をかなり厚くしなくてはならなく
、狭い表示素子基板間にうまく配置することが困難であ
った・ [問題を解決するための手段〕 本発明はかかる問題点を解決すべくなされたものであり
、一対の電極付の基板間に電気光学的表示媒体を挟持し
、少なくとも一方の基板の内面に遮光層を形成し、これ
ら電極間に電圧を印加することにより、電気光学的表示
媒体の光学的状態を変化させてなる表示素子において。
It was considered that the resulting decrease in light-shielding properties could be compensated for by adding other non-conductive pigments, but even if the number of protrusions was reduced, it could not be completely eliminated, and this did not solve the problem of short circuits. . Furthermore, it was considered to use only a non-tetraelectric ItrJ material, but the light-shielding layer would have to be considerably thicker, and it would be difficult to arrange it well between the narrow display element substrates. Means for Solving] The present invention has been made to solve these problems, and includes a method in which an electro-optical display medium is sandwiched between a pair of substrates with electrodes, and a light-shielding layer is formed on the inner surface of at least one of the substrates. However, in a display element in which the optical state of an electro-optic display medium is changed by applying a voltage between these electrodes.

遮光層が導電性物質を含有する第1の遮光層と非導電性
物質のみからなる第2の遮光層とからなるものであるこ
とを特徴とする表示素子を提案するものである。
The present invention proposes a display element characterized in that the light-shielding layer is composed of a first light-shielding layer containing a conductive substance and a second light-shielding layer consisting only of a non-conductive substance.

本発明では、2層の遮光層を形成しているため、カーボ
ンのように導電性の顔料を混入した遮光性の高いインク
を使用することができ1表示部と非表示部のコ、/トラ
ストが向上し、かつそれによる基板間短絡という欠点を
生じにくいものである。
In the present invention, since two light-shielding layers are formed, it is possible to use highly light-shielding ink containing a conductive pigment such as carbon. This improves the performance and makes it difficult to cause short circuits between substrates.

本発明に使用できる表示素子としては、一対の電極付の
ノ、(板間に電気光学的表示媒体を)丈持し、少なくと
も一方の基板の内面に遮光層を形成し、これら電極間に
電圧を印加することにより、電気光学的表示媒体の光学
的状態を変化させてなる表示素子であればよく、具体的
には、液晶表示素子、エレクトロクロミック表示素子、
電気泳動表示素子、PLZT表示素子等公知の種々の表
示素子が使用できる。
The display element that can be used in the present invention has a pair of electrodes (an electro-optic display medium is held between the plates), a light-shielding layer is formed on the inner surface of at least one of the substrates, and a voltage is applied between these electrodes. Any display element may be used as long as it is formed by changing the optical state of an electro-optic display medium by applying a
Various known display elements such as electrophoretic display elements and PLZT display elements can be used.

この表示素子に使用される電極は通常酸化インジウム−
酸化スズ(ITO)、酸化スズ等の透1!II電極とさ
れることが多いが、これに低抵抗の金属リードを併用し
たり、金属性の反射電極や不透明な材料による電極を形
成して使用されてもよい。
The electrodes used in this display element are usually indium oxide.
Clearance of tin oxide (ITO), tin oxide, etc. 1! Although it is often used as a II electrode, it may also be used in conjunction with a low-resistance metal lead, or may be formed with a metallic reflective electrode or an electrode made of an opaque material.

この電極が形成されている基板は、ガラス、プラスチッ
ク等の基板が使用できるが、少なくとも一方の基板は透
明な基板とされる。反射型の表示素子の場合には裏側の
基板を不透明ガラス、セラミックス、金属等の不透明な
材料としてもよい。
The substrate on which the electrodes are formed can be made of glass, plastic, etc., and at least one of the substrates is a transparent substrate. In the case of a reflective display element, the back substrate may be made of an opaque material such as opaque glass, ceramics, or metal.

本発明の遮光層は、導電性物質を含有する第1の遮光層
と非導電性物質のみからなる第2の遮光層とからなるも
のである。この第1の遮光層は、遮光性の高い導電性の
顔料を多く含む遮光層とされる。これに積層される第2
の遮光層は非導電性物質のみからなる遮光層であり、こ
の2つの遮光層を併用することにより、この断面方向に
導電性を示すことがなくなる。これにより、表示素子の
上下の基板を加圧しても遮光層によって、上下の基板の
電極が短縮するおそれがなくなる。
The light-shielding layer of the present invention consists of a first light-shielding layer containing a conductive substance and a second light-shielding layer consisting only of a non-conductive substance. This first light-shielding layer is a light-shielding layer containing a large amount of conductive pigment with high light-shielding properties. The second layer laminated on this
The light-shielding layer is a light-shielding layer made only of a non-conductive material, and by using these two light-shielding layers together, conductivity will not be exhibited in this cross-sectional direction. This eliminates the risk that the electrodes on the upper and lower substrates will be shortened by the light shielding layer even if the substrates on the upper and lower sides of the display element are pressurized.

この2層の遮光層は同一の基板内面に形成されてもよい
し、夫々別の基板の内面に形成されてもよい。
These two light shielding layers may be formed on the inner surface of the same substrate, or may be formed on the inner surfaces of different substrates.

この2層の遮光層は、同一の基板内面に形成される場合
には、通常表側、即ち、a東名側の基板の内面に形成さ
れていればよいが、用途によっては裏の基板の内面に形
成されてもよい。
When these two light-shielding layers are formed on the inner surface of the same substrate, it is usually sufficient to form them on the front side, that is, the inner surface of the Tomei side of the substrate, but depending on the application, they may be formed on the inner surface of the back substrate. may be formed.

また、夫々別の基板の内面に形成される場合には1表側
、即ち、ri9.東名側の基板の内面に遮光性の高い第
1の遮光層が形成されることが好ましい。
In addition, when formed on the inner surface of separate substrates, one front side, that is, ri9. It is preferable that a first light-shielding layer with high light-shielding properties be formed on the inner surface of the substrate on the Tomei side.

もっとも、印刷用のマスク等も含めての生産性等の点か
らみて、この2層の遮光層を同一の基板内面に形成する
ことが好ましい。
However, from the viewpoint of productivity including printing masks, etc., it is preferable to form these two light shielding layers on the inner surface of the same substrate.

この第1の遮光層は、具体的にはカーボン等の導電性は
あるが、遮光力が大きい顔料の微粉を接ri性の材料に
混合した着色イックにより形成されればよく、印刷する
ことにより遮光層の形成とそのバターニングを同時に行
うことができ、生産性が高い。
Specifically, this first light-shielding layer may be formed of a colored pigment made by mixing fine powder of a pigment such as carbon, which is conductive but has a large light-shielding power, with an adhesive material, and may be formed by printing. Formation of the light-shielding layer and its patterning can be performed at the same time, resulting in high productivity.

この第1の遮光層の厚みは、所望の遮光性が得られる厚
みにすればよく、通常0.2〜3gm程度とされればよ
い。
The thickness of this first light-shielding layer may be set to a thickness that provides a desired light-shielding property, and is usually about 0.2 to 3 gm.

第2の遮光層は、導電性はないが、遮光性が導電性顔料
よりも低い顔料の微粉を混入した着色インク、例えばシ
アン、マゼンダ、イエローの3色の顔料を混合する等し
て黒い色調としたL″色インクにより形成されればよい
、この第2の遮光層もを印刷法で形成することにより生
産性がよくなる。
The second light-shielding layer is made of a colored ink containing fine powder of a pigment that is not conductive but has a lower light-shielding property than a conductive pigment, for example, by mixing pigments of three colors, cyan, magenta, and yellow, to create a black tone. Productivity is improved by forming this second light-shielding layer by a printing method, which may be formed using L'' color ink.

この第2の遮光層の厚みは、所望の絶縁性が得られる厚
みにすればよく、これも通常0.2〜3μm程度とされ
ればよい。
The thickness of this second light-shielding layer may be set to a thickness that provides desired insulation properties, and this may also normally be about 0.2 to 3 μm.

また、印刷法で遮光層を形成することは前述の如く生産
性が高い方法であり、1層目を印刷し、乾爆後、2層目
を印刷するという工程をとられればよい、もちろん、着
色インクの性質によっては、2層目印刷前に乾燥をしな
かったり、予備乾燥のみして2層目印刷後まとめて乾燥
させてもよい。
In addition, forming a light shielding layer by printing is a method with high productivity as mentioned above, and it is only necessary to print the first layer, dry blast, and then print the second layer. Depending on the properties of the colored ink, it may not be dried before printing the second layer, or it may be pre-dried only and then dried all at once after printing the second layer.

また、この遮光層の見た目の感じを変えるために、観察
者側にさらに他の着色層や干渉膜を1層以上形成したり
、電気光学的表示媒体と接する面に液晶配向膜のような
層を形成してもよい。
In addition, in order to change the appearance of this light-shielding layer, one or more other colored layers or interference films may be formed on the viewer's side, or a layer such as a liquid crystal alignment film may be formed on the surface in contact with the electro-optic display medium. may be formed.

なお、この第1(7J遮光層での導電性材t1の凝集は
、必ず生じるとは限らない。しかし、このような着色イ
ンクはある程度保存して使用することもあり、作業性の
点からみて常に凝集のないインクを選別して使用すると
か可能であっても凝集をなくす操作をして使用すること
は、極めて困難であり、作業性が悪いものとなる。この
ため、生産性を考えると、たとえ凝集を生じても問題を
生じないようにする本発明の構成は極めて有用である。
Note that aggregation of the conductive material t1 in the first (7J) light-shielding layer does not necessarily occur. However, such colored ink may be stored to some extent and used, and from the point of view of workability. Even if it is possible to always select and use ink that does not agglomerate, it is extremely difficult to use an operation that eliminates agglomeration and results in poor workability.For this reason, when considering productivity, The structure of the present invention that does not cause problems even if aggregation occurs is extremely useful.

また1 この第1の遮光層での導電性材料の凝集は、せ
いぜい数ルm程度であり、従来のこの遮光層のみの場合
にも基板間での短絡の危険性はあったが、同じ基板上の
隣接する電極間のギャップは通常これよりも広い幅とさ
れているため、この隣接′i!極間での短絡の問題はほ
とんどなかったため、この基板の電極上に直接部1の遮
光層を形成しても通常は問題はない、もっとも、例えば
アクティブマトリックス型の表示素子等で、この電極間
のギャップがこの顔ネ4の凝集による直径にほぼ等しい
かそれよりも狭い幅にされる場合には、第1の遮光層が
直接電極に接触しないように何らかの絶縁層を電極上に
形成することが好ましい、A体内には、遮光層を3層構
造とし、一対の導電性のない第2の遮光層で導電性の凝
集を生じる可能性のある第1の遮光層の両面に積層した
構造とするとか遮光性はないが絶縁性の材料の層を2層
の遮光層の下に形成すればよい。
In addition, the aggregation of the conductive material in this first light-shielding layer is at most a few meters, and even in the case of only this light-shielding layer, there was a risk of short circuit between substrates, but if the same substrate Since the gap between adjacent electrodes on the top is usually wider than this, this adjacent 'i! Since there were almost no problems with short circuits between the electrodes, there is usually no problem even if the light shielding layer of part 1 is formed directly on the electrodes of this substrate. If the gap is approximately equal to or narrower than the diameter of the agglomerated face 4, an insulating layer of some kind may be formed on the electrode so that the first light-shielding layer does not come into direct contact with the electrode. Preferably, A has a structure in which the light-shielding layer has a three-layer structure in the body, and a pair of non-conductive second light-shielding layers are laminated on both sides of the first light-shielding layer that may cause conductive aggregation. Alternatively, a layer of an insulating material that does not have a light blocking property may be formed under the two light blocking layers.

以下に 本発明の表示泰子の代表的な例を液晶表示素子
を例にとって図面を参照して説明する。
A typical example of the display device of the present invention will be described below with reference to the drawings, taking a liquid crystal display element as an example.

第1図は本発明の遮光層を有する液晶表示素子の例の断
面図であり、第2図は1本発明のC光層を有する(由の
液晶表示素子の例の断面図である。
FIG. 1 is a cross-sectional view of an example of a liquid crystal display element having a light shielding layer of the present invention, and FIG. 2 is a cross-sectional view of an example of a liquid crystal display element having a C light layer of the present invention.

第1図において、LA、IBはガラス等の透明基板であ
り、2A、2Bはその内面に形成されたITO(酸化イ
ンジウム−酸化スズ)等の透明電極であり、 3は第1
の遮光層、 4は第2の遮光層であり、5A、5Bは液
晶配向膜であり、 6は基板のソール材であり、 7は
内部に封入された液晶である。
In FIG. 1, LA and IB are transparent substrates such as glass, 2A and 2B are transparent electrodes such as ITO (indium oxide-tin oxide) formed on their inner surfaces, and 3 is a first
4 is a second light shielding layer, 5A and 5B are liquid crystal alignment films, 6 is a sole material of the substrate, and 7 is a liquid crystal sealed inside.

この例では2層の遮光層は、非表示部に形成されており
、表側の基板の電極上に第1の遮光層続いて第2の遮光
層という順に形成されている。
In this example, two light-shielding layers are formed in the non-display area, and are formed on the electrodes of the front substrate in the following order: the first light-shielding layer, and then the second light-shielding layer.

第2図の例では、2層の遮光層は夫々別の基板に形成さ
れており1表側の透明基板IAの透1i11を極2A旧
に第1の遮光層3が形成されており、裏側の透lJ+ 
7!板IBの透明’iIf g 2 B−1追こ第2の
遮光層4が形成されており、別//の基板上に形成され
てはいるが、この2つのC光層で2層の遮光層が形成さ
れている。
In the example shown in FIG. 2, the two light-shielding layers are formed on separate substrates, and the first light-shielding layer 3 is formed on the transparent substrate 1i11 of the transparent substrate IA on the front side to the pole 2A, and the first light-shielding layer 3 is formed on the transparent substrate IA on the front side. Toru lJ+
7! A second light-shielding layer 4 is formed on the transparent plate IB, and although it is formed on a separate substrate, these two C light-shielding layers form a two-layer light-shielding layer. layers are formed.

[作用] 第3図は、第1図の遮光層の部分の拡大断面図であり、
導電性の顔料の微粉が凝集したところを示している。
[Function] FIG. 3 is an enlarged cross-sectional view of the light-shielding layer portion of FIG. 1,
This shows the agglomeration of fine conductive pigment powder.

この図において、第1の遮光層3で導電性の顔料の微粉
が凝集した部分8は、その部分のみ遮光層の厚さが厚く
なり、突出した構造となっている。未発1!11ではこ
の第1の遮光d3の上に第2の遮光層4が積層されてい
る。このため。
In this figure, in a portion 8 of the first light-shielding layer 3 where fine conductive pigment powder aggregates, the thickness of the light-shielding layer is thicker only in that portion, resulting in a protruding structure. In unreleased light 1!11, the second light shielding layer 4 is laminated on the first light shielding layer d3. For this reason.

たとえ液晶表示素子の基板が加圧されて下の基板の電極
2Bが、上の基板に形成された遮光層に接触することが
あっても、この電極が接触するのは導電性のない第2の
遮光層4であるため、上下の電極2^と2Bとの間での
短絡を生じない。
Even if the substrate of the liquid crystal display element is pressurized and the electrode 2B on the lower substrate comes into contact with the light-shielding layer formed on the upper substrate, this electrode will only come into contact with a non-conductive second layer. Since the light-shielding layer 4 is 4, no short circuit occurs between the upper and lower electrodes 2^ and 2B.

また、この例では、液晶表示素子の基本的構成について
のみ説明したが、この外、カラーフィルターを併用した
り、アクティブマトリックス用の能動素子を積層したり
、液晶層を2層にしたり、電極を絶縁層を介して2層に
したり、偏光膜、反射板、光源、導光体、各種フィルタ
ー等を積層したりする等公知の液晶表示素子の構成をと
ってもよく、ネマチック液晶のみでなく、コレステリッ
ク嬢品、スメクチック液晶等を使用した液晶表示素子に
も適用しうる。
In this example, only the basic structure of the liquid crystal display element was explained, but in addition to this, it is also possible to use color filters, stack active elements for active matrix, have two liquid crystal layers, and use electrodes. The structure of the liquid crystal display element may be well-known, such as having two layers with an insulating layer in between, or stacking polarizing films, reflectors, light sources, light guides, various filters, etc., and is not limited to nematic liquid crystal, but also cholesteric liquid crystal. It can also be applied to liquid crystal display elements using smectic liquid crystals, smectic liquid crystals, etc.

この説明においては、本発明に最も適している液晶表示
素子をその代表的例としてとり上げて説明したが、本発
明はこれに限られるものではなく、他の表示素子にも通
用しうる。
In this explanation, the liquid crystal display element most suitable for the present invention has been taken up as a representative example, but the present invention is not limited thereto and can be applied to other display elements.

[実施例] 実施例1 第1図に示すような構成で1表側の基板としてITO付
のガラス基板の非表示部に:51の遮光層としてカーボ
ンの微粉を顔料として混入した着色インクを印刷乾燥し
て約 1.2pmとじたものを、第2の遮光層としてセ
ピアインク(シアン、マゼンダ、イエローの3色の非導
電性の顔料を混合)を印刷乾燥して約1.2gmとした
ものを使用し、液晶配向膜としてポリイミドを7Qnm
つけてラビングしたものを使用した。
[Example] Example 1 With the configuration shown in Figure 1, a colored ink mixed with fine carbon powder as a pigment was printed and dried as a light-shielding layer of 51 on the non-display part of a glass substrate with ITO as the front side substrate. The second light-shielding layer was printed with sepia ink (a mixture of non-conductive pigments of three colors cyan, magenta, and yellow) and dried to a thickness of about 1.2 pm. 7Qnm polyimide is used as the liquid crystal alignment film.
I used the one that I applied and rubbed.

この第1の遮光層の遮光度は約95%であり、第2の遮
光層遮光度は約76%であり、2)′!Xの遮光層とし
た場合の光の透過率は約1.25%であった。
The light-shielding degree of this first light-shielding layer is about 95%, the light-shielding degree of the second light-shielding layer is about 76%, and 2)'! When used as a light shielding layer of X, the light transmittance was about 1.25%.

裏側の基板として、同じITO付のガラス基板に液晶配
向膜としてポリイミドを70nmつけてラビングしたも
のを使用した。
As the back side substrate, the same glass substrate with ITO was coated with 70 nm of polyimide as a liquid crystal alignment film and rubbed.

この2枚の基板の周辺を、シール材で表示部のセル間隙
が9uLmとなるようにシールして。
The periphery of these two substrates was sealed with a sealing material so that the cell gap in the display section was 9 μLm.

内部に液晶を封入して、セル間隙が9Bmの液晶セルを
製造した。
A liquid crystal cell with a cell gap of 9 Bm was manufactured by sealing liquid crystal inside.

比較例として、第1の遮光層のみを約1.2ルm形成し
た液晶表示素子も製造した。
As a comparative example, a liquid crystal display element in which only the first light-shielding layer was formed with a thickness of about 1.2 lumen was also manufactured.

このセルの上下の基板間での短絡の発生率を比較したと
ころ、未発明の実施例では短絡の発生はわずかに0.5
%であったのに対し、比較例では約5%にも達した。こ
のように本発明の表示素子は上下の基板を加圧しても上
下の基板間での短絡を生じにくい表示素子を容易に得る
ことができた。
When we compared the incidence of short circuits between the upper and lower substrates of this cell, we found that in the uninvented embodiment, the occurrence of short circuits was only 0.5.
%, whereas in the comparative example it reached about 5%. In this manner, the display element of the present invention could easily provide a display element that is unlikely to cause a short circuit between the upper and lower substrates even when the upper and lower substrates are pressurized.

実施例2 表側の基板に第1の遮光層を約1.2牌m、続いて配向
膜を70nmつけたものを使用し、裏側の基板に第2の
遮光層を約1.2延m、続いて配向膜を70nmつけた
ものを使用した外は実施例1と同様にしてセル形成した
。このセルも実施例1と同様基板を加圧しても、短絡の
発生はほとんど生じなかった。
Example 2 A first light-shielding layer of about 1.2 meters long was applied to the front substrate, followed by an alignment film of 70 nm thick, and a second light-shielding layer of about 1.2 meters long was applied to the back side substrate. Subsequently, a cell was formed in the same manner as in Example 1 except that an alignment film with a thickness of 70 nm was used. Even when the substrate was pressurized in this cell as in Example 1, almost no short circuit occurred.

実施例3 実施例1では電極の線間の幅を30μm以上としていた
ため、同一基板上での隣接電極間での短絡は生じていな
かったが、この線間の距離を10gm程度にした場合、
隣接電極間での短絡が発生することがあった。このため
、実施例1の第1の遮光層を形成する前に酸化ケイ素と
酸化チタンとによる 0.1ルmの厚みの1絶縁層を形
成した」二に第1の遮光層を形成した外は実施例1と同
様にしてセルを形成した。
Example 3 In Example 1, the width between the electrode lines was set to 30 μm or more, so no short circuit occurred between adjacent electrodes on the same substrate, but when the distance between the lines was set to about 10 gm,
Short circuits between adjacent electrodes could occur. For this reason, before forming the first light-shielding layer in Example 1, an insulating layer of silicon oxide and titanium oxide with a thickness of 0.1 μm was formed. A cell was formed in the same manner as in Example 1.

この結果、線間の距離を10μmにした場合においても
、隣接電極間での短絡は生じなかった。
As a result, even when the distance between the lines was 10 μm, no short circuit occurred between adjacent electrodes.

[発明の効果] 本発明では、前述の如く2層の遮光層を形成しているた
め、カーボンのように導電性の顔料上混入した遮光性の
高いインクを使用することができ、表示部と非表示部の
コントラストが向上し、かつそれによる基板間知に8と
いう欠点を生じにくいものである。
[Effects of the Invention] In the present invention, since two light-shielding layers are formed as described above, it is possible to use ink with high light-shielding properties mixed on a conductive pigment such as carbon, and the display area and The contrast of the non-display area is improved, and the defect 8 due to the substrate width is less likely to occur.

また、カーボンのように導′rヒ性の顔料を混入した遮
光性の高いインクの凝集をないよう番こ管理したり、凝
集をなくす操作を必要としなく、作業性がよいものでも
める。
In addition, it is not necessary to control the ink to prevent agglomeration of highly light-shielding ink containing an arsenic-conducting pigment such as carbon, or to perform an operation to eliminate agglomeration, and it is easy to use.

また、印刷法により、層の形成とバターニングを同時に
できるため、生産性がよく、また七の透過率即ち層の厚
みのコントロールも容易にできるため、その自由度も高
いものである。
Furthermore, the printing method allows layer formation and patterning to be performed simultaneously, resulting in good productivity, and also allows for easy control of the transmittance, ie, the thickness of the layer, providing a high degree of freedom.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は、本発明を液晶表示素子に適用した例の断面図
。 第2図は、本発明を液晶表示素子に適用した他の例の断
面図。 第3図は、:JS1図の遮光層部、の拡大断面図。 透明基板    :IA、IB 透明電極    :2A、2B 第1の遮光層  =3 第2の遮光層  、4 液晶配向jII4    ・5A、5Bンール材   
 °6 液晶      ;7 凝集した部分  二8 儀10 葉20 犀3区
FIG. 1 is a sectional view of an example in which the present invention is applied to a liquid crystal display element. FIG. 2 is a sectional view of another example in which the present invention is applied to a liquid crystal display element. FIG. 3 is an enlarged sectional view of the light-shielding layer portion of FIG. JS1. Transparent substrate: IA, IB Transparent electrode: 2A, 2B First light shielding layer = 3 Second light shielding layer, 4 Liquid crystal alignment jII4 ・5A, 5B Nur material
°6 Liquid crystal ;7 Agglomerated part 28 Gi10 Leaf 20 Rhinoceros 3 ward

Claims (8)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)一対の電極付の基板間に電気光学的表示媒体を挟
持し、少なくとも一方の基板の内面に遮光層を形成し、
これら電極間に電圧を印加することにより、電気光学的
表示媒体の光学的状態を変化させてなる表示素子におい
て、遮光層が導電性物質を含有する第1の遮光層と非導
電性物質のみからなる第2の遮光層とからなるものであ
ることを特徴とする表示素子。
(1) An electro-optical display medium is sandwiched between a pair of substrates with electrodes, and a light-shielding layer is formed on the inner surface of at least one of the substrates,
In a display element in which the optical state of an electro-optical display medium is changed by applying a voltage between these electrodes, the light-shielding layer consists of only a first light-shielding layer containing a conductive substance and a non-conductive substance. 1. A display element comprising: a second light-shielding layer;
(2)第1の遮光層の導電性物質がカーボンである特許
請求の範囲第1項記載の表示素子。
(2) The display element according to claim 1, wherein the conductive substance of the first light-shielding layer is carbon.
(3)遮光層が印刷法で形成される特許請求の範囲第1
項記載の表示素子。
(3) Claim 1 in which the light-shielding layer is formed by a printing method
Display element described in section.
(4)第1の遮光層と第2の遮光層とが積層されている
特許請求の範囲第1項記載の表示素子。
(4) The display element according to claim 1, wherein the first light-shielding layer and the second light-shielding layer are laminated.
(5)第1の遮光層が電極側に形成され、第2の遮光層
が電気光学的表示媒体側に形成されている特許請求の範
囲第4項記載の表示素子。
(5) The display element according to claim 4, wherein the first light-shielding layer is formed on the electrode side, and the second light-shielding layer is formed on the electro-optic display medium side.
(6)第1の遮光層と第2の遮光層とが夫々別の基板の
電極上に形成されている特許請求の範囲第1項記載の表
示素子。
(6) The display element according to claim 1, wherein the first light-shielding layer and the second light-shielding layer are formed on electrodes of different substrates.
(7)電気光学的表示媒体が液晶である特許請求の範囲
第1項〜第6項のいずれか一項記載の表示素子。
(7) The display element according to any one of claims 1 to 6, wherein the electro-optical display medium is a liquid crystal.
(8)遮光層の上に配向膜が形成されている特許請求の
範囲第7項記載の表示素子。
(8) The display element according to claim 7, wherein an alignment film is formed on the light shielding layer.
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JP2003014918A (en) * 2001-06-28 2003-01-15 Kyocera Corp Color filter and method for manufacturing the same, and liquid crystal display device

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