JPS63126227A - 洗浄装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、洗浄装置に適用して特に有効な技術に関する
もので、たとえば、半導体装置の製造に用いられるレチ
クル等のマスクの洗浄に利用して有効な技術に関するも
のである。

〔従来の技術〕

半導体装置の製造に用いられるレチクルについては、た
とえば株式会社工業調査会、昭和６０年１１月２０日発
行「電子材料１９８５年別冊、超ＬＳＩ製造・試験装置
ガイドブック」Ｐ９５〜Ｐ１０２に記載されている。こ
こには、レチクルを用いた縮小投影露光技術について説
明されている。

本発明者は、レチクル等をはじめとする、半導体装置製
造用マスクの欠陥防止について検討した。

以下は、本発明者によって検討された技術であり、その
概要は次の通りである。

すなわち、半導体ウェハに所定の回路パターンを形成す
るためにホトレジスト法による露光工程が行われるが、
この工程では、石英ガラス基板の上にクロム（Ｃｒ）等
の蒸着で所定の配線パターンを形成したレチクルが用い
られる。すなわち、レチクル上の配線パターンを所定光
の照射によりウェハ上のホトレジスト層に投影して、こ
のときのホトレジストの化学的変化を利用してウェハ上
に所定の配線パターンを形成するものである。

ところで、上記投影露光工程において、レチクルの配線
パターン上に塵埃等の異物が付着している場合、この異
物の陰影もホトレジスト層に投影されてしまい、半導体
ウェハ上でのパターン配線の短絡等の原因となる。この
ことは、特に縮小投影露光技術では半導体ウェハ上の全
てのベレット部分が不良となるおそれがあるため、大き
な問題である。

そのため、配線パターンの形成されたレチクル表面に対
して、洗浄液と純水とを交互に噴射しながら、回転構造
のスポンジブラシをレチクルの表面に摺動させて異物を
洗浄・除去する技術が知られている。

〔発明が解決しようとする問題点〕

ところが、上記のようなレチクル洗浄技術では、以下の
理由により十分な洗浄効果を得られないことが本発明者
によって明らかにされた。

すなわち、上記洗浄技術ではスポンジブラシによってレ
チクルの表面から剥離された異物がスポンジブラシの表
面あるいは内部に付着し、これが後続処理のレチクルの
表面に再付着してレチクル欠陥の原因となることが本発
明者によって明らかにされたのである。

本発明は、上記問題点に着目してなされたものであり、
その目的は信頼性の高いマスク洗浄が可能な技術を提供
することにある。

本発明の前記ならびにその他の目的と新規な特徴は、本
明細書の記述および添付図面から明らかになるであろう
。

〔問題点を解決するための手段〕

本願において開示される発明のうち代表的なものの概要
を簡単に説明すれば、次の通りである。

すなわち、それ自身回転可能なロールブラシを回動可能
なベルトで支持して、このベルトの回動によってロール
ブラシを移動して被洗浄物との当接位置で洗浄を行うと
ともに、被洗浄物との離反位置ではロールブラシのクリ
ーニングを行うものである。

〔作用〕

上記した手段によれば、洗浄を行った後のロールブラシ
を、ベルトを回動させることにより離反位置に移動させ
、ロールブラシ自体のクリーニングを行うことができる
ため、後続処理の被洗浄物にロールブラシからの異物が
再付着されることを防止でき、ロールブラシの汚染が原
因となる洗浄不良を防止できる。

〔実施例〕

第１図は本発明の一実施例である洗浄装置を示す説明図
、第２図はロールブラシを示す一部断面図である。

本実施例の洗浄装置１は、半導体装置製造に使用される
縮小投影露光用のレチクル２を被洗浄物とするものであ
る。ここで、該レチクル２は、たとえば−面にクロム（
Ｃｒ）等の蒸着膜が形成された石英ガラスからなるもの
である。

洗浄装置ｌは、第１図にふいて上下２系統のロールブラ
シ群３ａ、３ｂを有しており、この２系統のロールブラ
シ群３ａ、３ｂの間をレチクル２が水平方向に通過する
間に、該レチクル２の表裏面の洗浄が行われるものであ
る。

両ロールブラシ群３ａ、３ｂは、それぞれ一定の間隔で
設けられた一対のベルト駆動ギヤ４．４に架けられてお
り、このベルト駆動ギヤ４，４の一方は、たとえば図示
しないベルト駆動モータと連動されて回転される構造と
なっている。

またベルト駆動ギヤ４．４の間には廃液受は部５が設け
られており、上方にあるロールブラシ３から流出された
洗浄液が下方に位置されるロールブラシ３上に滴下する
のを防止されるようになっている。

ロールブラシ３は、ベルト駆動ギヤ４．４の間に架けら
れたベルト６によって等間隔でかつ両端を支持された状
態で取付けられている。

ここで、このロールブラシ３について説明すると、該ロ
ールブラシ３はそのブラシ本体１１が多孔質状のスポン
ジによって形成されており、このブラシ本体１１の内部
には、中心軸に沿って多数の貫通口１２の開口された流
通管１３（流通路）が内設されている。一方、ロールブ
ラシ３の一端にはギヤ８が設けられており、このギヤ８
は所定位置、たとえばレチクル２の洗浄位置であるＡ１
、Ａ２　の位置では、ブラシ駆動モータ７によって回転
される駆動ギヤ１０に歯合されて回転される構造となっ
ている。この回転方向は、本実施例ではレチクル２の進
行方向とは逆方向の回転となっている。すなわち、ロー
ルブラシ３がレチクルの進行方向とは逆回転されること
により、ロールブラシ３０表面がレチクル２の表裏面と
効率的に摺接され、レチクル２の表面の異物が除去され
るようになっている。

一方、上記ギヤ８の中心には、洗浄液等の供給口１５が
開口されており、この供給口１５は上記ブラシ本体１１
内の流通管１３と連通されている。

したがって、この供給口１５に対して外方より第２図に
示すような、軸方向に移動可能な供給ノズル１６が連結
されることにより、ロールブラシ３の流通管１３内に洗
浄液または純水が供給される構造となっている。

次に、本実施例の作用について説明する。

被洗浄物であるレチクル２が図示しない治具により押さ
れて両ロールブラシ群３ａ、３ｂの間、すなわち洗浄処
理部である位置ＡＩ、Ａ２　に位置されると、ロールブ
ラシ３の供給口１５と連結状態となっている供給ノズル
１６より流通管１３内に対して洗浄液が供給される。こ
の洗浄液は、流通管１３の貫通口１２よりブラシ本体１
１内を経て外部に流出され、ロールブラシ３の外周面と
摺接状態となっているレチクル２の表面あるいは裏面に
供給される。

さらに、このとき第２図に示すようにロールブラシ３は
ブラシ駆動モータ７によりレチクル２の進行方向とは逆
方向に回転されているため、ブラシ本体１１０表面は、
効率的にレチクル２と摺接される。このような洗浄液の
供給とロールブラシ３の摺接動作を通じてレチクル２の
表裏面に付着されていた異物が除去される。

この状態で、レチクル２が第１図において２点鎖線で示
す方向に送られてロールブラシ群３ａ。

３ｂの間を通過すると、１サイクルの洗浄工程が完了す
る。こののち、レチクル２は純水洗浄等が行われる。

上記のような洗浄工程を複数回繰り返すうちに、レチク
ル２の表面から剥離された異物が、ロールブラシ３側の
ブラシ本体１１の表面さらには内部に入り込み、ロール
ブラシ３が汚染されてくる場合がある。このようなロー
ルブラシ３の汚染が放置されると、後続処理のレチクル
に異物が再付着されてしまうことになる。

本実施例では、所定回数のレチクル２の洗浄が完了する
と、ロールブラシ３の供給口１５に連結された供給ノズ
ル１６が解除され、さらにベルトベルト駆動ギヤ４，４
の回転によりベルト６が回動されて、たとえばロールブ
ラシ３を第１図の１点鎖線で示す方向に１ピッチ分だけ
移動させる。

このベルト６の移動にともない、ロールブラシ３が第１
図に示す１点鎖線の矢印の方向に移動され、ロールブラ
シ３がＢｌ、Ｂ２　の位置に来た時には、ロールブラシ
３のギヤ８はブラシ駆動モータ７のギヤ８から解除され
て自由回転状態となる。

さらにベルト駆動ギヤ４．４の回転によりベルト６が移
動されて、ロールブラシ３がＣ，、Ｃ２の位置に来ると
、ロールブラシ３の供給口１５に、上記供給ノズル１６
と同様の構造の純水供給ノズル（図示せず）が連結され
て流通管１３内に所定圧の純水（クリーニング流体）が
供給される。

流通管１３内に供給された純水は、その流圧により流通
管１３の貫通口１２を経てブラシ本体１１の内部を通過
し、ブラシ本体１１の表面に達した後、下方の廃液受は
部５に滴下される。

このように純水がブラシ本体１１内を流通する過程を通
じて、ブラシ本体１１の内部あるいはブラシ表面に付着
されていた異物が純水の流圧によって外部に排出され、
ロールブラシ３のクリーニングが行われる。

このようにして、Ｃ１，Ｃ２の位置でクリーニングが行
われたロールブラシ３は、ベルト６０回動により、ＤＩ
、Ｄ２　を経て再度Ａ１．Ａ２　の位置に移動し、後続
のレチクル２の洗浄が行われる。

このように、本実施例によれば以下の効果を得ることが
できる。

（１）、ロールブラシ３をベルト６で支持するとともに
、このベルト６をベルト駆動ギヤ４．４によって回動さ
せ、レチクル２との当接位置では洗浄液をレチクル２に
供給しながらロールブラシ３を回転摺動させ、またレチ
クル２との離反位置では、ロールブラシ３自体をクリー
ニングすること（こより、ロールブラシ３を常に清浄な
状態にしてレチクル２の洗浄が行えるため、ロールブラ
シ３の汚染が原因となる洗浄不良を防止できる。

（２）、上記（１）により、信頼性の高いレチクル２の
洗浄が可能となり、半導体ウェハの歩留りを向上させる
ことができる。

（３）、ロールブラシ３の内部に流通管１３を設けるこ
とにより、洗浄液の流出機構を別途設ける必要がな（、
装置の大形化を防止できる。

以上本発明者によってなされた発明を実施例に基づき具
体的に説明したが、本発明は前記実施例に限定されるも
のではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能
であることはいうまでもない。

たとえば、ロールブラシ３のクリーニングについては、
純水の流圧を利用する場合について説明したが、純水以
外の流体を用いてもよい。

また供給ノズル１６からは洗浄液のみの供給を行う場合
について説明したが、純水の供給を行うものであっても
よい。

さらに、実施例では所定回数のレチクル２の洗浄毎にベ
ルト６を回動させてロールブラシ３を移動させる場合に
ついて説明したが、これに限らずベルト６を洗浄工程中
、常に一定の速度で移動させる構造のものであってもよ
い。

以上の説明では主として本発明者によってなされた発明
をその利用分野である、縮小投影露光用のレチクルの洗
浄に用いられる洗浄装置に適用した場合について説明し
たが、これに限定されるものではなく、たとえば１：１
の等倍露光用に用いられるマスク、さらにはウェハを洗
浄する洗浄装置等にも適用できる。

〔発明の効果〕

本願において開示される発明のうち代表的なものによっ
て得られる効果を簡単に説明すれば、下記の通りである
。

すなわち、駆動機構により回動可能なベルトと、このベ
ルトによって被洗浄物に対して平行方向に支持される複
数本のロールブラシとからなり、このロールブラシは少
なくとも被洗浄物との当接位置でそれ自体回転されて被
洗浄物の洗浄が行われるとともに、被洗浄物との離反位
置ではロールブラシ自体のクリーニングが行われる洗浄
装置構造とすることにより、被洗浄物との当接位置では
洗浄を行うとともに、ベルトの回動によりロールブラシ
が離反位置に来た時にはロールブラシのクリーニングを
行うことができるため、ロールブラシからの異物が後続
処理の被洗浄物に再付着することがなく、ロールブラシ
の汚染が原因となる洗浄不良を防止でき、信頼性の高い
洗浄処理を実現できる。

【図面の簡単な説明】

第１図は、本発明の一実施例である洗浄装置を示す説明
図、 第２図は、上記実施例のロールブラシを示す一部断面図
である。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、駆動機構により回動可能なベルトと、このベルトに
   よって被洗浄物に対して平行方向に支持される複数本の
   ロールブラシとからなり、このロールブラシは少なくと
   も被洗浄物との当接位置でそれ自体回転されて被洗浄物
   の洗浄が行われるとともに、被洗浄物との離反位置では
   ロールブラシ自体のクリーニングが行われることを特徴
   とする洗浄装置。 ２、ロールブラシに流体が供給される流通路が内設され
   ており、この流通路を通じて被洗浄物への洗浄液の供給
   またはロールブラシのクリーニング流体の供給が行われ
   ることを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の洗浄装
   置。 ３、被洗浄物が半導体装置製造における縮小投影露光用
   レチクルであることを特徴とする特許請求の範囲第１項
   記載の洗浄装置。