JPS63223661A - 感光体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 佳い４秒里９夏 本発明は感光体、特に電子写真感光体に関する。

藍薇拶訃 近年、感光体、特に電子写真用感光体にプラズマ化学蒸
着法（以下、Ｐ−ＣＶＤ法という）により作製されたア
モルファスシリコン（以下、ａ　−Ｓ　ｉと略す）が採
用されるに至っている。

ａ−９ｉ悪感光は種々の優れた特性を有する。しかしａ
　−Ｓ　ｉは比誘電率εが１２程度と大きいため、感光
体として充分な表面電位を得るためには、本質的に最低
２５μｍ程度の膜厚が必要であるという問題がある。ａ
　−Ｓ　ｉ感光体は、Ｐ−ＣＶＤ法においては膜の堆積
速度が遅いため作製に長時間を要し、さらに均質な膜の
ａ−９ｉを得ることが作製時間が長くなる程難しくなる
。その結果、ａ−Ｓｉ感光体は白斑点ノイズ等の画像欠
陥が発生ずる確率が高く、さらに原料費が高いという欠
点等がある。

上記の欠点を改良するための種々の試みがなされている
が、本質的に膜厚をこれより薄くすることは好ましくな
い。

一方、ａ−Ｓｉ感光体は基板とａ−Ｓｉとの密着性、さ
らに耐コロナ性、耐環境性あるいは耐薬品性が悪いとい
った欠点も、存在する。

そのような問題点を解消するため有機プラズマ重合膜を
ａ−９ｉ感先体のオーバーコート層あるいはアンダーコ
ート層として設ける事が提案されている。前者の例は、
例えば特開昭６０−６１７６１号公報、特開昭５９−２
１４８５９号公報、特開昭５１−４６１３０号公報ある
いは特開昭５０−２０７２８号公報等が知られており、
後者の例は、例えば特開昭６０−６３５４１号公報、特
開昭５９−１３６７４２号公報、特開叩５９−２８１６
１号公報あるいは特開昭５９−３Ｌ７５３号公報等が知
られている。

その他プラズマ重合法を使用したものとして、例えば特
開昭５９−１４８３２６号公報、特開昭５６−６０４４
７号公報あるいは特開昭５３−１２０５２７号公報等が
知られている。

有機プラズマ重合膜はエチレンガス、ベンゼン、芳香族
シラン等のあらゆる種類の有機化合物のガスから作製で
きること（例えばニー、ティ、ベル（Ａ、Ｔ、Ｂｅ１ｌ
）、エム、ジエン（Ｍ、　５ｈｅｎ）ら、ジャーナル　
オブ　アプライド　ポリマー　サイエンス（Ｊ　ｏｕｎ
ａｌ　ｏｆ　　Ａｐｐｌｉｅｄ　　Ｐｏｌｙｍｅｒ　　
５ｃｉｅｎｃｅ）、第１７巻、８８５−８９２頁（１９
７３年）等）が知られているが、従来の方法で作製した
有機プラズマ重合膜は絶縁性を面提とした用途に限って
用いられている。従って、それらの膜は通常のボリエチ
レン膜のごと＜１０”ΩＣ１１程度の電気抵抗をイ「す
る絶縁膜と考えられ、あるいは少なくとしその様な膜で
あるとの認識のもとに用いられていた。

特開昭ＧＯ−６１７６１号公報記載の技術は、５００人
〜２μｍのダイヤモンド状炭素絶縁膜を表面保護層とし
て被覆した感光体を開示している。

この炭素薄膜はａ−Ｓｉ感光体の耐コロナ放電および機
械的強度を改良するためのものである。重合膜は非常に
薄く、電荷はトンネル効果により膜中を移動し、膜自体
電荷輸送能を必要としない。また、有機プラズマ重合膜
のキャリアー輸送性に関しては一切記載がないし、ａ−
８ｉの持つ前記した本質的問題を解決するものでない。

特開昭５９−２１４８５９号公報には、スチレンやアセ
チレン等の有機炭化水素モノマーをプラズマ司会により
厚さ５μ園程度の有機透明膜のオーバーコート層として
被膜する技術が開示されているが、その層はａ　−Ｓ　
ｉ感光体の画像流れの防止および剥離、耐久性、ピンホ
ール、生産効率を改良するものである。有機プラズマ重
合膜のキャリアー輸送性に関しては一切記載がないし、
ａ−３ｉの持つ前記した本質的問題を解決するものでな
い。

特開昭５１−４６１３０号公報には、Ｎ−ビニルカルバ
ゾールをグロー放電により、表面に厚さ３〜０．００１
μ烏の有機プラズマ重合膜として形成した感光体を開示
している。この技術は、正帯電でしか使用できなかった
ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール系感光体を両極性帯電で
使用可能にすることを目的とする。この膜は０．００１
〜３μ朔と非常に薄く、オーバーコート的に使用される
。

重合膜は非常に薄く、電荷輸送能を必要としないしのと
考えられる。また、重合膜のキャリアー輸送性に関して
は一切記載がないし、ａ−８ｉの持つ前記した本質的問
題を解決するものでない。

特開昭５０−２０７２８号公報には、基板上に増感層、
有機光導電性電気絶縁体とを順次積層し、さらにその上
に厚さ０．１−１μ園のグロー放電重合膜を形成する技
術が開示されているが、この膜は湿式現像に耐えるよう
に表面を保護する目的のものであり、オーバーコート的
に使用される。

重合膜は非常に薄く、電荷輸送層として使われているし
のではない。重合膜のキャリアー輸送性に関しては一切
記載がないし、ａ−９ｉの持つ前記した本質的問題を解
決するものでない。

特開昭６０−６３５４１号公報は、ａ　−Ｓ　ｉのアン
ダーコート層に２００人〜２μｍのダイヤモンド状ｆ丁
機プラズマ重合膜を使用した感光体について［■ｎ示し
ているが、その有機プラズマ重合膜は基板とａ−９ｉの
密着性を数倍する目的のものである。

重合膜は非常に薄くてよく、電荷はトンネル効果により
膜中を移動し、膜自体は電荷輸送能を必要としない。ま
た、有機プラズマ重合膜のキャリアー輸送性に関しては
一切記載がないし、ａ−８ｉの持つ前記した本質的問題
を解決するものでない。

特開昭５９−１３６７４２号公報には、基板上に約５μ
ｍの有機プラズマ重合膜、シリコン膜を順次形成する半
導体装置が開示されている。しかし、その有機プラズマ
重合膜は、基板であるアルミニウムのａ　−Ｓ　ｉへの
拡散を防止する目的のものであるが、その作製法、膜質
等に関しては−切記載がない。また、有機プラズマ重合
膜のキャリアー輸送性に関しても一切記載がないし、ａ
　−Ｓ　ｉの持つ前記した本質的問題を解決するもので
ない。

特開昭５９−２８１６１号公報には、基板上に有機プラ
ズマ重合膜、ａ−Ｓｉを順次形成した感光体が開示され
ている。有機プラズマ重合膜は、その絶縁性を利用した
アンダーコート層でありブロッキング層、接着層あるい
は剥離防止層として機能する乙のである。重合膜は非常
に薄くてよい（５μｍ１好ましくは１μｍ以下）。薄膜
であれば不充分な電荷輸送能であっても、表面電位（残
留電位）の上昇の問題は生しない。繰り返し使用により
アンダーコート部での電界が上昇し、それによるキャリ
アの通過か大きくなること（トンネル効果）で、残留電
位の上昇が低く抑えられるという現象があるからである
。従って本件の重合膜はアンダーコート層として使えて
も、キャリア輸送層としては使えない。

また、有機プラズマ重合膜のキャリアー輸送性に関して
は一切記載がないし、ａ−Ｓｉの持つ前記した本質的問
題を解決するものでない。

特開昭５９−３８７５３号公報には酸素、窒素および炭
化水素の混合ガスからプラズマ重合により１０〜１００
人の有機プラズマ重合薄膜を形成し、その上にａ　−Ｓ
　ｉ層を成膜する技術か開示されている。（ｆ機プラズ
マ重合膜は、他の有機高分子に比べて熱劣化がなく、ま
た、絶縁性を利用したアンダーコート層でありブロッキ
ング層あるいは剥離防止層として機能するしのである。

重合膜は非常に薄くてよく、電荷はトンネル効果により
膜中を移動し、膜自体は電荷輸送能を必要としない。

また、有機プラズマ重合膜のキャリアー輸送性に関して
は一切記載がないし、ａ−Ｓｉの持つ前記した本質的問
題を解決する乙のでない。

特開昭５９−１４８３２６号公報は、ガスを予備分解、
予備重合することを特徴とするＰ−ＣＶｌ）薄膜製造方
法を開示するが、実施例はＳｉ系の物質を利用したもの
のみが例示されているに過ぎない。

特開昭５６−６０４４７号公報は、有機化合物とハロゲ
ン化合物混合物の蒸気をプラズマ重合し、有機光導電性
膜を形成する方法を開示する。この技術は、ハロゲン導
入プラズマ重合膜が近赤外域（０，８〜３．０μｍ）に
高感度を有することを示しているが、その膜は近赤外線
センサーへの応用を目的とするものであり、本願のよう
に電子写真感光体への使用を目的にするものでなく、ま
た感光体に使用できるか否かについては触れられていな
い。

特開昭５３−１２０５２７号公報は、ポジ型放射線感応
材料層を炭化水素およびハロゲン化水素のプラズマ重合
法で形成する方法が開示されている。本件はポジ型レジ
スト材料を電子線、Ｘ線、λ線あるいはα線により架橋
させ作製する方法であり、電子写真感光体への使用を目
的とするものでない。

発明が解決しようとする問題点 以上のように、従来、感光体に用いられている有機重合
膜はアンダーコート層あるいはオーバーコート層として
使用されていたが、それらはキャリアの輸送機能を必要
としない膜であって、６機重合膜が絶縁性であるとの判
断にたって用いられている。従ってその厚さも高々５μ
肩程度の極めて薄い膜としてしか用いられず、キャリア
はトンネル効果で膜中を通過するか、トンネル効果が期
待できない場合には、実用上の残留電位としては問題に
ならないですむ程度の薄い膜でしか用いられない。

本発明者らは、有機重合膜のａ−Ｓｉ感光体への応用を
検討しているうらに、本来絶縁性であると考えられてい
た有機重合膜が、ある特定の結合様式で存在する炭素原
子（例えば、炭素−炭素二重結合、第四炭素等）の歯打
割合が異なると、電気抵抗も変化し、ある割合になると
Ｔｉ荷輸送性を示し始める事を見出だした。

本発明はその新たな知見をを利用することにより、従来
のａ　−Ｓ　ｉ感光体の持つ問題点、すなわちａ　−Ｓ
　ｉの膜厚、製造時間、製造コスト等における問題点等
を°４”べて解消し、また従来とは全く使用［１的ら、
特性も異なる有機重合膜、特に有機ブラズマ重合膜を使
用した感光体およびその製造方法を提供することを目的
とする。

問題点を解決するための手段 すなわち、本発明は電荷発生層（３）と電荷輸送層（２
）とを有する機能分離型感光体において、電荷輸送層（
２）が水素を含む非晶質炭素膜で、その化学構造におい
て、不飽和結合を有する炭素数Ｎ、と不飽和結合を有し
ない炭素数Ｎ、の比Ｎ、：Ｎ、が０．３：１ないし２：
１であることを特徴とする感光体に関する。

本発明感光体は少なくとも電荷発生層と電荷輸送層から
構成される。

電荷輸送層は、水素を含有する非晶質炭素膜（以下、ａ
−Ｃ膜という）である。水素含有炭素膜中の水素含量は
、２０〜６７　ａｔｏｍｉｃ％１、好ましくは４０〜６
７　ａｔｏｍｉｃ％、特に４５〜６５　ａｔｏｍｉｃ％
含量されることが望ましい。ａ−Ｃ膜中に含有される水
素の量が２０　ａｔｏｍｉｃ％より少ないと好適な輸送
性が得られず、６７　ａＬＯ１ｉσ％より多いと膜質の
劣化、成膜性の低下をきたす。

本発明感光体の特徴は、電荷輸送層としてａ−Ｃ膜を設
け、さらにそのａ−Ｃ膜中に含有される炭素で、不飽和
結合を有する炭素数Ｎ１と不飽和結合を有しない炭素数
Ｎ、の比Ｎ　Ｉ：　Ｎ　ｔが０．３：１ないし２：１で
あることにある。

本発明のａ−Ｃ膜中には、種々の結合様式をしノこ炭素
原子、例えば単結合（フリーラジカル）、三重結合ある
いは三重結合等が存在し、更にそれらは水素原子が結合
しているものあるいは水素原子が結合していないものと
して存在する。

本発明のａ−Ｃ膜中におけろ炭素原子が、不飽和結合を
有する炭素あるいは不飽和結合を有しない炭素であるこ
とおよびそれらの数は、赤外吸収スペクトル、プロトン
による核磁気共鳴（Ｊｌ−ＮＭＲ）あるいは１３ｃによ
る核磁気共鳴（”Ｃ−ＮＭＩυ等を測定することにより
識別することができる。

本発明において不飽和結合というのは炭素−炭素二重結
合および／または炭素−炭素三重結合をいう。

本発明においては不飽和結合を有する炭素数Ｎ、と不飽
和結合を有しない炭素数Ｎ！の比Ｎ、：Ｎ、が０．３：
１ないし２：１であることが重要である。

本発明のａ−Ｃ膜は、Ｎ、の値を１としたときＮ。

の値が０．３〜２、より好ましくは０．５〜１．３、特
に０．７〜ｌであるとき電荷輸送層として適しており、
０．３より小さいと、この上うなａ−Ｃ膜は絶縁体であ
り、その膜を電荷輸送層に用いた感光体は光照射によっ
ても帯電電荷が減衰しないので、繰り返し使用によりす
ぐにチャージアップが起こり、感光体として使用できな
くなる。２．０より大きいと、膜は二重結合を有する炭
素が過剰になり膜抵抗がかなり低下するため、それより
構成されろ感光体は帯電能が悪くなり、感光体として使
用できなくなる。また電荷発生層で発生した光キャリヤ
ーは膜に移動するが、過剰の二重結合手がキャリヤーの
トラップサイトとなり、繰り返し使用でバルク中に空間
電荷が溜まるため、残留霊位の１−騨一お上びそれに体
う威庁妊下が起こる。

Ｎｌか更に小さい場合、もはや軟質の油状膜に近くなっ
てゆき、感光体構成部材として使用できない。一般にＮ
ｔの値が０．３以上のときはじめて比抵抗が１０１１Ω
ＣＲ程度以上となり、キャリアの移動度が１０″″’Ｃ
Ｒ″／ｖ−８ｅＣ以上で、良好な電荷輸送機能が得られ
る。

本兇明によるａ−Ｃ膜中には種々の結合様式をした炭素
原子が存在するが、それらの全炭素原子数は、膜の組成
分析と比重から求められる。すなわち、ａ−Ｃ膜のＣと
１１の組成分析比がＣｘ１ｌｙ（ｘ十ｙ−１）で、膜の
比重がＷ（ｇ／ｃｍっであると、膜Ｉｃａ＋３中の全炭
素原子数Ｃｃは下弐目１：［式中Ｃｃは全炭素数、Ｗは
比重、Ｘおよびｙは炭素および水素の組成分析比、Ａは
アボガドロ数（個／ｍｏｌ）を表す。］に従い得ろこと
ができる。

本発明においては、不飽和結合を有する炭素数と不飽和
結合を有しない炭素数との和が全炭素数であるとする。

ａ−Ｃ層の厚さは５〜５０μｍ、特に７〜３０μｍが適
当であり、５μｍより薄いと帯電能が低く充分な複写画
像濃度を得ることができない。５０μｍより厚いと生産
性の点で好ましくない。このａ−Ｃ層は透光性、高暗抵
抗を有するとともに電荷輸送性に富み、膜厚を上記のよ
うに５μｍ以上としても電荷トラップを生じることなく
キャリアを輸送する。

ａ−Ｃ層を形成するための有機化合物としては、必ずし
も気相である必要はなく、加熱或いは減圧等により溶融
、蒸発、昇華等を経て気化し得るものであれば、液相で
も固相でら使用可能である。

該炭化水素としては、例えば、メタン列炭化水素、エチ
レン列炭化水素、アセチレン列炭化水素、脂環式炭化水
素、芳香族炭化水素、等が用いられる。

メタン列炭化水素としては、例えば、メタン、エタン、
プロパン、ブタン、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オ
クタン、ノナン、デカン、ウンデカン、ドデカン、トリ
デカン、テトラデカン、ペンタデカン、ヘキサデカン、
ヘプタデカン、オクタデカン、ノナデカン、エイコサン
、ヘンエイコサン、トコサン、トリコサン、テトラコサ
ン、ペンタコサン、ヘプタコサン、ヘプタコサン、オク
タコサン、ノナコサン、トリアコサン、ドトリアコサン
、ペンタトリアコンクン、等のノルマルパラフィン並び
に、イソブタン、イソペンタン、ネオペンタン、イソヘ
キサン、ネオヘキサン、２．３−ジメチルブタン、２−
メチルヘキサン、３−エチルペンクン、２．２−ジメチ
ルペンタン、２．４−ジメチルペンタン、３．３−ジメ
チルペンタン、トリブタン、２−メチルへブタン、３−
メチルヘブタン、２．２−ジメチルヘキサン、２．２．
５−ジメチルヘキサン、２，２．３−トリメデルペンタ
ン、２，２．４−　トリメデルペンタン、２，３．３−
トリメチルペンタン、２，３．４−）ジメチルペンタン
、イソナノン、等のイソパラフィン、等が用いられる。

エチレン列炭化水素としては、例えば、エチレン、プロ
ピレン、イソブチレン、ｌ−ブテン、２−ブテン、１−
ペンテン、２−ペンテン、２−メチル−１−ブテン、３
−メチル−１−ブテン、２−メチル−２−ブテン、ｌ−
ヘキセン、テトラメチルエチレン、Ｉ−ヘプテン、ｌ−
オクテン、■−ノネン、１−デセン、等のオレフィン並
びに、アレン、メチルアレン、ブタジェン、ペンタジェ
ン、ヘキサジエン、シクロペンタジェン、等のジオレフ
ィン並びに、オシメン、アロオシメン、ミルセン、ヘキ
サトリエン、等のトリオレフイン、等が用いられる。

アセチレン列炭化水素としては、例えば、アセチレン、
メチルアセチレン、ｌ−ノナン、２−ブチン、Ｉ−ペン
チン、！−ヘキシン、１−ヘプチン、ｌ−オクチン、ｌ
−ノニン、ｌ−デシン等が用いられる。

脂環式炭化水素としては、例えば、シクロプロパン、シ
クロブタン、シクロペンタン、シクロヘキサン、シクロ
へブタン、シクロオクタン、シクロノナン、シクロデカ
ン、シクロウンデカン、シクロドデカン、シクロトリデ
カン、シクロテトラデカン、シクロペンタデカン、シク
ロヘキサデカン、等のシクロパラフィン並びに、シクロ
プロペン、シクロブテン、シクロペンテン、シクロヘキ
セン、シクロヘプテン、シクロオクテン、シクロノネン
、シクロデセン、等のシクロオレフィン並びに、リモネ
ン、テルビルン、フエランドレン、シルベストレン、ツ
エン、カレン、ピネン、ボルニレン、カンフエン、フェ
ンチェン、シクロウンデカン、トリシクレン、ビサボレ
ン、ジンギベレン、クルクメン、フムレン、カジネンセ
スキベニヘン、セリネン、カリオフィレン、サンタレン
、セドレン、カンホレン、フィロクラテン、ボドカルプ
レン、ミレン、等のテルペン並びに、ステロイド等が用
いられる。

芳香族炭化水素としては、例えば、ベンゼン、トルエン
、キシレン、ヘミメリテン、プソイドクメン、メシチレ
ン、プレニテン、イソジュレン、ノユレン、ペンタメチ
ルベンゼン、ヘキサメチルベンゼン、エチルベンゼン、
プロピルベンゼン、クメン、スヂレン、ビフェニル、テ
ルフェニル、ジフェニルメタン、トリフェニルメタン、
ジベンジル、スチルベン、イソデン、ナフタリン、テト
ラリン、アントラセン、フェナントレン、等が用いられ
る。

本発明においてａ−Ｃ膜を形成させる場合、上記ａ機化
合物を２種類以上の混合気体で使用してもよい。ａ−Ｃ
膜は各種共重合体（ブロック共重合体、ブラフトノ（重
合体等）が多く形成され、硬度および付着性が向上する
。また、アルカン系炭化水素（ＣｎＨ２ｎ＋　２）を使
用すると、ビヅカース硬度２０００以上、電気抵抗１０
’ΩＣ１のダイヤモンド状超硬質の、所謂ｉ−Ｃ膜も形
成させることができる。ただし、この場合のプラズマ条
件は高温、低圧、高パワーが必要で、更に基板に直流バ
イアスを印加する必要もある。

キャリアガスとしてはｌＩ、やＡｒ　、　Ｎｅ　、　Ｈ
ｅ等の不活性ガスが適当である。

本発明においては、ａ−Ｃ膜の形成には、直流、高周波
あるいは低周波やマイクロ波プラズマ法等の種々のプラ
ズマ法を使用することができる。

あるいは後述されているが、電磁波（Ｘ線、レーザー光
等）や上記プラズマとの併用ら可能である。

それらの重合法の選択により、同一のモノマーでも、色
々異なった特性を有するａ−Ｃ膜を得ることができる。

たとえば、低周波プラズマ法（周波数が数＋ｌｌｚ〜数
百ＫＨｚ程度）を使用すると高硬度のａ−ＣＰｌＡを得
ろことができる。係る低周波プラズマ法には、ブタジェ
ン、プロピレン等の不飽和結合をａする炭化水素が好ま
しい。それらの化合物を使用すると、周波数ＪＯＫＩ（
ｚ〜ＩＭＨｚの低周波で、かつ、低温（室温〜１００℃
）でプラズマ重合膜を形成することができる。本発明に
おいてａ−Ｃ膜を形成させる際重要なことは、不飽和結
合を有する炭素数Ｎ１と不飽和結合を有しない炭素数Ｎ
ｔの比Ｎ　＋　：　Ｎ　ｔが０．３：Ｉないし２：１と
なるように形成することである。また、電荷発生層を高
周波プラズマまたはＰ−ＣＶＤ法により形成する場合に
は、ａ−Ｃ膜も同様の方法で成膜したほうが、製造装置
コスト、工程の省力化につながり好ましい。

本発明感光体の電荷発生層は特に限定的ではなく、アモ
ルファスシリコン（ａ−８ｉ）膜（特性を変えるため種
々の異種元素、例えばＨ，Ｃ，０、Ｓ１Ｎ、Ｉ）、Ｂ、
ハロゲン、Ｇｅ等を含んでいてもよく、また多層構造で
あってもよい）、Ｓｅ膜、５ｅ−Ａｓ膜、５ｅ−Ｔｅ膜
、ＣｄＳ膜、銅フタロシアニン、酸化亜鉛等の無機物質
および／またはビスアゾ系顔料、トリアリールメタン系
染料、チアジン系染料、オキサジン系染料、キサンチン
系染料、シアニン系色素、スチリル系色素、ピリリウム
系染料、アゾ系顔料、キナクリドン系顔料、インジゴ系
顔料、ペリレン系顔料、多環キノン系顔料、ビスベンズ
イミダゾール系顔料、インダスロン系顔料、スクアリリ
ウム系顔料、フタロシアニン系顔料等の有機物質を含有
する樹脂膜等が例示される。

これ以外にも、光を吸収し極めて高い効率で電荷担体を
発生する材料であれば、いずれの材料であってら使用す
ることができる。

電荷発生層は公知の方法、例えば上記物質の粉体を適当
な樹脂に分散させ成膜する方法を使用して設けてもよく
、本発明において電荷輸送層をプラズマ法で形成４゛る
場合には、電荷発生層ら同様の方法で成膜したほうが、
製造装置コスト、工程の省力化につながり好ましい。ま
た電荷発生層を公知の方法で設ける場合には上記物質の
粉体の表面をあらかじめプラズマ重合により薄膜コーテ
ィング処理し成膜したａ様物質を使用することも有効で
ある。例えば、樹脂中にこれらを分散する場合には、表
面コートすることで分散性が向上したり、耐溶剤性を加
味させ、変質を防止する等の手段が考えられる。

電荷発生層は、感光体のどの位置に設けてもよく、たと
えば最上層、最下層、中間層いずれに設けてもよい。膜
厚は素材のＷｉ類、特にその分光吸収特性、露光光源、
目的等にもよるが、一般に５５Ｏｎ＋ｅの光に対して９
０％以上の吸収が得られるように設定される。ａ　−Ｓ
　ｉの場合で０．１〜３μｍである。

本発明においては、ａ−Ｃ電荷輸送層の帯電特性を調節
するために、炭素または水素以外のヘテ口原子を混入さ
せてもよい。例えば、正孔の輸送特性をさらに向上させ
るために、周期律表第■族原子、あるいはハロゲン原子
を混入してもよい。

電子の輸送特性をさらに向上させるために、周期律表第
■族原子あるいはアルカリ金属原子を混入してもよい。

正負両キャリアの輸送特性を更に向上させるために、Ｓ
ｔ、Ｇｅ、アルカリ土類金属、カルコゲン原子を混入し
てもよい。

これらの原子は複数用いてもよいし、目的により、電荷
輸送層内で、特定の位置だけに混入してもよいし濃度分
布等を有してもよいが、いずれの場合においてら重要な
ことは、該プラズマ重合膜中に、不飽和結合を有する炭
素数Ｎ、と不飽和結合を有しないＮｔの比Ｎ、：Ｎ、が
０．３：ｌ〜２：ｌであるように形成することである。

第１図から第１２図は本発明感光体の一態様を示す模式
的断面図である。図中、（１）は基板、（２）は電荷輸
送層としてのａ−Ｃ膜、（３）は電荷発生層を示してい
る。第１図に示す態様の感光体において、例えば十帯電
し続いて画像露光すると、電荷発生層（３）でヂャージ
キャリアが発生し電子は表面電荷を中和する。一方、正
孔はａ−Ｃ膜（２）の優れた電荷輸送性に保証されて基
板（１）側へ輸送される。第１図の感光体を一帯電で用
いるときは、上記と反対にａ−Ｃ膜（２）中を電子が輸
送される。

第２図の感光体はａ−Ｃ膜（２）を最上層として用いた
例で、十帯電で用いるときは、ａ−Ｃ膜（２）中を電子
か一帯電で用いるときはａ−Ｃ膜中を正孔が輸送される
。

第３図に示す感光体は、基板（１）上に電荷輸送層（２
）を有し、電荷発生層（３）が該電荷輸送層（２）にサ
ンドイッチされるように設けられた例である。

第４図〜第６図に示す感光体は、第１図〜第３図におい
て示した感光体においてさらにオーバーコート層（４）
として厚さ０．０１〜５μｍの表面保護層を設けた例で
、感光体が使用されるシステムおよび環境に応じて電荷
発生層（３）あるいは電荷輸送層ａ−Ｃ膜（２）の保護
と初期表面電位の向上を図ったものである。表面保護層
は公知の物質を用いればよく、本発明においては、有機
プラズマ重合によって設けることが製造工程の面等から
望ましい。本発明ａ−Ｃ膜を使用してもよい。この保護
層（４）にも必要に上りへテロ原子を混入してもよい。

第７〜９図に示す感光体は、第１図〜第３図において示
した感光体においてさらにアンダーコート層（５）とし
て厚さ０．０１〜５μｌの接着層、あるいは障壁層を設
けた例で、用いる基板（１）またはその処理方法に応じ
て、接着性または注入防止効果を図ったものである。ア
ンダーコート層は公知の材料を用いればよく、この場合
も有機プラズマ重合法によって設けることが望ましい。

本発明によるａ−Ｃ膜を用いてもよい。更に第７〜９図
の感光体に第４〜６図で示したオーバーコート層（４）
を設けてもよい（第１θ図〜第１２図）。

本発明感光体は電荷発生層と電荷輸送層とを有する。従
ってこれを製造するには少なくとも二工程を必要とする
。電荷発生層として、例えばグロー放電分解装置を用い
て形成したａ−９ｉ層を用いるときは、同一の真空装置
を用いてプラズマ重合を行なうことが可能であり、従っ
てａ−Ｃ電荷輸送層や表面保護層、バリア一層等はプラ
ズマ重合法により行なうのが特に好ましい。

本発明による電子写真感光体の電荷輸送層は、気相状態
の分子を威圧下で放電分解し、発生したプラズマ雰囲気
中に含まれる活性中性種あるいは娼：１電種を基板上に
拡散、電気力、あるいは磁気力等により誘導し、基板上
での再結合反応により固相として堆積させる、所謂プラ
ズマ重合反応から生成される。

第１３図および第１４図は、本発明に係る感光体の製造
装置で容量結合型プラズマＣＶＤ装置を示す。第１３図
は平行平板型プラズマＣＶＤ装置、第１４図は円筒型プ
ラズマＣＶＤ装置を示す。

電荷輸送層としてプラズマ重合ブタジェン（Ｃ。

１−１ｓ）ａを何４゛る感光体を例にとり、その製造法
を第１３図を用いて説明する。

第１３図は本発明に係わる電子写真感光体の製造装置を
示し、図中（７０１）〜（７０６）は常温において気相
状態にある原料化合物およびキャリアガスを密封した第
１乃至第６タンクで、各々のタンクは第１乃至第６調節
弁（７０７）〜（７１２）と第１乃至第６流量制御器（
７１３）〜（７１Ｂ）に接続されている。

図中（７１９）〜（７２１）は常温において液相または
固相状態にある原料化合物を封入した第１乃至第３容器
で、各々の容器は気化のため第！乃至第３温調器（７２
２）〜（７２４）により温調可能、例えば、常温〜１５
０℃、あるいは−５０℃〜常温であり、さらに各々の容
器は第７乃至第９調節弁（７２５）〜（７２７）と第７
乃至第９流量制御器（７２Ｂ）〜（７３０）に接続され
ている。

これらのガスは混合器（７３１）で混合された後、主管
（７３２）を介して反応室（７３３）に送り込まれる。

途中の配管は、常温において液相または固相状態にあっ
た原料化合物が気化したガスが、途中で凝結しないよう
に、適宜配置された配管加熱器（７３４）により、与熱
可能とされている。

反応室内には接鵬電極（７３５）と電力印加電極（７３
（ｉ）が対向して設置され、各々の電極は電極加熱器（
７３７）により与熱可能とされている。

電力印加電極には、高周波電力用整合器（７３８）を介
して高周波電源（７３９）、低周波電力用整合器（７４
０）を介して低周波電源（７４１）、ローパスフィルタ
（７４２）を介して直流電源（７４３）が接続されてお
り、接続選択スイッチ（，７４４）により周波数の異な
る電力が印加可能とされている。

反応室内の圧力は圧力制御弁（７４５）により調整可能
であり、反応室内の減圧は、排気系選択弁（７４６）を
介して、拡散ポンプ（７４７）、油回転ポンプ（７４Ｂ
）、あるいは冷却除外装置（７４９）、メカニカルブー
スターポンプ（７５０）、油回転ポンプにより行なわれ
る。

排ガスについては、さらに適当な除外装置（７５３）に
より安全無害化した後、大気中に排気される。

これら排気系配管については、常温において液相または
固相状態にあった原料化合物が気化したガスが、途中で
凝結しないように、適宜配置された配管加熱器により、
与熱可能とされている。

反応室も同様の理由から反応室加熱器（７５１）により
与熱可能とされ、内部に配された電極上に導電性基板（
７５２）が設置される。

第１３図に於いて導電性基板は接地電極に固定して配さ
れているが、電力印加電極に固定して配されてもよく、
更に双方に配されてもよい。

感光体製造に供“ケる反応室は、拡散ポンプにより予め
ｔｏ−’乃至１Ｏ−６程度にまで減圧し、真空度の確認
と装置内部に吸着したガスの脱着を行う。

同時に電極加熱器により、電極並びに電極に固定して配
された導電性基板を所定の温度まで昇温する。

次いで、第１乃至第６タンクおよび第１乃至第３容器か
ら原料ガスを第１乃至第９流量制御器を用いて定流量化
しながら反応室に導入し、圧力調節弁により反応室内を
一定の減圧状態に保つ。

ガス施量が安定化した後、接続選択スイッチにより、例
えば高周波電源を選択し、電力印加電極により高周波電
力を投入する。

両電極間には放電が開始され、時間と共に基板上に固相
の膜が形成される。

以上の構成において、例えば第１図に示した感光体を製
造する場合、反応槽（７３３）を一定の真空状態として
から、例えばガスライン（７３２）を介して第１タンク
（７０１）よりＣ，Ｉｌ、ガス、第２タンク（７０２）
よりキャリアガスとしてＩＩ、ガスを供給する。

一方、高周波電源（７３９）より上部電極板（７３６）
に１０　ｗａｔＬｓ−１ｋｗａｔｔｓの電力を印加し両
電極板間にプラズマ放電を起こし、予め加熱されたＡ１
２基板（７５２）上に厚さ５〜５０μｍのａ−Ｃ電荷輸
送層（２）を形成する。この電荷輸送層は本発明により
生成したａ−（ＪＪ中、不飽和結合を有する炭素数Ｎ、
と不飽和結合を有しない炭素数Ｎ、の比Ｎｌ：間オが０
゜３：１ないし２：ｌである。この比は他のＮ、が０．
３二ｌないし２：１である。こめ比は他の製造条件にら
依存するが直流電圧源（７４３）からｌ０Ｖ−ＩＫＶの
バイアス電圧を印加することにより制御できる。即ち、
不飽和結合を有する炭素数はバイアス電圧を高くするこ
とによって減少し、ａ−Ｃ膜自体の硬度を高くすること
かできる。こうして形成されたａ−ＣＩ電荷輸送層透光
性、暗抵抗に優れ、キャリアの輸送性に著しく優れてい
る。尚、この層に、例えば第４タンク（７０４）より［
３ｍＨｍガス、または第５タンク（７０５）よりＰＨ，
ガスを導入してＰ、Ｎ型に制御して電荷輸送性を一層高
めても良い。

次に電荷発生層（３）は、第２及び第３タンク（７０２
）、（７０３）よりＨ，，５ｉ１１．ガスを導入するこ
とによりａ　−Ｓ　ｉを母体とする層として形成される
。

また、電荷輸送層形成のため反応槽（７３３）へ導入す
る化合物が液体状の物質であるときは、先述の方法でガ
スを反応槽（７３３）へ導入し、プラズマ重合させれば
よい。

また沸点の高いａ機化合物からａ−Ｃ膜を形成ずろ場合
は、基板上にあらかじめそれらの物質を塗布しておき、
次に真空槽中でキャリアーガス等のプラズマを照射して
、重合を開始させてもよい（所謂プラズマ重合法）。

本発明におけるａ−Ｃ膜形成プラズマ重合法は、さらに
レザービーム、紫外線、Ｘ線あるいは電子線等の電磁波
を単独で、あるいは補助的に照射し、ａ−Ｃ膜を形成す
ること（光アシスト法）や磁界、バイアス直流電界のア
シストら有効である。光アシスト法は、ａ−Ｃ模の堆積
速度を向上させ、製造時間をさらに短縮させたい場合や
、ａ−Ｃ膜の硬度を上昇させたい場合に有効である。

以下の実施例では、板状感光体を形成する場合には第１
３図を、円筒状感光体を形成する場合には第１４図を用
いて説明を行うこととする。しかしながら、常温でガス
状の原料を用いろ場合には第１３図、第１４図がそのま
ま適用されるが、ガス状以外の場合、即ち、固体、液体
の場合には第１５図に示すがごとき、固体または液体を
気化すべき気化手段（３２）、（３３）、（３４）を別
に設ける必要がある。図示しないが、円筒状感光体製造
装置に於いても同様である。煩雑さを避けるため、以下
の実施例では全て第１３図、第１４図で説明することと
した。

以下、実施例を挙げ、本発明を説明する。

実施例１ （１）電荷輸送層（ａ−Ｃ層の形成） 第１３図に示ケグロー放電分解装置において、まず、反
応槽（７３３）の内部をＩ　Ｏ−＠Ｔｏｒｒ程度の高真
空にした後、第１および第２バルブ（７０７）および（
７０８）を開放し、第１タンク（７０１）よりｌ。

３−ブタジェン（Ｃ４［１８）ガス、第２タンク（７０
２）よりＨ２ガスを出力圧ゲージ１Ｋｇ／ｃｍ’の下で
マスフローコントローラ（７１３）および（７１４）内
へ流入させた。そして、各マスフローコントローラの目
盛を調整して、Ｃ４Ｈｅの流量を６０ｓｅｃ＋＊、　Ｉ
ｌｔを２００　ｓｅｃｍとなるように設定して反応槽（
７３３）内へ流入した。夫々の流量が安定した後に、反
応槽（７３３）の内圧が０　、２　Ｔｏｒｒとなるよう
に調整した。

一方、導電性基板（７５２）としては、２Ｘ５０Ｘ５０
ｍＩ１１のアルミニウム板を用いて８０℃に予じめ加熱
しておき、各ガス流量が安定し、内圧が安定した状態で
高周波電源（７３９）を投入し上部電極板（７３６）に
２００　ｗａｔｔｓの電力（周波数１００Ｋｌｌｚ）を
印加して約５０分プラズマ重合を行ない、導電性Ｊ１（
板（７５２）上に、厚さ約１５μｍのプラズマ重合ブタ
ジェン膜からなる電荷輸送層を形成した。

以上のようにして得られたプラズマ重合ブタジェン膜を
フーリエ変換赤外分光（パーキンエルマー社製）、１３
Ｃ−ＮＭＲ装置（日本電子社製固体ＮＭＩυおよび’　
Ｈ−Ｎ　Ｍ　Ｉｔ装置（日本電子社製固体ＮＭＲ）等で
測定し、分析したところ、プラズマ重合ブタジェン膜の
化学構造においては、不飽和結合を７７する炭素数Ｎ、
と不飽和結合を有しない炭素数Ｎ、の比Ｎ　１：　Ｎ　
ｔは約２＝１であった。またその膜の電気抵抗を測定し
たところ、暗抵抗がＩｘｌＯ”ΩｃＩ１１以下であり、
明暗抵抗比がＩＯ！〜１０’以上であった。本発明プラ
ズマ重合ブタジェン膜は電子写真感光体として十分使用
できることが判った。

（ＩＩ）電荷発生層（ａ　−Ｓ　ｉ層の形成）基板（１
）上にプラズマ重合ブタジェン膜を（１）の過程により
形成後、高周波電源（７３９）からの電力印加を一次停
止し、反応槽の内部を真空にした。

第４、第３および第２バルブ（７１０）、（７０９）お
よび（７０８）を開放し、第４タンク（７１０）よりＮ
、０ガス、第３タンク（７０３）よりＳｉＨ＋ガス、第
２タンク（７０２）からＨ、ガスを出力圧ゲージＩＫｇ
／ｃａ”の下でマスフローコントローラ（７１６）、（
７１５）および（７３４）内へ流入させた。各マスフロ
ーコントローラの目盛を調整して、Ｎ、０の流量を１　
、　Ｏｓｃｃｍ、５ｉｌｌｓの流量を９０ｓｅｃｍ、　
Ｈｔの流量を２１０ｓｅｃｍに設定し、反応槽に流入さ
せた。夫々の流量が安定した後に、反応槽（７３３）の
内圧か０．８Ｔｏｒｒとなるよう調整した。一方、ａ−
Ｃ膜が形成されている導電性基板（７５２）は２５０℃
に加熱しておき、ガス流量が安定し、内圧が安定した状
態で高周波源（７３９）を投入し、電極板（７３６）に
３５Ｗの電力（周波数１３．５６ＭＨｚ）を印加してグ
ロー放電を発生させた。このグロー放電を５分間行ない
厚さ０．３μｍのａ−９ｉ：ＩＩ電荷発生層を形成させ
た。

得られた感光体を常用のカールソンプロセスの中で用い
たところ、帯電電位は一６００■であり、即し、全感光
体膜厚が１５．３μ麓であることから、１μ肩当たりの
帯電能は約４０Ｖと極めて高く、このことから充分な帯
電性能を有することが理解された。

暗中にて、ｖｏから５秒間で暗減衰する比率（ＤＩ）　
ｎ　ｓ　（％））は２％であり、充分な電荷保持性能を
ａすることが理解された。

感光体を初期帯電させた後、白色光を用いて、表面電位
を半減させるに必要とされた光量は約７゜１１２ｕｘ−
ｓｅｃであり、このことから、充分な光感度性能を有す
ることが理解された。

また、タングステンランプにより実使用に準じた光重で
光イレースした後の、残留電位Ｖｒは、−３１０Ｖであ
り、イレース特性も良好であることが理解された。

以上より、本例に示した感光体は、優れた性能を有する
ものである。また、この感光体に対して常用のカールソ
ンプロセスの中で作像して転写したところ、鮮明な画像
が得られた。

得られた感光体の特性を表■こ示す。

なお、繰り返し安定性の評価は、◎は帯電、露光、イレ
ース１００回の繰り返しの間に、ＶＯ％一定光量の光Ｊ
１６射後の表面電位Ｖｉ１およびＶＲの変化率が一１０
％〜＋ｌＯ％である状態を、○は同変化率が一２０％〜
＋２０％である状態を、△は同変化率が一４０％〜＋４
０％である状態示す。

Ｅｇはａ−Ｃ膜のエネルギーギャップ（ｅＶ）を示す。

表　　１ 実施例２〜７ 実施例１と同様に２Ｘ５０Ｘ５０ｍｍのアルミニウム板
トに電荷輸送層およびＴｉ　Ａ発生層を順次形成した第
１図に示した感光体を形成した。電荷発生層は実施例１
と同一の条件で形成した。電荷輸送層の形成条件および
得られた感光体特性を表２中にまとめた。

表２（続き）（実施例２〜７） 表２（続き）（実施例２〜７） 実施例８〜１１ 導電性基板（３ｘ５０Ｘ５０ｍｍアルミニウム基板）七
に電荷発生層および電荷輸送層を順次積層した第２図に
示した構成の感光体を形成した。

電荷発生層は、チタ÷ルフタロシアニン（Ｔｉ０１’ｃ
）を真空蒸着の常法により、ボート温度５００〜６００
℃、真空度５ＸＩＯ−＠〜ｌＸｌ０−’’Ｉ’ｏｒｒ、
および蒸着時間約１０分の条件に行った。

得られた′Ｉ″１０Ｐｃ蒸着膜の厚さは１０００人であ
りノこ。

電荷輸送層は、実施例１と同様の方法によりプラズマ重
合により形成した。作製条件を表３中に示し７た。また
得られた感光体の特性も表３に示しノー。

表　３　（実施例８〜１１） 表３（続き）　（実施例８〜ＩＩ） 実施例１２〜１５ 導電性基板（３Ｘ５０Ｘ５０＋＊ａアルミニウム基板）
上に電荷発生層および電荷輸送層を順次積層した感光体
を形成した。

電荷発生層はモノクロロアルミニウムモノクロロフタロ
シアニン（Ａ２ＣＱＰｃ（ＣＱ））を真空蒸着の常法に
より、ボート温度４５０〜４９０℃、真空度５ｘｌＯ−
”　〜Ｉｘｌθ−’Ｔｏｒｒ、および蒸着時間約５分の
条件で行った。得られたＡＱＣ（ｌＰｃ（ＣＩ２））蒸
着膜の厚さは約５００人であった。

電荷輸送層は実施例１と同様にプラズマ重合により形成
した。形成条件および得られた感光体特性を表４中に示
した。

表　４　（実施例１２〜１５） 表４（続き）（実施例１２〜１５） 実施例Ｉ６ 導電性基板（３ｘ５０ｘ５０ｍｍアルミニウム基板）上
に電荷発生層および電荷輸送層を順次積層（、た第２図
に示した構成の感光体を作製した。

電荷発生層および電荷輸送層は実施例１と同様にプラズ
マ重合により作製した。

作製条件および得られた感光体の特性を表５に示した。

表　５　（実施例１６） 実施例１７〜２０ 本実施例において、導電性基板上に有機系感光層（Ａ−
１））、オーバーコート層を順次積層した感光体を得た
。

以下、縦５０×横５０×厚さ３ｎｏｎの平板状アルミニ
ウム基板上に形成したものを補助記号ｐをＩＩＩいてｆ
ｊ機系感光層Ａ　ｐ　−Ｄ　ｐと称し、直径３０ｍｍＸ
長さ３３０＋ｎｌ１１の円筒状アルミニウム基板上に形
成したらのを補助記号ｄを用いて有機系感光層Ａｄ〜Ｄ
（１と称する。

ｒｆ機系感光層への作製 ジスアゾ顔料としてクロロジアンブルー（ＣＤ１３月凱
ポリエステル樹脂（東洋紡社製Ｖ−２００）１ｇ、およ
びシクロへキサノン９８１／の混合液をサンドブライン
グーで１３時間分散した。この分散液を縦５０Ｘ横５０
×厚さ３ｍｍの平板状アルミニウム基板」二にバーコー
ターを用いて乾燥後の膜厚が０．３μ肩となるように塗
布し、乾燥して電荷発生層を形成した。

次いで、４−ジエチルアミノベンズアルデヒド−ジフェ
ニルヒドラゾン（ＤＥＨ）５９、およびポリカーボネー
ト（音大化成社製に−１３００）５ｇをＴｌ−ＩＦ５０
９に溶解させ、この溶液を電荷発生層上に乾燥後膜厚が
１５μｌとなるように塗布し、乾燥させて電荷輸送層を
形成し、有機系感光層Ａｐを得た。

同様の工程にて、ディッピングを用いて、直径８０ｍｔ
ａＸ長さ３３０ｍｍの円筒状アルミニウム基板上に有機
系感光層Ａｄを形成した。

有機系感光層Ｂの作製 電荷輸送層形成用のポリカーボネートをメチルメタクリ
レート（１）ＭＭＡ）（三菱レーヨン社製ｌ３Ｒ−８５
）に代える以外は有機系感光層ＡＩ）ＳＡｄと同様にし
て何機系感光層ＢｐＳＢｄを作製した。

有機系感光層Ｃの作製 ポリカーボネートをポリアクリレート（ユニチカ社製Ｕ
−４０００）に代える以外は有機系感光層Ａｐ、Ａｄと
同様にして有機系感光層ＣＩ）１Ｃｄを作製した。

有機系感光層りの作製 ポリカーボネートをポリエステル（東洋紡社製Ｖ−２０
０）に代える以外はｔＴ機系感光層Ａ　Ｉ）、　Ａ　ｄ
と同様にしてＦｒ機系感光層Ｄｐ、Ｄｄを作製した。

上記有機系感光層Ａ　ｐ　−Ｄ　ｐ上に、第１３図に示
すグ【ｌ−放電分解装置を使用し、ａ−Ｃ膜よりなるオ
ーバーコート層を作製した。作製操作等は実施例１に準
じ、作製条件を表６中に示した。

感光体特性としては、実施例！で測定した特性の他、Ｊ
ＩＳ−に−５４００規格に基づいた鉛筆硬度を測定した
。

さらに、得られた感光体を、温度１０℃、相対湿度３０
％の低温低湿雰囲気と、温度５０°Ｃ１相対湿度９０％
の高温高湿雰囲気とが３０分ごとに交互に繰り返される
環境下に６時間放置した後、表面保護層の剥離、あるい
は、ひび割れ等を観察した。

また、有機系感光層Ａｄ−Ｄｄで構成される各感光体に
ついて、ミノルタ社製複写機ＥＰ６５０Ｚに搭載したと
ころ、いわゆるメモリー画像の無い鮮明な画像が得られ
、更に、温度３５℃相対湿度８０％の環境下で実写して
も、いわゆる画像流れは認められなかった。また、複写
機内での現像剤、転写紙、並びに、清掃部材との接触に
おいても、表面保護層の剥離は認められなかった。また
、通常の室内において、実写を２０万枚（Ａ４用紙）行
ったところ、最後まで鮮明な画像が得られた。また、２
０万枚複写後の摩耗度および感光体表面の膜の発生の有
無を観察した。

以上の結果は表６中にまとめた。

表　６　（実施例１７〜１９） 表６（続き）（実物例１７〜１９） 実施例２１および２２ 導電性７，１．板上に無機感光層（Ｓｃ−ＡｓおよびＳ
ｅ／　ｉ’　ｃ）、オーバーコート層を順次積層した感
光体を得ノニ。

即も、直径８０×長さ３２９ｍｍのアルミニウム管に、
予め’Ｊｌの真空蒸着装置を用いて常法に従い、５０μ
ｍの膜厚に形成した５ｅ−Ａｓ感光体層（実施例２１）
およびＳ　ｅ／　Ｔ　ｅ感光体層（実施例２２）上に第
１４図に示すグロー放電分解装置を使用し、実施例１に
卆じ、表７に示す条件で、ａ−Ｃ膜のオーバーコート層
を形成した。

感光体特性として実施例１７〜１９と同様に測定し、結
果を表７中に示した。

得られた両感光体をミノルタ社製複写機ｒＥｌ）６５０
Ｚに搭載し実写したところ、いわゆるメモリー画像の無
い鮮明な画像が得られ、更に、温度３５℃相対湿度８０
％の環境下で実写しても、いわゆる画像流れは認められ
なかった。また、複写機内での現像剤、転写紙、並びに
、清掃部材との接触においてら、表面保護層の剥離は認
められなかった。また、通常の室内において、実写を２
５万枚行ったところ、最後まで鮮明な画像が得られた。

また、５ｅ−Ａｓ感光体層を用いｆ二感光体（実施例２
＋）については、２５万枚実写後、オージェ分析により
表面の組成分析を行なったところ、セレンあるいは砒素
等は検出されなかった。これらのことから、本発明によ
る感光体の表面保護層は、画像品位を損なわずに、耐久
性の向上と、ａ害性の改善を達成するものであることか
理解された。

Ｓｅ／Ｔｅ感光体層を用いた感光体（実施例２２）につ
いては、得られた感光体をミノルタ社製複写機ＥＰ６５
０Ｚに搭載し、光学系を半導体レーザ、ポリゴンミラー
スキャナ、および駆動系等から成る、常用の半導体レー
ザ露光系に変更して実写したところ、いわゆるメモリー
画像の無い鮮明な画像が得られ、更に、温度３５℃相対
湿度８０％の環境下で実写しても、いわゆる画像流れは
認められなかった。また、複写機内での現像剤、転写紙
、並びに、清掃部材との接触においても、表面保護層の
剥離は認められなかった。また、通常の室内において、
実写を２０万枚行ったところ、最後まで鮮明な画像が得
られた。また、２０万枚実写後、オージェ分析により表
面の組成分析を行ったところ、セレンあるいはテルル等
は検出されなかった。

これらのことから、本発明による感光体の表面保護層は
、画像品位を損なわずに、耐久性の向」−と、（ノー胃
性の改丹を達成するらのであることが理解された。

表　７　（実施例２１〜２２） ＊’７８０ｎｍの光を用いて測定。

害庸俗！３〜２−４ 導電性基板（２ｘ２０ｘ２０ｍｍのアルミニウム基板ｌ
：に、電６：ｊ輸送層および７ｆｔ　６ｉ？発生層を順
次形成し、第１図に示した構成の感光体を作製した。

電荷輸送層および電荷発生層の形成条件および得られた
感光体特性を表８〜ｌＯに示した。

表　８　（実施例２３） 表　９　（実施例２４） 表　１０　　（実施例２５） ＊１　加熱器により約２０℃に加熱。

比較例１ 実施例２３の工程（１）で作製された本発明によるプラ
ズマ・Ｒ合アセチレン膜の代わりに、低密度ポリエチレ
ン膜をＴｒ機重合の常法により厚さくｉ　／１灰に作製
しくこのポリエチレン膜中のＮ＋：Ｎ２は約０．１：９
９．９、即ち、Ｉ　：９９９であった）、その上に実在
例１と同様に工程（ＩＴ）を施した。また電気抵抗は約
ｔｏ１８Ω口であり絶縁体であっノコ。

得られた感光体の性能評価（ＩＩ［）を行なったところ
、感光体は光感度がなく、数回の繰り返してすぐチャー
ジアップし、電子写真には使用できないしのであった。

曳柁倒−２− アルミニウム括板上にａ−８ｉ層のみを形成した感光体
を作製した。作製は実施例１と同様の条件下で３．２５
時間行い、厚さ６．５μｌｉ！のａ−９ｉ１４を形成し
た。

得られた感光体の性能評価を行ったところ、得られた感
光体ｉ１Ｖ、＝−１００Ｖ、Ｅｌ／２＝２．７ＱｕＸ−
５ｅＣであり、十極性では十分な帯電能が得られなかっ
た。

発明の効果 本発明による有機プラズマ重合膜を電荷輸送層に何する
感光体は電荷輸送性、帯電能に浸れ、膜厚が薄くても充
分な表面電位を得ることができ、かつ良好な画像を得る
ことができる。本発明に従えば、電荷発生層にａ−８ｉ
を使用する場合、従来のａ−９ｉ感光体では達成ケろこ
とのできなかった薄膜の感光体を得ることができる。

本発明感光体はその原料が安価であり、必要な６層が同
一の槽内て成ｊ漠できるととしに、膜厚が薄くてよいの
で、製造コストが安く、かつ製造時間か短くて済む。　
本発明による有機プラズマ重合膜は、薄膜に形成しても
ピンホールが生じにく、均質に形成することができるの
で、薄脱化が容易である。さらに蔚コロナ性、耐酸性、
耐湿性、耐熱性、トナーの離型性および剛直性にも簡れ
ているので、表面保護層として使用すると感光体の耐久
性が向上する。

【図面の簡単な説明】

第１図から第１２図は本発明感光体の模式的断面図を示
す。 第１３図および第１４図は感光体製造装置を示す概略図
である。 図中の記号は以下の通りである。 （１）−ＪＩｒ；板　　　　（２）＝・電荷輸送層（ａ
−Ｃ層）（３）・・・電り：ｊ発生層　（４）・・・オ
ーバーコート層（５）・・・アンダーコート層 （７０１）〜（７０６）・・・タンク （７０７）〜（７１２）及び（７２５）〜（７２７）・
・・調節弁（７１３）〜（７１８）及び（７２ｇ）〜（
７３０）・・・マスフローコントローラー （７１９）〜（７２１）・・・容器（７３２）・・・主
管（７３３）・・・反応室　　　（７３５）・・・接地
電極（７３６）・・・電力印加用電極 （７３９）・・・高周波電源　（７４１）・・・低周波
電源（７４３）・・・直流電圧源 （７４７）〜（７５０）・・・真空ポンプ（７５２）・
・・導電性１．（板 絡】図　　　　第２図 第４図　　　　　第５図 第７図　　　　第８図 第３図 第９図

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. １、電荷発生層（３）と電荷輸送層（２）とを有する機
   能分離型感光体において、電荷輸送層（２）が水素を含
   む非晶質炭素膜で、その化学構造において不飽和結合を
   有する炭素数Ｎ＿１と不飽和結合を有しない炭素数Ｎ＿
   ２の比Ｎ＿１：Ｎ＿２が０．３：１ないし２：１である
   ことを特徴とする感光体。