JPS6335283Y2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPS6335283Y2 JPS6335283Y2 JP12766784U JP12766784U JPS6335283Y2 JP S6335283 Y2 JPS6335283 Y2 JP S6335283Y2 JP 12766784 U JP12766784 U JP 12766784U JP 12766784 U JP12766784 U JP 12766784U JP S6335283 Y2 JPS6335283 Y2 JP S6335283Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- cooking
- cooking plate
- locking pin
- magnetron
- support base
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
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Landscapes
- Constitution Of High-Frequency Heating (AREA)
- Electric Ovens (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
[考案の目的]
(産業上の利用分野)
本願はガスバーナその他の熱源による調理と、
マグネトロンによる調理を自在に行なえる複合式
の調理器に関する。
マグネトロンによる調理を自在に行なえる複合式
の調理器に関する。
(従来の技術)
調理器の支持台は調理物より生ずる油滴により
汚れ勝ちとなるために、調理皿を支持する調理皿
支持台を耐熱絶縁物で形成し、セルフクリーニン
グを施したものが知られている。
汚れ勝ちとなるために、調理皿を支持する調理皿
支持台を耐熱絶縁物で形成し、セルフクリーニン
グを施したものが知られている。
(実開昭58−67211号)
(考案が解決しようとする問題点)
支持台にはセルフクリーニングコートを施して
いるが、このコート材には、Fe203、Ti02等の金
属酸化物が成分として含まれていて、これらの成
分は誘電体のためマグネトロンの発振電波により
還元されやすい。支持台の固定係止ピンを金属片
(ステンレス)としているためこれらと導通して
異常スパーク現象が発生する不都合を有してい
る。
いるが、このコート材には、Fe203、Ti02等の金
属酸化物が成分として含まれていて、これらの成
分は誘電体のためマグネトロンの発振電波により
還元されやすい。支持台の固定係止ピンを金属片
(ステンレス)としているためこれらと導通して
異常スパーク現象が発生する不都合を有してい
る。
本願はこれらの不都合を解決することをその目
的としている。
的としている。
[考案の構成]
(問題点を解決するための手段)
本願は、ガスバーナその他の熱源2による調理
とマグネトロン3による調理とを自在に行なえる
調理器1で、調理室4にて調理皿5を支持する調
理皿支持台6を支持するための調理室4の側壁7
から突出する係止ピン8を非誘電体無機材質で構
成している。
とマグネトロン3による調理とを自在に行なえる
調理器1で、調理室4にて調理皿5を支持する調
理皿支持台6を支持するための調理室4の側壁7
から突出する係止ピン8を非誘電体無機材質で構
成している。
(作用)
マグネトロン3による加熱調理で調理皿支持台
6の表面に、セルフクリーニングコートの成分が
電波によつて還元されて電気を導通する誘電体と
なつても、支持台6を係止する係止ピン8の材質
を非誘電体無機質にて絶縁を行うため異常スパー
クが停止される。
6の表面に、セルフクリーニングコートの成分が
電波によつて還元されて電気を導通する誘電体と
なつても、支持台6を係止する係止ピン8の材質
を非誘電体無機質にて絶縁を行うため異常スパー
クが停止される。
(実施例)
本願の一実施例を第1図にて説明すれば、1は
ガス加熱の調理が出きる複合調理器である。4は
加熱調理室で調理皿5を収納する。6は、調理皿
5を支持する調理皿支持台で、その表面にセルフ
クリーニングコートを施している。調理室4の側
壁7から突出する係止ピン8で調理皿支持台6を
係止している。
ガス加熱の調理が出きる複合調理器である。4は
加熱調理室で調理皿5を収納する。6は、調理皿
5を支持する調理皿支持台で、その表面にセルフ
クリーニングコートを施している。調理室4の側
壁7から突出する係止ピン8で調理皿支持台6を
係止している。
ここで係止ピン8は非誘電体無機材料として、
例えばSiC等を成分としても良く、又は一般に使
用されるアルミナ等を成分とする材料としても良
く、Fe203、Ti02の含有量を極力少なくすればよ
い。
例えばSiC等を成分としても良く、又は一般に使
用されるアルミナ等を成分とする材料としても良
く、Fe203、Ti02の含有量を極力少なくすればよ
い。
尚、調理室4の表面にはセルフクリーニングコ
ートが施されているので金属との接触面がないか
ぎりスパークは発生しない。
ートが施されているので金属との接触面がないか
ぎりスパークは発生しない。
第2図は調理皿を支持する調理皿支持台の斜視
図であり、この表面には、Fe203、Ti02を含む成
分としとてセルフクリーニングコート材が施して
ある。
図であり、この表面には、Fe203、Ti02を含む成
分としとてセルフクリーニングコート材が施して
ある。
[考案の効果]
係止ピン8を非誘電体無機材料としたので、マ
グネトロンによるコート材の成分が電波による還
元化がなされたとしても、その電流を係止ピンに
て非導通に遮断することによつて異常スパーク現
象が解消出来るとともに安価な係止ピンにて構成
できるなどの効果を有する。
グネトロンによるコート材の成分が電波による還
元化がなされたとしても、その電流を係止ピンに
て非導通に遮断することによつて異常スパーク現
象が解消出来るとともに安価な係止ピンにて構成
できるなどの効果を有する。
第1図は本考案の実施例を示した断面構成図、
第2図は調理皿支持台の斜視図である。 1……調理器、2……熱源、3……マグネトロ
ン、4……調理室、5……調理皿、6……支持
台、7……側壁、8……係止ピン。
第2図は調理皿支持台の斜視図である。 1……調理器、2……熱源、3……マグネトロ
ン、4……調理室、5……調理皿、6……支持
台、7……側壁、8……係止ピン。
Claims (1)
- ガスバーナその他の熱源による調理と、マグネ
トロンによる調理とを自在に行なわせる調理器
で、調理皿を支持する調理皿支持台を支持するた
めの調理室の側壁から突出する係止ピンを非誘電
体無機材質で構成させたことを特徴とする調理
器。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP12766784U JPS6144103U (ja) | 1984-08-22 | 1984-08-22 | 調理器 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP12766784U JPS6144103U (ja) | 1984-08-22 | 1984-08-22 | 調理器 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6144103U JPS6144103U (ja) | 1986-03-24 |
JPS6335283Y2 true JPS6335283Y2 (ja) | 1988-09-20 |
Family
ID=30686302
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP12766784U Granted JPS6144103U (ja) | 1984-08-22 | 1984-08-22 | 調理器 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6144103U (ja) |
-
1984
- 1984-08-22 JP JP12766784U patent/JPS6144103U/ja active Granted
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS6144103U (ja) | 1986-03-24 |
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