JPS63184996A - Semiconductor memory device - Google Patents

Semiconductor memory device

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JPS63184996A
JPS63184996A JP62017591A JP1759187A JPS63184996A JP S63184996 A JPS63184996 A JP S63184996A JP 62017591 A JP62017591 A JP 62017591A JP 1759187 A JP1759187 A JP 1759187A JP S63184996 A JPS63184996 A JP S63184996A
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JP
Japan
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memory cell
same
memory cells
data
test
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Application number
JP62017591A
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Japanese (ja)
Inventor
Takeo Fujii
藤井 威男
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NEC Corp
Original Assignee
NEC Corp
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Abstract

PURPOSE:To measure the same operation margin as a normal mode in a test mode by preventing two or more memory cells belonging to the same external input/output pin from belonging to the same partial memory cell matrix and preventing them from being selected by the same column decoder. CONSTITUTION:A memory cell matrix is divided to M-number or more partial memory cell matrixes, and two or more memory cells MC10 and MC20 of memory cells simultaneously accessed in the test mode are prevented from belonging to the same partial memory cell matrix and from being selected by the same column decoder YDECO with respect to memory cells MC10 and MC20 where data inputted from and outputted to the same external input/output terminals Din and Dout is stored in the normal mode. Thus, the difference between the operation margin measured in the test mode and that in the normal mode is eliminated in case of test circuit layout, and the test time is shortened.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、半導体メモリ装置に関し、特に検出能力の高
いテスト回路レイアウトに関するものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention relates to a semiconductor memory device, and particularly to a test circuit layout with high detection ability.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

半導体メモリ装置の記憶容量は、2〜3年で4倍のベー
スで急速に増大を続け、現在では記憶容量は1Mビット
あるい[4Mビットのものが製品化されつつある。そこ
で顕在化してきた問題点の1つとしてテスト時間が挙げ
られる。たとえば記憶容量が4倍になった場合最も単純
なテストパターンにおいても4倍のテスト時間を要し、
高い品質を保証するためには、さらにパターン長の長い
テストt−実施する必要がある。すなわち、大容量半導
体メモリ装置においては、高度なファインバターン化が
進み、その結果、寄生素子効果の増大を生じ、一方高速
動作化も加わシ、内部発生雑音の増大へとつながシ、テ
ストパターン長の長い複雑なテストヲ必要とする傾同が
強い。この場合には、記憶容量の増大比率よりもパター
ン長の増大比率がはるかに大きくなるのが普通である。
The storage capacity of semiconductor memory devices continues to rapidly increase by four times every two to three years, and devices with a storage capacity of 1 Mbit or 4 Mbit are now being commercialized. One of the problems that has emerged is the test time. For example, if the storage capacity quadruples, even the simplest test pattern will require four times as much test time.
In order to guarantee high quality, it is necessary to perform a test with a longer pattern length. In other words, in large-capacity semiconductor memory devices, advanced finer patterns are being developed, resulting in an increase in parasitic element effects, while higher operating speeds are also being added, leading to an increase in internally generated noise, and test pattern lengths are increasing. There is a strong tendency to require long and complex tests. In this case, the rate of increase in pattern length is usually much larger than the rate of increase in storage capacity.

テスト時間の増大は、製造コストの増大、生産能力の低
下を招き、好やしくない。
An increase in test time is undesirable because it increases manufacturing costs and reduces production capacity.

そこで、これに対し、いわゆるテスト回路と呼ばれる方
式が導入されるようになった。たとえばIMワード×1
ビット構成のメモリについて4ビットずつ同時にテスト
が可能なように工夫したもので、見かけ上256にワー
ド×4ビットのメモリをテストしているかのように扱え
るため、テスト時間は、1Mビットのメモリであるにも
かかわらず256にビットのメモリのテスト時間でテス
トできるという思想である。
Therefore, a method called a so-called test circuit has been introduced in response to this problem. For example, IM word x 1
It was devised so that it is possible to test 4 bits of memory at the same time for bit-structured memories, and it appears as if a memory of 256 words x 4 bits is being tested, so the test time is less than that of a 1M bit memory. The idea is that it can be tested in just 256 bits of memory test time.

従来の一般的回路構成全第4図を参照しながら説明する
The conventional general circuit configuration will be explained with reference to FIG.

以下IMワード×1ビット構成のD RA MO例とし
て説明する。
An example of a DRA MO having an IM word x 1 bit configuration will be described below.

1−トランジスタ型メモリセルの記憶容量素子の対極は
、通常シリコン基板上に容量ゲート絶縁膜を介して平面
的に延在する多結晶シリコン電極によって形成され、複
数のメモリセルが共有するが、第4図では、1.2がこ
れにあたシ、ここでは、メモセルプレートと呼ぶことと
する。WLI。
1- The counter electrode of the storage capacitor element of a transistor type memory cell is usually formed by a polycrystalline silicon electrode extending planarly on a silicon substrate via a capacitor gate insulating film, and is shared by a plurality of memory cells. In FIG. 4, 1.2 corresponds to this, and here it will be called a memo cell plate. W.L.I.

WL2は、ワード線で、通常多結晶シリコン鳩で形成さ
れている。図にはメモリセルプレート上1本ずつ記され
ているのみであるが、実際tよ、リフレッシュサイクル
で決まる本数だけ平行にアレイされている。従ってここ
では、それぞれメモリセルプレート上に512本ずつワ
ード線が配置されている。XDEC1、XDEC2は、
行デコーダで、それぞれメモリセルプレート上のワード
線の中から1本ずつ選択し、活性化するもので、外部か
ら与えられたアドレス情報に従って動作する。
WL2 is a word line, usually formed of a polycrystalline silicon dove. In the figure, only one cell is shown on each memory cell plate, but in reality, the number of cells determined by the refresh cycle is arrayed in parallel. Therefore, here, 512 word lines are arranged on each memory cell plate. XDEC1 and XDEC2 are
The row decoder selects and activates one word line from among the word lines on each memory cell plate, and operates according to address information given from the outside.

WLI、WL2は、選択されたワード線と考えてよい。WLI and WL2 may be considered selected word lines.

ワード線WLI、WL2と垂直な方向に、配置されたD
ll 、D21 、D22はデータ線であシ、通常アル
ミあるいは多結晶シリコンで形成される。これらは、そ
れぞれDll、L)12などというふうに対をなしてい
る。ワード線とデータ線対との交点には、データ線対の
内のどちらか一方のデータ線との交点にメモリセルが配
置されている。たとえはワード線WL1に関しては、デ
ータ線Dll、D12との交点にメモリセルMC11、
MC12が配置されている。
D arranged in a direction perpendicular to word lines WLI and WL2
ll, D21, and D22 are data lines, which are usually made of aluminum or polycrystalline silicon. These are paired as Dll, L)12, etc., respectively. At the intersection of the word line and the data line pair, a memory cell is arranged at the intersection with one of the data lines of the data line pair. For example, regarding the word line WL1, the memory cell MC11 is located at the intersection with the data lines Dll and D12.
MC12 is arranged.

データ線対Dll、Dllには、1個のセンスアンプS
AI lが配置され、センスアンプ活性化信号SEIに
よって活性化され、メモリセルMC11から読み出し動
作によって生じたpii。
One sense amplifier S is connected to the data line pair Dll, Dll.
AI1 is arranged, activated by the sense amplifier activation signal SEI, and generated by a read operation from the memory cell MC11.

5丁]間の微小電位差を増幅する。第4図では、ツレぞ
れメモリセルグレート上にデータ線2対センスアンプ2
台ずつ記されているのみであるが、実際は、データ線対
センスアンプは、それぞれメモリセルプレート毎に10
24対、1024台ずつアレイされ、センスアンプ活性
化信号SEX。
5) amplifies the minute potential difference between them. In Figure 4, two data lines and two sense amplifiers are connected on each memory cell grid.
Although only one unit is shown, in reality, each data line pair sense amplifier is 10 units per memory cell plate.
24 pairs of 1024 units are arrayed, and a sense amplifier activation signal SEX is provided.

5E2u、メモリセルセルプレート毎に共通に配線され
ている。第4図中央のYDECは列デコーダであう、外
部アドレス信号に従い動作し、両側で2048対あるデ
ータ線対の中から4対を選択し、4対のI10バスエ1
00〜l103へ接続し、データを転送する。第4図に
示されているYDECは、選択された1台のみであるが
、実際は、図中たて方向に512台存在する。I10バ
スに転送されたデータは、データアンプDAI〜DA4
で増幅される。以上は、メモリセルアレイから4ビット
を選択し、4ビットのデータのをき込みあるいは読み出
しを行なう場合一般的なレイアウト法である。このよう
に隣接するデータ線対を1台のYDECで選択してI1
0バスへ転送する方式は、レイアウトの容易さ、チップ
の表面積使用効率の高さなどから一般に広く用いられて
いる。
5E2u, which is commonly wired for each memory cell cell plate. YDEC in the center of FIG. 4 is a column decoder that operates according to an external address signal, selects 4 pairs from 2048 data line pairs on both sides, and selects 4 pairs of I10 bus lines on both sides.
Connect to 00 to l103 and transfer data. Although only one YDEC is shown in FIG. 4, there are actually 512 YDECs in the vertical direction in the figure. The data transferred to the I10 bus is transferred to data amplifiers DAI to DA4.
is amplified. The above is a general layout method when selecting 4 bits from a memory cell array and writing or reading 4 bits of data. In this way, adjacent data line pairs are selected by one YDEC and I1
The method of transferring data to the 0 bus is generally widely used because of its ease of layout and high efficiency in using the surface area of the chip.

IMワード×1ビット構成の通常のメモリとして動作す
る場合は、回路群3によ)、4対のI10バスの中から
1対が選択され、入力端子Din 上の外部入力データ
を選択された1対のI10バスに書き込むか、あるいは
、選択された1対のエルバス上の信号を出力端子Dou
tに出力することになる。一方テストモード指令信号T
Eにょシ、4ビット並列テストモードに入った場合、−
1lF@込み動作時には、入力端子Din上の外部入力
データを、4対のI10バスすべてに書き込み、あるb
は、読み出し動作時には、4対のI10バス上に現われ
たデータを比較し、判定結果を出力端子1)outに出
力する。この判定の方法には、高電位。
When operating as a normal memory with an IM word x 1 bit configuration, one pair is selected from the four pairs of I10 buses (by circuit group 3), and the external input data on the input terminal Din is transferred to the selected one. Write to the pair of I10 buses, or send the signal on the selected pair of L buses to the output terminal Dou.
It will be output to t. On the other hand, test mode command signal T
If you enter 4-bit parallel test mode, -
During 1lF @ write operation, the external input data on the input terminal Din is written to all four pairs of I10 buses, and a certain b
During a read operation, the data appearing on the four pairs of I10 buses are compared and the determination result is output to the output terminal 1) out. This method of determination involves high potential.

低電位、フローティングなどさまざまな割シ振J方が考
えられるし、また、4つのデータの一部をソノまま判定
せず外部アドレスビンに出方スル方法などさまざまある
がここでばあやシ重要でないので割愛する。
Various allocation methods such as low potential and floating are possible, and there are also various methods such as outputting some of the four data to the external address bin without being judged as it is, but it is not important here. Therefore, I will omit it.

重要な点は、半導体メモリ装置にテスト回路を搭載する
際に、そのために外部ピン蘇ヲ増加させられない点であ
シ、その結果、並列テストを行なうビットには入力端子
Din から与えられる外部入力データ、すなわち同一
データを書き込むことになってしまう。
The important point is that when mounting a test circuit on a semiconductor memory device, the number of external pins cannot be increased. data, that is, the same data will be written.

〔発明が解決しようとする問題点〕[Problem that the invention seeks to solve]

上述した従来のテスト回路のレイアウトは、メモリセル
アレイを構成する導体群、すなわち、メモリセルプレー
ト、ワードライン、制御信号線たとえばセンスアンプ活
性化信号などを共有する複数のビットが、テストモード
書き込み動作時に同時に選択されるという特徴を持って
おシ、かつ、通常動作時には、これらは同時に選択され
ることは決してない。すなわち、実使用状態においては
、これらの複数のビットには、さまざまな組合わせのデ
ータが曹き込まれ、睨み出される場合が多いのに対し、
テストモードでは自由なデータパターンは査き込めない
という欠点がある。
In the layout of the conventional test circuit described above, multiple bits that share a group of conductors constituting a memory cell array, that is, a memory cell plate, a word line, a control signal line, such as a sense amplifier activation signal, etc., are connected to each other during a test mode write operation. However, during normal operation, they are never selected at the same time. In other words, in actual use, various combinations of data are often written into and exposed to these multiple bits;
The test mode has the disadvantage that free data patterns cannot be examined.

半導体メモリ装置に2いて書き込まれるデータパターン
による動作マージン差(いわゆるマージンのパターン依
存)は、微小信号管扱うメモリセルアレイ内に存在する
浮遊結合容量および、導体層経由で伝達される雑音によ
るところが大きく、上述のようなテスト回路レイアウト
の場合、テストモードで測定した動作マージンと、通常
モードによシ測定した動作マージンとの差が、大さくな
ってしまう場合がある。この場合、テストモードのみで
測定したのでは、品質の低下を招く可能性があシ、結局
通常モードにて動作マージンを確認しなければならない
ことになシ、テスト時間短縮の効果は非常に小さくなっ
てしまう。
Differences in operating margin due to data patterns written in semiconductor memory devices (so-called margin pattern dependence) are largely due to stray coupling capacitance existing in the memory cell array that handles minute signal tubes and noise transmitted via conductor layers. In the case of the test circuit layout as described above, the difference between the operating margin measured in the test mode and the operating margin measured in the normal mode may become large. In this case, measuring only in test mode may lead to a drop in quality, and in the end the operating margin must be confirmed in normal mode, so the effect of reducing test time is very small. turn into.

またさらに上述の実施例の場合テストモード時に同時に
選択されるメモリセルmcll、Mc12、MC21,
mc22は、1町−の列デコーダYDECにて選択され
ておシ、かつテストモード時の判定方法としては、前述
のごとく4ビットの読み出しデータの比較にて行なうこ
とが多く、データそのものの“a”、”L″を検査しな
いため列デコーダの多重選択など列デコーダに関連した
不良モードの中にはテストモードで検出できない場合も
生じ、同様に、テスト時間短縮の効果が小さくなる場合
がある。
Furthermore, in the above embodiment, the memory cells mcll, Mc12, MC21,
mc22 is selected by the column decoder YDEC of 1 town, and the determination method in the test mode is often performed by comparing 4-bit read data as described above, and the "a" of the data itself Since "," and "L" are not tested, some failure modes related to column decoders, such as multiple selection of column decoders, may not be detected in the test mode, and similarly, the effect of reducing test time may be reduced.

〔問題点全解決するための手段〕[Means to solve all problems]

本発明の半導体メモリ装置は、平行に配置された複数の
ワード#*と、このワード線に垂直な方向に平行に配置
された複数のデータ線群とを有し、ワード線群と、デー
タ線群との各交点に、メモリセルマトリクスを有し、通
常モードにおいては、Nビット書き込みあるいは読み出
し機能t−有し、テストモードにおいては、MxNビッ
ト同時に書き込みあるいは読み出し機能あるいは判定機
能を有する半導体メモリ装置において前記メモリセルマ
トリクスはM個以上の部分メモリセルマトリクスに分割
構成され、通常モードにおいて同一の外部入出力端子に
入出力されるデータを記憶するメモリセルの中で、テス
トモードに2いて同時にアクセスされるメモリセル2ビ
ット以上のメモリセルが、同一の前記部分メモリセルマ
トリクスに属することのなく、かつ同一の列デコーダで
選択されることもないこと’t%徴とする。
A semiconductor memory device of the present invention has a plurality of words #* arranged in parallel and a plurality of data line groups arranged in parallel in a direction perpendicular to the word lines, and the word line group and the data line A semiconductor memory device that has a memory cell matrix at each intersection with a group, has an N-bit write or read function in a normal mode, and has an MxN bit simultaneous write or read function or a determination function in a test mode. In this case, the memory cell matrix is divided into M or more partial memory cell matrices, and two memory cells storing data input/output to the same external input/output terminal in the normal mode can be accessed simultaneously in the test mode. It is assumed that the memory cells having two or more bits do not belong to the same partial memory cell matrix and are not selected by the same column decoder.

〔実施例〕〔Example〕

次に本発明について図面を参照して説明する。 Next, the present invention will be explained with reference to the drawings.

第1図は本発明の一実施例のレイアウト図であわ、記号
の表記法や、複数存在するものの省略のし方は、第4図
の従来例の手法と全く同一である。
FIG. 1 is a layout diagram of an embodiment of the present invention, and the notation of symbols and the method of omitting a plurality of symbols are exactly the same as the conventional method shown in FIG.

以下第2図、第3図もこの点は全く同一である。This point is exactly the same in FIGS. 2 and 3 below.

また、IMワード×1ビット構成のメモリで4ビット並
列テストモードを搭載しているものを例として説明する
Further, a memory having an IM word x 1 bit configuration and equipped with a 4-bit parallel test mode will be explained as an example.

第1図では、メモリセルマ) IJクスは、8つの部分
メモリセルマ) IJクスに分割され、それぞれワード
線Fi256本、センスアンプ、データ線対は512台
、512対有している。従来例と同様に、行デコーダX
DEC10は、1本のワード線WLIOを選択し、メモ
リセルMCl0がアクセスされデータ線対DIO,DI
Q間に信号電位差が現われ、次に、センスアンプ活性化
信号5EIOによシセンスアンプSAI Oが活性化さ
れ、データ線対D10.DlOの信号はm幅される。そ
の後、列デコーダYDECOによってトランジスタQI
O、−Q sl がON状態になシ、データ線対D10
゜f)10の情報は、工10バスl1010へ転送され
る。この時I10セレクタl10S1はI10バスl1
010を選択し回路群50の動作についても従来例第4
図の回路群3の動作と全く同様である。一点鎖線で囲ま
れた部分は、4つとも同一の構成をしている。
In FIG. 1, the memory cell matrix is divided into eight partial memory cell matrixes, each having 256 word lines Fi, 512 sense amplifiers, and 512 pairs of data lines. As in the conventional example, the row decoder
DEC10 selects one word line WLIO, memory cell MCl0 is accessed, and data line pair DIO, DI is selected.
A signal potential difference appears between data lines D10 and D10.Q, and then sense amplifier SAI0 is activated by sense amplifier activation signal 5EIO, and data line pair D10. The DlO signal is m wide. After that, the column decoder YDECO causes the transistor QI to be
O, -Q sl is not in ON state, data line pair D10
The information of ゜f) 10 is transferred to the engineering 10 bus l1010. At this time, I10 selector l10S1 is I10 bus l1
010 is selected and the operation of the circuit group 50 is also the same as that of the fourth conventional example.
The operation is exactly the same as that of circuit group 3 in the figure. All four portions surrounded by dashed lines have the same configuration.

4ビット並列テストモードの際には、上述の4つの一点
鎖線内ブロックそれぞれ1ビットずつのメモリセル、合
計4ピントのメモリセルには同一データの書き込み、あ
るいは、読み出し動作が行なわれる。しかし特徴的な点
は、4ピット共に同一データが書き込まれてもそれぞれ
別の部分メモリセルマトリクスに属しており、少なくと
もそれぞれの部分メモリセルマトリクス内においては、
通常動作時と全く同一のあらゆるデータパターンでも曹
き込むことが可能であシ、なおかつ4ビットのメモリセ
ルは、互いに異なる列デコーダにて選択されている点で
ある。
In the 4-bit parallel test mode, the same data is written or read into memory cells of 1 bit each in each of the above-mentioned four blocks inside the dashed line, and a total of 4 pins of memory cells. However, the characteristic point is that even if the same data is written to all four pits, they belong to different partial memory cell matrices, and at least within each partial memory cell matrix,
It is possible to store any data pattern that is exactly the same as during normal operation, and the 4-bit memory cells are selected by different column decoders.

従ってワード線やメモリセルグレートや、制御信号を共
有する部分メモリセルマ) IJクス内においては、テ
ストモードでも正確な動作マージンのパターン依存性を
測定することが可能でう)、逆に、部分メモリセルマト
リクス間については、たとえばワード線は、行デコーダ
、ワードM&駆動回路は完全独立構成となっておシ、ワ
ード線WLIQ。
Therefore, it is possible to accurately measure the pattern dependence of the operating margin even in the test mode in IJ boxes (in IJs that share word lines, memory cell rates, and control signals), and vice versa. As for the cell matrices, for example, the word line has a row decoder, word M&drive circuit, and word line WLIQ, which have completely independent configurations.

WL20 、WL30 、WL40は同一タイミングに
て活性化されるが、冥質互いに接続導通はしておらず、
センスアンプ活性化信号SEI o 、 5E20.5
E30,5E40やメモリセルグレート10.20,3
0.40も同様である。
WL20, WL30, and WL40 are activated at the same timing, but they are not connected and conductive to each other.
Sense amplifier activation signal SEI o, 5E20.5
E30,5E40 and memory cell rate 10.20,3
The same applies to 0.40.

従って部分メモリセルマトリクス間におけるデータ相互
干渉による雑音効果はきわめて小さいために、通常動作
時をテストモード時の動作マージン差はされめて小さく
押えられる。また4ビットとも異なる列デコーダで選択
されるため前述のような検出能力の低下もない。
Therefore, since the noise effect due to mutual data interference between partial memory cell matrices is extremely small, the difference in operating margin between normal operation and test mode can be kept small. Furthermore, since all four bits are selected by different column decoders, there is no deterioration in detection ability as described above.

すなわち、テストモードにおいても同時にアクセスする
メモリセルが、部分メモリセルマトリクス内に2つ以上
はなく、同一の列デコーダが検査対象のビット2ビット
以上を同時に選択することはないという点のみが重要で
、さまざまな変形は可能である。
In other words, even in test mode, the only important point is that there are no more than two memory cells in the partial memory cell matrix that are accessed at the same time, and that the same column decoder never selects two or more bits to be tested at the same time. , various variants are possible.

たとえはデコーダの位置、センスアンプの位置など、部
分メモリマトリクス内での配置は自由でメジ、センスア
ンプは、シェアードセンスアンプでもよい。
For example, the position of the decoder and the sense amplifier can be freely arranged within the partial memory matrix, and the sense amplifier may be a shared sense amplifier.

また、第1図はフォールプツト型データ線配宜の例であ
るが、部分メモリセルマトリクス1つ1つをオープン型
データ線配置したものを第3図に示す。一点鎖線内は、
すべて同一のブロックが配置されたものとする。
Although FIG. 1 shows an example of a folded data line arrangement, FIG. 3 shows an example in which each partial memory cell matrix is arranged as an open data line. Inside the dashed line is
It is assumed that all blocks are the same.

また、第1図の例に2いて、さらに多くの部分メモリセ
ルマトリクスに分割した構成をとっても、テストモード
において同時にアクセスされるメモリセルが同一の部分
メモリセルマトリクス内に2個以上なければ本発明の効
果に変わシはない。
Furthermore, even if the structure is divided into more partial memory cell matrices in the example 2 of FIG. The effect remains the same.

また、第1図において1つの部分メモリセルマトリクス
につき1対のI10バスというレイアウトが好ましくな
い場合でも、第2図に示すように、2対のI10バスを
それぞれの部分メモリセルマトリクスに配置し、アレイ
の外でI10選択回路l1010にて一対を選択する方
式を採用することができる。
Furthermore, even if the layout of one pair of I10 buses per partial memory cell matrix in FIG. 1 is not preferable, two pairs of I10 buses can be arranged in each partial memory cell matrix as shown in FIG. A method can be adopted in which a pair is selected by an I10 selection circuit l1010 outside the array.

またさらに、列デコーダの出力にスイッチを設け、ys
woとYSWlt−分離制御することによりI10バス
の一方は全く動作させずに切シはなす方式もある。
Furthermore, a switch is provided at the output of the column decoder, and ys
There is also a method in which one of the I10 buses is disconnected without operating at all by controlling wo and YSWlt separately.

以上は、IMワード×1ビットm成メモリの例について
述べたが、XNビット構成についても容易に類推でき、
たとえは、テストモードにおいて同時にアクセスされる
メモリセルでも異なる外部I10ビンに属するメモリセ
ルならば同一の部分メモリセルマトリクス内に属してい
てもよいことがわかる。
The above has described an example of an IM word x 1 bit m-structured memory, but an analogy can also be easily made for an XN-bit structure.
For example, it can be seen that memory cells accessed simultaneously in the test mode may belong to the same partial memory cell matrix as long as they belong to different external I10 bins.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

以上前項にて詳述したように、部分メモリセルマトリク
スに分割し、テストモードで同時にアクセスされるメモ
リセルで、同一の外1I10ピンに属するメモリセルが
2個以上同一の部分メモリセルマトリクスに属すること
がなく、同一の列デコーダで選択されることもないため
テストモードにおいても、通常モードと同様の動作マー
ジン測定が可能となシ、本来のテスト回路の目的である
テスト時間の短縮をはかることができ、なおかつ高品質
の維持が可能となる。
As detailed in the previous section, two or more memory cells that belong to the same external 1I10 pin belong to the same partial memory cell matrix in memory cells that are divided into partial memory cell matrices and accessed simultaneously in the test mode. In test mode, it is possible to measure the operating margin in the same way as in normal mode. This makes it possible to maintain high quality.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は本発明の実施した例、第2図は本発明の他の実
施例、第3図は第1図の例を他のレイアウト法で実現し
た場合の実施例、第4図は従来例金示すレイアウト図で
ある。 1.2 、L O,20,100,200,110,1
20・・・・・・1−トランジスタメモリセルの各量素
子対極の電極プレート、WLi ・・・・・・ワードH
1Di、Di・・・・・・データ線、MCi・・・・・
・メモリセル、XDECi・・・・・・行デコーダ、S
Ai・・・・・・センスアンプ、SEi・・・・・・セ
ンスアンプ活性化信号、YDEC・・・・・・列デコー
ダ、工10i・・・・・・I10バス、Qi・・・・・
・テータ肪、工10バス間のスイッチングトランジスタ
、DAi・・・・・・データアンプ、l10Si・・・
・・・I10セレクタ、TE−・・・・・テストモード
指令信号、Din・・・・・・外部データ入力端子、D
out・・・・・・外部データ出力端子をそれぞれ示す
Fig. 1 shows an example of the present invention implemented, Fig. 2 shows another embodiment of the invention, Fig. 3 shows an example in which the example of Fig. 1 is realized using another layout method, and Fig. 4 shows a conventional example. It is a layout diagram showing an example. 1.2, L O, 20, 100, 200, 110, 1
20...1-Electrode plate of each quantum element counter electrode of transistor memory cell, WLi...Word H
1Di, Di... Data line, MCi...
・Memory cell, XDECi...Row decoder, S
Ai...Sense amplifier, SEi...Sense amplifier activation signal, YDEC...Column decoder, Engineering 10i...I10 bus, Qi...
・Switching transistor between data amplifier and engineering 10 bus, DAi...data amplifier, l10Si...
...I10 selector, TE-...Test mode command signal, Din...External data input terminal, D
out... each indicates an external data output terminal.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims]  平行に配置された複数のワード線群と、該ワード線に
垂直な方向に平行に配置された複数のデータ線群とを有
し、該ワード線群と該データ線群との各交点にメモリセ
ルが配置されたメモリセルマトリクスを有し、通常モー
ドにおいては、Nビット同時に書き込みあるいは読み出
し機能を有し、テストモードにおいては、MXMビット
同時に、書き込みあるいは読み出し機能あるいは判定機
能を有する半導体メモリ装置において、前記メモリセル
マトリクスはM個以上の部分メモリセルマトリクス分割
構成され、通常モードにおいて同一の外部入出端子に入
出力されるデータを記憶するメモリセルの中で、テスト
モードにおいて同時にアクセスされるメモリセル2ビッ
ト以上のメモリセルが同一の前記部分メモリセルマトリ
クスに属することがなく、かつ同一の列デコーダで選択
されることもないことを特徴とする半導体メモリ装置。
It has a plurality of word line groups arranged in parallel and a plurality of data line groups arranged in parallel in a direction perpendicular to the word lines, and a memory is provided at each intersection of the word line group and the data line group. In a semiconductor memory device that has a memory cell matrix in which cells are arranged, has a write or read function for N bits at the same time in a normal mode, and has a write or read function or a judgment function for MXM bits at the same time in a test mode. , the memory cell matrix is divided into M or more partial memory cell matrices, and among the memory cells that store data input and output from the same external input/output terminal in the normal mode, the memory cells are simultaneously accessed in the test mode. A semiconductor memory device characterized in that memory cells of two or more bits do not belong to the same partial memory cell matrix and are not selected by the same column decoder.
JP62017591A 1987-01-27 1987-01-27 Semiconductor memory device Pending JPS63184996A (en)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0378200A (en) * 1989-08-18 1991-04-03 Mitsubishi Electric Corp Semiconductor memory

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS60205897A (en) * 1984-03-30 1985-10-17 Toshiba Corp Semiconductor memory

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