JPS63188104A - Production of color filter - Google Patents
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Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は、固体邊像素子あるいは液晶ディスプレイな
どに用いられるカラーフィルタの製造方法に関するもの
である。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention relates to a method for manufacturing a color filter used in solid-state image elements, liquid crystal displays, and the like.
従来、固体逼像素子あるいは液晶ディスプレイなどに供
されるカラーフィルタとしては、ゼラチン、カゼイン、
ブルー、ＰＶＡ （ポリビニルアルコール）などの被染
色材より成るフィルタパターンを、酸性染料などにより
染色することによりカラーフィルタを形成する、いわゆ
る「染色法」を用いて形成することが多かった。Conventionally, gelatin, casein,
Color filters are often formed using a so-called "dying method" in which a filter pattern made of a dyed material such as blue or PVA (polyvinyl alcohol) is dyed with an acid dye or the like.
例えば、第７図は従来のカラーフィルタの製造方法によ
り形成したカラーフィルタの断面図であり、図において
、１は基板、２は透明樹脂層よりなる下地層、３及び４
は中間層、５は最上層に形成された保護層、６ａ、７ａ
及び８ａはそれぞれ第１色目（例えば赤色）、第２色目
（例えば緑色）、第３色目（例えば青色）の色フイルタ
パターン、１０は以上の要素１〜５．６ａ〜８ａにより
構成されたカラーフィルタである。For example, FIG. 7 is a cross-sectional view of a color filter formed by a conventional color filter manufacturing method. In the figure, 1 is a substrate, 2 is a base layer made of a transparent resin layer, 3 and 4
is an intermediate layer, 5 is a protective layer formed on the top layer, 6a, 7a
and 8a are color filter patterns of a first color (for example, red), a second color (for example, green), and a third color (for example, blue), and 10 is a color filter constituted by the above elements 1 to 5.6a to 8a. It is.
このような従来のカラーフィルタの製造方法では、例え
ば下地層１を形成後、感光性を付与したゼラチンやカゼ
インなどよりなる被染色層のパターンを写真製版技術に
より形成し、これを酸性染料などにより染色することに
より第１色目の色フイルタパターン６ａを得、次いで第
２色目との混色防止用の中間層３を形成し、その上に第
２色目の色フイルタパターン７ａを第１色目の場合と同
様な方法で形成し、後は上記と同様な工程を必要な色数
骨だけ繰り返すことによりカラーフィルタを形成してい
た。In such a conventional color filter manufacturing method, for example, after forming the base layer 1, a pattern of a layer to be dyed made of photosensitive gelatin or casein is formed by photolithography, and then this is dyed with an acid dye or the like. A color filter pattern 6a for the first color is obtained by dyeing, then an intermediate layer 3 for preventing color mixture with the second color is formed, and a color filter pattern 7a for the second color is applied thereon as in the case of the first color. A color filter was formed by using the same method, and then repeating the same process as above for the required number of color frames.
〔発明が解決しようとする問題点〕
こうした染色法を利用した従来のカラーフィルタの製造
方法では、ゼラチンやカゼインなどで形成した被染色パ
ターンを染色することにより色フイルタパターンを得て
いたため、染色時に染料が被染色パターン内に入り込む
ことによりパターンが染色前に比べて大きく膨潤し、パ
ターン寸法が変動するとともに精度が低下するという問
題点があった。また、この膨潤によりパターンのエツジ
に「だれ」を生じ、このため隣接して配置された色フイ
ルタパターンとの重なりが生じ、色分解の精度低下を引
き起こすという欠点があった。さらに、色フイルタパタ
ーンと中間層とを交互に積層していたためそれぞれの色
フイルタパターンの断面形状が均一にならず、色フイル
タ間で入射光量にばらつきを生じるなどの問題点があり
、特に微細な寸法の色フイルタパターンを形成するには
不都合が多かった。[Problems to be solved by the invention] In the conventional method for manufacturing color filters using such dyeing methods, the color filter pattern was obtained by dyeing the dyed pattern formed with gelatin, casein, etc. When the dye penetrates into the pattern to be dyed, the pattern swells to a greater extent than before dyeing, resulting in a problem in that the pattern size fluctuates and accuracy decreases. Furthermore, this swelling causes "sagging" at the edges of the pattern, which causes overlap with adjacent color filter patterns, resulting in a decrease in the accuracy of color separation. Furthermore, because the color filter patterns and intermediate layers were alternately laminated, the cross-sectional shape of each color filter pattern was not uniform, which caused problems such as variations in the amount of incident light between the color filters. There were many inconveniences in forming a color filter pattern with a certain size.
この発明は上記のような問題点を解決するためになされ
たもので、寸法精度の高い色フイルタパターンを形成で
きるとともに色フイルタパターン間の重なりが起こらず
、さらに均一な形状の色フイルタパターンを得ることの
できるカラーフィルタの製造方法を提供することを目的
とする。This invention was made in order to solve the above-mentioned problems, and it is possible to form a color filter pattern with high dimensional accuracy, prevent color filter patterns from overlapping, and obtain a color filter pattern with a more uniform shape. The purpose of the present invention is to provide a method of manufacturing a color filter that can be used to produce color filters.
この発明に係るカラーフィルタの製造方法は、基板上に
透明樹脂層及び中間層を積層し、その上にフォトレジス
ト層をマスクとして該中間層及び透明樹脂層をエツチン
グして不要部分を除去することにより、色フイルタパタ
ーンを形成するようにしたものである。The method for manufacturing a color filter according to the present invention includes laminating a transparent resin layer and an intermediate layer on a substrate, and etching the intermediate layer and transparent resin layer using a photoresist layer as a mask to remove unnecessary portions. In this way, a color filter pattern is formed.
この発明におけるカラーフィルタの製造方法では、フォ
トレジスト層をマスクとして透明樹脂層及び中間層の不
要部分をエツチングして除去することにより寸法精度の
高い色フイルタパターンを形成し、これをくり返すこと
によりカラーフィルタを形成した後、透明樹脂層による
保護層を形成するようにしたので、寸法精度の高い色フ
イルタパターンを形成できるとともに色フイルタパター
ン間の重なりが起こらず、さらに均一な形状の色フイル
タパターンを得ることができる。In the color filter manufacturing method of the present invention, a color filter pattern with high dimensional accuracy is formed by etching and removing unnecessary parts of the transparent resin layer and the intermediate layer using the photoresist layer as a mask, and by repeating this process. After forming the color filter, a protective layer made of a transparent resin layer is formed, so it is possible to form a color filter pattern with high dimensional accuracy, and there is no overlap between the color filter patterns, resulting in a color filter pattern with a more uniform shape. can be obtained.
以下、この発明の一実施例を図について説明する。第１
図ないし第６図において、１〜５．及び６ａ、７ａ、８
ａは第８図に示した従来のカラーフィルタの製造方法に
おけるものと同一もしくは相当する部分である。２１．
２２はそれぞれの色の色フイルタパターンに対応して形
成されたフォトレジストである。An embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings. 1st
In Figures 1 to 6, 1 to 5. and 6a, 7a, 8
a is the same or equivalent part as in the conventional color filter manufacturing method shown in FIG. 21.
22 is a photoresist formed corresponding to the color filter pattern of each color.
次に工程について説明する。第１図において、１は基板
、２は下地層、６は第１色目の着色層、２１はフォトレ
ジストパターンであり、下地Ｎ２は熱硬化型透明樹脂材
を基板１上にスピン塗布し、次いで熱処理を加えること
により形成される。Next, the process will be explained. In FIG. 1, 1 is a substrate, 2 is a base layer, 6 is a colored layer of the first color, 21 is a photoresist pattern, and base N2 is a thermosetting transparent resin material spin-coated on the substrate 1, and then Formed by applying heat treatment.
次いで、赤色着色剤を予め混合したポリイミドなどの高
分子材料を下地層２上にスピン塗布し、熱処理を加える
ことにより第１色目の着色Ｎ（赤色）６を形成する。Next, a polymeric material such as polyimide mixed with a red coloring agent in advance is spin-coated onto the base layer 2, and a heat treatment is applied to form a first color N (red) 6.
次に、フォトレジストを着色層６上にスピン塗布し、形
成すべき色フィルタのパターンに対応したパターンをク
ロムマスクなどを用いて露光転写し、次いで現象を行う
ことによりフォトレジストパターン２１が得られる。Next, a photoresist is spin-coated on the colored layer 6, a pattern corresponding to the pattern of the color filter to be formed is exposed and transferred using a chrome mask, and then a photoresist pattern 21 is obtained by performing a phenomenon. .
次いで、下地層２の厚さを０．５μｍ、第１色目の着色
層６の厚さを１．０μｍ１フオトレジスト２１の厚さを
１．０μｍとした場合、例えばＲＦ出力２００Ｗ、基板
温度５０℃、酸素ガス分圧１．２ Ｔｏｒｒの条件下で
１０分間ドライエツチングを行うと、フォトレジスト２
１がマスクとなり、フォトレジストのない部分のみがエ
ツチングされる。工・ノチング完了後、さらにドライエ
ツチングを続けるかあるいは適当な溶剤で処理すること
によりフォトレジスト２１を除去し、第２図に示すよう
な形状の第１色目の色フイルタパターン６ａを得る。Next, when the thickness of the base layer 2 is 0.5 μm, the thickness of the colored layer 6 of the first color is 1.0 μm, and the thickness of the photoresist 21 is 1.0 μm, for example, the RF output is 200 W and the substrate temperature is 50° C. When dry etching is performed for 10 minutes under the conditions of oxygen gas partial pressure of 1.2 Torr, photoresist 2
1 serves as a mask, and only the areas without photoresist are etched. After the etching and notching are completed, the photoresist 21 is removed by further dry etching or treatment with a suitable solvent to obtain a first color filter pattern 6a having a shape as shown in FIG.
引き続き下地層１の場合と同様に第３図に示すように熱
硬化型透明樹脂材をスピン塗布し、熱処理を加えること
により中間層３を形成する０次いで緑色着色層を予じめ
混合したポリイミドなどの高分子材料を中間層３上にス
ピン塗布し熱処理を加えることにより、第２色目の着色
層（緑色）７を形成する。続いて前記第１色目の場合と
同様にフォトレジストパターン２２を形成する。Subsequently, as in the case of base layer 1, as shown in Figure 3, a thermosetting transparent resin material is spin-coated and heat treated to form intermediate layer 3. A second colored layer (green) 7 is formed by spin-coating a polymeric material such as on the intermediate layer 3 and subjecting it to heat treatment. Subsequently, a photoresist pattern 22 is formed in the same manner as in the case of the first color.
次いで、これをマスクとしてドライエツチングを行い、
しかる後、フォトレジスト２２を除去することにより、
第４図に示す如く第２色目の色フイルタパターン７ａを
得る。Next, dry etching is performed using this as a mask.
After that, by removing the photoresist 22,
As shown in FIG. 4, a second color filter pattern 7a is obtained.
以下、上記と同様の工程をくり返すことにより第５図に
示す如く第３色目の色フイルタパターン（青色）８ａが
形成される。Thereafter, by repeating the same steps as above, a third color filter pattern (blue) 8a is formed as shown in FIG.
その後、色フイルタパターン６ａ、７ａ・、 ８ａを
保護する目的で、第６図に示すように透明樹脂材よりな
る保護層５を形成してカラーフィルタ１０が形成される
。Thereafter, in order to protect the color filter patterns 6a, 7a, . . . 8a, a protective layer 5 made of a transparent resin material is formed as shown in FIG. 6 to form the color filter 10.
本実施例で用いた熱硬化型透明樹脂材としては、例えば
光透過性に優れ、かつ分子量数十万以上のポリメタクリ
ル酸グリシジル等を主体とし、これにエポキシ反応開始
剤であるＢ Ｆ ３等のルイス酸類やアミン塩類等を添
加して熱硬化性を高めたものや、メタクリル酸グリシジ
ルにメタクリル酸メチル等のメタクル酸エステルや、ア
クリル酸エステル、さらにはスチレン等を共重合してな
る共重合体に前記の酸や酸無水物、アミン塩類等を添加
したもの或いは分子量数１０万以上の塩素化ポリメチル
スチレンやクロロメチルポリスチレンなどを用いること
ができる。The thermosetting transparent resin material used in this example is, for example, mainly composed of polyglycidyl methacrylate, which has excellent light transmittance and has a molecular weight of several hundred thousand or more, in addition to which is an epoxy reaction initiator such as B F 3. Copolymers made by copolymerizing glycidyl methacrylate with methacrylic acid esters such as methyl methacrylate, acrylic acid esters, and even styrene, etc. For the combination, it is possible to use the above-mentioned acids, acid anhydrides, amine salts, etc., or chlorinated polymethylstyrene or chloromethylpolystyrene having a molecular weight of 100,000 or more.
また、着色層の高分子剤としては、前記熱硬化型透明樹
脂材あるいはポリイミド樹脂とそれを溶かす溶剤、並び
に着色のための染料や顔料とその他の添加剤を混合した
ものや分子量数１０万以上のポリメタクリル酸メチル及
びその共重合体等を用いる。例えば、染料としては、ア
ントラキノン系、アゾ系、フタロシアニン系、メチン系
、オキサジン系などの各種のもの、あるいはこれらの含
金属錯塩系のもの、さらに粒径１μｍかそれ以下に粉砕
した無機顔料等を用いることができる。The polymer agent for the colored layer may be a mixture of the thermosetting transparent resin material or polyimide resin, a solvent for dissolving it, a dye or pigment for coloring, and other additives, or a material with a molecular weight of 100,000 or more. Polymethyl methacrylate and copolymers thereof are used. For example, dyes include anthraquinone, azo, phthalocyanine, methine, and oxazine dyes, metal-containing complex salts of these dyes, and inorganic pigments ground to a particle size of 1 μm or less. Can be used.
また、フォトレジストとしては、着色層及び透明樹脂層
のドライエツチング時に充分なエツチングレート比が得
られることが必要で、例えばポジ型レジストとしては、
フェノール・ノボラック系Ａ Ｚ −１３５０（シブレ
ー社製）や０ＦＰＲ−８００（東京応化社製）があり、
また高解像性のネガ型レジストとしては、例えばＣＭＳ
（東洋ソーダ社製）やＭＥＳ （日本合成ゴム社製）
の遠紫外線用レジストがあるが、もとよりこれらのみに
限定されるものではない。In addition, as a photoresist, it is necessary to obtain a sufficient etching rate ratio during dry etching of the colored layer and the transparent resin layer. For example, as a positive resist,
There are phenol/novolac type AZ-1350 (manufactured by Sibley) and 0FPR-800 (manufactured by Tokyo Ohka).
In addition, as a high-resolution negative resist, for example, CMS
(manufactured by Toyo Soda Co., Ltd.) and MES (manufactured by Japan Synthetic Rubber Co., Ltd.)
Although there are resists for deep ultraviolet rays, the present invention is not limited to these.
なお、上記実施例では３色よりなるカラーフィルタの製
造方法を示したが、１色のみあるいは２色よりなるカラ
ーフィルタの形成についても本発明による方法が適用で
きることは言うまでもない。In the above embodiment, a method for manufacturing a color filter consisting of three colors was shown, but it goes without saying that the method according to the present invention can also be applied to the formation of a color filter consisting of only one color or two colors.
また、上記実施例では下地層２及び中間層３゜４に熱硬
化型透明樹脂材を用いたが、光硬化型の透明樹脂材を用
いてもよい。この場合、不要部分を除去するためにパタ
ーン露光、現像処理を実施してもよいが、工程の簡略化
上、望ましくはマスク合わせを必要としない全面露光が
適している。Further, in the above embodiment, a thermosetting transparent resin material was used for the base layer 2 and the intermediate layer 3.4, but a photocuring transparent resin material may also be used. In this case, pattern exposure and development may be performed to remove unnecessary portions, but in order to simplify the process, it is preferable to use full-surface exposure that does not require mask alignment.
また、上記実施例では色フイルタパターン６゜７．８は
ポリイミド樹脂に染料や顔料などの中間層を混合したも
のを材料として用いたが、もとより材料はこれのみに限
定されるものではなく、ゼラチンやカゼインなどに染料
や顔料などの着色剤と重クロム酸アンモニウムなどの感
光剤を混合したものを材料として用い、これを光硬化さ
せて中間［６，７，８を形成してもよい。In addition, in the above embodiment, the color filter pattern 6°7.8 was made of polyimide resin mixed with an intermediate layer such as dye or pigment, but the material is not limited to this, and gelatin Intermediates [6, 7, 8 may be formed by using a mixture of a coloring agent such as a dye or a pigment and a photosensitizer such as ammonium dichromate in casein or the like as a material and photocuring this.
また、上記実施例ではフィルタパターン同志が重なり合
わないものを示したが、この場合着色層下の透明樹脂層
は省略することもできる。また色の異なるフィルタパタ
ーンが重なり合うように形成することも勿論可能であり
、この場合、透明樹脂層は必須である。Further, in the above embodiment, the filter patterns do not overlap each other, but in this case, the transparent resin layer under the colored layer may be omitted. Of course, it is also possible to form filter patterns of different colors so as to overlap, and in this case, a transparent resin layer is essential.
以上のように、この発明に係るカラーフィルタの製造方
法によれば、中間層及び透明樹脂層をフォトレジストを
介してエツチングすることにより色フイルタパターンを
形成したので、寸法精度が良好で断面形状の均一な色フ
イルタパターンが得られ、かつ隣接した色フイルタパタ
ーン間の重なりのない、色分鮮度の高いカラーフィルタ
を得ることができる。As described above, according to the method of manufacturing a color filter according to the present invention, the color filter pattern is formed by etching the intermediate layer and the transparent resin layer through a photoresist, so that the dimensional accuracy is good and the cross-sectional shape is A uniform color filter pattern can be obtained, and a color filter with high color freshness without overlap between adjacent color filter patterns can be obtained.
第１図ないし第６図はこの発明の一実施例によるカラー
フィルタの製造方法を示すカラーフィルタの断面図、第
７図は従来のカラーフィルタの断面図である。
図において、１は基板、２は下地層、３及び４は中間層
、５は保護層、６．７．及び８はそれぞれ第１色目、第
２色目、第３色目の着色層、６ａ。
７ａ、及び８ａはそれぞれ第１色目、第２色目。
第３色目の色フイルタパターン、２１及び２２はフォト
レジストパターンである。1 to 6 are cross-sectional views of a color filter showing a method of manufacturing a color filter according to an embodiment of the present invention, and FIG. 7 is a cross-sectional view of a conventional color filter. In the figure, 1 is a substrate, 2 is a base layer, 3 and 4 are intermediate layers, 5 is a protective layer, 6.7. and 8 are colored layers 6a of the first color, second color, and third color, respectively. 7a and 8a are the first color and second color, respectively. The third color filter patterns 21 and 22 are photoresist patterns.
Claims (3)
上層になるように積層する第１の工程と、該着色層上の
所要箇所にフォトレジスト層を形成する第２の工程と、 該フォトレジスト層をマスクとして前記着色層または着
色層、透明樹脂層をエッチングすることにより不要部分
を除去してフィルタパターンを形成する第３の工程とを
備え、 以上の各工程を少なくとも１回含むことを特徴とするカ
ラーフィルタの製造方法。(1) A method for manufacturing a color filter on a substrate, which comprises: a first step of laminating a colored layer and, if necessary, a transparent resin layer on the substrate so that the colored layer is on top; a second step of forming a photoresist layer at required locations; and a third step of etching the colored layer or the colored layer or the transparent resin layer using the photoresist layer as a mask to remove unnecessary portions and form a filter pattern. A method for manufacturing a color filter, comprising the steps of: and each of the above steps at least once.
着色層はそれまでに形成されたフィルタパターン上にも
積層されることを特徴とする特許請求の範囲第１項記載
のカラーフィルタの製造方法。(2) The color filter according to claim 1, characterized in that in the second and subsequent first steps, the transparent resin layer and the colored layer are also laminated on the filter pattern formed up to then. manufacturing method.
透明樹脂層を形成して保護層とすることを特徴とする特
許請求の範囲第１項または第２項記載のカラーフィルタ
の製造方法。(3) After forming a desired color filter, a transparent resin layer is formed on the uppermost layer to serve as a protective layer. .
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62021557A JPS63188104A (en) | 1987-01-30 | 1987-01-30 | Production of color filter |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62021557A JPS63188104A (en) | 1987-01-30 | 1987-01-30 | Production of color filter |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63188104A true JPS63188104A (en) | 1988-08-03 |
Family
ID=12058309
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62021557A Pending JPS63188104A (en) | 1987-01-30 | 1987-01-30 | Production of color filter |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63188104A (en) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE4007119A1 (en) * | 1989-12-02 | 1991-06-13 | Samsung Electronics Co Ltd | Colour filter e.g. for solid state image sensor - has at least 2 mutually different filtering characteristics corresponding to pixels placed in array on background substrate |
| WO2006085528A1 (en) * | 2005-02-10 | 2006-08-17 | Toppan Printing Co., Ltd. | Solid-state imaging device and method for manufacturing same |
| JP2006222291A (en) * | 2005-02-10 | 2006-08-24 | Toppan Printing Co Ltd | Solid-state imaging element and its fabrication process |
| JP2006222290A (en) * | 2005-02-10 | 2006-08-24 | Toppan Printing Co Ltd | Solid-state imaging element and its manufacturing process |
-
1987
- 1987-01-30 JP JP62021557A patent/JPS63188104A/en active Pending
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE4007119A1 (en) * | 1989-12-02 | 1991-06-13 | Samsung Electronics Co Ltd | Colour filter e.g. for solid state image sensor - has at least 2 mutually different filtering characteristics corresponding to pixels placed in array on background substrate |
| US5053298A (en) * | 1989-12-02 | 1991-10-01 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Method of manufacturing color filter including exposing planarizing layer through openings in a medium layer |
| WO2006085528A1 (en) * | 2005-02-10 | 2006-08-17 | Toppan Printing Co., Ltd. | Solid-state imaging device and method for manufacturing same |
| JP2006222291A (en) * | 2005-02-10 | 2006-08-24 | Toppan Printing Co Ltd | Solid-state imaging element and its fabrication process |
| JP2006222290A (en) * | 2005-02-10 | 2006-08-24 | Toppan Printing Co Ltd | Solid-state imaging element and its manufacturing process |
| KR100934513B1 (en) | 2005-02-10 | 2009-12-29 | 도판 인사츠 가부시키가이샤 | Solid-state image sensor and its manufacturing method |
| US7932122B2 (en) | 2005-02-10 | 2011-04-26 | Toppan Printing Co., Ltd. | Manufacturing method for solid state image pickup device |
| US8097485B2 (en) | 2005-02-10 | 2012-01-17 | Toppan Printing Co., Ltd. | Solid state image pickup device and manufacturing method thereof |
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