JPS63168811A - Thin film magnetic head and its production - Google Patents
Thin film magnetic head and its productionInfo
- Publication number
- JPS63168811A JPS63168811A JP118987A JP118987A JPS63168811A JP S63168811 A JPS63168811 A JP S63168811A JP 118987 A JP118987 A JP 118987A JP 118987 A JP118987 A JP 118987A JP S63168811 A JPS63168811 A JP S63168811A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- core layer
- forming
- thin film
- upper core
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000010409 thin film Substances 0.000 title claims description 63
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 37
- 239000012792 core layer Substances 0.000 claims abstract description 191
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims abstract description 170
- 239000004020 conductor Substances 0.000 claims abstract description 39
- 239000011229 interlayer Substances 0.000 claims abstract description 39
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 claims description 27
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 22
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 17
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 7
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 abstract description 10
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 abstract description 9
- 239000000696 magnetic material Substances 0.000 description 24
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 14
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 10
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 7
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 6
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 5
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 5
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 4
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 4
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 4
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 3
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 3
- 229910000859 α-Fe Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000010408 film Substances 0.000 description 2
- 240000005343 Azadirachta indica Species 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000013500 Melia azadirachta Nutrition 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 1
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 1
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 1
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 1
- 239000005300 metallic glass Substances 0.000 description 1
- 238000003801 milling Methods 0.000 description 1
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 1
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 239000011343 solid material Substances 0.000 description 1
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 description 1
- 239000000057 synthetic resin Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
- G11B5/3109—Details
- G11B5/313—Disposition of layers
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
- G11B5/3163—Fabrication methods or processes specially adapted for a particular head structure, e.g. using base layers for electroplating, using functional layers for masking, using energy or particle beams for shaping the structure or modifying the properties of the basic layers
Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、薄膜磁気ヘッドおよびその製造方法に関し、
特にコンピュータ用外部記憶装置としての固定ディスク
装置や磁気テープ装置等に使用される薄膜磁気ヘッドお
よびその製造方法に関する。[Detailed Description of the Invention] [Industrial Application Field] The present invention relates to a thin film magnetic head and a method for manufacturing the same.
In particular, the present invention relates to a thin film magnetic head used in fixed disk devices, magnetic tape devices, etc. as external storage devices for computers, and a method for manufacturing the same.
従来、この種の薄膜磁気ヘッドの製造方法では、第３図
＋８１に示すように、まず非磁性材でなる基板２１を用
意し、第３開山）に示すように、基板２１上に磁性材で
なる下部コア層２２を先端部２２ａが後部に比べて厚み
が一段と薄（なるように形成する。次に、第３図（Ｃ１
に示すように、下部コア層２２上に非磁性材でなる磁気
ギャップ層２３を形成し、下部コア層２２と後述する上
部コア層３１との接続のための透孔２３ａを穿設してお
く。続いて、第３図＋８１に示すように、層間絶縁層２
６．１層目の第１導体コイル層２７．層間絶縁層２８．
２層目の第２導体コイル層２９および層間絶縁ＩＪ３０
を順次形成する。そして、第３図＋８１に示すように、
磁性材でなる上部コア層３１が形成され、第３図（ｆｌ
に示すように、上部コア層３１が所望の形状に加工され
る。この後、保護層（図示せず）が被覆されて研摩等が
行われ、従来の’ｆｉ４膜磁気ヘッドが完成される。Conventionally, in the manufacturing method of this type of thin film magnetic head, as shown in FIG. The lower core layer 22 is formed so that the tip part 22a is much thinner than the rear part.
As shown in FIG. 2, a magnetic gap layer 23 made of a non-magnetic material is formed on the lower core layer 22, and a through hole 23a is formed for connection between the lower core layer 22 and an upper core layer 31, which will be described later. . Subsequently, as shown in FIG. 3+81, the interlayer insulating layer 2 is
6. First conductor coil layer 27. Interlayer insulation layer 28.
Second conductor coil layer 29 and interlayer insulation IJ30
are formed sequentially. And, as shown in Figure 3+81,
An upper core layer 31 made of a magnetic material is formed, as shown in FIG.
As shown in FIG. 3, the upper core layer 31 is processed into a desired shape. Thereafter, a protective layer (not shown) is coated and polishing is performed to complete a conventional 'fi4 film magnetic head.
上述した従来の薄膜磁気ヘッドの製造方法では、薄膜磁
気ヘッドにとって最も重要な部分である磁気ギャップ層
２３がその形成後に層間絶縁層２６．２８および３０や
導体コイル層２７および２９の形成工程などにおいて様
々な作用を受けるので、多数の工程により磁気ギャップ
層２３がダメージを受けて特性が劣化したり、平坦度や
寸法がともに悪化してしまったりするという問題点があ
った。In the conventional thin film magnetic head manufacturing method described above, the magnetic gap layer 23, which is the most important part of the thin film magnetic head, is formed after its formation in the steps of forming the interlayer insulating layers 26, 28 and 30 and the conductor coil layers 27 and 29. Since the magnetic gap layer 23 is subjected to various effects, there is a problem in that the magnetic gap layer 23 is damaged by a large number of steps, resulting in deterioration of characteristics and deterioration of both flatness and dimensions.
また、従来の薄ｌＩ！Ｊ磁気ヘッドの製造方法では、ギ
ャップデプスを規制する部分である層間絶縁層２６の先
端部が磁気ギャップ層２３の場合と同様に以降の工程に
よって様々な作用を受けるので、寸法精度が悪化してギ
ャップデプスを精度良く出すことが困難であるという問
題点があった。In addition, conventional thin lI! In the manufacturing method of the J magnetic head, the tip of the interlayer insulating layer 26, which is the part that regulates the gap depth, is subjected to various effects in the subsequent steps, as in the case of the magnetic gap layer 23, resulting in poor dimensional accuracy. There was a problem in that it was difficult to accurately determine the gap depth.
さらに、従来の薄膜磁気ヘッドの製造方法では、下部コ
ア層２２と上部コア層３１との接続点の位置が低く、上
部コアＮ３１を下部コア層２２に接続するための穴が深
くなるので、穴の斜面部については上部コア層３１を形
成する磁性材の結晶成長の乱れが発生するという問題点
があった。Furthermore, in the conventional manufacturing method of a thin film magnetic head, the position of the connection point between the lower core layer 22 and the upper core layer 31 is low, and the hole for connecting the upper core N31 to the lower core layer 22 is deep. Regarding the slope portion, there is a problem in that the crystal growth of the magnetic material forming the upper core layer 31 is disturbed.
本発明の目的は、上述の点に鑑み、上部コア層を先端部
と後部とに分離し上部コア層先端部を磁気ギャップ層の
形成に続いて形成できるようにすることにより、磁気ギ
ャップ層の特性劣化が生じないようにした薄ｔｒｉ＆ｆ
１気ヘッドを提供することにある。In view of the above-mentioned points, an object of the present invention is to separate the upper core layer into a tip portion and a rear portion so that the tip portion of the upper core layer can be formed subsequent to the formation of the magnetic gap layer. Thin tri&f that prevents characteristic deterioration
Our goal is to provide a 1-ki head.
また、本発明の他の目的は、上部コア層を先端部と後部
とに分離し上部コア層先端部を磁気ギヤツブ層上に形成
されるギャップデプス規制部の形成に続いて形成できる
ようにすることにより、磁気ギャップ層の特性劣化が生
じないとともにギャップデプスを高精度に出すことがで
きるようにした薄膜磁気ヘッドを提供することにある。Another object of the present invention is to separate the upper core layer into a tip portion and a rear portion so that the tip portion of the upper core layer can be formed subsequent to the formation of the gap depth regulating portion formed on the magnetic gear layer. As a result, it is an object of the present invention to provide a thin film magnetic head in which the characteristics of the magnetic gap layer do not deteriorate and the gap depth can be determined with high accuracy.
さらに、本発明のさらに他の目的は、下部コア層を２層
に分離し下部コア層と上部コア層との接続点を高く形成
できるようにすることにより、上部コア層と下部コア層
とを接続する穴の斜面部における上部コア層の結晶成長
の乱れを防止するようにした″ｉ！ｉ膜磁気ヘッドを提
供することにある。Still another object of the present invention is to separate the lower core layer into two layers and form a high connection point between the lower core layer and the upper core layer. An object of the present invention is to provide an ``i!i'' film magnetic head that prevents disturbances in crystal growth of an upper core layer on the slopes of connecting holes.
また、本発明の別の目的は、上部コア層を先端部と後部
とに分離し上部コア層先端部を磁気ギャップ層の形成に
続いて形成することにより、磁気ギャップ層の特性劣化
が生じないようにした薄膜磁気ヘッドの製造方法を提供
することにある。Another object of the present invention is to separate the upper core layer into a tip portion and a rear portion and form the tip portion of the upper core layer subsequent to the formation of the magnetic gap layer, thereby preventing deterioration of the characteristics of the magnetic gap layer. An object of the present invention is to provide a method for manufacturing a thin film magnetic head.
さらに、本発明のさらに別の目的は、上部コア層を先端
部と後部とに分離し上部コア層先端部を磁気ギャップ層
上に形成されるギャップデプス規制部の形成に続いて形
成することにより、磁気ギ中ツブ層の特性劣化が生じな
いとともにギャップデプスを高精度に出すことができる
ようにした薄膜磁気ヘッドの製造方法を提供することに
ある。Still another object of the present invention is to separate the upper core layer into a tip portion and a rear portion, and to form the tip portion of the upper core layer subsequent to the formation of the gap depth regulating portion formed on the magnetic gap layer. Another object of the present invention is to provide a method for manufacturing a thin-film magnetic head that does not cause deterioration of the characteristics of the magnetic core layer and allows the gap depth to be determined with high accuracy.
さらにまた、本発明のさらにまた別の目的は、下部コア
層を２層に分離し下部コア層と上部コア層との接続点を
高く形成することにより、上部コア層と下部コア層とを
接続する穴の斜面部における上部コア層の結晶成長の乱
れを防止するようにした薄膜磁気ヘッドの製造方法を提
供することにある。Still another object of the present invention is to connect the upper core layer and the lower core layer by separating the lower core layer into two layers and forming a high connection point between the lower core layer and the upper core layer. An object of the present invention is to provide a method for manufacturing a thin film magnetic head that prevents disturbances in crystal growth of an upper core layer on sloped portions of holes.
本発明の薄膜磁気ヘッドは、薄膜製造方法により製造さ
れる薄膜磁気ヘッドにおいて、磁気ギャップ層上に形成
された上部コア層先端部と、導体コイル層を絶縁する層
間絶縁層上に形成され前記上部コア層先端部に結合され
た上部コア層後部とを有することを特徴とする。A thin film magnetic head of the present invention is a thin film magnetic head manufactured by a thin film manufacturing method, in which a tip portion of an upper core layer formed on a magnetic gap layer and an interlayer insulating layer insulating a conductor coil layer are formed on the top core layer. It is characterized by having a rear part of an upper core layer coupled to a leading end of the core layer.
また、本発明の薄膜磁気ヘッドは、薄膜製造方法により
製造される薄膜磁気ヘッドにおいて、磁気ギャップ層上
に形成されたギャップデプス規制部と、前記磁気ギャッ
プ層および前記ギャップデプス規制部上に形成された上
部コア層先端部と、導体コイル層を絶縁する層間絶縁層
上に形成され前記上部コア層先端部に結合された上部コ
ア層後部とを有することを特徴とする。Further, in the thin film magnetic head of the present invention, in a thin film magnetic head manufactured by a thin film manufacturing method, a gap depth regulating section formed on a magnetic gap layer, and a gap depth regulating section formed on the magnetic gap layer and the gap depth regulating section are provided. and a rear portion of the upper core layer formed on an interlayer insulating layer that insulates the conductor coil layer and coupled to the top core layer tip.
さらに、本発明の薄膜磁気ヘッドは、薄膜製造方法によ
り製造される薄膜磁気ヘッドにおいて、非磁性材でなる
基板上に形成された第１下部コア層と、この第１下部コ
ア層上に形成された磁気ギャップ層と、この磁気ギャッ
プ層上に形成されたギャップデプス規制部および接続点
リフト部と、前記磁気ギャップ層、前記ギャップデプス
規制部および前記接続点リフト部上に形成された上部コ
ア層先端部および第２下部コア層と、導体コイル層を絶
縁する層間絶縁層上に形成され前記上部コア層先端部お
よび前記第２下部コア層に結合された上部コア屡後部と
を有することを特徴とする。Further, the thin film magnetic head of the present invention is manufactured by a thin film manufacturing method, and includes a first lower core layer formed on a substrate made of a non-magnetic material, and a first lower core layer formed on the first lower core layer. a magnetic gap layer formed on the magnetic gap layer, a gap depth regulation section and a connection point lift section formed on the magnetic gap layer, and an upper core layer formed on the magnetic gap layer, the gap depth regulation section and the connection point lift section. It is characterized by having a tip end portion, a second lower core layer, and an upper core back portion formed on an interlayer insulating layer that insulates a conductor coil layer and coupled to the upper core layer tip portion and the second lower core layer. shall be.
また、本発明の薄膜磁気ヘッドの製造方法は、薄膜製造
方法により製造される薄膜磁気ヘッドの製造方法におい
て、非磁性材でなる基板上に下部コア層を形成する工程
と、前記下部コア層上に磁気ギャップ層を形成する工程
と、前記磁気ギャップ層上に上部コア層先端部を形成す
る工程と、前記磁気ギャップ層上に層間絶縁層および導
体コイル層を形成する工程と、前記導体コイル層を絶縁
する層間絶縁層上に前記上部コア層先端部および前記下
部コア層に結合される上部コア層後部を形成する工程と
を含むことを特徴とする。Further, the method for manufacturing a thin film magnetic head of the present invention includes a step of forming a lower core layer on a substrate made of a non-magnetic material, and a step of forming a lower core layer on a substrate made of a non-magnetic material. a step of forming a magnetic gap layer on the magnetic gap layer, a step of forming an upper core layer tip portion on the magnetic gap layer, a step of forming an interlayer insulating layer and a conductive coil layer on the magnetic gap layer, and a step of forming a conductive coil layer on the magnetic gap layer. forming an upper core layer rear portion coupled to the upper core layer tip portion and the lower core layer on an interlayer insulating layer that insulates the upper core layer.
さらに、本発明の薄膜磁気ヘッドの製造方法は、薄膜製
造方法により製造される薄膜磁気ヘッドの製造方法にお
いて、非磁性材でなる基板上に下部コア層を形成する工
程と、前記下部コア層上に磁気ギャップ層を形成する工
程と、前記磁気ギャップ層上にギャップデプス規制部を
形成する工程と、前記磁気ギャップ層および前記ギャッ
プデプス規制部上に上部コア層先端部を形成する工程と
、前記磁気ギャップ層上に層間絶縁層および導体コイル
層を形成する工程と、前記導体コイル層を絶縁する層間
絶縁層上に前記上部コア層先端部および前記下部コア層
に結合される上部コア層後部を形成する工程とを含むこ
とを特徴とする。Furthermore, the method for manufacturing a thin film magnetic head of the present invention includes a step of forming a lower core layer on a substrate made of a non-magnetic material, and a step of forming a lower core layer on a substrate made of a non-magnetic material. a step of forming a magnetic gap layer on the magnetic gap layer, a step of forming a gap depth regulating portion on the magnetic gap layer, a step of forming an upper core layer tip portion on the magnetic gap layer and the gap depth regulating portion; forming an interlayer insulating layer and a conductive coil layer on the magnetic gap layer; and forming a rear part of the upper core layer to be bonded to the tip end of the upper core layer and the lower core layer on the interlayer insulating layer that insulates the conductor coil layer. It is characterized by including the step of forming.
さらにまた、本発明の薄膜磁気ヘッドの製造方法は、薄
膜製造方法により製造される薄膜磁気ヘッドの製造方法
において、非磁性材でなる基板上に第１下部コア層を形
成する工程と、前記第１下部コア層上に磁気ギャップ層
を形成する工程と、前記磁気ギャップ層上にギャップデ
プス規制部および接続点リフト部を形成する工程と、前
記磁気ギャップ層、前記ギャップデプス規制部および前
記接続点リフト部上に上部コア層先端部および第２下部
コア層を形成する工程と、前記第２下部コア層上に層間
絶縁層および導体コイル層を形成する工程と、前記導体
コイル層を絶縁する層間絶縁層上に前記上部コア層先端
部および前記第２下部コア層に結合される上部コア層後
部を形成する工程とを含むことを特徴とする。Furthermore, the method for manufacturing a thin film magnetic head of the present invention includes a step of forming a first lower core layer on a substrate made of a non-magnetic material, and a step of forming a first lower core layer on a substrate made of a non-magnetic material. 1: forming a magnetic gap layer on the lower core layer; forming a gap depth regulating section and a connection point lift section on the magnetic gap layer; and forming the magnetic gap layer, the gap depth regulating section, and the connection point on the magnetic gap layer. a step of forming an upper core layer tip and a second lower core layer on the lift part; a step of forming an interlayer insulating layer and a conductor coil layer on the second lower core layer; and an interlayer insulating layer for insulating the conductor coil layer. The method further comprises forming a rear portion of the upper core layer, which is coupled to the leading end portion of the upper core layer and the second lower core layer, on the insulating layer.
本発明の薄膜磁気ヘッドでは、磁気ギャップ層上に形成
された上部コア層先端部と導体コイル層を絶縁する層間
絶縁層上に形成された上部コア層後部とが結合されて上
部コア層が形成される。In the thin film magnetic head of the present invention, the upper core layer is formed by combining the tip of the upper core layer formed on the magnetic gap layer and the rear part of the upper core layer formed on the interlayer insulating layer that insulates the conductor coil layer. be done.
また、本発明の薄膜磁気ヘッドでは、磁気ギャップ層上
に形成されたギャップデプス規制部により磁気ギャップ
層上に形成された上部コア層先端部のギャップデプスが
規制され、ギャップデプスが寸法精度良く形成される。Furthermore, in the thin film magnetic head of the present invention, the gap depth regulating portion formed on the magnetic gap layer regulates the gap depth at the tip of the upper core layer formed on the magnetic gap layer, and the gap depth is formed with high dimensional accuracy. be done.
さらに、本発明の薄膜磁気ヘッドでは、磁気ギヤツブ層
上に形成された接続点リフト部により第２下部コア層の
上部コア層後部との接続位置が高くなるように形成され
、接続のための穴が浅くなって穴の斜面部における上部
コア層後部の結晶成長の乱れが少なくなる。Furthermore, in the thin film magnetic head of the present invention, the connection point lift portion formed on the magnetic gear layer is formed so that the connection position of the second lower core layer with the rear part of the upper core layer is raised, and the connection hole is becomes shallower, and the disturbance of crystal growth at the rear of the upper core layer on the slope of the hole is reduced.
また、本発明の薄膜磁気ヘッドの製造方法では、非磁性
材でなる基板上に下部コア層が形成され、下部コア層上
に磁気ギャップ層が形成され、磁気ギャップ層上に上部
コア層先端部が形成され、磁気ギャップ層上に層間絶縁
層および導体コイル層が形成され、導体コイル層を絶縁
する層間絶縁層上に上部コア層先端部および下部コア層
に結合される上部コア層後部が形成される。Further, in the method for manufacturing a thin film magnetic head of the present invention, a lower core layer is formed on a substrate made of a non-magnetic material, a magnetic gap layer is formed on the lower core layer, and a tip portion of the upper core layer is formed on the magnetic gap layer. is formed, an interlayer insulating layer and a conductor coil layer are formed on the magnetic gap layer, and an upper core layer tip and a rear part of the upper core layer that are bonded to the lower core layer are formed on the interlayer insulating layer that insulates the conductor coil layer. be done.
さらに、本発明の薄膜磁気ヘッドの製造方法では、非磁
性材でなる基板上に下部コア層が形成され、下部コア層
上に磁気ギャップ層が形成され、磁気ギャップ層上にギ
ャップデプス規制部が形成され、磁気ギャップ層および
ギャップデプス規制部上に上部コア層先端部が形成され
、磁気ギャップ層上に層間絶縁層および導体コイル層が
形成され、導体コイル層を絶縁する層間絶縁層上に上部
コア層先端部および下部コア層に結合される上部コア層
後部が形成される。Further, in the method for manufacturing a thin film magnetic head of the present invention, a lower core layer is formed on a substrate made of a non-magnetic material, a magnetic gap layer is formed on the lower core layer, and a gap depth regulating portion is formed on the magnetic gap layer. an upper core layer tip is formed on the magnetic gap layer and the gap depth regulating section, an interlayer insulating layer and a conductor coil layer are formed on the magnetic gap layer, and an upper core layer is formed on the interlayer insulating layer that insulates the conductor coil layer. An upper core layer rear portion is formed which is joined to the core layer tip and the lower core layer.
さらにまた、本発明の薄膜磁気ヘッドの製造方法では、
非磁性材でなる基板上に第１下部コア層が形成され、第
１下部コア層上に磁気ギャップ層が形成され、磁気ギャ
ップ層上にギャップデプス規制部および接続点リフト部
が形成され、磁気ギャップ層、ギャップデプス規制部お
よび接続点リフト部上に上部コア層先端部および第２下
部コア層が形成され、第２下部コア屡上に層間絶縁層お
よび導体コイル層が形成され、導体コイル層を絶縁する
層間絶縁層上に上部コア層先端部および第２下部コア層
に結合される上部コア層後部が形成される。Furthermore, in the method for manufacturing a thin film magnetic head of the present invention,
A first lower core layer is formed on a substrate made of a non-magnetic material, a magnetic gap layer is formed on the first lower core layer, a gap depth regulating part and a connection point lifting part are formed on the magnetic gap layer, and a magnetic An upper core layer tip portion and a second lower core layer are formed on the gap layer, the gap depth regulating portion, and the connection point lift portion, an interlayer insulating layer and a conductor coil layer are formed on the second lower core layer, and a conductor coil layer is formed on the second lower core layer. An upper core layer tip portion and an upper core layer rear portion coupled to the second lower core layer are formed on the interlayer insulating layer insulating the second lower core layer.
〔実施例〕 次に、本発明について図面を参照しながら説明する。〔Example〕 Next, the present invention will be explained with reference to the drawings.
第１図は、本発明の一実施例に係る薄膜磁気ヘッドを示
す断面図である０本実施例の薄膜磁気ヘッドは、非磁性
材でなる基板１と、この基板ｌ上に磁性材により形成さ
れた１層目の第１下部コア層２と、第１下部コア層２上
に非磁性材により形成された磁気ギャップ層３と、磁気
ギャップ層３上に非磁性材により形成されたギャップデ
プス規制部４ａおよび接続点リフト部４ｂと、磁気ギャ
ップＮ３．ギャップデプス規制部４ａおよび接続点リフ
ト部４ｂ上に磁性材により形成された上部コア層先端部
５ａおよび２層目の第２下部コア層５ｂと、第２下部コ
ア層５ｂ上に絶縁と平坦化のために絶縁材により形成さ
れた層間絶縁層６と、層間絶縁層６上に導電材により平
面螺旋状に形成された１層目の第１導体コイル層７と、
第１導体コイル層７上に絶縁と平坦化のために絶縁材に
より形成された層間絶縁層８と、眉間絶縁Ｎ８上に導電
材により平面螺旋状に形成された２層目の第２導体コイ
ル層９と、第２導体コイル層９上に絶縁と平坦化のため
に絶縁材により形成された眉間絶縁１１１０と、層間絶
縁層１０上に上部コア先端部５ａおよび第２下部コア層
５ｂと結合されて形成されたー上部コア層後部１１と、
上部コア層後部１１上等に保護材により形成された保護
層１２とから、その主要部が構成されている。FIG. 1 is a sectional view showing a thin film magnetic head according to an embodiment of the present invention. a first lower core layer 2 formed of a non-magnetic material, a magnetic gap layer 3 formed of a non-magnetic material on the first lower core layer 2, and a gap depth formed of a non-magnetic material on the magnetic gap layer 3. The regulating portion 4a, the connection point lift portion 4b, and the magnetic gap N3. An upper core layer tip portion 5a and a second lower core layer 5b formed of a magnetic material on the gap depth regulating portion 4a and the connection point lift portion 4b, and insulation and planarization on the second lower core layer 5b. an interlayer insulating layer 6 formed of an insulating material, and a first conductor coil layer 7 formed of a conductive material in a planar spiral shape on the interlayer insulating layer 6;
An interlayer insulating layer 8 formed of an insulating material on the first conductive coil layer 7 for insulation and flattening, and a second layer of a second conductive coil formed in a planar spiral shape with a conductive material on the glabella insulation N8. layer 9, glabellar insulation 1110 formed of an insulating material for insulation and flattening on the second conductor coil layer 9, and the upper core tip 5a and the second lower core layer 5b on the interlayer insulation layer 10. an upper core layer rear portion 11 formed by
The main part thereof is composed of a protective layer 12 formed of a protective material on the rear part 11 of the upper core layer and the like.
なお、本実施例の薄膜磁気ヘッドでは、第１下部コア層
２と第２下部コア層５ｂとが直接的には接続されていな
いが、両者間に介在する磁気ギャップ層３が数μｍ程度
のきわめて薄い層であるので、磁気ギャップ層３を介し
て磁束が流れて下部コア層としての機能に支障が生じる
ようなことはない。In the thin film magnetic head of this embodiment, the first lower core layer 2 and the second lower core layer 5b are not directly connected, but the magnetic gap layer 3 interposed between them has a thickness of about several μm. Since it is an extremely thin layer, magnetic flux will not flow through the magnetic gap layer 3 and will not interfere with its function as a lower core layer.
次に、このように構成された本実施例の薄膜磁気ヘッド
の製造方法について第２図（ａ）〜（ｆｌを参照しなが
ら説明する。Next, a method of manufacturing the thin film magnetic head of this embodiment constructed as described above will be explained with reference to FIGS. 2(a) to 2(fl).
まず、第２図Ｔａ＋に示すように、アルチック、ノンマ
グネチックフェライト等の非磁性材でなる基板上にアル
ミナ等の平坦度の出しやすい材料をスパッタリング等に
よりコートし精度良く研摩したものを基板１として用い
、この基板１上にフェライト等の磁性材のスパッタリン
グ、メッキ等により１層目の第１下部コア層２を形成し
、さらに第１下部コア層２上にシリカ、アルミナ等の非
磁性材のスパッタリング等により磁気ギャップ層３を形
成する。First, as shown in Fig. 2 Ta+, a substrate made of a non-magnetic material such as AlTiC or non-magnetic ferrite is coated with a material such as alumina that is easy to achieve flatness by sputtering or the like and polished with high accuracy. A first lower core layer 2 is formed on this substrate 1 by sputtering, plating, etc. of a magnetic material such as ferrite, and a non-magnetic material such as silica or alumina is further formed on the first lower core layer 2. A magnetic gap layer 3 is formed by sputtering or the like.
次に、第２図（ｂｌに示すように、ポリイミド等のを機
材やシリカ、アルミナ等の無機材の非磁性材を積層し加
工することにより、上部コア層先端部５ａのギャップデ
プスを出すためのギャップデプス規制部４ａおよび第２
下部コア層５ｂと上部コア層後部１！とを高い位置で接
続させるための接続点リフト部４ｂをそれぞれ形成する
。Next, as shown in FIG. 2 (bl), by laminating and processing a material such as polyimide or an inorganic non-magnetic material such as silica or alumina, the gap depth of the upper core layer tip 5a is obtained. The gap depth regulating portion 4a and the second
Lower core layer 5b and upper core layer rear part 1! A connection point lift portion 4b is formed for connecting the two at a high position.
続いて、第２図（Ｃ１に示すように、フェライト。Next, as shown in Figure 2 (C1), ferrite.
センダストアモルファス金属等の磁性材をスパッタリン
グ等することにより磁性材Ｎ５を形成す次に、第２図Ｔ
ｄｌに示すように、ミリング等のエツチング手段により
磁性材層５を加工することにより、上部コア層先端部５
ａと２層目の第２下部コア層５ｂとを分離して形成する
。このとき、ギャップデプス規制部４ａにより上部コア
層先端部５ａのギャップデプスが正確に出され、接続点
リフト部４ｂにより第２下部コア層５ｂの上部コア層後
部１１との接続点が高い位置に形成される。Next, the magnetic material N5 is formed by sputtering a magnetic material such as a sender store amorphous metal.
As shown in dl, by processing the magnetic material layer 5 by etching means such as milling, the tip portion 5 of the upper core layer is formed.
a and the second lower core layer 5b are formed separately. At this time, the gap depth of the upper core layer tip 5a is accurately set by the gap depth regulating part 4a, and the connection point of the second lower core layer 5b with the rear part 11 of the upper core layer is brought to a high position by the connection point lifting part 4b. It is formed.
続いて、第２図（６１に示すように、第２下部コア層５
ｂ上などに絶縁および平坦化のためにポリイミド等の有
機材やシリカ、アルミナ等の無機材の絶縁材を積層する
ことにより眉間絶縁Ｎ６が形成され、層間絶縁層６上に
銅、アルミニューム等の導電材のスパッタリング等によ
り平面螺旋状に第１導体コイル層７が形成され、第１Ｊ
Ｅ体コイル層７上に絶縁および平坦化のためにポリイミ
ド等の有機材やシリカ、アルミナ等の無機材の絶縁材を
積層することにより層間絶縁層８が形成され、層間絶縁
層８上に銅、アルミニニーム等の導電材のスパッタリン
グ等により平面螺旋状に第２導体コイルＮ９が形成され
、第２導体コイルＮ９上に絶縁および平坦化のためにポ
リイミド等の有機材やシリカ、アルミナ等の無機材の絶
縁材を積層することにより層間絶縁層１０が形成される
。Subsequently, as shown in FIG. 2 (61), the second lower core layer 5
Glabellar insulation N6 is formed by laminating an organic material such as polyimide or an inorganic material such as silica or alumina on top of b for insulation and planarization, and copper, aluminum, etc. The first conductive coil layer 7 is formed in a planar spiral shape by sputtering of a conductive material, etc.
An interlayer insulating layer 8 is formed by laminating an organic material such as polyimide or an inorganic insulating material such as silica or alumina on the E-body coil layer 7 for insulation and planarization. A second conductor coil N9 is formed in a planar spiral shape by sputtering or the like of a conductive material such as aluminum neem, and an organic material such as polyimide or a solid material such as silica or alumina is coated on the second conductor coil N9 for insulation and flattening. The interlayer insulating layer 10 is formed by laminating the insulating materials of the equipment.
次に、第２図（「）に示すように、層間絶縁層１０上に
フェライト、センダスト、アモルファス金属等の磁性材
をスパッタリング等することにより上部コア層後部１１
が上部コア層先端部５ａおよび第２下部コア層５ｂと結
合されて形成される。Next, as illustrated in FIG.
is formed by being combined with the upper core layer tip portion 5a and the second lower core layer 5b.
しかる後に、上部コア層後部１１上等に合成樹脂。After that, synthetic resin is applied to the rear part 11 of the upper core layer.
カーボン等の塗布、スパッタリング等により保護層１２
が被覆されて研摩等が行われ、第１図に示すような本実
施例の薄膜磁気ヘッドが完成される。Protective layer 12 is formed by coating carbon, sputtering, etc.
is coated and polished, etc., to complete the thin film magnetic head of this embodiment as shown in FIG.
なお、上記実施例では、ギャップデプス規制部４ａを設
けてギャップデプスを規制するようにしたが、ギャップ
デプス規制部４ａはかならずしも設けなくてもよい。In the above embodiment, the gap depth regulating section 4a is provided to regulate the gap depth, but the gap depth regulating section 4a does not necessarily have to be provided.
また、下部コア層を２層の第１下部コア層２と第２下部
コア層５ｂとに分け、接続点リフト部４ｂにより上部コ
ア後部１１と下部コア層との接続位置を高めるようにし
たが、かならずしもこのようにしなくてもよい。In addition, the lower core layer is divided into two layers, the first lower core layer 2 and the second lower core layer 5b, and the connection point between the upper core rear part 11 and the lower core layer is raised by the connection point lift part 4b. , it does not necessarily have to be done this way.
以上説明したように、本発明の薄膜磁気ヘッドによれば
、上部コア層が上部コア層先端部と上部コア層後部とに
分離されて形成されているので、磁気ギャップ層の形成
後の早い段階で上部コア層先端部を形成して磁気ギャッ
プ層を保護することができ、導体コイル層、層間絶縁層
等の形成工程において磁気ギャップ層がダメージを受け
ることがなくなって性能が劣化したり寸法精度が悪化し
たりすることがなく、また上部コア層先端部を早い段階
で形成できるので、平坦度の良い状態で高い寸法精度で
これを形成することができてトラック幅等についても高
い寸法精度が得られるという効果がある。As explained above, according to the thin-film magnetic head of the present invention, the upper core layer is formed separated into the tip part of the upper core layer and the rear part of the upper core layer. The tip of the upper core layer can be formed to protect the magnetic gap layer, and the magnetic gap layer will not be damaged during the formation process of the conductor coil layer, interlayer insulation layer, etc., resulting in performance deterioration and dimensional accuracy. Moreover, since the tip of the upper core layer can be formed at an early stage, it can be formed with good flatness and high dimensional accuracy, and high dimensional accuracy can be achieved in terms of track width, etc. There is an effect that can be obtained.
さらに、本発明の薄膜磁気ヘッドによれば、ギャップデ
プス規制部を設けたことにより、上部コア層先端部にお
けるギャップデプスについて高い寸法精度が得られると
いう効果がある。Furthermore, according to the thin film magnetic head of the present invention, by providing the gap depth regulating section, there is an effect that high dimensional accuracy can be obtained with respect to the gap depth at the tip of the upper core layer.
さらに、本発明の薄膜磁気ヘッドによれば、下部コア層
を第１下部コア層と第２下部コア層とに分離するととも
に接続点リフト部を設けたことにより、第２下部コア層
と上部コア層後部との接続点を高めることができ、この
ため第２下部コア層と上部コア層後部との結合のための
穴が浅くなり、穴の斜面部における上部コア層後部の結
晶成長の乱れが少なくなるという効果がある。Furthermore, according to the thin film magnetic head of the present invention, the lower core layer is separated into the first lower core layer and the second lower core layer, and the connecting point lift portion is provided, so that the second lower core layer and the upper core layer are separated. The connection point with the rear part of the layer can be raised, and therefore the hole for coupling the second lower core layer and the rear part of the upper core layer becomes shallower, and the disturbance of crystal growth in the rear part of the upper core layer at the slope part of the hole is reduced. It has the effect of reducing
また、本発明の薄膜磁気ヘッドの製造方法によれば、磁
気ギャップ層の形成工程と上部コア層先端部の形成工程
とにより、導体コイル層１層間絶ＩｉＮ等が形成される
段階で磁気ギャップ層がすでに上部コア層先端部の下層
に形成されていることになり、導体コイル層、Ｎ間絶縁
層等の形成工程において磁気ギャップ層がダメージを受
けることがなく性能が劣化したり寸法精度が悪化したり
することがない薄膜磁気ヘッドが得られるとともに、上
部コア層先端部を早い段階で形成することにより平坦度
の良い状態で高い寸法精度でこれを形成することができ
、トランク幅等についても寸法精度の高い薄膜磁気ヘッ
ドが得られるという効果がある。Further, according to the method for manufacturing a thin film magnetic head of the present invention, the magnetic gap layer is formed at the stage of forming one layer of the conductor coil layer, such as IiN, by the step of forming the magnetic gap layer and the step of forming the tip of the upper core layer. This means that the magnetic gap layer is already formed under the tip of the upper core layer, so the magnetic gap layer is not damaged during the formation process of the conductor coil layer, N-to-N insulation layer, etc., resulting in performance deterioration and dimensional accuracy. In addition to obtaining a thin-film magnetic head that does not cause any damage, by forming the tip of the upper core layer at an early stage, it can be formed with good flatness and high dimensional accuracy. This has the effect that a thin film magnetic head with high dimensional accuracy can be obtained.
さらに、本発明の薄膜磁気ヘッドの製造方法によれば、
ギャップデプス規制部の形成工程と上部コア層先端部の
形成工程とにより、ギャップデプスの寸法精度の高い薄
膜磁気ヘッドが得られるという効果がある。Furthermore, according to the method of manufacturing a thin film magnetic head of the present invention,
The step of forming the gap depth regulating portion and the step of forming the tip end of the upper core layer have the effect that a thin film magnetic head with high dimensional accuracy of the gap depth can be obtained.
さらにまた、本発明の薄膜磁気ヘッドの製造方法によれ
ば、接続点リフト部の形成工程と第２下部コア層の形成
工程とにより、第２下部コア層の上部コア層後部との接
続点が高い位置に形成されるので、菖２下部コア層と上
部コア層後部との結合のための穴が浅くなり、このため
上部コア層後部の形成工程における穴の斜面部における
上部コア層後部の結晶成長の乱れが少ない薄膜磁気ヘッ
ドが得られるという効果がある。Furthermore, according to the method of manufacturing a thin film magnetic head of the present invention, the connection point between the second lower core layer and the rear part of the upper core layer is formed by the step of forming the connection point lift portion and the step of forming the second lower core layer. Since it is formed at a high position, the hole for connecting the lower core layer of Iris 2 and the rear part of the upper core layer becomes shallower, and therefore the crystals at the rear part of the upper core layer on the slope part of the hole in the process of forming the rear part of the upper core layer become shallower. This has the effect that a thin film magnetic head with less disturbance in growth can be obtained.
第１図は、本発明の一実施例に係る薄膜磁気ヘッドを示
す断面図、
第２図ｆａｌ〜ｆｆｌは、第１図に示した薄膜磁気ヘッ
ドの製造方法における順次の工程を示す断面図、第３図
（８）〜（「）は、従来の薄膜磁気ヘッドの製造方法の
一例における順次の工程を示す断面図である。
図において、
ｌ・・・・・基板、
２・・・・・第１下部コア層、
３・・・・・磁気ギャップ層、
４ａ・・・・ギャップデプス規制部、
４ｂ・・・・接続点リフト部、
５ａ・・・・上部コア層先端部、
５ｂ・・・・第２下部コア層、
６．８．１０・層間絶縁層、
７・・・・・第１導体コイル層、
９・・・・・第２導体コイル層、
１１・・・・・上部コア層後部である。1 is a sectional view showing a thin film magnetic head according to an embodiment of the present invention; FIGS. 2 fal to ffl are sectional views showing sequential steps in the method for manufacturing the thin film magnetic head shown in FIG. FIGS. 3(8) to 3(') are cross-sectional views showing sequential steps in an example of a conventional thin-film magnetic head manufacturing method. In the figure, l...substrate, 2... 1st lower core layer, 3...Magnetic gap layer, 4a...Gap depth regulation part, 4b...Connection point lift part, 5a...Top part of upper core layer, 5b...・・Second lower core layer, 6.8.10・Interlayer insulating layer, 7・・・First conductor coil layer, 9・・・Second conductor coil layer, 11・・・・Upper core This is the rear part of the layer.
Claims (6)
おいて、 磁気ギャップ層上に形成された上部コア層先端部と、 導体コイル層を絶縁する層間絶縁層上に形成され前記上
部コア層先端部に結合された上部コア層後部と、 を有することを特徴とする薄膜磁気ヘッド。(1) In a thin film magnetic head manufactured by a thin film manufacturing method, a top core layer formed on a magnetic gap layer, and a top core layer formed on an interlayer insulating layer that insulates a conductor coil layer, and a top core layer formed on a top core layer formed on a magnetic gap layer, What is claimed is: 1. A thin film magnetic head comprising: a bonded upper core layer rear portion;
おいて、 磁気ギャップ層上に形成されたギャップデプス規制部と
、 前記磁気ギャップ層および前記ギャップデプス規制部上
に形成された上部コア層先端部と、導体コイル層を絶縁
する層間絶縁層上に形成され前記上部コア層先端部に結
合された上部コア層後部と、 を有することを特徴とする薄膜磁気ヘッド。(2) In a thin film magnetic head manufactured by a thin film manufacturing method, a gap depth regulating portion formed on a magnetic gap layer, a top end portion of an upper core layer formed on the magnetic gap layer and the gap depth regulating portion; 1. A thin film magnetic head comprising: a rear portion of an upper core layer formed on an interlayer insulating layer that insulates a conductor coil layer and coupled to a tip end portion of the upper core layer.
おいて、 非磁性材でなる基板上に形成された第１下部コア層と、 この第１下部コア層上に形成された磁気ギャップ層と、 この磁気ギャップ層上に形成されたギャップデプス規制
部および接続点リフト部と、 前記磁気ギャップ層、前記ギャップデプス規制部および
前記接続点リフト部上に形成された上部コア層先端部お
よび第２下部コア層と、 導体コイル層を絶縁する層間絶縁層上に形成され前記上
部コア層先端部および前記第２下部コア層に結合された
上部コア層後部と、 を有することを特徴とする薄膜磁気ヘッド。(3) In a thin film magnetic head manufactured by a thin film manufacturing method, a first lower core layer formed on a substrate made of a nonmagnetic material; a magnetic gap layer formed on this first lower core layer; a gap depth regulation section and a connection point lift section formed on the magnetic gap layer; an upper core layer tip section and a second lower core formed on the magnetic gap layer, the gap depth regulation section and the connection point lift section; A thin film magnetic head comprising: a rear part of an upper core layer formed on an interlayer insulating layer that insulates a conductor coil layer and coupled to the tip of the upper core layer and the second lower core layer.
製造方法において、 非磁性材でなる基板上に下部コア層を形成する工程と、 前記下部コア層上に磁気ギャップ層を形成する工程と、 前記磁気ギャップ層上に上部コア層先端部を形成する工
程と、 前記磁気ギャップ層上に層間絶縁層および導体コイル層
を形成する工程と、 前記導体コイル層を絶縁する層間絶縁層上に前記上部コ
ア層先端部および前記下部コア層に結合される上部コア
層後部を形成する工程と、 を含むことを特徴とする薄膜磁気ヘッドの製造方法。(4) A method for manufacturing a thin film magnetic head manufactured by a thin film manufacturing method, comprising: forming a lower core layer on a substrate made of a nonmagnetic material; forming a magnetic gap layer on the lower core layer; forming a tip of an upper core layer on the magnetic gap layer; forming an interlayer insulating layer and a conductor coil layer on the magnetic gap layer; forming the upper core layer on the interlayer insulating layer insulating the conductor coil layer; A method for manufacturing a thin-film magnetic head, comprising the steps of: forming a tip end of a core layer and a rear portion of an upper core layer that is coupled to the lower core layer.
製造方法において、 非磁性材でなる基板上に下部コア層を形成する工程と、 前記下部コア層上に磁気ギャップ層を形成する工程と、 前記磁気ギャップ層上にギャップデプス規制部を形成す
る工程と、 前記磁気ギャップ層および前記ギャップデプス規制部上
に上部コア層先端部を形成する工程と、前記磁気ギャッ
プ層上に層間絶縁層および導体コイル層を形成する工程
と、 前記導体コイル層を絶縁する層間絶縁層上に前記上部コ
ア層先端部および前記下部コア層に結合される上部コア
層後部を形成する工程と、 を含むことを特徴とする薄膜磁気ヘッドの製造方法。(5) A method for manufacturing a thin film magnetic head manufactured by a thin film manufacturing method, comprising: forming a lower core layer on a substrate made of a nonmagnetic material; forming a magnetic gap layer on the lower core layer; forming a gap depth regulating section on the magnetic gap layer; forming an upper core layer tip on the magnetic gap layer and the gap depth regulating section; forming an interlayer insulating layer and a conductor on the magnetic gap layer; It is characterized by comprising the steps of: forming a coil layer; and forming a rear portion of the upper core layer that is coupled to the tip end of the upper core layer and the lower core layer on an interlayer insulating layer that insulates the conductor coil layer. A method for manufacturing a thin film magnetic head.
製造方法において、 非磁性材でなる基板上に第１下部コア層を形成する工程
と、 前記第１下部コア層上に磁気ギャップ層を形成する工程
と、 前記磁気ギャップ層上にギャップデプス規制部および接
続点リフト部を形成する工程と、 前記磁気ギャップ層、前記ギャップデプス規制部および
前記接続点リフト部上に上部コア層先端部および第２下
部コア層を形成する工程と、前記第２下部コア層上に層
間絶縁層および導体コイル層を形成する工程と、 前記導体コイル層を絶縁する層間絶縁層上に前記上部コ
ア層先端部および前記第２下部コア層に結合される上部
コア層後部を形成する工程と、を含むことを特徴とする
薄膜磁気ヘッドの製造方法。(6) A method for manufacturing a thin film magnetic head manufactured by a thin film manufacturing method, including the steps of: forming a first lower core layer on a substrate made of a nonmagnetic material; and forming a magnetic gap layer on the first lower core layer. forming a gap depth regulating section and a connection point lift section on the magnetic gap layer; and forming an upper core layer tip end and a connection point lift section on the magnetic gap layer, the gap depth regulation section, and the connection point lift section. 2 forming a lower core layer; forming an interlayer insulating layer and a conductor coil layer on the second lower core layer; A method of manufacturing a thin film magnetic head, comprising the step of forming a rear portion of an upper core layer that is coupled to the second lower core layer.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62001189A JPH087848B2 (en) | 1987-01-06 | 1987-01-06 | Thin film magnetic head and method of manufacturing the same |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62001189A JPH087848B2 (en) | 1987-01-06 | 1987-01-06 | Thin film magnetic head and method of manufacturing the same |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63168811A true JPS63168811A (en) | 1988-07-12 |
| JPH087848B2 JPH087848B2 (en) | 1996-01-29 |
Family
ID=11494503
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62001189A Expired - Lifetime JPH087848B2 (en) | 1987-01-06 | 1987-01-06 | Thin film magnetic head and method of manufacturing the same |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH087848B2 (en) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01220210A (en) * | 1988-02-29 | 1989-09-01 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Thin film magnetic head |
| US5245493A (en) * | 1989-03-20 | 1993-09-14 | Hitachi, Ltd. | Magnetic information storage apparatus including magnetic head and method for making magnetic head |
| US6029339A (en) * | 1996-10-28 | 2000-02-29 | International Business Machines Corporation | Method of making write head with recessed stitched yoke on a planar portion of an insulation layer defining zero throat height |
| US7088549B1 (en) | 1999-08-06 | 2006-08-08 | Alps Electric Co., Ltd. | Thin-film magnetic head having a high recording density and frequency |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS58128017A (en) * | 1982-01-27 | 1983-07-30 | Hitachi Ltd | Thin film magnetic head and its manufacture |
| JPS61178710A (en) * | 1985-02-05 | 1986-08-11 | Canon Inc | Thin film magnetic head and manufacture thereof |
-
1987
- 1987-01-06 JP JP62001189A patent/JPH087848B2/en not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS58128017A (en) * | 1982-01-27 | 1983-07-30 | Hitachi Ltd | Thin film magnetic head and its manufacture |
| JPS61178710A (en) * | 1985-02-05 | 1986-08-11 | Canon Inc | Thin film magnetic head and manufacture thereof |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01220210A (en) * | 1988-02-29 | 1989-09-01 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Thin film magnetic head |
| US5245493A (en) * | 1989-03-20 | 1993-09-14 | Hitachi, Ltd. | Magnetic information storage apparatus including magnetic head and method for making magnetic head |
| US6029339A (en) * | 1996-10-28 | 2000-02-29 | International Business Machines Corporation | Method of making write head with recessed stitched yoke on a planar portion of an insulation layer defining zero throat height |
| US7088549B1 (en) | 1999-08-06 | 2006-08-08 | Alps Electric Co., Ltd. | Thin-film magnetic head having a high recording density and frequency |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH087848B2 (en) | 1996-01-29 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US4819112A (en) | Thin film magnetic head | |
| US5123156A (en) | Method for the production of a read-write magnetic head | |
| JP3394266B2 (en) | Method of manufacturing magnetic write / read head | |
| JP2003242610A (en) | Thin-film magnetic head and its manufacturing method | |
| JPS63168811A (en) | Thin film magnetic head and its production | |
| JPH073685B2 (en) | Thin film magnetic head | |
| JPS60157711A (en) | Thin film magnetic head | |
| JP2000173016A (en) | Thin film magnetic head and manufacture of the same and method for forming thin film coil | |
| JPS58108017A (en) | Thin-film magnetic head | |
| JPH04192105A (en) | Thin-film magnetic head and magnetic disk device mounted therewith | |
| JPH0227508A (en) | Production of thin film magnetic head | |
| JP2551749B2 (en) | Method of manufacturing thin film magnetic head | |
| JPH11181564A (en) | Formation of alumina film and magnetic resisting effect type magnetic head | |
| JPS6111914A (en) | Production of thin film magnetic head | |
| JPS62162213A (en) | Thin film magnetic head | |
| JPH03252909A (en) | Magnetic substrate of groove structure for thin-film head for perpendicular magnetic recording and reproducing | |
| JPH0696424A (en) | Production of thin-film magnetic head | |
| JPH06203326A (en) | Thin-film magnetic head and its produciton | |
| JPH03147507A (en) | Perpendicular magnetic thin-film head and production thereof | |
| JPS60191407A (en) | Magnetic head | |
| JPS60113309A (en) | Manufacture of thin film magnetic head | |
| JPH0468683B2 (en) | ||
| JPH01176308A (en) | Thin film magnetic head | |
| JPS6297117A (en) | Production of magnetic head | |
| JPS5898823A (en) | Production for thin film magnetic head |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |