JPS6287592A - 新規なセフアロスポリン類およびその塩 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、セファロスポリンｆｆ１−さらに洋−１ｉＪ
にはつぎの一般式 で表わされるセファロスポリン類（シン異性体）および
その塩に関するものである。

〔従来の技術〕

従来、セファロスポリン類の７位にオキシイミノチアゾ
ールアセチルアミノ基を有する化合物は多故知られてお
り、さらに広範囲な抗菌スペクトルを有する優れた化合
物を開発すべく研究が行われているが、３位に＃換基を
有する１、３−チアゾール−４−イル基を有する該化合
物については知られていない。

〔発明が解決しようとする問題点〕

本発明の目的は、広範囲な抗菌スペクトル、すなわち、
グラム耐性画分よびグラム陰性菌にズｔ　ｌ〜で優れた
抗菌活性を示し、４！＋に従来のペニシリンおよびセフ
ァロスポリンによる耐性弘にも漬れた抗菌活性を発揮す
るとともに代畢性で、ムシよび動物に対する医薬として
有用な新規化合物を提供することにある。さらには、そ
の中ｊ１」１体として有用な化合物を提供することにあ
る。

〔問題点を解決するだめの手段］ 本発明者らは、上記問題点を解決すべく鋏、戒研究した
結果、セフェム項の３位に Ｃ式中、Ｒは前記の意味を有する。）で表わされる基を
、また７位に Ｃ式中　Ｒ３およびＲ４は前記の意味を有する。）で表
わされる基を有するところに構造上の特徴がある一般式
〔Ｉ〕で表わされる化合物およびその塩が本発明の目的
に合致することを見出し、本発明を完成するに至った。

なお１本発明において と記した場合、シン異性体（Ｚ）を示す。

以下１本発明の詳細な説明する。

なお１本明細書において特にことわらない限り。

低級アルキルとは、直鎖または分枝鎖状Ｃ１〜４アルキ
ル、たとえは、メチル、エチル、ｎ−グロビル、イング
ロビル、ｎ−ブチル、インブチル、ｓｅｅ　、−ブチル
、ｔｅｒｔ、−ブチル；低級アルケニルとは、　Ｃ２〜
４アルケニル、たとえば、ビニル、アリル、インプロペ
ニル、ブテニルなど；低級アルキニルとは、　Ｃ２〜４
アルキニル、たとえば、エチニル＋２−プロピニル、ブ
チニルなト；シクロアルキルとは、Ｃ３−７７クロアル
キル、たとえば、シクロプロピル、シクロブチル、シク
ロペンチル。

シクロヘキシル、シクロヘプチルなトー低級アルコキシ
ドは一−０−低級アルキル；低機アルコキシカルボニル
とは＋　−ＣＯＯ−低級アルキル；低級アルキルチオと
は、−８−低級アルキル：アリールとは、たとえば、フ
ェニル、トリル、ナフチル。

インダニルなど；アルアルキルとは、たとえば。

ベンジル、フェネチル、４−メチルベンジル、ジフェニ
ルメチル、トリチル−ナフチルメチルなど；アシルとは
、　Ｃ１〜１２アシル、たとえば、アセチル。

プロピオニル、ブチリル、ピバロイル、ヘンソイル、３
，４−ジアセトキシベンゾイル、ナフトイル、シクロペ
ンタンカルボニル、シクロヘキサンカルボニル、フロイ
ル、テノイルなど；複素坩弐基とは、酸素、窒素および
硫黄原子からｉ４択された少なくとも１つ以上の？ｌ素
原子を含む複素環式基、たトエば、フリル、チェニル、
ピロリル、ピラゾリル、イミダゾリル、チアゾリル、イ
ソチアゾリル、オキサシリル、イソオキサシリル、オキ
サジアゾリル、トリアゾリル、テトラゾリル、チアジア
ゾリル、イミダゾリジニル、イミダゾリニル。

ピロリジニル、ピラゾリジニル、ピラゾリニル。

ピロリニル、インドリル、ピリジル、ピリミジニル、ピ
リダジニル、ピリドニル、ピラジニル、ピラニル、ピペ
ラジニル、ピペリジル、ヘキサメチレンイミノ、モルホ
リニル、ベンゾチェニル、ベンゾフリル、ベンゾチアゾ
リル、イソインドリル。

インダゾリル、キノリル、インキノリルなど；およびハ
ロゲン原子とは、フッ素、塩素、臭素またはヨウ素原子
などをそれぞれ意味する。

そして１種々の用語中、たとえば、低級アルキ特にこと
わらない限り上述した意味を示す。

以下、一般式［Ｉ］で表わされる化合物を詳細に説明す
る。

Ｒ１は保護されていてもよいカルボキシル基またはカル
ボキシラド基を示すが、そのカルボキシル基の保護基と
しては、当該分野で知られている保護基が挙げられ、具
体的には特開昭５０−１３７８７号などに記載されたカ
ルボキシル基の保護基が挙げられる。まだ、これらの保
畿基のうち、好ましいカルボキシル保護基としては、　
　ｔｅｒｔ。−ブチル、フェニル、４−ニトロフェニル
、インダニル、ベンジル、ジフェニルメチル、トリチル
、４−ニトロベンジル、４−メトキシベンジル、ベンゾ
イルメチル、アセチルメチル、４−ニトロベンゾイルメ
チル、２，２．２−トリクロロエチル、アセトギシメチ
ル゛、グロビオニルオキシメチル、ピバロイルオキシメ
チル、１−アセチルエチル、１−ピパロイルオキシエチ
ル、メトキシメチル、メトキシカルボニルオキシメチル ルオキシメチル、フタリジル、２−フタリジリデンエチ
ル．２−（５−フルオロフタリシリテン）エチル、（５
−メチル−２−オキソ−１．３−ジオキン−ルー４−イ
ル）メチル、メチルチオメチル。

フェニルチオメチル、ジメチルアミノメチルなどの基が
挙げられる。

Ｒ２は異項原子が窒素原子である４級化されていてもよ
い複素環式基で置換されている低級アルキルもしくはア
ミン基，保繰されていてもよいカルボキシル基もしくは
カルバモイル基で置換されている低板アルキル基で４級
化されているピリジル基または４級化烙れでいてもよい
キノリル基を示す。ここで異項原子が窒素原子である複
素環式基としては，たとえば、ピロリル、ピラゾリル、
イミダゾリル、トリアゾリル、テトラゾリル、ピリジル
、キノリルなどが挙げられ、さらに４級化されている複
素環式基としては，該複素環式基の窒素原子が低級アル
キルなどで４級化されている場合才たは該複素環式基が
置換する低級アルキルと環窒素原子を介して結合して４
級化されている場合が挙げられる。保誦されていてもよ
いカルボキシル基の保護基としては，前述したＲ１にお
けるカルボキシル保獲硫が挙げられる。さらに４級化さ
れているキノリル基の例としては，たとえば、保砕され
ていてもよいカルボキシル、カルバモイルまたはアリー
ル基でｆ換されていてもよい低級アルキル基で４級化さ
れているキノリル基が挙げられる。

Ｒ３は置換基を有していてもよい低級アルキル。

低９１アルケニル、低級アルキニル、アリール、シクロ
アルキル、アルアルキル、アシル４たは攬素壌ー低級ア
ルキル壱を示すが，これらｉ８縞はノ・ロダン原子。１
呆．４Ｊさｆｌていてもよいカルボキシル。

アミノもしくはヒドロキシル廣．オキンンＳ，シアノ基
，カルバモイル塙、カルバモイルオキシ♂Ｉ（、低級ア
ルキル基，低級アルキルチオ基、アルアルキル基，ハロ
ゲノ低級アルキルｋまたはシクロアルキル基などから選
ばれる１つ以ヒの置換５基でＲ換されていてもよい。

また、上記Ｒのｆ々置換基おける保祷されていてもよい
カルボキシル、アミンおよびヒドロキシル基の保護基と
しては，当該分野で知られている保護基が挙げられ，具
体的には，プロテクテイブーグループス・イン・オーガ
ニック・７ンセシス［　ｐｒｏｔｅｃｔｉｖｅ　Ｇｒｏ
ｕｐｓ　ｉｎ　Ｏｒｇａｎｉｃ　Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ　
］〔セオドラｅダブり二ー昏グリーン［　Ｔｈｅｏｄｏ
ｒａＷ．　Ｇｒｅｅｎ　］　ニジｇ　７　ａ　ライ’）
　−　ｍ　−７　７　）’　ｍ　サ７　ス。

インコーホレイティラド［　Ｊｏｈｎ　Ｗｉｌｅｙ　＆
　Ｓｏｎｓ。

Ｉｎｃ．、］　）および］特開昭５０ー１３７８７など
に記載された各保護基が挙げられる。

また、これらの保衾基のうち、ガー土（〜いカルボキシ
ル１呆喪７Ｎとしては、１１コ述したＲ１のカルボキシ
ル保り基が挙げられ、好ましいアミン保−基としては、
　２，２．２−　トリクロロエトキ７カルボニル。

２．２．２−１−リフブロモエトキシ力ルボニル、ペン
ジルオキン力ルボニル、４−ニトロベンジルオキシカル
ボニル、（モ／−、ジー　、　ト’）−）りｏロアセチ
ル、トリフルオロアセチル、フェニルアセチル、ホルミ
ル、ｔｅｒｔ、−アミルオキシカルボニル、メトキノカ
ルボニル、２−シアノエトキシカルボニル、　　ｔｅｒ
ｔ、−ブトキシカルボニル、アセチルメチルオキシカル
ボニル、ｉ−メトキシベンジルオキシカルボニル、フェ
ノキシカルボニル、３．．１−ジメトキシベンジルオキ
シカルボニル、ジフェニルメトキシカルボニル、ベンゾ
イルなどの脱離しゃすいアシル基；トリチル、ジフェニ
ルメチル、ベンジル、３，５−ジーｔｅｒｔ、−ブチル
ー４−ヒドロキ／ベンジル、４−ニトロベンジル、４−
メトキシベンジル−Ｚ、４−、＞メトキシベンジル、ベ
ンジルオキシメチル、２−ニトロフェニルチオ、２．４
−ジニトロクエニルチオ、ピバロイルオキンメチル。

ベニ／ジリデンなどの脱離しや櫨゛い）逅；ジーもしく
はトリーアルキルシリル基などが挙げられ、好ましいヒ
ドロキシル埜の保護基と（〜ては、ベンジルオキシカル
ボニル−４−ニトロベンジルオキシカルボニル、４−・
メトキシベンジルオキシカルボニル、３．４−ジメトキ
シベンジルオキシカルボニル。

ｔｅｒｔ、−ブトキシカルボニル、ジフェニルメトキシ
カルボニル−２＋２＋２　１”　’Ｊクロロエトキ・ン
カルボニル、トリフルオロアセチル、ジクロロアセチル
。

モノクロロアセチルなどの脱離しやすいアシル屑；ベン
ゼンスルホニル基；トクル基；ベンジル？に；トリチル
基；メトキシメチル３Ｎ、２−ニトロフェニルチオＭ　
：　２＋４−ジニトロフェニルチオ胡：テトラヒドロフ
ラン−２−イル基；テトラヒドロピラン−２−イル基；
トリメチルシリル基；　ｔｅｒｔ、　−ブチルジメチル
シリル隻などが挙げられろ。

Ｒ４は保獲されていてもよいアミノ基を示すが、その保
護基としては前述σ月（３のアミノ保護基が挙げられる
。

た、一般式［Ｉ］の化合物の塩としては、塩基性塾また
は酸性基における塩ン挙げることができろ。塩基性基に
おける塩としては、たとえば、塩ｒ−ｌ−具化水素酸、
硫酸などの鉱酸との塩；ギ酸。

トリクロロ酢酸、トリフルオロ酢酸などの有機カルボン
ベトの塩；メタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、ト
ルエン−４−スルホン酸、メシチレンスルホン酸、ナフ
タレン−２−スルホン酸、ナフタレン−Ｒ５−ジスルホ
ン酸などのスルホン酸類との塩を、また酸性基（ｒこお
ける塩としては、たとえば、ナトリウム、カリウムなど
のアルカリ金属との塩；トリメチルアミン、トリエチル
アミン。

トリブチルアミン、ピリジン＋　Ｎ、Ｎ−ジメチルアニ
リン、Ｎ−メチルピペリジン、Ｎ−メチルモルホリンな
どの；＋窒素有体黛Ｙ摺尽との１ムな挙げることができ
ろ。

さら；τは、分子内してピ１１ジニオ、キノリニオ基な
どのオニウム塾を有する場合、濱オニウム基は。

通′な、；１１１述の（１”Ｖｃおンするカルボキソラ
トへ（と分子内１夕；し成していてもよく、ハロゲンア
ニオン。

低級アルカ／スルホニルオキシアニオンまたは・戊級ア
ルキル基、ハロゲン原子などで・Ｉｔ　＋４’、％さｎ
ていてもよいアレーンスルホニルオキシアニオンなどと
分子内塩を形成していても工い。

本発明は、一般式［Ｉ］の化合物またはその塩の水利物
並びに種々の結晶形をも損金するものである。

なお、一般式［Ｉ］の本発明化合物にひいて、好ましい
ものは、■（がカルボキシル基またはカルバモイル基で
置換されている低級アルキル基で４坂化されたピリジル
基で、かつＲがアミノ基であ巧）ものが挙げられる。

つぎに１本発明化合物の製造法について説明する。

本発明化合物は、たとえば、つき゛の製造ルートに従っ
て製造することができる。

Ｃ以下余白） Ｉζ１ａのカルボキシル保護基としては、Ｒ１のところ
で説明した保設されていてもよいカルボギシル基の保護
基が挙げられる。

〔１θ〕 一役式［ＩａＬ　［Ｉｂ］、　［Ｉｅ］、　［Ｉｄ〕、
　［、ＩＶ〕、　［Ｖ］。

〔■ｌ〕、　　［■Ｄ、　　い’ｌＩｌ］−［［Ｘｌ　
　［Ｘｌ、［ＸＩ］、［Ｘ［Ｖ）、［ＸＶＴ！または（
ＸＶ１〕、の化合物の塩としては、一般式［Ｉ］の化合
物の塩として説明したと同様の塩が挙げられろ。

（１）ハロゲン化 一般式［ＩＩ］の化合物を溶媒の存在下ノ・ロゲン化す
ることにより、一般式皿〕の化合物を得ることができる
。この反応に用いられる溶媒としては１反応に不活性な
溶媒であれば特に限定されることなく使用でき、たとえ
ば、テトラヒドロフラン、エタノール、ジオキサン、１
．２−ジメトキシエタン、ジエチルエーテル、塩化メチ
レン、クロロホルム、　四塩化炭素、　　トルｍ　ｙ。

酢酸などが挙げられる。

ハロゲン化剤としては５通常、ケトンのα位のハロゲン
化に用いられるノ・ロゲン化剤が用いられ、具体的には
、塩素、臭素、Ｎ−クロロスク７ンイミド、Ｎ−ブロモ
スクシンイミド、Ｎ−ブロモアセトアミド、スルフリル
クロリド。

塩化第二銅、臭化第二銅、ヨウ化ベンゼンジクロリド、
２−ピロリドンハイドロトリプロミド。

５．５−ジブロモ−２，２−ジメチル−４，６−シオキ
ノー１．３−）オキザン、ピリジンハイドロトリプロミ
ド、テトラメチルアンモニウムドリブａミド、２−カル
ボキシエチルトリフェニルホスホニウムーバープロミド
などが挙げられろ。

ハロゲン化剤の使用量は、一般式［１１］の化合物に対
して通常１−１０倍モルである。

このハロゲン化反応は、通常−２０〜８０℃。

好ましくは１０〜６０℃で、ｉｏ分〜１２０時間実施す
ればよい。また１反応の際５反応を円滑に進行させろた
めに、心安に応じ、適当な酸。

塩基を加えることもできる。

また１本発明で用いられる一般式（１１１の化合物は、
たとえば、特開昭５１−８２２９１号などに記載の方法
またはそれに準する方法で製造することができる。

（２）閉環 一般式［ＩＩＩ］、［■〕または〔■〕　の化合物に溶
媒の存在下、一般式〔Ｍ１〕　　で表わされる化合物を
反応させることにより、それぞれ一般式〔■〕。

［Ｖ］または〔■〕の化合物を得ることができる。

この反応に使用される溶媒としては１反応に不活性な溶
Ｇであれば特に限定されることなく便用でき、たとえば
、水：テトラヒドロフラン。

ジエチレングリコールジメチルエーテル、１．２−ジメ
トキシエタン、ジオキサンなどのエーテルｍ：塩化メチ
レン、クロロホルム、１．２−ジクロルエタンなどのハ
ロゲン化炭化水素類；メタノール、エタノール、イング
ロバノール。

ｔｅｒｔ、　−７”タノール、エチレングリコール、エ
チレングリコール七ツメチルニーデルなどのアルコール
ｆｉ；Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ。

Ｎ−ジメチルアセトアミドなどのアミド類；アセトニト
リルなどのニトリル類；ベンゼン、トルエンなどの芳香
族炭什水素類；ニトロメタンｆｘトのニトロアルカン煩
；ジメチルスルホキシドなどのスルホキシド類；　６　
！Ｆエチルなどのエステル類；アセトン、メチルイソブ
チルケトンなどのケトン類などが挙げられる。上記した
溶媒は二純以上を混合して用いろこともできる。

捷だ、この反応は塩基の存在下に行うことができる。こ
こで用いることのできる塩等と１〜ては。

たとえば、炭（’Ｒ水素ナトリウム、炭（ソ水素カリウ
ムなどの炭酸水素アルカリ；炭酸ナトリウム。

炭ｔａカリウムなどの炭酸アルカリなどの無機塩基；ト
リエチルアミン、トリブチルアミン、Ｎ。

Ｎ−ジエチルアニリン、ピリジン、Ｎ−メチルピペリジ
ン、Ｎ−メチルモルホリン、ルチジン。

コリジン、１．５−ジアザビシクロ［４，３，０１ノン
−５−二ン、１，４−ジアザビシクロ［２，２，２］オ
クタン、１．８−ジアザビシクロ［５，４，０１ウンデ
カ−７−エンなどの第三級アミン類が挙げられる。また
、この反応は、プロピレンオキシド、ブチレンオキシド
などのアルキレンオキソドの存在下に行うことができろ
。

さらに、この反応は、脱水剤の存在下に行うこともでき
る。ここで用いら１する脱水剤としては、たとえば、モ
ノキュラーシープ、硫酸マグネシウム、硫酸ナトリウム
、塩化カルシウムなどが挙げられる。

この閉環反応は１通常Ｏ〜８０℃で、５分〜３０時間実
嘱すればよい。一般式［ＩＭＤで表わされろ化合物の使
用量は、一般式ｒ［ｎｌ、　ＣＸＪ口まだは［ＸＩＩＩ
］の化合物に対してそれぞれ香モル以上。

好ましくは１〜２倍モ゛ルである。

（３）酸化および還元 −ｅ　式［ＩＩＩ”１．　［ＸＶｌ、　［ＶＩＤ　ｔ　
ｉ　＆ｔ　［ＸＶＩ］　ノ化合物をセファａスポリン分
野で通常用いられる酸化反応に付すことによゆ、それぞ
れ一般式［Ｘｌｌ］。

［ＶＬ　［ＩＸ］または〔ＩＯ３の化合物を得ろことが
できる。また、一般式〔■］、ＣＶＩ　〔ＤＯまたは［
Ｉｄ〕の化合物を七７１０スポリン分野で通常用いられ
る還元反応に付すことにより、それぞれ一般式〔ＸｌＩ
Ｄ　、　〔ＶＩＬ　ＣＸｌ−または〔Ｉｅ〕の化合物を
得ることができる。

これらの反応は、ジャーナル・オプ・ジ・オーガニック
−ケミストリー（Ｊ、Ｏｒｇ、Ｃｈｅｍ、　）第３４巻
、第２４３０百（１９７０年）、ジャーナル・オプ・ザ
ーケミカル拳ンサエテイ（Ｊ。

Ｃｈｅｍ、３ｏｃ、　）第１１４２頁（１９６６年）、
特開昭５２−４８６８３号などに記載の方法またにそれ
に準じた方法によって行うことができる。

（４）脱アシル化 一般式［ＸＶｌ、［ＶＤまたは〔Ｘ〕の化合物を脱アシ
ル化反応に付すことにより、それぞれ一般式ＣＸＶ〕、
　Ｃ■］または［ＸＩ’）の化合物を得ることができる
。具体的には、一般式［ＸＶｌ、［ＶＤまたは〔Ｘ〕の
化合物を五塩化リンなどのハロゲン化剤と反応させてイ
ミノハライド化し、ついで、アルコールと反応させてイ
ミノエーテルとし、つぎにこれを加水分解することによ
り、それぞれ一般式［ＸＶｌ　［Ｖ１１］またはＩ”Ｘ
Ｉ］の７−アミノ体へ訓導することができる。さらに、
具体的には。

ジャーナル・オプφザーケミカル・ソサエティ（Ｊ、Ｃ
ｈｅｍ、Ｓｏｃ、　）　第８３巻、第３２０　Ｎ　（１
９０３年）、カナダ特許第７７０１２５号、英国特許第
１０４１９８５号、特公昭４５−４０８９９号および特
公昭４９−４０４７９号などに記載の方法またはそれに
準じた方法によって一般式［ＸＶｌ［■］塘たは［ＸＩ
　］の７−アミノ体を得ることができる。

（５）　　アシル化 一般式〔■ｌ［ＸＩ）または［ＸＶｌの化合物もしくは
それらの塩あるいはそれらの反応性誘導体に溶媒の存在
下、一般式ハ■］の化合物またはその塩もしくはそれら
の反応性訓導体を反応させることにより、それぞれ一般
式［Ｉｂｌ　ＣＩａｌまたは〔■〕の化合物を得ること
ができる。一般式〔Ｍ■の化合物の反応性誘導体として
は。

！時開昭５９−９３０８５号などに記載の酸ハロゲン化
物、酸無水物、混合酸無水物、活性酸アミド、活性エス
テル、活性チオロエステル、酸アジドお工び一般式［Ｘ
［Ｖ］の化合物とビルスマイヤー試薬との反応性誘導体
などが挙げられる。

また、−４１氏［ＶＩｌｌ：］、　［Ｘ１］またはＣＸ
Ｖ〕の化合物の反応往訪導体としては、たとえば、（Ｃ
Ｈ３）３Ｓｉ−、（ＣＨ３）２５ｌ　　、　　（ＣＨ３
）２［（Ｃ）（３）２ＣＨ］５ｉ−１（Ｃ１（３０）３
Ｓｉ　、　ＣＨ３（ＣＨ３０）２Ｓｉ−＋　（ＣＨ３）
２（ＣＨ３０）Ｓｉ−などの有（蹟シリル基、ｉたは（
ＣＨ３０）２Ｐ−１反応部位であろＨ２Ｎ−に結合した
化合物などが挙げられる。

このアシル化に用いられる溶媒としては、閉環反応で説
明したと間係の溶媒が用いられる。

また、この反応は塩基の存在下に行うことができる。使
用される塩基としては、閉環反応で説明したと同様の塩
基が挙げられる。

一般式［ＸＩＶ］の化合物を遊離ｒｔまたは含窒素有機
塩基との塩の状１帖で使用１−石場合は、適当な縮合剤
を用いろ。このような縮合剤としては。

たとえば、Ｎ、Ｎ−ジシクロヘキシルカルボジイミドな
どのＮ、Ｎ−ジ置換カルボジイミドが用いられる。この
アシル化反応は１通常−５０〜８０℃で、５分〜３０　
＋Ｉ！Ｆｆｔ［’Ｊ４ＶＴ！ｉ’ｆればよい。

そして、一般式〔Ｘ１■〕の化合物もしくはその塩また
はその反応性訪嗜体の［史ｐｈｉ　ｈｆ二は、一般式〔
■１〕、［ＸＩ　］または［ＸＶ］の化合・１′・りも
しくはそれらの塩あるいはそれらの反ＹＣ）性誘導体（
（対してそれぞれ０．９倍モル以上、好ましくは０．９
〜１．５倍モルである。

（６）４級化 一般式〔１ｖ〕、［Ｖ］、　〔ＶＩＬ　［Ｉｂ″ｌ　ｉ
　ｆｒ−ハ［Ｉｃ］ノ化合物もしくはそれらの塩を、溶
媒の存在下。

一般式ハ■〕で表わされる化合物を用い、４級化反応に
付すことにより、それぞれ一般式［Ｖｌｆｌ　］。

［ＩＸｌ　［Ｘｌ　［Ｉａ′３”！たは［Ｉｄ］の化合
物を得ることができろ。Ｙで表わされる脱離基としては
。

ハロゲン原子、低級アルカ／スルホニルオキシ基または
低級アルキル、ノ・ロゲン原子などで置ｊ夷されていて
もよいアレーンスルホニルオキシ基が挙げられる。

この４級化反応に用いられる溶媒としては。

閉環反応で説明したと同様の溶媒が挙げられる。

この４級化反応は１、出席０〜１００℃で、３０分〜１
２０時間実施すればよい。一般式〔刈１〕の化合物の使
用惟は、一般式［ｒＶ］、　［Ｖ］、　［ＶＩ］。

（：Ｉｂ〕またはｒｉｃ〕の化合物に対してそれぞれ寺
モル以上、好ましくは１〜１０倍モルである。

なお、一般式ＣＩ＆〕または［Ｉｄ〕の化合物を得るた
めに　Ｒ４がアミノ基である一般式［Ｉｂ］または［Ｉ
（！］の化合物は、そのアミノ基を保獲しておくのが好
ましい。

以上説明した各工程において得られる一般式台物に異性
体々どが存在する場合１通常の方法で１分離および梢製
することができ、さらに、通常の方法で保再基の導入、
脱なさらに塩への変換などを行うことができろ。

また、酸化および還元反応を行わずに４２体から６３体
へ異性化を行う場合、４２体に有機溶媒の存在下、閉が
反応で説明したと同様の塩基を作用きせることｌ／こよ
り平６１反応を利用し、６体へ変換することができる。

さらに、一般式ＣＩ］、［Ｉａ〕および〔■ｂ〕のＳ−
オキシド体は、スルフィド体を前記した酸化反応に付す
ことにより得ることができる。

本発明の一般式ＣＩ］の化合物またはその塩は。

人および動物にｌＨｆ口的１たは非経口的に供しうる。

人および動物に投与する場合１通常ペニシリンおよびセ
ファロスポリン系薬剤に適用されている剤形、たとえば
１錠剤、カプセル剤、シロップ剤、注射剤、坐剤などの
形に調イ）七れ。

経口的または非経口的投与方法が適用される。

その投与縫は患者の症状に応じて適宜１０じ几るが、一
般に成人において１〜〜２００１１１ｙ／ｋｙ／日（好
ましくは約２η〜１００ｙｖ／汀／日）の１士を１回〜
数回に分けて投与すればよい。

〔発明の効果〕

つぎに１本発明における代表的化合物の薬理効果を説明
する。

１、抗菌力 ダラム陽性菌およびダラム陰性酌の代表的細菌に対する
最少発ｘｒ　：ｉｉ正ｈ＜　：Ｌ、　（ＭＩＣ：　ｔｔ
ｙ／ｍｅ　）について１日本化学４Ｃｒ法学会標１■法
〔ケモセラビー（ＣＩ−ＩＥＭＯＴＨＥＲＡＰＹ　）第
２９き、第１２）、第７６〜７９白（１９８１年）〕に
基づいて実哄を行った。ペプトン　ブロス（ｐｅｐｔｏ
ｎｅ　ｂｒｏｔｈ　）（栄研化学社製）で３７℃、２０
時間培養した菌液な薬剤を含むハート　インフュージョ
ンアガー（Ｈｅａｒｔ　１ｎｆｕｓｉｏｎ　ａｇａｒ　
）培地（栄研化学社製）に接種し５３７℃で２０時間培
養した後、菌の発行の有（妊を観察シフ、菌の発行が阻
止された最少り度をもってＭＩＣ（μ９／ａｄ）とした
。

ただし、接＋ｒ　−ｔＭ　”ｊハ１０　個／フＶ　　）
　（１０ａ／ｄ）とした。

その結果を表−１に示す。

Ｃ以下余白） 試験化合物 表　　−１ 抗菌作用 （注）＊　ベニシリネース産生山 東＊セファロスボリイ、−ス産生ｍ 〔実唯−〕 つぎに、本発明を実施例および俗考９ｊを卒しすて説明
するが、本発明はこれらに限定さｎろものではない。ま
た実施例および診：Ｊ　１＋１１で使用する略語はりき
り意味を有する。

ｔ　−Ｂｕ　：　ｔａｒｔ　、−ブチル基、ノフエ＝　
／Ｌ／　ｊ、ｒＴｒ；）リチル基、　　ＢｏＣ：　ｔａ
ｒｔ、−ブトギシ力ルボニル恭−ＴＦＡ：　　ト’Ｊフ
ルオＯ酢酸災施例１ （１）７−アミノ−５−〔２−（ピリジン−４−イル勺
チアゾールー４−イル〕−５−セフェム−４−カルボン
酸ジフェニルメチルエステル２７ｙｔｒ無ホテトラヒド
ロフラン２３ｆｆＲＩＫ溶解させ、室温で２−（Ｚ）−
メトキシイミノ−２−（２−トリチルアミンチアゾール
−４−イル）１作酸２５９ｙ、１−ヒドロキシベンズト
リアゾール・１水相ＱＱ　７９０１号才よヒＮ、Ｎ′　
−ジシクａへギシルカルボジイミド１２７ノを加え、同
温度で９時間反応させる。ついで、不浴物をｆ３去Ｌ、
１４牧に酢酸エチル６０ｍ／％、Ｕび水６ＯＮを加えた
後、飽和炭酸水素ナトリウム水浴液でｐＨ７に調整する
。有機層を分取し、水５０ｕおよび飽和跡塩水３３ｍ６
で１１ｇ次洗浄した後、無水’ｔｉ　＋１マグネシウム
で乾燥させろ。減圧下に溶媒を留去し、得らｎた・残留
物をカラムクロマドグラフイー〔キーセルゲル６０；メ
ル２社製、浴溶液；トルエン：酢酸エチル−６：１（芥
盪比）〕で精装すｎは、融点１７０〜１７４Ｃ（分解）
を示す７−　［：　２−　（Ｚ）−メトキシイミノ−２
−（２−トリチルアミノチアゾール−４−イル）アセト
アミド〕−６−〔２−（ピリジン−４−イル）チアゾー
ル−４−イル〕−３−セフエム−４−カルボン酸ジフェ
ニルメチルエステルａ１７ｙ（収率８５５％）を得る。

１　Ｒ（ＫＢｒ　）　””　ニジｅ＝ｏ　１７８０．１
７３５．１６７５ＮＭＢ　（ＣＤＣ１，）δ値： ３．６２（ＩＨ，ｄ、　Ｊ−１８Ｈｚ　）、　　３．８
７〜４．１８（４Ｈ，ｍ）、　　５．１２（１）ｆ、　
ｄ、　Ｊ＝５Ｈｚ）。

５．９９（ＩＨ，ｄｄ、Ｊ＝５Ｈｚ、Ｊ＝８Ｈｚ　）。

６．６８（Ｉ　Ｈ，ｓ　）、　　　６．９’；）−７，
５８（５０Ｈ，ｍ）。

７．７２（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝８Ｈｚ　）、　　　８．５４
（２）１．ｍ）同様にして１表−２に示すイし合物を得
ろ。

（２＋　　７−　［２−（Ｚｌ−メトキシイミノ−２−
（２−トリチルアミノチアゾール−４−イル）アセトア
ミド）−１−４２−（ピリジン−４−イル）チアゾール
−４−イル〕−３−セフェムー４−カルボン酸ジフェニ
ルメチルエステル４８０〜をＮ、　Ｎ−ジメチルホルム
アミド１５ｍ１ＶＣ溶解させ、ブロム酢酸アミド４２０
〜を加え、室温で２時間反応させろ。ついで、反応液を
ヘキサン３０ｍ／中へ投入し、２０分間攪拌した後、折
出した油状物を分取する。

この油状物をヘキサン３０１すつで２回洗浄した後、ジ
イソプロピルエーテル２０ｍ／を加え、３０分間攪拌す
る。析出物をＰ取し、シイツブａビルエーテル１０酊で
洗浄し、乾燥すｎば、融点２１４〜２１７℃（分解）を
示す５−［２−（１−カルバモイルメチル−４−ピリジ
ニオ）チアゾール−４−イル〕−７−［２−（Ｚｌ−メ
トキシイミノ−２−（２−トリチルアミノチアゾール−
４−イル）アセトアミドクー６−セフェム−４−カルボ
ン緻ジフェニルメチルエステルプロミド５ｏｏ〜（収率
９０．９係）を得る。

ＩＲ（ＫＢｒ）　３　　、　νｃ＝ｏ　１７８０．１７
２５゜１６９０゜１６５０（ｓｈ） ＮＭＲ（ｄ億−ＤＭＳＯ）δ値； ＆５５（ＩＨ，ｄ、　Ｊ＝１８Ｈｚ）、　　３．８４（
５Ｈ，ａ）。

４．２０（ＩＨ，ｄ、　Ｊ＝１８Ｈｚ　＞、　　５．２
８（ＩＨ，ｄ。

Ｊ−５Ｈｚ　＞、　　５．４５（２Ｈ，ｓ　）、　　５
．８２（１Ｈ。

ｄｄ、　Ｊ−５Ｈｚ、　Ｊｘ８Ｈｚ）、　　６．７３（
ＩＨ，ｓ）。

６．７５〜７．４！＋（２８Ｈ，ｍ）、　７．７ｏ（１
１（、ｂｓ　）。

８、ＯＯ〜８．２５（２Ｈ，ｍ）、　　８．３３（１Ｈ
，ｓ）。

８．６９〜９．０５（２Ｈ，ｍ）、　　９．６４（１Ｈ
，ｄ。

Ｊ＝８Ｈｚ） 同様にして、表−３に示す化合物を得る。

ｆ３１　３−　Ｃ２−（１−グＪルバモイルメナルーメ
ー雰−４−ビリジ７８−オ）チアゾール−４−イル〕−
７−（２−（Ｚｌ−７トキシイミノー２−（２−トリチ
ルアミノチアゾール−４−イル）アセトアミドクー５−
セフェム−４−カルボン僚ジフェニルメチルエスデ／ｌ
・ブａミド４００ｍ９．５０％ギ（１９ｔｓｌ　３．；
よひデトラヒドロフラン４　ｍｌの混舎久を一５０〜５
５１Ｃで１時間反応させろ。ついで−減圧下に溶篠を留
去し、得らｎた残留物をカラムクロマトグラフィー〔キ
ーセルゲル６０；メルク仕製、溶離液；クロロホルム：
メタノール−５＝１（谷を比））で精製すれば、融点２
４０Ｃ以上を示す７−［２−（２−アミンチアゾール−
４−イル）−２−（Ｚ）−メトキシイミノアセトアミド
］−３−（２−（１−カルバモイルメチル−４−ピリジ
ニオ）チアゾール−４−イル）−３−セフェム−４−カ
ルボン酸シフエニルメチルエステルブロミド２！＋０ａ
ｌ（収率７４．０％）を得る。

１１１　（ｋｌＪｒ　）”　　＊νｅ＝ｏ　　１７７５
．　１７２５．　１６８ＯＮＭＲ（ｄａ　−ＤＭＳＯ）
　　δ値；３６０〜ろ８５（４Ｈ，ｍ）、　　　４ろ５
（Ｈ（、ｄ。

Ｊ＝１８Ｈｚ）　、　５．３１　（１瓜ｄ、　Ｊ＝５Ｈ
ｚ）。

５．５４（２Ｈ，ｓ）、　　　５．９９＜ＩＨ，ｄｄ、
Ｊ＝５夏（ｚ。

Ｊ＝７Ｈｚ）、　　６．７５（ＩＨ，ｓ”）、　　６．
８０〜７．４１（１４Ｌ　ｍ）、　　　７．６５（ＩＨ
，ｂｅ）。

７．９９〜８．６５Ｃ５Ｈ，ｍ）、　　　９．００（２
Ｈ，ｍ）。

９．７２　（Ｉ　Ｈ，ｄ、　　Ｊ＝７Ｈｚ　）同様Ｖこ
（−て１表−４の化合物を得る。

＋４１　７−　［２−（２−アミノチアゾール−４−イ
ル）−２−（Ｚ）−メトキシイミノアセトアミド）−３
−（２−（１−カルバモイルメチル−４−ピリジニオ）
チアゾール−４−イルシー６−セフェム−４−カルボン
酸ジフェニルメチルエステルプロミド１７０ｍ９をアニ
ソールｌ、７ｍｊに懸濁させ、水冷下でトリフルオロ酢
酸１．７　ｍｌを加え、同温度で５０分間攪拌する。つ
いで、減圧下に溶媒を留去し、得られた残留物にジエチ
ルエーテル１０ｒｎｌを加えてｖＴ出品をｆ取する。こ
れを酢酸エチル２０＃ＩＪおよび水２０ｍＡの混合液に
ａｌ蜀させ、炭酸水素ナトリウム３５■を加えて浴解さ
せｆこ侵、水層を分取する。減圧十に水層な約５　ｙｒ
ｌまでδ材ｄし、カラムクロマトグラフィー（ＸＡＤ−
２０００；ロームア／ドハース社製−浴離液；２０％ア
セトン水浴液）で精製すれば、融点２４０Ｃ以上をホす
７−４２−（２−アミノチアゾール−４−イル）　−２
−（Ｚ）−メトキシイミノアセトアミド）−５−［２−
（１−カルバモイルメチル−４−ピリジニオ）チアゾー
ル−４−イルクー６−セフェム−４−カルポキシラー）
　８０　ｍ９　（収率６６７壬）を得る。

ＩＲ（ＫＢｒ）”璽１　；　しｃ＝ｏ　　　１　７６５
．　１　６９０（ａｈ）。

１６６０（ａｈ）、　　１６０Ｏ ＮＭＲ（ｄａ　−ＤＭＳＯ）　　δ値；３．４０〜４．
４３（５Ｈ，ｍ）、　　５．１６（ＩＨ，ｄ。

Ｊ＝５Ｈｚ）、　　５．２９〜５．８６（３Ｈ，ｔｏ）
。

６．７１（ｉｆｔ、　ｓ）、　　７．２１（３Ｈ，ｂｓ
）。

７．６５（ＩＨ，ｂｓ）、　　８．１０（ｉＨ，ｓ）。

８．２７〜８．５０（２Ｈ，ｍ）、　　８．６５〜９．
１０（２Ｈ。

ｍ）、　　９．５７（ＩＨ，ｄ、　Ｊ＝８Ｈｚ　）同様
にして、表−５の化合物を得る。

（５）　　７−　Ｃ２−（２−ｔａｒｔ、−ブトキシカ
ルボニルアミノチアゾール−４−イル）−２−（Ｚ）−
メトキシイミノアセトアミド）−３−［２−（１−メチ
ル−６−ピリジニオアミノ）チアゾール−４−イルツー
３−セフェム−４−力ルボン酸ジフェニルメチルエステ
ルヨージドｓｏｕｗをアニソール１　ａｔに懸濁させ、
水冷下でトリフルオロ酸［１ｍ／を加え、同温度で５０
分間攪拌する。ついで、減圧下に溶媒を留去し、得られ
た残留物に塩化メチレン１５ａｔおよびトリフルオａ酢
酸１５−を加え、室温で１．５時間反応させろ。反応終
了後、実施例１−（４）と同様に処理すれば、融点２４
０〜２４５℃（分解）を示す７−（２−（２−アミノチ
アゾール−４−イル）−２−（Ｚｌ−メトキシイミノア
セトアミド）−３−（２−（１−メチル−３−ピリジニ
オアミノ）チアゾール−４−イル〕−５−セフェムー４
−刀ルポキシラート４０ダ（収率７５．１係）を得る。

ＩＲ（ＫＢｒ）　ｍ　　、νｅ＝ｏ　１７５５．１６６
０．１６０ＯＮＭＩ（（ａｓ−ＤＭＳＵ）δ値； ３．５７〜４．００（５Ｈ，ｍ）、　　　４．４０（５
１１，ｓ）。

５．１０（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝５Ｈｚ）、　　　５．６２（
ＩＨ，ｄｄ。

Ｊ−５Ｈｚ、　　Ｊ＝ＢＨｚ　）、　　　６．７８　（
１Ｈ，ｓ　）。

６−９０　（Ｈ（、ａ　）、　　　７．１７　（２）Ｌ
　　ｂｍ　Ｌ７．５２〜８．５６（３１（、ｍ）、　　
　９．５５＜ＩＨ，ｄ。

Ｊ−８Ｈｚ）、　　　９．９０（１１（、ｍ）、　　　
１２ｊ６（ＩＨ。

ｂｓ） （６）　　３−［２（１−ｔｅｒｔ、−ブトキシカルボ
ニルメチル−４−ピリジニオ）チアゾール−４−イル〕
−７−Ｃ２−＜Ｚ）−メトキシイミノ−２−（２−トリ
チルアミノチアゾール−４−イル）アセトアミド〕−５
−セフェム−４−カルボン峡ジフェニルメチルエステル
ブａミド３５０ダをアニソール１５ｍ／に懸濁させ、水
質下でトリフルオＯ酢ａｔ　ｓｙを加え、室温で１５時
間攪拌する。ついで、反応液にジエチルエーテル１０ａ
／を加え、減圧下に溶媒を留去した後、得られた残留物
に塩化メチレン２１／およびトリフルオロ酢酸２　ｙを
加え。

室温で２時間Ｎ、Ｅ；する。反応終了後、実施例１−（
ｌｌ＋と同様に処理１扛ば−７−（２−（２−アミノチ
アゾール−４−イル）−２−（Ｚ）−メトをジイミノア
セトアミド）−１−［２−（１−カルレボ千ジメチルー
４−ピリジニオ）チアゾール−４−イルクー３−セフェ
ム−４−カルボキシラードのモノナトリウム塩２０〜を
得る。

Ｉｎ（ＫＢｒ）　　箔　　＊　　しｃ＝ｏ　　１　７６
０．　１６６０（ｓｈ）ＮＭＲ（ｄｓ　−ＤＭＳＯ）　
　δ１直：５５０〜４．２０（５Ｈ，ｒｎ）、　　４．
９４（２Ｈ，ｓ）。

５．１１　（ＩＨ，ｄ、　Ｊ＝５Ｈｚ　）、　　５．６
０（ＩＩ（、ｄｄ。

Ｊ＝５Ｈｚ、　Ｊ＝８Ｈｚ　）、　　６．７５　（Ｉ　
Ｈ，ｓ　）。

７．２３（２１１，ｂｓ　）、　　８．０８（ＩＨ，ｓ
　）。

８．３７（２Ｈ，ｍ）、　　８．８５（２Ｈ，ｍ）。

９．５３　（Ｉ　Ｈ，ｄ、　Ｊ＝８Ｈｚ　）実施例２ ＋１１３−（２−クロロメチルチアゾール−４−イル）
−７−（２−（Ｚ）−メトキシイミノ−２−＜２−トリ
チルアミンチアゾール−４−イル）アセトアミド−２−
セフェム−４−カルボン酸ジフェニルメチルエステル６
００η、イミダゾール１５０〜お９Ｘ、びＮ、　Ｎ−ジ
メチルホルムアミド１　ａｔの混せ溶液を室温で一夜反
応させる。ついで１反応液を酢酸エチル２０ｒｒｔおよ
び水２０１の混合液の中へ投入し、■機層を分取する。

水１Ｑ＊ｌおよび飽相大塩水１０ｍＪで順次洗浄し、無
水Ｒｒｉマグネシウムで乾燥させた後−減圧下に溶媒を
留去する。

得られた残留物をカラムクロマドグラフイー〔キーセル
ゲル６０；メルク社製、浴１ｉｉＩ液；クロロホルム：
アセトン＝１ａ　：　１を容量比υで精製すれば、融点
１２０〜１３０℃（分解）を示す３−（２−（イミダゾ
ール−１−イル）メチルチアゾール−４−イル）−７−
〔２７−（Ｚ）−）Ｆ、、−ライオ、−２−やＣ２−）
　ｉ＞しに号・、−ｊ゛ チルアミ／チアゾール−４−イル）アセトアバミド〕−
２−セフェム−４−カルボン酸ジフェニルメチルエステ
ル４１０■（収率６　＜５．１チ）を得る。

ＩＲ（ＫＢｒ）Ｃｍ　　、　シｃ＝ｏ１７８０，１７４
０．１６７ＯＮＭＥ（ＣＤＣＩ卑）δ値； ４．０１　（３Ｈ１ｓ）、　　５−１８（２Ｈ，ｓ）。

５．２９（Ｄｉ、　ｄ、　Ｊ＝４Ｈｚ　）、　　５．５
３〜５．８１（２Ｌ　ｍ）、　　６．６１　（ＩＨ，ｓ
　）、　　６８５〜７．６５（３２Ｈ，ｍ）、　　８．
００（ＩＨ，ａ、　Ｊ−８）１ｚ）イミダゾールのかわ
りに５−メチルテトラゾールのナトＩＪウム塩を使用し
、つぎの化合物を得る。

７−　Ｃ２−（ｚ）−メトキシイミノ−２−（２−トリ
チルアミノチアゾール−４−イル）アセトアミド）−３
−（２−（５−メチルテトラゾール−２−イル）メチル
チアゾール−４−イル）−２−セフェム−４−カルボン
酸ジフェニルメチルエステル 融点　；　　２０５〜２１ｏ　’ｃ　＜分解）１　Ｒ（
ＫＢ　ｒ）　”　　＋νｃ＝ｏ　１７７５．１７３５．
１６７ＯＮＭＢ（ＣＤＣＩｍ）　　δイ直； ２．５２（３Ｈ，ｓ）、　　４．０６（！ＩＨ，ｓ）。

５．３５（ＩＨ，ｄ、　　Ｊ＝４Ｈ４＞、　　　５．６
１　（ＩＨ，ｓ）。

５．７８（１夏（、ｄｄ、　　　Ｊ＝４１１ｚ、　　　
Ｊ＝８Ｈｚ　　）。

５．９２（２Ｈ，ｓ）、　　　６．６５（［１，ｓ）。

６．８０（ＩＪ（、ｓ）、　　　６．９８〜７．７５（
２９Ｈ，ｍ）７−［２−（Ｚ）−メトキシイミノ−２−
（２−トリチルアミノチアゾール−４−イル）アセトア
ミド）−３−［２−（５−メチルテトラゾール−１−イ
ル）メチルチアゾール−４−イルツー２−セフェム−４
−カルボン醒ジフェニルメチルエステル 融点　；　２１６〜２１７Ｃ（分解） ＩＲ（ＫＢｒ＞　ｃｖａ　；νｃ＝ｏ　１７７５．１７
４０．１６７５ＮＭＢ（ＣＤＣＩ、）　ｉｊ値； ２．５１（３Ｈ，ｓ）、　　４．０５（３Ｈ，ｓ）。

５．２７（ＩＨ，ｄ、Ｊ−４Ｈｚ　）、　　　５．４４
〜５．８０（４Ｈ−ｍ）−ｔｓ−５５（１Ｈ，鶴）＋　
　　６．６３　（１ｋ’−ｓ）、　　６［１（１１（、
ｓ）、　　ｉ９０〜７．６０（２８ｇｍ） ＋２１　５−１：　２−　（イミダゾール−１−イル）
メチルチアゾール−４−イル）−７−［２−（ＺＪ−メ
トキシイミノ−２−（２−）　ＩＪチルアミンチアゾー
ル−４−イル）アセトアミドクー２−セフェム−４−カ
ルボン酸ジフェニルメチルエステル３　Ｕ　Ｑ　ｒａｐ
および塩化メチＶ　７５　ｍｌの！８孜に、ｍ−クロロ
過安息香鍍（純度８０チ）７０〜および塩化メチレン１
ｍεの溶液を一１０℃で６分間を決してｌ商工し一同温
１歪で１０分間、さらに、水ｑ−トで３０分間反応させ
る。ついで−反応液を酢酸エチル２０ｍｅ　ｉ６よび水
’＋　Ｑ　ｍｌの湿分液中−＼投入し、ｌ他相炭酸水素
ナトリウム水Ｍ牧でｐＨ７１こ調を丁も。

有機層を分取し、水１０Ｍおよび一和艮塩水１０成でｊ
戦次洗浄する。無水硫酸マダイ・カラムで乾沫させた仮
、減圧）に１６媒を留去し、得ら２また残留吻をカラム
クロマトグラフィー〔キーゼルゲル６０；メルり子上製
、ｉｍｇ；クロロホルムニア七トン＝１０：１（容暑比
）〕で猜良ｊ　ｎは、融点１５０〜１５５Ｃ（分解）を
示す５−　（２−（イミダゾール−１−イル）メチルチ
アゾール−４−イル）−７−［２−（Ｚ）−メトキン・
〔ミノ−２−（２−）−リチルアミノチアゾールー４−
イル）ア七ドアミド〕−６−セフェム−４−カルボンｊ
ｔ　ジフェニルメチルエステル−１−オキシド２８・コ
〜（収率９１．８係）を得る。

１Ｒ（ＫＩｌｒ）　ｃｓ　、νａ＝ｏ　１７９５，１７
３０．１６７５ＮＭＲＩＤＣ１ｍ）δ１直： ３．５５（１１Ｘ、ｄ、　Ｊ工１８）１ｚ　）、　　４
．０８　（３１，ｓｌ。

４．３０＜ＩＨ，ｄ、　Ｊ＝１８１１ｚ）、　　／１．
６１（１１１，ｄ。

Ｊ＝４１−ｆ）、　　４．９０（２１１，ｓ）、　　６
．２０（１１１゜ｄｄ、　Ｊ＝４Ｈｚ、　Ｊ　＝８Ｈｚ
　＋、　　６．７１　（１ｋＫ、　ｓ　）。

６．８１〜７．７５（３２１１，ｍ） 同様にして、つぎの化合物を由ろ。

７−　Ｃ２−（ｚ）−メトキシ−２−（２−）リチルア
ミノチアゾールー４−イル）アセトアミド）−１−［２
−（５−メチルテトラゾール−２−’ｆ　”　）　メチ
／’　ｆ　７７”　−ルー　４−　イ／Ｌ／　）−６−
セフェム−４−カルボン酸ジフェニルメチルエステル−
１−オキシド 融点；　　＞２４０Ｃ １　Ｈ（ｋＢ　ｒ　）　”’−’　：　νｃ＝ｏ　　　
１７９５．　１７５０．１６７０７−［２−（Ｚｌ−メ
トキシイミノ−２−（２−トリチルアミノチアゾール−
４−イル）アセトアミド）−３−（２−（Ｓ−メチルテ
トラゾール−１−イル）メチルチアゾール−４−イルク
ー６−セフェム−４−カルボン酸ジフェニルメチルエス
テル−１−オキシド 融点；　　＞２４０℃ ＩＲ（ＫＬ（ｒ）　　ａｍ　　　、　　しｃ＝ｏ　　　
　１７９０．　　１７３０．　　１６８０尖九例６ ３−（２−クロロメチルチアゾール−４−イル）−７−
［２−（Ｚｌ−メトキシイミノ−２＝（２−トリチルア
ミノチアゾール−４−イル）アセトアミドクー６−セフ
ェム−４−カルボン酸ジフェニルメチルエステル−１−
オキシド６００〜およびピリジン５１の浴液を室温で一
夜反応させる。ついで、反応液にジエチルエーテル３Ｑ
ｍＪを加え、析出物を１取した後、カラムクロマトグラ
フィー〔キーゼ／ｌ／　）ｙ’ル６０：メルク社製フ々
Ｉ歴液；クロロホルム：メタノール＋５：１（容量比）
〕で積製すｒｔば、融点１８０〜１８２℃（分Ｗ＃　）
を示す７−［２−（Ｚ）−メトキシイミノ−２−（２−
トリチルアミノチアゾール−４−イル）アセトアミド）
−１−（２−（１−ピリジニオメチル）チアゾール−４
−イルクー３−セフェム−４−刀ルボン酸ジフェニルメ
チルエステル−１−オキシトクロリド６６０■（収率５
５．５１％）を得る。

ｘ　Ｒ（ＫＢｒ）　　鴎　　、　　しｃ＝ｏ　　　１７
８５．　　１７５０．　　１６７ＯＮＭＢ（ＣＤＣＩ謀
）δ値； ！１．７０（ＩＨ，ｄ、　Ｊ＝ｆ８Ｈｚ　）、　　５．
９７（５Ｈ，ｓ　）。

４．３０（ＩＨ，ｄ、　Ｊ＝１８Ｈｚ）、　　４．８５
（ＩＨ，ｄ。

Ｊ＝５Ｈｚ　）、　　６．０７（３Ｈ，ｍ）、　　＆６
９（１）Ｌｓ）、　　６．９０（ＩＨ，ｓ）、　　７．
０５〜７．９４＋３０Ｈ。

ｍ）、　　８．２２（１Ｈ，ｒｎ）、　　８．８４（２
１−ｉ、ｍ）実施例４ ３−［２−（イミダゾール−１−イル）メチルチアゾー
ル−４−イル）−７−４２−（Ｚ）−メトキシイミノ−
２−（２−トリチルアミンチアゾール−４−イル）アセ
トアミドクー６−セフェム−４−カルボン酸ジフェニル
メチルエステル−１−オキシド２７　ｏＩＲ９ヲｉ水Ｎ
ｒ　Ｎ−ジメチルホルムアミド３　ａｔ　ｖｃ　ｍ解さ
せ、−３０℃で三塩化リンＱ、　１２ｍｌを加えて同温
度で１０分間反応させる。ついで、反応液を酢酸エチル
２０Ｍ、水２０ＩＩｌｔおよびテトラヒドロフラン１０
Ｍの湿分液中へ投入し、飽和１災酸水素ナトリウム水浴
液でｐＨ７に調整する。■後層を分取し、水１０ｍ／お
よび飽和食塩水ｊＯｍｌで順次洗浄した後、無水硫酸マ
グ坏カラムで乾燥させる。減圧下に溶媒を留去し、得ら
ｎた残留物にジエチルエーテル５　ｍｌを加えた後、析
出晶を１取し、乾燥すｎば。

融点１４５〜１５２℃（分解）を示す６−〔２−（イミ
ダゾール−４−イル）−７−（２−（Ｚ）−メトキシイ
ミノ−２−（２−トリチルアミノチアゾール−４−イル
）アセトアミド〕−３−セフェム−４−カルボン酸ジフ
ェニルメチルエステル２５０〜（収率９４．０　％　）
を得る。

Ｉ　Ｒ（ＫＢｒ　）　　”　　；　　しｅ＝ｏ　　　１
　７８０．　　１　７３０．　　１　６６ＯＮＭＢ（Ｃ
ＤＣ１，＊　）δ値： ３．５８（ＩＨ９ｄ、　Ｊ＝１８Ｈｚ）、　　３．９１
〜４．２７（４Ｈ，ｍ）、　　５．１４（３１（、ｍ）
、　　５．８８（ｉＨ。

ａｄ、Ｊ−５Ｈｚ、Ｊ＝８Ｈｚ）、　　６．７０（ＩＨ
，ａ）。

６．８９〜７．６０（５０Ｈ，ｍ）、　　７．９６（Ｉ
Ｈ，ｓ）。

８．８１ｒＩＨ，ｂｓ） 同様にして、衣−６に示す化合物を得る。

参考例１ ６−アセチル−７−フェニルアセトアミド−２−セフェ
ム−４−カルボン酸ジフェニルメチルエステル１ａ、ｑ
ｔをテトラヒドロフラン１５０ゴに各層させ、２−ビσ
リドンハイドａトリプロミド１６．’；ＭＦを加えて４
０〜４５℃で１２時間反応させる。反応液を酢酸エチル
６００Ｍおよび水３００Ｍの混合液の中へ投入した後、
飽和炭酸水素す）　ＩＪウム水溶液でＰＨ２，０に調整
する。有機層を分取し、水２００ｖおよび飽和賞塩水２
００　ｍｌで順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで
乾燥させろ。減圧下に溶媒を留去し、残留物に酢酸エチ
ル６０１＋１１を加え、析出晶をｅ取する。得られた粗
結晶を塩化メチレン５００１１１に溶解させ、減圧下に
溶媒を留去し、得らｎた残留物に再び酢酸エチル６Ｑｄ
を加え。

析出結晶をＰ取し、酢酸エチル２ＯＮで洗浄すｎば、ｓ
−ブロモアセテルー７−フェニルアセトアミド−２−セ
フェム−４−カルボン酸ジフェニルメチルエステル１０
．ｓ　ｉｔ　（１１５Ｍ１６ｔ　２％）を得る。また−
得られた？衣を先のｆ″液と会わせ、カラムクロマドグ
ラフイー〔相几シリカゲルＣ−２０’０．溶離液：トル
エン二酢酸エチル−１０８１（容量比）〕で猜匁すｎば
、さらに６−フ゛ａモアセチル−７−フェニルアセトア
ミド−２−セフェム−４−カルボン酸ジフェニルメチル
エステル１．５ｔ　ヲ４Ｄる。

融点：１１３２．５〜１８４Ｃ １Ｒ（ＫＢｒ）　３　ニジｃ＝ｏ　　１７９０．１７３
５．１６８０゜（ＣＨヨ（：ｌ、）ｃｍ　、νｅ＝ｏ　
　１７８０，１７４０゜１６８０、１６５５ ＮＭＲ（ＣＤＣ１カ）δ値； ６．５４（２Ｈ，ｓ　１．　４．００（２Ｈ，ｓ）。

４．９５（１Ｈ，ｄ、　Ｊ＝５Ｈｚ　）、　　５Ｊ５（
ＩＨ，ｄｄ。

Ｊ＝５Ｈｚ、　Ｊ＝８Ｈｚ）、　　５．５５（ＩＨ，ｓ
）。

６．７０〜６．８５（２Ｈ，ｍ）、　７．２５（１５Ｈ
，ｓ　ｌ。

７．５７（ｉＨ，ｓ） 浴湯料２ インチオニコチンアミド２．４ｔおよびＮ、Ｎ−ジメチ
ルホルムアミド６Ｑｒｎｌの溶１Ｌ水冷下、３０秀臭化
水素酸−酢酸浴液３．７１１１１Ｊおよび３−ブロモア
セチル−７−フェニルアセトアミド−２−セフェム−４
−カルボン酸ジフェニルメチルエステル１０．０＆を加
え、室温で１２時間反応させる。ついで、反応液を酢酸
エチル１００ｍ１ゴｄよび水６５０ｇの混合液に投入し
、炭酸水素ナトリウム３．　Ｏｒを加えた後、室温で１
５分間攪件する。析出晶をＰ取し、水６０畦ずつで６回
および酢酸エチル２０Ｍずつで２回、ｒｄ次洗浄した後
、乾燥すｎば、融点１８８〜１９０Ｃ（分解）を示す７
−フェニルアセトアミド−３−［２−（ピリジン−４−
イル）チアゾール−４−イルクー２−セフェム−４−カ
ルボン酸ジフェニルメチルエステル５．５　＃　（収率
４９．８％）を得る。さらに、先の′ｆＩ″液および水
洗浄液を会わせ、酢酸エチル２００１１１で佃出し、水
１００虹および砲ｆＯ艮塩水１００Ｍで順欠洗浄する。

無水硫酸マグネシウムで乾燥させた後、減圧下に各課を
留去し、得らｒ＋、ｆこ残留物をカラムクロマトグラフ
ィー〔キーセルゲル６０；メルク社製、溶離液：トルエ
ン：酢酸エチル＝５＝１（容量比）〕で精製すｎば、上
記化合物０，７ノ（収率６．６チ）を得る。

１Ｂ（ＫＢｒ）３　、ｈａ＝ｏ　　１７７０．１７２５
．１６６５ＮＭＢ　（ＣＤＣｉｓ　）δ値： ３．６７（２Ｈ，ｓ）、　　５．２５（１！（、ｄ、　
Ｊ−４，５Ｈｚ）。

５．４９〜５．７１（２Ｈ，ｍ）、　　６．７６（ＩＨ
，ｍ）。

６．９９（ＩＨ，ｓ）、　　７．１５〜７．２８（ｊ６
Ｈ，ｍ）。

７．４９〜７．７３（３Ｈ，ｍ）、　　８．５０〜８．
６１Ｃ２Ｈ。

ｍ） 同様にして、衆−７に示す化合物を得る。

参考例５ （１１７−フェニルアセトアミド−３−（２−（ピリジ
ン−４−イル）チアゾール−４−イル〕−２−セフェム
ー４−カルボン酸ジフェニルメチルエステル６、Ｏｌを
塩化メチレン１００１Ｒ１に溶解させ、ｍ−りロロ過安
息香酸（純度８０壬）２．２９および塩化メチレン３０
ゴの溶液を、−１０〜−５’Ｃで１０分間を要して滴下
し、同温度で１０分間、水冷下で３０分間攪拌する。つ
いで、反応液に５％チオ硫酸ナトリウム水溶液５０Ｍお
よび水５０１Ｊを加え、飽和炭酸水素ナトリウム水爵液
でｐＨ７，５に調整する。析出晶を１取し、水１０ＭＩ
ずつで３回および塩化メチレンｊＱｍｇずつで２回、順
次洗浄した後、乾燥すれば一融点１９０〜１９３℃（分
解）を示す７−フェニルアセトアミド−３−（２−（ビ
リジ／−４−イル）チアゾール−４−イルクー３−セフ
ェム−４−刀ルボン酸ジフェニルメチルエステル−１−
オキシド５．　Ｏｆ　（収率８１．３壬）を得る。

Ｉ　Ｒ（ＫＩ３ｒ　１　ｃｍ　　、νｅ＝ｏ　　１７８
５．　１７２０．　１６５　ＯＮＭＢ　（ｄ＠　　　Ｄ
ＭＳＯＩ　　　δイ１１１；３．４２〜３．７６（３Ｈ
，ｍ＞、　　　４．５７（Ｈｉ、ｄ。

Ｊ＝１８Ｈｚ）、　　　５．０１（１Ｈ，ｄ、Ｊ＝５Ｈ
ｚ）。

５．９６（ＩＨ，ｄｄ、Ｊ＝５Ｈｚ、Ｊ＝８ｎｚ　）。

６．９７（６Ｈ，ｓ）、　　　　７．５２〜７．６０（
１２）亙、　ｍ　）。

８．００（ＩＨ，ｓ　）、　　　８．５３〜８．７４（
３Ｈ，ｍ）同様にして１表−８に示す化分′物を得る。

（２）？−フェニルアセトアミドー３−　［２−（ピリ
ジン−４−イル）チアゾール−４−イル〕−６−七フエ
ムー４−カルボン醒ジフェニル）　チルエステル−１−
オキシドｓ、ｓｙをｌ水Ｎ、　Ｎ−ジメチルホルムアミ
ドｓｓｍｘＶｃ懸濁させ、−３０℃で三塩化リン３．６
　ｒａｔを１０分間を要して滴下し、さらに−同温度で
１０分間、−１０℃で１時間攪拌する。ついで５反応液
を酢酸エチル６０酊および水１８０継の混＠−液水素 中へ、飽和炭瞥フトリウム水浴液でｐｉ＋　６〜７を保
ちながら、投入する。析出晶をＰ取し、水ｊＱｍ／：ず
つで６回および酢酸エチル５　ｍｅずつで２回順次洗浄
した後、乾燥させれば、融点１８６〜１９０℃（分解）
を示す７−フェニルアセトアミド−３−［２−（ピリジ
ン−４−イル）チアゾール−４−イル〕−３−セフ二二
−４−刀ルボン酸ジフェニルメチルエステル４．６　ｆ
　（収率８５．７％）を得る。

ＬＨ（ＫＢｒ）ｃｍ　、　νａ＝ｏ　　ｊ７７５．１７
１５．１６５ＯＮＭＩＩ　（ｄａ　　ＤＭＳＯ）δ値：
３．５９（２Ｈ，ｓ）、　　　５．８１（１Ｈ，ｄ、Ｊ
＝１８Ｊ４ｚ）。

４．２１（ＩＨ，ｄ、　　Ｊ＝１８Ｈｚ）、　　　　５
．２３＋ＩＨ，ｄ。

Ｊ＝５Ｈｚ　）、　　　５．８３（１１（、、Ｌｄｊ＝
５Ｈｚ。

Ｊ＝８Ｈｚ）、　　　６．９１　（６Ｈ，ｓ）、　　　
７．ｔ　１〜７．７２（１２Ｈ，ｍ）、　　　７．９７
１１１ｔ、ａ）、８．８０（２Ｈ。

ｍ）、　　　９．２１　（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝８Ｈｚ）同様
にして１表−９に示す化分物を得る。

（３）７−フェニルアセトアミド−３−（２−（ピリジ
ン−４−イル）チアゾール−４−イルクー６−セフェム
−４−カルボン酸ジフェニルメチルエステル４．　ｂ　
？、ピリジン０．９２　ｍｌおよび塩化メチレン８０ν
の混合液に一３０℃で五塩化リン２．０８　ｔを添加し
、−６０〜−２５℃で１５分間、さらに、−１０℃で１
時間攪拌する。ついで、この反応液ＩＣ−３０℃でメタ
ノール２０１７を加え、１５分間を要して室温まで昇温
し、同温度で１時間攪拌する。反応液を氷水１００ｘｊ
中へ投入し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液でｐＨ７，
０に調整した後、有機層を分取する。水層を塩化メチレ
ン５０ＩＩＩｅで佃出し、先の有機層と会わせ、水６０
１および飽和食塩水５０１１／で順次洗浄する。無水硫
酸マグネシウムで乾探させた後、減圧１に溶媒を留去す
る。得ら扛た残留物をカラムクロマトグラフィー〔キー
セルゲル６０：メルク社製、俗離欣：クロロホルム：ア
セトン−ＩＱ：１（容量比）〕で精製す扛ば、融点１４
０〜１４５℃（分解）を示す７−アミノ−ろ−〔２−（
ピリジン−４−イル）チアゾール−４−イル〕−３−セ
フェムー４−カルボン酸ジフェニルメチルエステル！、
、２ＩＣ収率８５．２係）を得る。

１Ｒ（ＫＢｒｌ　ｃｍ　；　νｅ＝ｏ　　１７７０．　
１７３ＯＮＭＢ（ＣＤＣ１，）δ値： １．９７（２１１１ｄ、　Ｊ＝８Ｈｚ　＋、　　３．６
２（１１ｉ、　ｄ。

Ｊ−１８Ｈｚ　１．　４．０１（１ｆ（、ｄ、　Ｊ＝１
８Ｈｚ　）。

４．８０（ＩＨ，ｄ、　Ｊ＝５Ｈｚ）、　　５．０２（
ＩＨ，ｄ。

Ｊ−５Ｈｚ　１．　７０２（７Ｈ，ｍｌ、　　７．２７
（５Ｈ。

ｓ　＞、　　７．５６（２１（、ｍ）、　　８．６４（
２Ｈ，ｍｌ同様にして、表−１０に示す化会物を得る。

参考例４ （１）　　参考例６（３）と同様にして、６−（２−ク
ロロメチルチアゾール−４−イル）−７−フェニルアセ
トアミド−２−セフェム−４−カルボン酸ジフェニルメ
チルエステルから７−アミノ−５−（２−クロロメチル
チアゾール−４−イル）−２〜セフェム−４−カルボン
醒ジフェニルメチルエステルヲ得る。

融点；　１６０−１５１℃（分解） ＩＲ（ＫＢｒｌ　ａｍ−’　；　ｗｃ＝ｏ　　１７６０
，１７６゜ＮＭＲ（ＣＤＣＩｓ）　　δ１１ｋ； ５．５９　（２Ｈ，ｂｓ）、　４．６０　（１Ｈ，ｄ、
　Ｊ　＝４Ｈｚ）。

４．６８（２Ｈ，ｓ）、　　５．２０　（ＩＨ，ｄ、　
Ｊ＝４Ｈｚ）。

５．６４　（ＩＨ，ｓ）＋　　６７９　（ＩＨ，ｓ）。

７．０３（ＩＨ，ｓ）＋　　７．１２〜７．２８（１１
Ｈ＋ｍ）（２）７−アミノ−６−（２−クロロメチルチ
アゾール−４−イル）−２−セフェム−４−カルボ７１
校ジフェニルメチルエステルｔ５ｆｆＮ、Ｎ−ジメチル
ホルムアミド１ｏｌＩＩｔ！に溶解させ、室温で２−（
Ｚ）−メトキシイミノ−２−（２−）ジチルアミノチア
ゾール−４−イ／Ｉ／）　酢酸ｔ　１ｂ　ｙ、　１−ヒ
ドロキシベンズトリアゾール・１水和物ａｏｏｑおよび
Ｎ、Ｎ’−ジシクロへキシルカルボジイミド６４０”９
を加えて同温度で９時間反応させる。ついで、不溶物を
ｆ央し、Ｐ液に酢酸エチル８　Ｌｌ　１ｍ！および水ａ
　ｕ　ａｒｔを加えた後、飽和炭酸水素ナトリウム水溶
液でνＮ（ｌに調整する。有機層を分取し、水４０１Ｎ
／および飽和食塩水４０　ＩｌＢ／で順次洗浄した後、
無水硫酸マグネシウムで乾燥させる。減圧下に溶媒を留
去し、得られた残留物をカラムクロマトグラフィー〔キ
ーセルゲル６υ；メル２社製、溶離液；トルエン：酢酸
エチル＝１０二１（容量比）〕で？＃製すれば、融点１
５５〜１ａｕ℃（分解）を示す５−（２−１０ロメチル
チアソール−４−イル）−７−（２−（Ｚ）−メトキシ
イミノ−２−（２−トリチルアミノチアゾール−４−イ
ル）アセトアミドラ−２−セフェム−４−カルボン酸ジ
フェニルメチルエステル１８Ｆ（収率７４７％）を得る
。

ＩＲ（ＫＢｒ）ｃ＋ｉ−仁冴ブ７５．　ｔ７３５．１６
７５ＮＭＲ（ＣＤｅｌ、）　ａ値： ４．０１　　Ｃ６Ｈ，ｓ）、　　　４．６６　　（２Ｈ
，ｇ）。

５．２８　　（１１（、ｄ、　Ｊ＝４−）、　　５．５
２〜５．７り（２Ｈ。

ｍ）、　　ａ、４８　　（ＩＨ，ｓ）、　　δ７９　（
ＩＨ，ｓ）。

δ９９　　（１）Ｌ、ａ）、　　　ＺＯ９〜７．６５　
　（１ＢＩ（、ｍ）（３）　　５　　（２−クロロメチ
ルチアゾール−４−イル）−７１２−（Ｚ）−メトキシ
イミノ−２−（２−トリチルアミノチアゾール−４−イ
ル）アセトアミドラ−２−セフェム−４−カルボン酸ジ
フェニルメチルエステル７υＵ〜および塩化メチレン７
ＩＩＩｌの溶成に、嵩−クロロ過安息香酸（純度８ｏ％
’）１６０■および塩化メチレンＳ　ａｔの溶液を一１
０℃で５分間を要して滴下し、同温度で１０分間、さら
に、水冷下で３０分間反応させる、ついで、反応液を酢
酸エチル３０　Ｑおよび水２０＠ｌの混合液の中へ投入
し、飽和炭酸氷素ナトリウム水溶液でｐＨ７，０に調整
する。有機層を分取し、水１５ｍ／および飽和食塩水１
５１＋１ｅで順次洗浄する。無水硫酸マグネシウムで乾
燥させた後、減圧下に一溶媒を留去し、得られた残留物
をカラムクロマトグラフィー〔キーセルゲル６０；メル
２社製、溶離液；トルエン：酢酸エチル＝５：１　（容
量比）〕で稽製すれば、融点１６５〜１７０℃（分解）
を示す６−　（２−クロロメチルチアソール−４−イル
）−７−［−（Ｚ）−メトキシイミノ−２−（２−トリ
チルアミノチアゾール−４−イル）アセトアミド〕−６
−セフェム−４−カルボン酸ジフェニルメチルエステル
−１−オキシド６（１０Ｍｇ（収率８４．６％）を得る
。

ＩＲ（ＫＢｒ）【電−’　　；　　ｙｃ＝ｏ　　１７９
０．　　１７５０．　１６７５ＮＭＲ（ＣＤＣＩ、）　
Ｊ値； ５．２７　（ＩＩＬ　ｄ、　Ｊ＝１９Ｈｚ）、　４．０
７　（６Ｈ，ｍ）。

４、Ｉ　Ｌｌ〜４．４Ｌｌ　（３Ｈ，ｍ）、　４．５５
　（ＩＨ，ｄ、　Ｊ＝５Ｈ！　。

６．１４　（Ｉ　Ｈ，ｄｄ、　Ｊ＝５Ｈｚ、　Ｊ＝８Ｈ
ｚ）　。

６６９　（１１，ｓ）、　６．８４　（Ｉｌ　ｂｇ）、
　δ９シ（１Ｈ。

ｓ）、　７．１６〜７．６５　（２６Ｈ，ｍ）、７．７
Ｎ　（ＩＨ，ｓ）参考例５ （１）７−フェニルアセトアミド−５−（２−（キノリ
ン−６−イル）チアゾール−４−イルクー６−セフェム
−４−カルボン酸ジフェニルメチルエステル２００　”
？、ヨウ化メチル０．１８１１／およびＮ、　Ｎ−ジメ
チルホルムアミド５１１＋／の溶液を室温で１０時間反
応−させる。ついで、減圧下に溶媒を留去し、得られた
残留物をカラムクロマトグラフィー〔キーゼルゲル６゜
；メルク社製、溶離液；クロロホルム：エタノール＝１
５二１（容量比）〕で精製すれば、融点１７５〜１７８
℃（分解）を示す６−〔２−（１−メチル−６−キノリ
ニオ）チアゾール−４−イル〕−７−７エニルアセトア
ミドー６−セフエムー４−カルボン酸シフェニルメチル
エステルヨージド１９０１１％＋（収率７ｂ、９チ）を
得る。

ＩＲ（τ（Ｂｒ）ｆｆｉ−’　；　ｌ’Ｑ＝＝９　１７
７５．１７３０．１６６ＯＮＭＩ（（ｄ４　　ＤＭＳＯ
＋ＣＤＣ１５）　ａ　（Ｉｆ　；５．５９　（２Ｈ，ａ
）、　　五７５’（ＩＨ，ｄ、　Ｊ　＝ｊ９ｋ）。

４．２１　（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝１９Ｈ区）、　　　４．７
８　（３１（。

ｓ）、　５．１５（ＩＨ，ｄ、Ｊ−５Ｈｚ）、　　　５
．７８（ＩＨ。

ｄｄ、Ｊ＝５Ｈｚ、Ｊ−８Ｈｚ）、　　　６．７０〜７
．５０（１７）Ｉ、ｍ）、　　　；’８１（ＩＨ，ｓ）
、　　　７．９７〜８．５９（３Ｈ，ｔｏ）、　　　９
．１１（ＩＨ，ｍ）、　　　９．３３（ＩＨ。

ｍ）、　　　９．６９（ＩＨ，ｍ） ｆ２１　３−　（２−（１−メチル−６−キノリニオ）
チアゾール−４−イル〕−７−フェニルアセトアミド−
３−セフェム−４−カルボン酸シフェニルメチルエステ
ルヨージド１５０ダをアニソールｔ５ｍ／に懸濁させ、
水冷下でトリフルオロ酢酸１５ｍ１を加え、同已度で６
０分間反応させる。ついで、減圧下に溶媒を留去し、残
留物にジエチルエーテル１ｇｍｚを加えて析出具をＰ取
する。これを水１４ｒｄおよびアセトン１４ｍＩＣ懸濁
させ、炭酸水素ナトリウム１５■を加えて水冷下で１５
分間攪拌する。析出具をｆ取し、水５ゴおよびアセトン
３　ｍｌで順次洗浄した後、乾燥させ几ば、融点２０２
〜２０４℃（分解）を示す３−〔２−（１−メチル−６
−キノリニオ）チアゾール−４−イル〕−７−フエニル
アセドアミトー６−セフエムー４−カルボキシラード５
５ダ（収率５８．５憾）を得る。

１Ｒ（ＫＢｒ）　　ｃｓ　　　、　　しｃ−ｏ　　　１
７６５．　１６６５．　１６０ＯＮＭＲ（ｄａ　−ＤＭ
ＳＯ＋　ｄ＋　−ＴＦＡ　）δ値；３．６４＋２Ｈ，ｓ
）、　　５．８４（ＩＨ，ｄ、　Ｊ＝１８Ｈｚ＞。

４．１９（ＩＨ，ｄ、　Ｊ＝１８Ｈｚ）、　　４．８０
１５Ｈ，ｓ）。

５．２９（ＩＨ，ｄ、　Ｊ＝５Ｈｚ）、　　５．８１（
ＩＨ，ｄ。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. （１）一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ ［式中、Ｒ＾１は保護されていてもよいカルボキシル基
   またはカルボキシラト基を、Ｒ＾２は異項原子が窒素原
   子である４級化されていてもよい複素環式基で置換され
   ている低級アルキルもしくはアミノ基、保護されていて
   もよいカルボキシル基もしくはカルバモイル基で置換さ
   れている低級アルキル基で４級化されているピリジル基
   または４級化されていてもよいキノリル基を、Ｒ＾３は
   置換基を有していてもよい低級アルキル、低級アルケニ
   ル、低級アルキニル、アリール、シクロアルキル、アル
   アルキル、アシルまたは複素環−低級アルキル基を、Ｒ
   ＾４は保護されていてもよいアミノ基を、およびｎは０
   または１を示す。］ で表わされるセファロスボリン類（シン異性体）および
   その塩。