JPS629219B2 - - Google Patents

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JPS629219B2
JPS629219B2 JP56141676A JP14167681A JPS629219B2 JP S629219 B2 JPS629219 B2 JP S629219B2 JP 56141676 A JP56141676 A JP 56141676A JP 14167681 A JP14167681 A JP 14167681A JP S629219 B2 JPS629219 B2 JP S629219B2
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JP
Japan
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surface plate
moving
plate
movable
stage
Prior art date
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Expired
Application number
JP56141676A
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English (en)
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JPS5843517A (ja
Inventor
Munenori Kanai
Hiroo Kinoshita
Tadao Saito
Hisao Izawa
Nobuya Shinoyama
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nikon Corp
Nippon Telegraph and Telephone Corp
Original Assignee
Nippon Telegraph and Telephone Corp
Nippon Kogaku KK
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
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Publication date
Application filed by Nippon Telegraph and Telephone Corp, Nippon Kogaku KK filed Critical Nippon Telegraph and Telephone Corp
Priority to JP56141676A priority Critical patent/JPS5843517A/ja
Publication of JPS5843517A publication Critical patent/JPS5843517A/ja
Publication of JPS629219B2 publication Critical patent/JPS629219B2/ja
Granted legal-status Critical Current

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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/04Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
    • H01L21/18Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer the devices having semiconductor bodies comprising elements of Group IV of the Periodic Table or AIIIBV compounds with or without impurities, e.g. doping materials
    • H01L21/30Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26

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  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Linear Motors (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、浮上形アライメントステージの移動
台を固定するための装置に関する。
近年、半導体装置の製造装置においてマスクの
パターンをウエハに露光転写するための露光用ア
ライメントステージにおいては、ウエハよりも面
積の大きなマスクによつて多数の同一のパターン
を一括して露光転写する方法が採用されている。
しかしながら、転写すべきパターンの微細化等に
より製造工程中にウエハが変形され、これによつ
て転写パターンに局所的な位置ずれが生ずること
が問題となつてきている。
これに対処すべく、所謂ステツプアンドレピー
ト方式による露光転写が研究されているが、かゝ
る方式のアライメントステージにおいては、ウエ
ハを移動させるためのXステージ及びYステージ
は高速でしかも高精度に移動される必要がある。
この要求を充足するためには、ステージとその案
内部との間の摩擦抵抗及びステージの駆動部その
ものの摩擦抵抗を極力小さく抑えるようにすれば
良い。
ステージとその案内部との間の摩擦抵抗を小さ
くするためには、要は両者が直接接触しないよう
にすれば良いのであり、そのために静圧気体や磁
気の作用によつてステージを浮上させることが行
なわれている。一方、駆動部の摩擦抵抗を小さく
すべく機械的な接触をもたないリニアモータが使
用されている(例えば特開昭56―17341(以下
「先行例」参照)。
このように、案内部のみならず駆動部の摩擦抵
抗をも小さくすることによつてステージは高速度
で移動されかつ高精度で位置決めされることゝな
るが、位置決め後、ステージをその位置に固定し
ておくことに関してなお問題が残る。つまり、案
内部及び駆動部には殆んど摩擦がないため、ステ
ージは外部から加わる振動、ステージ自体の傾き
による分力又は場合によつてはステージ上の微動
調整機構の駆動に伴なう反力等の外力により、例
えこれらの力が微小であつても、容易に移動して
しまい、せつかくの位置決めが無駄になるのであ
る。
また、駆動部にリニヤモータを使用した場合に
は、フイードバツクをかけて移動台の停止位置を
制御しているが、制御系自体の安定性やリニヤモ
ータの発熱に対して十分な注意を払わないと、位
置決め後の固定に関して十分な安定性が得られな
い。
本発明はかゝる背景に基づき、上記不具合を解
消すること、すなわち移動台を高速かつ高精度に
移動及び位置決めすることができ、その後、複雑
な制御を必要とすることなく移動台を安定性良く
固定できる移動台の固定装置を提供することを目
的とする。
上記目的を達成するために、本発明において
は、定盤と、この定盤の上面に浮上する移動台
と、この移動台を定盤上の任意の位置に移動せし
める移動手段と、移動台を定盤上の任意の位置に
固定する固定手段とを備える浮上形アライメント
ステージに於いて、前記固定手段は移動台に設け
られる吸着部材を備え、この吸着部材は、板厚方
向に対して高い弾性を有し、板面方向に対して高
い剛性を有し、その板厚方向を上下方向に一致す
る様配置した板ばねにより上下動可能に移動台に
懸吊保持する如くなし、移動台を固定する場合
は、吸着部材のみが板ばねの弾性力に抗して下方
へ移動して定盤上面に吸着して、移動台が定盤上
面に浮上した状態のままその位置を定盤に固定可
能としたのである。
以下、本発明の実施例を示す図面に基づき更に
詳述する。第1図において定盤1両側部の上面に
はそれぞれ案内ブロツク2が固定され、定盤1の
上面1a及び案内ブロツク2の側面2aがそれぞ
れ案内面となつている。この定盤1及び案内ブロ
ツク2によつて画定される空所にはウエハが載置
される移動台3が移動可能(第1図の紙面と直角
な方向に)に収容されている。
すなわち、移動台3両側部の下面側にはそれぞ
れ静圧気体軸受パツド4が固定され、その下面4
a及び側面4bは上記案内面1a及び2aに対向
している。移動台3からパツド4にかけて給気孔
5が形成され、気体吹出孔5a,5bがそれぞれ
パツドの下面4a及び側面4bにおいて開口して
いる。給気孔5の開口には給気管6が接続されて
いる。
移動台3とパツド4とによつて形成された空所
内には断面コ字形の固定装置ベース部材7が移動
台3に固定して配設されており、排気管8が両者
の中心部を貫通して延びている。排気管8の下端
には吸気孔10aを備えた吸着部材10が取り付
けられ、その下面10bが定盤1の上面1aに対
向している。ベース部材7と吸着部材10との間
に掛け渡された板ばね11の内外両端は、それぞ
れ押え部材12又は13によつてベース部材7又
は吸着部材10に取り付けられている。
なお、この移動台3を移動させるための駆動部
としては、前記リニヤモータが好適に使用される
が、これは公知のものであるため、ここでは詳述
しない。
また、移動台3の上方にはマスクを保持するマ
スクホルダが配設され、その中にはX方向、Y方
向、Z方向及びθ方向の微動機構が組み込まれて
いるが、これも公知のものであるので、説明を省
略する。
次に本実施例の作動について説明する。
移動台3の移動にあたり、給気管6から圧縮空
気を供給すると、この空気は吹出孔5a,5bか
ら定盤1及び案内ブロツク2とパツド4との間の
間隙に供給され、両者間に静圧気体軸受が形成さ
れる。その結果、パツド4すなわち移動台3は定
盤1から僅かに浮上し、図示しない駆動部の作用
により第1図の紙面と直角な方向に移動される。
この時板ばね11の作用で吸着部材10も移動台
3と一体的に浮上するので、吸着部材10が移動
台3の移動を妨げることはない。
移動台3が所定位置まで移動した後、排気管8
から真空を給気すると、板ばね11の弾性力に抗
して吸着部材10が下降され、その下面10bが
定盤1の上面1aに吸着される。なお、板ばね1
1はこのようにその板厚方向には弾性変形可能
(剛性が小さい)であるが、板厚と直角な方向に
は剛性が大きいので、この板ばね11によつて吸
着部材10と結合された移動台3もこの時移動す
ることはない。移動台3は一旦位置決めされた後
は、少々外力が加わつた程度では移動することは
なく、その位置に固定されるのである。この時移
動台3は定盤1から浮上したまゝである。
しかる後図示しないマスク側の微動調整を行な
い、マスクとウエハとが正確に位置合せされた状
態で露光転写を行なう。
次に移動台3をステツプ移動させるためには、
排気管8への真空給気を停止すれば良い。これに
より吸着力がなくなるので、吸着部材10は板ば
ね11の弾性力によつて定盤1から離れ、移動台
3は移動可能となるのである。この時、吸着部材
10の浮上量は、板ばね11に接触された規制部
材14によつて規制される。
次に、本発明の別の実施例について第2図及び
第3図をもとに説明するが、簡略化のために上記
例と対応する部分には同一の番号を付して説明を
省略し、異なる部分についてのみ詳述する。
第2図に示す実施例においては、前記板ばね1
1の他にも、吸着部材10とベース部材7の中心
部との間に引張りコイルばね16が掛け渡されて
いる点に特徴がある。板ばね11は主に吸着部材
10が横方向に移動することを防止するために設
けられており、吸着部材10を定盤1から分離さ
せる力をばね16の弾性力によつて得るのであ
る。このようにすれば、吸着部材10の横方向の
拘束力と吸着力の調整とが別々に行なえるので、
組立調整作業がより容易なものとなる。
また第3図に示す実施例においては鉄芯17に
コイル18を巻きつけて吸着部材10を構成し、
吸着部材10すなわち移動台3を移動させる場合
にはコイルに流す電流を遮断するが、固定する場
合には電流を流すようにする。そして定盤1も磁
性体によつてつくる。このようにすると、コイル
18へ電流を流した時には、磁気作用によつて吸
着部材10が定盤1に吸着され、移動台3を位置
決め固定することゝなる。
更に第4図に示す実施例においては、導電体1
9に絶縁体20を組み合わせて吸着部材10を構
成し、定盤1を導電体によつてつくる。直流電源
23は吸着部材10と定盤1の間に電位差を与え
るために使用し、スイツチ21,22は電気回路
の開閉スイツチである。
スイツチ21を開く一方スイツチ22を閉じて
吸着部材10と定盤1の間に電位差を与えると、
静電吸着力により吸着部材10が定盤1に吸着固
定される。吸着固定を解除するには、スイツチ2
2は開くが、スイツチ21を閉じて吸着部材10
と定盤の間の電位差をなくせば良い。なお、吸着
固定部材10と定盤1の間はベース部材7を絶縁
体で構成するなどの方法で電気的に絶縁しておく
ことが必要である。
なお、本発明は以上述べてきた各実施例に限定
して解釈されるべきではなく、その細部について
は必要に応じて種々の変更、改良が可能である。
例えば、上記各例においては吸着部材10の下
面10bは平面とされ、定盤1の下面1aもこれ
に対応して平面とされているが、何れか一方に突
部を他方に凹所を形成しても良い。このようにす
れば、吸着時における吸着部材10の横ずれを防
止する上で有効である。
また、移動台3が比較的長い形状の場合等に
は、吸着部材10を唯一個設けたのみでは移動台
にヨーイング(長手方向における揺動)が生ずる
ことが考えられるので、このような場合には吸着
部材を複数個設けることが望ましい。移動台を浮
上させるためには静圧気体軸受の代わりに磁気作
用を利用することもできる。
また、移動台3は上記各例のように一方向にの
み移動されるものではなく、二方向(X方向及び
Y方向)に移動されるようになつているものでも
良い(前記先行例参照)。
駆動部として送りねじ等の接触駆動を使用した
場合には、前述のリニアモーターの如き非接触駆
動を使用した場合に比べ、固定に於ける安全性と
いう面では優れているが、バツクラツシユやねじ
の加工精度、摩耗等によるがた等の不安定要素を
完全に取り除くことはできない。しかし本発明に
よれば前記不安定要素を取り除くことができる。
従つて本発明は駆動部として接触駆動を使用した
浮上形アライメントステージに適用しても十分効
果を奏することができる。
板ばね11については例えば短冊形の板ばね2
枚を一直線状に配置したり、4枚を十文字に配置
したり、さらには、中空円板状のスナツプ動作を
するもの等種々の形状、構造が考えられる。
さらに本発明は露光装置のアライメントステー
ジのみならず、ウエハのパターン線幅測定機や、
ウエハ検査用のプロバやレチクル、マスクの欠陥
検査装置等にも広く応用することができる。
以上述べたきたように、本発明によれば、移動
台を高速かつ高精度で移動及び位置決めすること
ができ、位置決め後は、その位置に固定できる。
しかもこのことが複雑な制御系を必要とすること
なく達成されるという秀れた効果が奏される。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明が露光装置に応用された場合の
実施例を示す要部断面図、第2図、第3図及び第
4図はそれぞれ本発明の別々の実施例を示す要部
断面図である。 主要部分の符号の説明、1……定盤、3……移
動台、7……ベース部材、10……吸着部材、1
1……板ばね。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 定盤と、該定盤の上面に浮上する移動台と、
    該移動台を該定盤上の任意の位置に移動せしめる
    移動手段と、該移動台を該定盤上の任意の位置に
    固定する固定手段とを備える浮上形アライメント
    ステージに於いて、 前記固定手段は移動台に設けられる吸着部材を
    備え、 該吸着部材は、板厚方向に対して高い弾性を有
    し、板面方向に対して高い剛性を有し、その板厚
    方向を上下方向に一致する様配置した板ばねによ
    り上下動可能に移動台に懸吊保持する如くなし、 該移動台を固定する場合は、該吸着部材のみが
    前記板ばねの弾性力に抗して下方へ移動して前記
    定盤上面に吸着して、前記移動台が定盤上面に浮
    上した状態のままその位置を前記定盤に固定可能
    とする事を特徴とする浮上形アライメントステー
    ジの移動台の固定装置。
JP56141676A 1981-09-10 1981-09-10 浮上形アライメントステ−ジの移動台の固定装置 Granted JPS5843517A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP56141676A JPS5843517A (ja) 1981-09-10 1981-09-10 浮上形アライメントステ−ジの移動台の固定装置

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JP56141676A JPS5843517A (ja) 1981-09-10 1981-09-10 浮上形アライメントステ−ジの移動台の固定装置

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JPS5843517A JPS5843517A (ja) 1983-03-14
JPS629219B2 true JPS629219B2 (ja) 1987-02-27

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ID=15297603

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JP56141676A Granted JPS5843517A (ja) 1981-09-10 1981-09-10 浮上形アライメントステ−ジの移動台の固定装置

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Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN203343741U (zh) * 2013-05-03 2013-12-18 高明铁企业股份有限公司 具有流体增压紧迫定位功能的对位平台

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5121475A (ja) * 1974-08-15 1976-02-20 Mitsubishi Electric Corp Handotaiuehatoriatsukaisochi
JPS5449750A (en) * 1977-09-28 1979-04-19 Hitachi Ltd Crane

Patent Citations (2)

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