JPS6329531A - 半導体装置 - Google Patents

半導体装置

Info

Publication number
JPS6329531A
JPS6329531A JP61171556A JP17155686A JPS6329531A JP S6329531 A JPS6329531 A JP S6329531A JP 61171556 A JP61171556 A JP 61171556A JP 17155686 A JP17155686 A JP 17155686A JP S6329531 A JPS6329531 A JP S6329531A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
layer
wire
gold
bonding pad
wires
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP61171556A
Other languages
English (en)
Inventor
Ken Okuya
謙 奥谷
Kanji Otsuka
寛治 大塚
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Ltd filed Critical Hitachi Ltd
Priority to JP61171556A priority Critical patent/JPS6329531A/ja
Publication of JPS6329531A publication Critical patent/JPS6329531A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/02Bonding areas ; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/04Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
    • H01L24/05Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process of an individual bonding area
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/02Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/04Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
    • H01L2224/04042Bonding areas specifically adapted for wire connectors, e.g. wirebond pads
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/02Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/04Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
    • H01L2224/05Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process of an individual bonding area
    • H01L2224/05001Internal layers
    • H01L2224/05099Material
    • H01L2224/051Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof
    • H01L2224/05138Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than or equal to 950°C and less than 1550°C
    • H01L2224/05144Gold [Au] as principal constituent
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/02Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/04Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
    • H01L2224/05Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process of an individual bonding area
    • H01L2224/05001Internal layers
    • H01L2224/05099Material
    • H01L2224/051Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof
    • H01L2224/05138Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than or equal to 950°C and less than 1550°C
    • H01L2224/05155Nickel [Ni] as principal constituent
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/02Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/04Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
    • H01L2224/05Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process of an individual bonding area
    • H01L2224/05001Internal layers
    • H01L2224/05099Material
    • H01L2224/051Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof
    • H01L2224/05163Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than 1550°C
    • H01L2224/05166Titanium [Ti] as principal constituent
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/02Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/04Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
    • H01L2224/05Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process of an individual bonding area
    • H01L2224/0554External layer
    • H01L2224/05599Material
    • H01L2224/056Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof
    • H01L2224/05601Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of less than 400°C
    • H01L2224/05611Tin [Sn] as principal constituent
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/44Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process
    • H01L2224/45Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process of an individual wire connector
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/44Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process
    • H01L2224/45Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/45001Core members of the connector
    • H01L2224/45099Material
    • H01L2224/451Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof
    • H01L2224/45138Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than or equal to 950°C and less than 1550°C
    • H01L2224/45144Gold (Au) as principal constituent
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/485Material
    • H01L2224/48505Material at the bonding interface
    • H01L2224/48599Principal constituent of the connecting portion of the wire connector being Gold (Au)
    • H01L2224/486Principal constituent of the connecting portion of the wire connector being Gold (Au) with a principal constituent of the bonding area being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof
    • H01L2224/48601Principal constituent of the connecting portion of the wire connector being Gold (Au) with a principal constituent of the bonding area being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of less than 400°C
    • H01L2224/48611Tin (Sn) as principal constituent
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01022Titanium [Ti]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01028Nickel [Ni]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/0105Tin [Sn]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01079Gold [Au]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/013Alloys
    • H01L2924/0132Binary Alloys
    • H01L2924/01322Eutectic Alloys, i.e. obtained by a liquid transforming into two solid phases

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Wire Bonding (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、半導体ペレットの電気的接続について、その
信頼性向上に適用して有効゛な技術を堤供することにあ
る。
〔従来の技術〕
半導体装置に搭載される半導体ペレットの電気的接続方
法であるワイヤポンディングの一つに、いわゆる超音波
ポンディングがある。この超音波ポンディングについて
は、1980年1月15日、株式会社工業調査会発行、
rlc化実装技術」P2O3に説明されている。その概
要は、半導体ペレットのボンディングパッドにアルミニ
ウム(Al)からなるワイヤを載置した状態で、該ワイ
ヤをポンディング治具であるウェッジで押さえつけなが
ら超音波を印加することにより、上記ボンディングパッ
ドとワイヤとの電気的接続を行うものである。
〔発明が解決しようとする問題点〕
上記超音波ボンディングでは、接Vt後のワイヤが上記
ウェッジで圧し潰されてその幅が拡がっている。そのた
め、半導体装置の集積度が向上し、搭載されている半導
体ペレットに形成されているボンディングパッドの間隔
が狭くなってくると、隣接するボンディングパッドの間
で接続されているワイヤ同士が接触を起こすことにより
短絡不良を生じるという問題のあることが本発明者によ
り見出された。
本発明の目的は、ボンディングパッドの間隔が狭い場合
であっても、隣接する該ボンディングパッドに接続する
ワイヤ同士が接触することを防止できる技術を提供する
ことにある。
本発明の前記ならびにその他の目的と新規な特徴は、本
明細書の記述および添付図面から明らかになるであろう
〔問題点を解決するための手段〕
本願において開示される発明のうち代表的なものの概要
を簡単に説明すれば、次の通りである。
すなわち、半導体ペレットの電気的接続を、そのボンデ
ィングパッドにワイヤを共晶を介して取付けて行うもの
である。
〔作用〕
上記した手段によれば、ワイヤを圧し潰すことな(取付
けることができるため、ワイヤが潰れてその幅が拡がる
ために生じるワイヤ同士の接触を防止することができる
ものである。
〔実施例〕
第1図は、本発明による一実施例である半導体装置の拡
大部分断面図である。また、第2図は、上記半導体装置
の概略断面図であり、第3図は、上記半導体装置に搭載
されている半導体ペレットの拡大部分断面図である。
本実施例の半導体装置は、セラミックからなる、いわゆ
るビングリッドアレイ (PGA)型半導体装置である
。すなわち、パッケージ基(反1には階段状の凹部が形
成されており、その底面には半導体ペレット2が取付け
られている。上記半導体ペレット2の周囲には、底面よ
り一段高い位置に配線層3が配設されている。そして、
半導体ペレット2のボンディングバッド4と上記配線層
3とは、金からなるワイヤ5を介して電気的に接続され
ている。
上記パフケージ基板1の上端にはコバールからなるキャ
ップ6が低融点ろう材7で取付けられ、その裏面には上
記配線層3と基板内部を通して(図示せず)電気的に接
続されている外部端子であるピン2が取付けられている
本実施例の半導体装置では、搭載されている半導体ペレ
ット2の電気的接続が、そのボンディングパッド4に金
−錫共晶で取付けられたワイヤ5で行われているもので
ある。その状態を第1図に基づいて説明する。
すなわち、シリコン(Si)jfl結晶からなる半導体
基板8の表面には絶縁膜9が被着されており、その上に
はアルミニウム(AI)からなる所定形状の内部配線層
10が被着されている。また、内部配線層10の上にも
絶縁膜11が被着され、その一部に上記内部配線層10
が露出する開口部かけいせいされている。そして、上記
開口部にボンディングパッド4が形成されている。
上記ボンディングパッド4は、開口部に露出されている
内部配線層10に接触するチタン(Ti)層12、その
上のニッケル(N1)層13、さらにその上に積層され
た金層(Au)14からなるものであり、この金層14
の表面には5R(sn)層15が被着されている。上記
ボンディングパッド4の上には金からなるワイヤ5が金
−錫共晶16を介してワイヤポンディングされている。
第3図にはワイヤボンディング前のボンディングパッド
4の状態が示されている。このボンディングパッド4は
、第1図に示したものと略同−のものであり、未だワイ
ヤボンディング前であるため錫層15が金114の表面
全体に被着形成されている。
なお、上記ボンディングパッド4およびその表面に被着
する錫層15は電気めっき等の通常の技術で容易に形成
することができる。
本実施例においては、金−錫共晶が形成できる温度に加
熱された第3図に示すボンディングパッド4の上にワイ
ヤ5を載置し、該ワイヤ5を上から軽く押さえつけるだ
けで金−錫共晶16が形成されるため、ワイヤポンディ
ングを容易に達成することができるものである。
このように、本実施例によれば以下の効果を得ることが
できる。
(++ 、 ’l’啓体べL・7・!の電気的ID続勺
3,1ミノ)−゛イ/グパソド4の金層14の表面に錫
層15を被着し、そのボンディングパッド4の上に金か
らなるワイヤ5を載置し、所定温度に加熱することによ
り、該ワイヤ5とボンディングパッド4との間に金−錫
共晶16を形成せしめることができるので、上記ワイヤ
5を軽く押さえつけるだけで容易に電気的接続を達成す
ることができる。
(2)、上記+11により、ワイヤを圧し潰すことなく
取付けることができるため、ワイヤが潰れてその幅が拡
がることが原因で生しる隣接するワイヤ同士の接触を防
止することができる。
(3)、上記(2)により、ボンディングパッド4の間
隔をさらに小さくすることができるので、ボンディング
パッド4の数を増すことができ、半導体装置の集積度を
向上させることができる。
以上本発明者によってなされた発明を実施例に基づき具
体的に説明したが、本発明は前記実施例に限定されるも
のではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能
であることはいうまでもない。
たとえば、前記実施例では共晶が金−錫共晶16であり
、ボンディングパッド4が3層構造で、その最上層の金
層14に錫層15を被着し、そして用いたワイヤ5が金
からなるものについて説明したが、これに限るものでな
く所期の目的を達成できるものであれば他の共晶であっ
ても、またボンディングパッドの構造およびその形成材
料、ワイヤの材料等は種々変更可能であることはいうま
でもない。
また、前記実施例ではワイヤ5とパッケージ基板1の配
線N3との電気的接続については特に説明しなかったが
、該両者の接続には超音波ボンディング等の通常のワイ
ヤボンディング技術を適用出来ることはいうまでもなく
、また上記ボンディングパッド4の場合と同様に金−錫
共晶で接続することもできる。この場合は、上記配線層
3の上に錫層を被着しておくことによりボンディングパ
ッド4の場合と同様にその目的を達成することができる
以上の説明では王として本発明者によってなされた発明
をその背景となった利用分野であるセラミックからなる
PGA型半導体装置に適用した場合について説明したが
、これに限定されるものではなく、たとえば、その電気
的接続をワイヤを介して行う半導体ペレットを搭載する
半導体装置であれば、そのパンケージの形成材料および
その形式の如何にかかわらずあらゆるものについて適用
できる技術である。
〔発明の効果〕
本願において開示される発明のうち代表的なものによっ
て得られる効果を簡単に説明すれば、下記の通りである
すなわち、半導体ペレットのボンディングパッドに、共
晶を介してワイヤを取付けることにより、ワイヤを圧し
潰すことなく取付けることができるため、ワイヤが潰れ
その幅が拡がるために生じる隣接するワイヤ同士の接触
を防止することができるものである。したがって、ボン
ディングパッドの間隔を狭めることができるので、半導
体装置の集積度を向上することができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は、本発明、による一実施例である半導体装置の
拡大部分断面図、 第2図は、上記半導体装置の概略断面図、第3図は、上
記半導体装置に搭載されている半導体ペレットの拡大部
分断面図である。 1・・・パフケージ基板、2・・・半導体ペレット、3
・・・配線層、5・・・ワイヤ、6・・・キャンプ、7
・・・低融点ろう材、8・・・シリコン(Si)単結晶
、9・・・絶縁層、10・・・内部配線層、11・・・
絶縁層、12・・・チタン(Ti)N、13・・・ニッ
ケル(Ni)層、14・・・金(Au)層、15・−I
R(Sn)暦、16・・・金−錫共晶。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、半導体ペレットのボンディングパッドにワイヤが共
    晶を介して接続されてなる半導体装置。 2、ワイヤが金からなり、共晶が金−錫共晶であること
    を特徴とする特許請求の範囲第1項記載の半導体装置。
JP61171556A 1986-07-23 1986-07-23 半導体装置 Pending JPS6329531A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP61171556A JPS6329531A (ja) 1986-07-23 1986-07-23 半導体装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP61171556A JPS6329531A (ja) 1986-07-23 1986-07-23 半導体装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS6329531A true JPS6329531A (ja) 1988-02-08

Family

ID=15925319

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP61171556A Pending JPS6329531A (ja) 1986-07-23 1986-07-23 半導体装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS6329531A (ja)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5296737A (en) Semiconductor device with a plurality of face to face chips
JP3638750B2 (ja) 半導体装置
US4558346A (en) Highly reliable hermetically sealed package for a semiconductor device
JPH06501816A (ja) 合成ハイブリッド半導体ストラクチャ
JP3547303B2 (ja) 半導体装置の製造方法
JP2905609B2 (ja) 樹脂封止型半導体装置
TWI249828B (en) Packaging structure for semiconductor chip and the manufacturing method thereof
JP2003068975A (ja) 半導体装置およびその製造方法
JPS6329531A (ja) 半導体装置
JPH0817870A (ja) 半導体装置
JPS5850021B2 (ja) 半導体装置の製法
JP3454192B2 (ja) リードフレームとそれを用いた樹脂封止型半導体装置およびその製造方法
JPH05198708A (ja) 半導体集積回路装置
JPS5930538Y2 (ja) 半導体装置
JP3965767B2 (ja) 半導体チップの基板実装構造
JP3841038B2 (ja) 樹脂封止型半導体装置
JPH0529404A (ja) Al配線リードのボンデイング用ツール
JPH11135537A (ja) 半導体チップの実装構造および半導体装置
JPH0855856A (ja) 半導体装置とその製造方法
JP4123719B2 (ja) テープキャリアおよびこれを用いた半導体装置
JPS61125028A (ja) 半導体装置
JP2797269B2 (ja) 半導体装置
JPH03171744A (ja) 半導体装置及びその製造方法
JPS63107126A (ja) 半導体装置
JPH09252020A (ja) 半導体装置およびその製造方法