JPS6319854A - Switching element - Google Patents

Switching element

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JPS6319854A
JPS6319854A JP61164187A JP16418786A JPS6319854A JP S6319854 A JPS6319854 A JP S6319854A JP 61164187 A JP61164187 A JP 61164187A JP 16418786 A JP16418786 A JP 16418786A JP S6319854 A JPS6319854 A JP S6319854A
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JP
Japan
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redox
substance
electrodes
film
switch element
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Application number
JP61164187A
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Japanese (ja)
Inventor
Tomotsugu Kamiyama
智嗣 上山
Satoru Isoda
悟 磯田
Akiyoshi Ogura
小椋 明美
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Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
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Abstract

PURPOSE:To bring the size of an element close to the superfine size of molecule level by a method wherein the first-the third oxidation-reduction substance films are formed of an oxidation-reduction substance, and a switching element which displays transistor characteristics or switching characteristics is constituted by utilizing the difference in redox potential. CONSTITUTION:A neutral lead film 3, which is an oxidation-reduction substance, is formed on a substrate 1 covering electrodes 2a-2c. Then, the first and the third neutral red films 3a and 3c are formed on the electrodes 2a and 2c by removing the part where the electrode 2b is covered by the film 3 by an ion sputtering method and the like. Lastly, the second toluidine blue film 4 is formed by adhering to the third neutral red films 3a and 3c, and a switching element is obtained. Then, a fixed negative voltage V2 is applied between the electrodes 2a and 2c, and when the fixed negative voltage Vl running between the electrodes 2a and 2c is turned ON or OFF, the current running between the electrodes 2a and 2c can be turned ON or OFF.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は、集積回路分野におけるスイッチ素子に関す
るもので、酸化還元物質を該素子の構成材料として用い
ることにより、そのサイズを分子レベルの超微細な大き
さく数十〜数百人)に近づけることができ、高密度、高
速化を図ることができるようにしたものである。
[Detailed Description of the Invention] [Field of Industrial Application] This invention relates to a switching element in the field of integrated circuits, and by using a redox substance as a constituent material of the element, the size of the element can be reduced to an ultra-fine size at the molecular level. It is designed to be able to accommodate large numbers of people (from several tens to hundreds of people), and to achieve high density and high speed.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

従来、集積回路に用いられているスイッチ素子としては
、第4図に示す電界効果型トランジスタ(FET)があ
った。図において、11はn形シリコン基板、12はチ
ャンネル領域、13はP゛層、14は5in2膜、15
はソース電極、16はゲート電極、17はドレイン電極
であり、この従来のFETをトランジスタ動作又はスイ
ッチング動作させるには、ゲート電極を介して印加する
ゲート電圧の制御により行う。即ち、ゲート・電圧によ
ってソース電極15とドレイン電極17間の表面層にお
ける電流キャリア数を変化させ、これにより電流を制御
する。
Conventionally, a field effect transistor (FET) shown in FIG. 4 has been used as a switching element in an integrated circuit. In the figure, 11 is an n-type silicon substrate, 12 is a channel region, 13 is a P layer, 14 is a 5in2 film, and 15 is a
16 is a source electrode, 16 is a gate electrode, and 17 is a drain electrode. The transistor operation or switching operation of this conventional FET is performed by controlling the gate voltage applied through the gate electrode. That is, the number of current carriers in the surface layer between the source electrode 15 and the drain electrode 17 is changed by the gate voltage, thereby controlling the current.

〔発明が解決しようとする問題点〕[Problem that the invention seeks to solve]

従来のスイッチ素子は以上のように構成されているため
、微細加工が可能であり、現在では上記構造のスイッチ
素子あるいはこれと類似の構造の整流素子を用いたLS
Iとして、256にビットLSIが実用化されている。
Since conventional switch elements are configured as described above, microfabrication is possible, and currently LS using switch elements with the above structure or rectifying elements with a similar structure.
As I, a 256-bit LSI has been put into practical use.

ところで、集積回路のメモリ容量と演算速度を上昇させ
るには、素子そのものの微細化が不可欠であるが、Si
を用いる素子では0.2μm程度の超微細パターンで電
子の平均自由行程と素子サイズとがほぼ等しくなり、素
子の独立性が保たれなくなるという限界を抱えている。
Incidentally, in order to increase the memory capacity and operation speed of integrated circuits, it is essential to miniaturize the elements themselves, but Si
In devices using ultra-fine patterns of about 0.2 μm, the mean free path of electrons becomes almost equal to the device size, which has the limitation that independence of the devices cannot be maintained.

このように、日々発展を続けているシリコンテクノロジ
ーも、微細化の点ではいずれは壁に突きあたることが予
想され、新しい原理に基づく電気回路素子であって上記
0.2μmの壁を破ることのできるものが求められてい
る。
In this way, silicon technology, which continues to develop day by day, is expected to eventually hit a wall in terms of miniaturization. What we can do is needed.

この発明は、かかる状況に鑑みてなされたもので、酸化
還元物質を電気回路素子の構成材料として用いることに
より、そのサイズを分子レベルの超微細な大きさまで近
づけることのできる電気回路素子を、特にそのうちのス
イッチ素子を得ることを目的とする。
The present invention has been made in view of the above circumstances, and particularly aims to create an electric circuit element whose size can be brought close to ultra-fine size at the molecular level by using a redox substance as a constituent material of the electric circuit element. The purpose is to obtain a switching element among them.

〔問題点を解決するための手段〕[Means for solving problems]

ところで、生体内には、電子を定められた方向へ運ぶ電
子伝達能を有する蛋白V(以下、電子伝達蛋白質と記す
)が複数種類存在しており、該電子伝達蛋白質は、例え
ば生体膜中に一定の配向性をもって埋め込まれ、分子間
で電子伝達が起こるように特異的な分子間配置をとって
いる。
By the way, in living organisms, there are multiple types of proteins V (hereinafter referred to as electron transfer proteins) that have the ability to transfer electrons in a predetermined direction. They are embedded with a certain orientation and have a specific intermolecular arrangement so that electron transfer occurs between molecules.

この電子伝達蛍白質は、電子伝達時に酸化還元(レドッ
クス)反応を伴い、各電子伝達蛋白質のレドックス電位
の9の準位から正の順位へと電子を流すことができるも
のであり、これを利用すれば電子の動きを分子レベルで
制御することができると考えられる。
This electron transfer fluorescent substance involves an oxidation-reduction (redox) reaction during electron transfer, and can flow electrons from the 9 levels of the redox potential of each electron transfer protein to the positive order. It is thought that this would allow the movement of electrons to be controlled at the molecular level.

また、最近の知見によれば、生体内に存在している電子
伝達蛋白質以外の電子伝達物質を組み合わせて電子伝達
が可能な電子伝達複合体を形成することが可能であるこ
とが示されている。
Furthermore, recent findings indicate that it is possible to form an electron transfer complex capable of electron transfer by combining electron transfer substances other than electron transfer proteins that exist in living organisms. .

従って、適当なレドックス電位を持つ電子伝達物質を2
種類(A及びB)用い、A−B−Aと3層接着接合すれ
ば、それらのレドックス電位の差異を利用してトランジ
スタ特性又はスイッチング特性を生ずる接合を形成でき
ると考えられる。本件発明者はこのことに着目してこの
発明を創作したものである。
Therefore, if an electron carrier with an appropriate redox potential is
It is thought that if the types (A and B) are used and a three-layer adhesive bond is made with A-B-A, it is possible to form a bond that produces transistor characteristics or switching characteristics by utilizing the difference in redox potential. The present inventor created this invention by paying attention to this fact.

そこで本発明に係るスイッチ素子は、第1の酸化還元物
質で作成された第1酸化還元物質膜と、上記第1酸化還
元物質のレドックス(酸化還元)電位と異なるレドック
ス電位を有する第2の酸化還元物質で作成され、上記第
1酸化還元物質膜に接着接合された第2#化還元物質膜
と、上記第1酸化還元物質のレドックス電位と異なるレ
ドックス電位を有する第3の酸化還元物質で作成され、
上記第1酸化還元物質膜に接着接合された第3酸化還元
物質膜と、それぞれ上記第1.第2.第3酸化還元物質
膜に電気的に、あるいは電気的影響を与えるために接続
される第1.第2.第3の電極とを設けて構成したもの
である。
Therefore, the switch element according to the present invention includes a first redox material film made of a first redox material, and a second redox film having a redox potential different from the redox potential of the first redox material. A second redox substance film made of a reducing substance and adhesively bonded to the first redox substance film, and a third redox substance having a redox potential different from the redox potential of the first redox substance. is,
a third redox material film adhesively bonded to the first redox material film; and a third redox material film adhesively bonded to the first redox material film; Second. The first. Second. It is configured by providing a third electrode.

〔作用〕[Effect]

この発明においては、レドックス電位の異なる少なくと
も2種類の酸化還元物質によりトランジスタ特性又はス
イッチング特性を発生させる。即ち、第5図(al、 
(b)のA−B−A型酸化還元物質複合体の模式図とそ
のレドックス電位の関係を用いて説明すると、この酸化
還元物質A、B、Aを接合してなる複合体では、A、B
、A酸化還元物質のレドックス電位の分布をB酸化還元
物質への印加電圧を制御して変化させることができ、こ
れによりn型半導体とn型半導体を接合してなるp −
n−p接合と類似のトランジスタ特性又はスイッチング
特性を呈する素子を得ることができる。
In this invention, transistor characteristics or switching characteristics are generated by at least two types of redox substances having different redox potentials. That is, FIG. 5 (al,
To explain using the schematic diagram of the A-B-A type redox substance complex in (b) and the relationship between its redox potentials, in this complex formed by joining redox substances A, B, and A, A, B
, the distribution of redox potential of the redox substance A can be changed by controlling the voltage applied to the redox substance B, and as a result, the p −
It is possible to obtain an element exhibiting transistor characteristics or switching characteristics similar to those of an n-p junction.

〔実施例〕〔Example〕

以下、この発明の実施例を図について説明する。 Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.

第1図(d)はこの発明の一実施例によるスイッチ素子
を示し、図において、■は砲縁特性を持つ基板、2a〜
2Cはそれぞれ基板1上に所定の間隔を置いて設けられ
た電極であり、電肯2bはその表面に例えば酸化物や樹
脂からなる絶縁層(図示せず)が形成されている。3a
は電極2a上の酸化還元物質膜である第1ニユートラル
レ・ノド膜、3cは電極2C上の第3ニユートラルレツ
ド膜である。4は酸化還元物質膜である第2トルイジン
ブルー膜であり、これは基板1上に電JP2bを覆って
第1.第3ニュートラルレッド膜3a、3cに接着接合
するよう形成されている。またニー1−トラルレソド、
トルイジンブルーのレドックス電位はそれぞれ一325
mV、+115mVである。
FIG. 1(d) shows a switch element according to an embodiment of the present invention, in which ■ is a substrate having gun edge characteristics, 2a to
2C are electrodes provided on the substrate 1 at predetermined intervals, and the electrode 2b has an insulating layer (not shown) made of, for example, oxide or resin formed on its surface. 3a
3c is a first neutral red film which is a redox material film on electrode 2a, and 3c is a third neutral red film on electrode 2C. 4 is a second toluidine blue film which is an oxidation-reduction material film, which covers the electrically conductive JP 2b on the substrate 1 and forms the first toluidine blue film. It is formed so as to be adhesively bonded to the third neutral red films 3a and 3c. Also Ni 1-Tralresodo,
The redox potential of toluidine blue is -325 respectively.
mV, +115mV.

次に、本実施例の製造方法を第1図(a)〜(d)に基
づいて説明する。
Next, the manufacturing method of this example will be explained based on FIGS. 1(a) to 1(d).

まず、第1図(alに示すように、基板1上に電極23
〜2Cを形成する。次に第1図(blに示すように、上
記基板1上に上記電極2a〜2Cを覆ってニュートラル
レッド膜3を形成する。ここでこの膜3の形成には、酸
化還元物質膜を基板上に形成する方法であるところの下
記■〜■の方法、即ち■ 官能基をもった化合物を基板
表面に不可逆的に化学・物理吸着させる方法(第2図(
a)又は(b))■ 基板表面の酸化物層を利用する方
法、即ち、まずアルカリ処理により基板表面に一〇H基
を作り、これと有機ケイ素化合物であるクロロシラン 
、やアルコキシシランとの反応により、−0−3i−結
合を通じて、官能基を固定する方法(第2図(C)) ■ カーボン基板表面に適当な化学的処理を施し、該基
板表面に化学結合可能な一〇〇〇H基。
First, as shown in FIG.
Forms ~2C. Next, as shown in FIG. The following methods ① to ② are methods for forming the substrate, namely ① A method of irreversibly chemically and physically adsorbing a compound having a functional group onto the substrate surface (see Figure 2).
a) or (b)) ■ A method that utilizes the oxide layer on the substrate surface, that is, first, 10H groups are created on the substrate surface by alkali treatment, and this and chlorosilane, which is an organosilicon compound, are used.
A method of fixing functional groups through -0-3i- bonds by reaction with , or alkoxysilane (Fig. 2 (C)) ■ Appropriate chemical treatment is applied to the surface of a carbon substrate to form chemical bonds on the surface of the substrate. Possible 1000H groups.

−NH2基、−COC/!基を導入し、これらの置換基
を利用したアミド結合を介して目的官能基を固定する方
法(第2図(d)) ■ 酸化還元樹脂を適当な有機溶剤に溶かし、基板表面
にコーティングし、乾固させて官能基をもった薄膜を作
成する方法 ■ 蒸着法により単量体及び高分子などの薄膜を基板表
面に生成する方法 ■ スパッタリング法により単量体及び高分子などの薄
膜を基板表面に生成する方法 ■ 電気泳動を利用して電着する方法(電着法)■ ス
テアリン酸などと混合してLB膜を作り基板上に引上げ
る方法(LB腹膜法 のうち、■〜■、■〜■のいずれかの方法を用いること
ができる。
-NH2 group, -COC/! A method of introducing a group and fixing the desired functional group via an amide bond using these substituents (Figure 2 (d)) ■ Dissolve the redox resin in a suitable organic solvent, coat it on the substrate surface, A method to create a thin film with functional groups by drying ■ A method to create a thin film of monomers, polymers, etc. on the substrate surface by vapor deposition method ■ A method to create a thin film of monomers, polymers, etc. on the substrate surface by sputtering method ■ A method of electrodeposition using electrophoresis (electrodeposition method) ■ A method of mixing with stearic acid etc. to form an LB film and pulling it onto a substrate (Among the LB peritoneal methods, ■ - ■, ■ Any of the methods of ~■ can be used.

次に第1図(C)に示すように、上記ニュートラルレッ
ド膜3のうち上記電極2bを覆っている部分をイオンス
パッタリングなどによって除去することにより、上記電
極2a、2c上に第1.第3ニュートラルレッド膜3a
、3cを形成する。該膜3a、3cは始めからマスキン
グによって上記電極2a、2c上のみにニュートラルレ
ッド膜を成膜して形成してもよい。そして最後に、第1
図(dlに示すように、第2トルイジンブルー膜4を上
記■〜■のいずれかの方法を用いて、上記第1.第3ニ
ュートラルレッド膜3a、3cに接着接合して形成し、
本実施例のスイッチ素子を得ることができる。
Next, as shown in FIG. 1C, by removing the portion of the neutral red film 3 that covers the electrode 2b by ion sputtering or the like, a first layer is formed on the electrodes 2a and 2c. Third neutral red film 3a
, 3c. The films 3a and 3c may be formed by forming a neutral red film only on the electrodes 2a and 2c by masking from the beginning. And finally, the first
As shown in FIG.
The switch element of this example can be obtained.

次に作用効果について第3図を参照して説明する。Next, the functions and effects will be explained with reference to FIG.

第3図(alは本実施例のスイッチ素子の電圧印加状態
を示す模式図で、同図(′b)はこのときの各酸化還元
物質のレドックス電位状態を示す図である。
FIG. 3 (al) is a schematic diagram showing the voltage application state of the switch element of this example, and FIG. 3 ('b) is a diagram showing the redox potential state of each redox substance at this time.

同図(b)において、実線で示すC状態のレドックス電
位は電圧■、及び■2を印加していない状態を示し、−
点鎖線で示すb状態のレドックス電位は電圧V、を印加
せず、かつ電圧V2を電極2cに対し負電圧として印加
したときの状態(オフ状B)を示し、破線で示すC状態
のレドックス電位は電圧■2をb状態と同様に印加する
とともに、電圧■、を電Jffi2cに対して負電圧と
して印加したときの状態(オン状flu)を示す。
In the same figure (b), the redox potential in the C state shown by the solid line indicates the state where voltages ■ and ■2 are not applied, and -
The redox potential in the B state shown by the dotted line indicates the state when the voltage V is not applied and the voltage V2 is applied as a negative voltage to the electrode 2c (off state B), and the redox potential in the C state shown by the broken line shows the state when the voltage V2 is applied as a negative voltage to the electrode 2c. 2 shows a state (on state flu) when voltage 2 is applied in the same manner as in state b, and voltage 2 is applied as a negative voltage with respect to the voltage Jffi2c.

bH態では電極2cと電極2aとの間で電子は流れず、
C状態でiよ電子が流れる。即ち、電極2Cと2aとの
間に一定の負電圧■、を印加しておき、電極2Cと2b
との間の一定の負電圧■1をオン−オフすることにより
、電極2cと23との間に流れる電流をオン−オフする
ことが可能であり、スイッチング特性を実現できる。■
。はニュートラルレッドとトルイジンブルーとのレドッ
クス電位の差である。
In the bH state, electrons do not flow between the electrode 2c and the electrode 2a,
In the C state, i electrons flow. That is, a constant negative voltage (2) is applied between the electrodes 2C and 2a, and the voltage between the electrodes 2C and 2b is
By turning on and off the constant negative voltage 1 between the electrodes 2c and 23, it is possible to turn on and off the current flowing between the electrodes 2c and 23, and switching characteristics can be realized. ■
. is the difference in redox potential between neutral red and toluidine blue.

このような本実施例によれば従来の半導体スイッチ素子
(p−n−p接合タイプ)と同様の動作を行なうスイッ
チ素子を、分子レベルのM?&細な大きさの素子として
実現でき、該素子を用いて高密度、高速度化が可能な集
積回路を得ることができる。
According to this embodiment, a switching element that operates in the same way as a conventional semiconductor switching element (pnp junction type) can be converted into a molecular-level M? & It can be realized as a small-sized element, and by using this element, an integrated circuit that can achieve high density and high speed can be obtained.

なお、上記実施例では酸化還元物質として、酸化還元色
素であるニュートラルレッド、トルイジンブルーを用い
たが、これはもちろん他の酸化還元色素1例えばメチレ
ンブルー、メチルカブリブルー、ガロシアニン、インド
フェノール、インジゴ、フェノサフラニンなどであって
もよく、またフタロシアニン、ポルフィリン、アヌレン
などの誘導体である有機金属錯体、あるいはポリ−2−
ビニルフェノチアジンなどの酸化還元樹脂であってもよ
い。
In the above examples, neutral red and toluidine blue, which are redox dyes, were used as redox substances, but of course other redox dyes such as methylene blue, methylcabri blue, gallocyanine, indophenol, indigo, and phenol can also be used. It may also be safranin, an organometallic complex such as a derivative of phthalocyanine, porphyrin, annulene, or poly-2-
It may also be a redox resin such as vinylphenothiazine.

また、上記実施例では2種類の酸化還元物質を用いてス
イッチ素子を構成した場合を説明したが、これは3種類
以上の酸化還元物質を用いて構成してもよく、上記実施
例と同様の効果を奏する。
Further, in the above embodiment, a case was explained in which the switch element was configured using two types of redox substances, but this may be configured using three or more types of redox substances, and the same be effective.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

以上のように、この発明によれば、相互にレドックス電
位の異なる酸化還元物質で第1.第2゜第3の酸化還元
物質膜を形成し、各酸化還元物質 。
As described above, according to the present invention, redox substances having mutually different redox potentials are used as the first oxidation-reduction substances. A second and third redox substance film is formed to separate each redox substance.

のレドックス電位の差異を利用してトランジスタ特性又
はスイッチング特性を呈するスイッチ素子を構成したの
で、素子サイズを分子レベルの超微細な大きさに近づけ
ることができ、該素子を用いて高密度化、高速度化が可
能な集積回路を得ることができる。
Since we constructed a switching element that exhibits transistor characteristics or switching characteristics by utilizing the difference in the redox potential of An integrated circuit capable of speeding up can be obtained.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図はこの発明の一実施例によるスイッチ素子を製造
する方法を示す工程別断面図、第2図は酸化還元物質を
基板上に成膜する方法の具体例を示す図、第3図(al
は上記スイ・ノチ素子の電圧印加状態を示す模式図、第
3図(′b)はその各酸化還元物質のレドックス電位状
態を示す図、第4図は従来のMO3構成のスイッチ素子
の一例を示す断面構成図、第5図(alはA−B−A型
酸化還元物質複合体を示す模式図、第5図(b)はその
レドックス電位状態を示す図である 図において、1は基板、2aは第2電掻、2bは第1電
極、2cは第3電極、3はニュートラルレッド膜、3a
は第1ニユートラルレンド膜、3Cは第3ニユートラル
レンド膜、4は第2トルイジンブルー膜である。 なお図中同一符号は同−又は相当部分を示す。
FIG. 1 is a cross-sectional view showing a method for manufacturing a switch element according to an embodiment of the present invention, FIG. 2 is a diagram showing a specific example of a method for forming a film of a redox substance on a substrate, and FIG. al
3('b) is a diagram showing the redox potential state of each redox substance, and FIG. 4 is an example of a switch element with a conventional MO3 configuration. A cross-sectional configuration diagram shown in FIG. 5 (al is a schematic diagram showing an A-B-A type redox substance complex, and FIG. 5 (b) is a diagram showing its redox potential state. In the figure, 1 is a substrate, 2a is a second electric scraper, 2b is a first electrode, 2c is a third electrode, 3 is a neutral red film, 3a
3C is the first neutral-lend film, 3C is the third neutral-lend film, and 4 is the second toluidine blue film. Note that the same reference numerals in the figures indicate the same or equivalent parts.

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)第1の酸化還元物質で作成された第1酸化還元物
質膜と、 上記第1酸化還元物質のレドックス電位と異なるレドッ
クス電位を有する第2の酸化還元物質で作成され、第1
酸化還元物質膜に接着接合された第2酸化還元物質膜と
、 上記第1酸化還元物質のレドックス電位と異なるレドッ
クス電位を有する第3の酸化還元物質で作成され、上記
第1酸化還元物質膜に接着接合された第3酸化還元物質
膜と、 上記第2、第3酸化還元物質膜にそれぞれ電気的に接続
された第2、第3の電極と、 上記第1酸化還元物質膜に電気的影響を与えるための第
1の電極とを備え、 上記各酸化還元物質のレドックス電位の差異を利用して
トランジスタ特性又はスイッチング特性を発生させるよ
うにしたスイッチ素子。
(1) A first redox substance film made of a first redox substance; and a second redox substance film made of a second redox substance having a redox potential different from the redox potential of the first redox substance;
a second redox material film adhesively bonded to the redox material film; and a third redox material having a redox potential different from that of the first redox material; a third redox material film adhesively bonded; second and third electrodes electrically connected to the second and third redox material films, respectively; and electrical influence on the first redox material film. a first electrode for providing the above-mentioned oxidation-reduction substances, and is configured to generate transistor characteristics or switching characteristics by utilizing a difference in redox potential of each of the redox substances.
(2)上記第1、第2、第3の電極は金属電極であり、
第1の電極はその表面に絶縁層が形成されていることを
特徴とする特許請求の範囲第1項記載のスイッチ素子。
(2) The first, second, and third electrodes are metal electrodes,
2. The switch element according to claim 1, wherein the first electrode has an insulating layer formed on its surface.
(3)上記酸化還元物質は、ビオロゲン類、フラビン類
、有機金属錯体、酸化還元色素、又はこれらの物質と他
の有機物との結合体であることを特徴とする特許請求の
範囲第1項又は第2項記載のスイッチ素子。
(3) The above-mentioned redox substance is viologens, flavins, organometallic complexes, redox pigments, or combinations of these substances and other organic substances, or The switch element according to item 2.
(4)上記酸化還元色素は、メチレンブルー、メチルカ
ブリブルー、ガロシアニン、インドフェノール、インジ
ゴ、フェノサフラニン、ニュートラルレッド、又はトル
イジンブルーであることを特徴とする特許請求の範囲第
3項記載のスイッチ素子。
(4) The switch element according to claim 3, wherein the redox dye is methylene blue, methylcabriblue, galocyanine, indophenol, indigo, phenosafranin, neutral red, or toluidine blue.
(5)上記有機金属錯体は、フタロシアニン、ポルフィ
リン、又はアヌレンの誘導体であることを特徴とする特
許請求の範囲第3項記載のスイッチ素子。
(5) The switch element according to claim 3, wherein the organometallic complex is a derivative of phthalocyanine, porphyrin, or annulene.
(6)上記他の有機物は、ポリビニルアルコールである
ことを特徴とする特許請求の範囲第3項に記載のスイッ
チ素子。
(6) The switch element according to claim 3, wherein the other organic substance is polyvinyl alcohol.
JP61164187A 1986-07-01 1986-07-11 Switching element Pending JPS6319854A (en)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
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