JPS6267723A - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体の製造方法Info
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- JPS6267723A JPS6267723A JP20921285A JP20921285A JPS6267723A JP S6267723 A JPS6267723 A JP S6267723A JP 20921285 A JP20921285 A JP 20921285A JP 20921285 A JP20921285 A JP 20921285A JP S6267723 A JPS6267723 A JP S6267723A
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- magnetic recording
- plasma
- recording medium
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- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は強磁性薄膜を磁気記録層とする磁気記録媒体の
製造方法に関する。
製造方法に関する。
従来の技術
近年、磁気記録の重要性がますます大きくなるに伴ない
、記録密度に対する要求は、強磁性薄膜を磁気記録層と
する磁気記録媒体の実用化に向けられ、各方面で勢力的
に改良が進められている。
、記録密度に対する要求は、強磁性薄膜を磁気記録層と
する磁気記録媒体の実用化に向けられ、各方面で勢力的
に改良が進められている。
〔例えば外国論文誌アイイーイーイー トランザクショ
ンズ オン マグネティックス（ＩＥＥＥＴｒａｎＳａ
ａｔｉｏｎｓ ｏｎ Ｍａｇｎｅｔｉａｓ） Ｖｏｌｌ
ＭＡＧ−２０゜ＡＩ 、 Ｐ、Ｐ ５１〜ｓｓ （１
９８４） 参照〕改良の焦点は、優れた電磁変換特性
を低下させる度合を抑制して、保護効果を高めた保護膜
、又は媒体構成の開発にあるといえる。
ンズ オン マグネティックス（ＩＥＥＥＴｒａｎＳａ
ａｔｉｏｎｓ ｏｎ Ｍａｇｎｅｔｉａｓ） Ｖｏｌｌ
ＭＡＧ−２０゜ＡＩ 、 Ｐ、Ｐ ５１〜ｓｓ （１
９８４） 参照〕改良の焦点は、優れた電磁変換特性
を低下させる度合を抑制して、保護効果を高めた保護膜
、又は媒体構成の開発にあるといえる。
第３図は従来の代表的な磁気記録媒体の構成を示す拡大
断面図で、１は高分子フィルム、２は強磁性金属薄膜等
からなる磁気記録層、３は保護膜である。
断面図で、１は高分子フィルム、２は強磁性金属薄膜等
からなる磁気記録層、３は保護膜である。
保護膜としては、脂肪酸、脂肪酸アミド、弗素化合物等
の湿式塗布法で構成した膜、蒸着法で構成した膜、各種
モノマーから出発したプラズマ重合膜などが検討されて
いる。
の湿式塗布法で構成した膜、蒸着法で構成した膜、各種
モノマーから出発したプラズマ重合膜などが検討されて
いる。
特にプラズマ重合膜は、圧力やモノマー流量を選択する
ことで強磁性薄膜が柱状結晶粒子から構成された時は、
柱状粒子間の空げき部にも若干侵入することで、保護効
果、特に耐食性、耐すり偏性の改良効果が大きいことが
一部で確かめられている。
ことで強磁性薄膜が柱状結晶粒子から構成された時は、
柱状粒子間の空げき部にも若干侵入することで、保護効
果、特に耐食性、耐すり偏性の改良効果が大きいことが
一部で確かめられている。
発明が解決しようとする問題点
しかしながら、圧力やモノマー流量の条件の最適化のみ
では、粒子間間隙の条件により、空隙部に侵入する度合
が不十分となることが起る。特に、スパッタ法、高分子
フィルムを１００°Ｃ以上に保持して電子ビーム蒸着法
等で形成した垂直磁化膜では殆んど侵入現象がみられず
、期待される程の耐久性が得られないといった問題があ
る。
では、粒子間間隙の条件により、空隙部に侵入する度合
が不十分となることが起る。特に、スパッタ法、高分子
フィルムを１００°Ｃ以上に保持して電子ビーム蒸着法
等で形成した垂直磁化膜では殆んど侵入現象がみられず
、期待される程の耐久性が得られないといった問題があ
る。
本発明は上記事情に鑑みてなされたもので、プラズマ重
合被覆が、粒子間の間隙に侵入し、十分な耐久性を確保
できるようにした磁気記録媒体の製造方法を提供するも
のである。
合被覆が、粒子間の間隙に侵入し、十分な耐久性を確保
できるようにした磁気記録媒体の製造方法を提供するも
のである。
間頂点を解決するだめの手段
上記問題点を解決するために本発明の磁気記録媒体の製
造方法は、超音波振動下に強磁性薄膜を置いてプラズマ
重合被覆するようにしたものである０ 作 用 本発明は上記のようにすることにより、柱状結晶粒子間
の間隙が実効的に開くようになり、プラズマ重合被覆が
粒子間の間隙に十分侵入できるようになるものである。
造方法は、超音波振動下に強磁性薄膜を置いてプラズマ
重合被覆するようにしたものである０ 作 用 本発明は上記のようにすることにより、柱状結晶粒子間
の間隙が実効的に開くようになり、プラズマ重合被覆が
粒子間の間隙に十分侵入できるようになるものである。
実施例
以下、図面を参照しながら本発明の実施例について説明
する。第１図は本発明により得られる磁気記録媒体の部
分拡大断面図、第２図は本発明の方法の実施に用いたプ
ラズマ重合装置の要部構成図である。
する。第１図は本発明により得られる磁気記録媒体の部
分拡大断面図、第２図は本発明の方法の実施に用いたプ
ラズマ重合装置の要部構成図である。
第１図において、４は高分子フィルム、６は柱状粒子、
６はプラズマ重合膜、７は粒子間間隙である。
６はプラズマ重合膜、７は粒子間間隙である。
第２図で、８は強磁性薄膜を配した高分子フィルム（以
下、これを被処理フィルムと呼ぶ）、９は送り出し軸、
１ｏは巻取り軸、１１．１２は回転支持体、１３はエン
ドレスベルト、１４は超音波振動子、１５．１６は放電
電極、１７はモノマー導入ノズル、１８は真空容器、１
９は真空排気系である。
下、これを被処理フィルムと呼ぶ）、９は送り出し軸、
１ｏは巻取り軸、１１．１２は回転支持体、１３はエン
ドレスベルト、１４は超音波振動子、１５．１６は放電
電極、１７はモノマー導入ノズル、１８は真空容器、１
９は真空排気系である。
第２図の装置で、１１．１２の直径は１５！、１３の材
料は１６μｍ厚のチタン箔で局長１２６ｍ、１５．１６
は直径２ｃｍのアルミニウムのロッドでいずれも真空容
器に対して絶縁しており、被処理フィルムとの間は８１
！ｌ？Ｆ＋で電極間隔は４．５ｃｒｎで全部で８本配置
した。超音波振動子は２ Ｋ Ｈｚと１４ＫＨｚの２種
類で実施した。
料は１６μｍ厚のチタン箔で局長１２６ｍ、１５．１６
は直径２ｃｍのアルミニウムのロッドでいずれも真空容
器に対して絶縁しており、被処理フィルムとの間は８１
！ｌ？Ｆ＋で電極間隔は４．５ｃｒｎで全部で８本配置
した。超音波振動子は２ Ｋ Ｈｚと１４ＫＨｚの２種
類で実施した。
、あらかじめ、厚み１６μｍのポリエチレンテレフタレ
ートフィルム上に厚み１６００人のＣｏ−Ｃｒ垂直磁化
膜１：ｃｒ； ２０，３ｗｔ％、垂直保磁力８０５（Ｏ
ｓ）］を高周波スパッタリング法で形成した被処理フィ
ルムを準備した。モノマーガスを導入し、１００ＫＨ２
の高周波グロー放電によジプラズマ重合被覆を行った。
ートフィルム上に厚み１６００人のＣｏ−Ｃｒ垂直磁化
膜１：ｃｒ； ２０，３ｗｔ％、垂直保磁力８０５（Ｏ
ｓ）］を高周波スパッタリング法で形成した被処理フィ
ルムを準備した。モノマーガスを導入し、１００ＫＨ２
の高周波グロー放電によジプラズマ重合被覆を行った。
比較試料を含め、主な製造条件は次表の通りである。
ＡからＦまでのテープの耐食性と耐すシ傷性を比較評価
した。耐食性は、６０°Ｃ９ｏＩＬＨの環ラドと、セン
ダストヘッドに対して、４０℃８０％ＲＨでのビデオテ
ープレコーダでのステイルフレームモードでの再生出力
がｓｄＢ 低下するまでの時間で調査した。それらの結
果は次表のようであった。
した。耐食性は、６０°Ｃ９ｏＩＬＨの環ラドと、セン
ダストヘッドに対して、４０℃８０％ＲＨでのビデオテ
ープレコーダでのステイルフレームモードでの再生出力
がｓｄＢ 低下するまでの時間で調査した。それらの結
果は次表のようであった。
〔第２表〕
上表より、本発明の方法により得られた磁気テ−プＡ、
Ｂ 、Ｄ、Ｅば、プラズマ重合膜を被覆したＣｏ−Ｃｒ
垂直磁化膜の耐久性が十分であることがわかる。
Ｂ 、Ｄ、Ｅば、プラズマ重合膜を被覆したＣｏ−Ｃｒ
垂直磁化膜の耐久性が十分であることがわかる。
なお、本発明の実施例はＣｏ−Ｃｒ膜と、オクタフロロ
シクロブタン、テトラフロロメタンのプラズマ重合膜と
の組み合わせであるが、他に、Ｃｏ−○、 Ｃｏ−Ｎｉ
−０，Ｃｏ−Ｔｉ 、Ｃｏ−Ｂａ 、Ｃｏ−Ｔｄ 、
Ｃｏ−Ｍｏ 、 Ｃｏ −Ｗ 、 Ｃｏ−Ｐ ｔ 、
Ｃｏ−Ｒｈ 、 Ｃｏ−Ｒｕ 、 Ｃｏ −Ｃｒ−Ｎｂ
、Ｃｏ−Ｃｒ−Ｒｈ等の強磁性薄膜と、実施例で用いだ
モノマー及び、テトラフロロエチレン。
シクロブタン、テトラフロロメタンのプラズマ重合膜と
の組み合わせであるが、他に、Ｃｏ−○、 Ｃｏ−Ｎｉ
−０，Ｃｏ−Ｔｉ 、Ｃｏ−Ｂａ 、Ｃｏ−Ｔｄ 、
Ｃｏ−Ｍｏ 、 Ｃｏ −Ｗ 、 Ｃｏ−Ｐ ｔ 、
Ｃｏ−Ｒｈ 、 Ｃｏ−Ｒｕ 、 Ｃｏ −Ｃｒ−Ｎｂ
、Ｃｏ−Ｃｒ−Ｒｈ等の強磁性薄膜と、実施例で用いだ
モノマー及び、テトラフロロエチレン。
ヘキサフロロエタン、パーフロロプロパン、エチレン、
パーフロロミクロブタン、スチレン、スチレン等との組
み合せでもよい。
パーフロロミクロブタン、スチレン、スチレン等との組
み合せでもよい。
発明の効果
本発明の方法は上記したように、強磁性薄膜を超音波振
動下に置いて、プラズマ重合被覆することで、強磁性薄
膜の耐食性、耐すυ優性が改良された耐久性の良い磁気
記録媒体を量産できるといったすぐれた効果を有する。
動下に置いて、プラズマ重合被覆することで、強磁性薄
膜の耐食性、耐すυ優性が改良された耐久性の良い磁気
記録媒体を量産できるといったすぐれた効果を有する。
第１図は本発明の方法により得られる磁気記録媒体の一
例の要部拡大断面図、第２図は本発明の方法の実施に用
いたプラズマ重合装置の一例の要部構成図、第３図は従
来の磁気記録媒体の構成図である。 ６・・・・・・柱状粒子、６・・・・・・プラズマ重合
膜、１３・・・・・エンドレスベルト、１４・・・・・
・超音波振動子、１６．１６・・・・・・放電電極。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか１名ガ、
／メーーー東電を務 ノＯ 第３図
例の要部拡大断面図、第２図は本発明の方法の実施に用
いたプラズマ重合装置の一例の要部構成図、第３図は従
来の磁気記録媒体の構成図である。 ６・・・・・・柱状粒子、６・・・・・・プラズマ重合
膜、１３・・・・・エンドレスベルト、１４・・・・・
・超音波振動子、１６．１６・・・・・・放電電極。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか１名ガ、
／メーーー東電を務 ノＯ 第３図
Claims (1)
- 強磁性柱状粒子から構成される強磁性薄膜を、超音波振
動下に置いてプラズマ重合被覆することを特徴とする磁
気記録媒体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20921285A JPH0630146B2 (ja) | 1985-09-20 | 1985-09-20 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20921285A JPH0630146B2 (ja) | 1985-09-20 | 1985-09-20 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6267723A true JPS6267723A (ja) | 1987-03-27 |
| JPH0630146B2 JPH0630146B2 (ja) | 1994-04-20 |
Family
ID=16569205
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP20921285A Expired - Lifetime JPH0630146B2 (ja) | 1985-09-20 | 1985-09-20 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0630146B2 (ja) |
-
1985
- 1985-09-20 JP JP20921285A patent/JPH0630146B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0630146B2 (ja) | 1994-04-20 |
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