JPS6265351A - 樹脂封止電子部品 - Google Patents
樹脂封止電子部品Info
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- JPS6265351A JPS6265351A JP60203294A JP20329485A JPS6265351A JP S6265351 A JPS6265351 A JP S6265351A JP 60203294 A JP60203294 A JP 60203294A JP 20329485 A JP20329485 A JP 20329485A JP S6265351 A JPS6265351 A JP S6265351A
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- polyphenylene ether
- polyphenylene
- polyphenylene sulfide
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は機械的性質が改善され、かつ電子部品の信頼性
を高めうるポリフェニレンサルファイド樹脂組成物で封
止された樹脂封止電子部品に関するものであり、ＩＣ、
トランジスター、キャパシター、レジスター、ダイオー
ド、トリオード、サイリスター、コイル、バリスター、
コネクター、コンデンサー、トランスデユーサ−１水晶
発振器、ヒユーズ、整流器、電源、マイクロスイッチ、
およびこれらの複合部品等の電子部品に利用される。
を高めうるポリフェニレンサルファイド樹脂組成物で封
止された樹脂封止電子部品に関するものであり、ＩＣ、
トランジスター、キャパシター、レジスター、ダイオー
ド、トリオード、サイリスター、コイル、バリスター、
コネクター、コンデンサー、トランスデユーサ−１水晶
発振器、ヒユーズ、整流器、電源、マイクロスイッチ、
およびこれらの複合部品等の電子部品に利用される。
（従来の技術および発明が解決しようとする問題点）Ｉ
Ｃ，）ランシスター、キャパシター、レジスター等、上
記に挙げた電子部品は電気絶縁性の保持、機械的保護、
外部雰囲気による特性変化の防止等の目的で合成樹脂で
封止することが広く行われている０合成樹脂としては従
来エポキシ樹脂やシリコン樹脂等の熱硬化性樹脂が主に
使用されているが、これらの熱硬化性樹脂を用いて電子
部品を封止する際、成形サイクルが長い、パリが出やす
い、樹脂自体の保存性が充分でない、スプルーランナー
の再利用ができない、等の欠点がある。
Ｃ，）ランシスター、キャパシター、レジスター等、上
記に挙げた電子部品は電気絶縁性の保持、機械的保護、
外部雰囲気による特性変化の防止等の目的で合成樹脂で
封止することが広く行われている０合成樹脂としては従
来エポキシ樹脂やシリコン樹脂等の熱硬化性樹脂が主に
使用されているが、これらの熱硬化性樹脂を用いて電子
部品を封止する際、成形サイクルが長い、パリが出やす
い、樹脂自体の保存性が充分でない、スプルーランナー
の再利用ができない、等の欠点がある。
一方、ポリフェニレンサルファイド樹脂は耐熱性、難燃
性、耐薬品性に優れ、かつ熱可塑性樹脂であるために、
上記の熱硬化性樹脂にみられる欠点がな（、生産性が高
いと言う利点を有していることから、近年電子部品封止
用樹脂として注目されている。
性、耐薬品性に優れ、かつ熱可塑性樹脂であるために、
上記の熱硬化性樹脂にみられる欠点がな（、生産性が高
いと言う利点を有していることから、近年電子部品封止
用樹脂として注目されている。
ところが、電子部品にストレスを与えずに樹脂封止を行
うためには、該ポリフェニレンサルファイド樹脂組成物
は低い溶融粘度であることが必要であり、そのためには
該ポリフェニレンサルファイド樹脂自体を低分子量とし
、低い溶融粘度としているが、本来、ポリフェニレンサ
ルファイド樹脂自体、伸びが少ないこともあり、当該樹
脂組成物から得られる電子部品封止成形物が掻めて脆弱
となり、その一部が欠けたりクランクをおこすような問
題があった。更に、樹脂自体の柔軟性、親水性が少ない
ために電子部品のリード金属との密着性にも欠け、電子
部品の信頼性が高くないと言う問題もあった。
うためには、該ポリフェニレンサルファイド樹脂組成物
は低い溶融粘度であることが必要であり、そのためには
該ポリフェニレンサルファイド樹脂自体を低分子量とし
、低い溶融粘度としているが、本来、ポリフェニレンサ
ルファイド樹脂自体、伸びが少ないこともあり、当該樹
脂組成物から得られる電子部品封止成形物が掻めて脆弱
となり、その一部が欠けたりクランクをおこすような問
題があった。更に、樹脂自体の柔軟性、親水性が少ない
ために電子部品のリード金属との密着性にも欠け、電子
部品の信頼性が高くないと言う問題もあった。
（問題点を解決するための手段）
本発明者らは、上記の如き状況に鑑み、機械的性質およ
びリード金属との密着性が改善されたポリフェニレンサ
ルファイド樹脂組成物で封止され、機械的保護性および
電気的性質が改善された樹脂封止電子部品を得るべく鋭
意検討した結果、無機充填材を含むポリフェニレンサル
ファイド樹脂にポリフェニレンエーテル樹脂を添加する
ことで上記の問題点が解決されることを見出し、本発明
に至ったものである。
びリード金属との密着性が改善されたポリフェニレンサ
ルファイド樹脂組成物で封止され、機械的保護性および
電気的性質が改善された樹脂封止電子部品を得るべく鋭
意検討した結果、無機充填材を含むポリフェニレンサル
ファイド樹脂にポリフェニレンエーテル樹脂を添加する
ことで上記の問題点が解決されることを見出し、本発明
に至ったものである。
本発明のポリフェニレンサルファイド樹脂は一般式→ニ
ー０−８→の繰り返し単位を有し、本発明の目的を逸脱
しない範囲で共重合体樹脂も用いることができる。又、
該ポリフェニレンサルファイド樹脂はＡＳＴＭ ０１２
３Ｂ−７４（３１６℃、５一荷重）で測定されたメルト
フローレイトが５００〜１００００ｇ／１０分の範囲に
あることが好ましく、電子部品の種類によって、適切な
メルトフローレイトを選択できる０例えば半導体電子部
品に適したポリフェニレンサルファイドのメルトフロー
レイトは、３０００〜１００００ ｇ／１０分である。
ー０−８→の繰り返し単位を有し、本発明の目的を逸脱
しない範囲で共重合体樹脂も用いることができる。又、
該ポリフェニレンサルファイド樹脂はＡＳＴＭ ０１２
３Ｂ−７４（３１６℃、５一荷重）で測定されたメルト
フローレイトが５００〜１００００ｇ／１０分の範囲に
あることが好ましく、電子部品の種類によって、適切な
メルトフローレイトを選択できる０例えば半導体電子部
品に適したポリフェニレンサルファイドのメルトフロー
レイトは、３０００〜１００００ ｇ／１０分である。
該ポリフェニレンサルファイ［゛は架橋していない重合
体、酸素、イオウ、３官能モノマーで架橋した重合体お
よびこれらの混合物が含まれる。
体、酸素、イオウ、３官能モノマーで架橋した重合体お
よびこれらの混合物が含まれる。
本発明に用いられるポリフェニレンエーテル樹脂は一般
隣接する単位のベンゼン核に接続し、Ｑは水素、ハロゲ
ン、三級α−炭素原子を含有しない炭化水素基、ハロゲ
ン原子とフェニル核の間に少なくとも２個の炭素原子を
有するハロ炭化水素基、炭化水素オキシ基およびハロゲ
ン原子とフェニル核の間に少な（とも２個の炭素原子を
有するハロ炭化水素オキシ基からなる群から選択した一
価′Ｉｔ換基を表す）の繰り返し単位を有し、例えばポ
リ （２・６−ジメチル＝１・４−）エコしン）エーテ
ル；ポリ （２・６−シエチルー１・４−フェニレン）
エーテル；ポリ（２−メチル−６−ニチルー１・４−フ
ェニレン）エーテル；ポリ （２−メチル−６−プロピ
ル−１・４−フェニレン）エーテル；ポリ （２・６−
ジプロピル−１・４−）エコしン）エーテルおよびポリ
（２−エチル−６−プロピル−１・４−フェニレン）エ
ーテルを含む、好ましいのはポリ （２・６−シメチル
ー１・４−フェニレン）エーテルである。
隣接する単位のベンゼン核に接続し、Ｑは水素、ハロゲ
ン、三級α−炭素原子を含有しない炭化水素基、ハロゲ
ン原子とフェニル核の間に少なくとも２個の炭素原子を
有するハロ炭化水素基、炭化水素オキシ基およびハロゲ
ン原子とフェニル核の間に少な（とも２個の炭素原子を
有するハロ炭化水素オキシ基からなる群から選択した一
価′Ｉｔ換基を表す）の繰り返し単位を有し、例えばポ
リ （２・６−ジメチル＝１・４−）エコしン）エーテ
ル；ポリ （２・６−シエチルー１・４−フェニレン）
エーテル；ポリ（２−メチル−６−ニチルー１・４−フ
ェニレン）エーテル；ポリ （２−メチル−６−プロピ
ル−１・４−フェニレン）エーテル；ポリ （２・６−
ジプロピル−１・４−）エコしン）エーテルおよびポリ
（２−エチル−６−プロピル−１・４−フェニレン）エ
ーテルを含む、好ましいのはポリ （２・６−シメチル
ー１・４−フェニレン）エーテルである。
該ポリフェニレンエーテル樹脂は、上記単独重合体だけ
でなく本発明の目的を損なわぬ限り共重合体であっても
よく、特に好ましいのはスチレングラフトポリフェニレ
ンエーテル樹脂である。該スチレングラフトポリフェニ
レンエーテル樹脂に用いるスチレンは例えばポリスチレ
ン、ポリクロロスチレン、ポリ−α−メチルスチレン等
のホモポリマー；スチレン含有共重合体例えばスチレン
−アクリロニトリル共重合体、エチルビニルベンゼンと
ジビニルベンゼンの共重合体、スチレン−アクリロニト
リル−メチルスチレン三元共重合体等を含む。この群の
好ましいポリスチレン樹脂はホモポリスチレン、ポリ−
α−メチルスチレン、スチレン−アクリロニトリル共重
合体、スチレン−α−メチルスチレン共重合体、スチレ
ン−メチルメタクリレート共重合体、およびポリ−α−
クロロスチレンから選択される重合体が含まれる。これ
らの共重合体を製造する方法は特開昭５０−５１１９７
号公報などで開示されている。更に本発明で好ましいポ
リフェニレンエーテル共重合体の例として、ポリフェニ
レンエーテル樹脂とポリフェニレンサルファイド樹脂と
のブロック又はグラフト共重合体が含まれる。該共重合
体は例えばポリフェニレンエーテル重合体の末＠基をア
ルコラードとし、ポリフェニレンサルファイドの重合中
に加える方法、あるいはポリフェニレンエーテル重合体
とポリフェニレンサルファイド重合体を均一に混合後、
約２００℃〜４００℃の温度で加熱する方法をとること
により得ることができる。
でなく本発明の目的を損なわぬ限り共重合体であっても
よく、特に好ましいのはスチレングラフトポリフェニレ
ンエーテル樹脂である。該スチレングラフトポリフェニ
レンエーテル樹脂に用いるスチレンは例えばポリスチレ
ン、ポリクロロスチレン、ポリ−α−メチルスチレン等
のホモポリマー；スチレン含有共重合体例えばスチレン
−アクリロニトリル共重合体、エチルビニルベンゼンと
ジビニルベンゼンの共重合体、スチレン−アクリロニト
リル−メチルスチレン三元共重合体等を含む。この群の
好ましいポリスチレン樹脂はホモポリスチレン、ポリ−
α−メチルスチレン、スチレン−アクリロニトリル共重
合体、スチレン−α−メチルスチレン共重合体、スチレ
ン−メチルメタクリレート共重合体、およびポリ−α−
クロロスチレンから選択される重合体が含まれる。これ
らの共重合体を製造する方法は特開昭５０−５１１９７
号公報などで開示されている。更に本発明で好ましいポ
リフェニレンエーテル共重合体の例として、ポリフェニ
レンエーテル樹脂とポリフェニレンサルファイド樹脂と
のブロック又はグラフト共重合体が含まれる。該共重合
体は例えばポリフェニレンエーテル重合体の末＠基をア
ルコラードとし、ポリフェニレンサルファイドの重合中
に加える方法、あるいはポリフェニレンエーテル重合体
とポリフェニレンサルファイド重合体を均一に混合後、
約２００℃〜４００℃の温度で加熱する方法をとること
により得ることができる。
上記ポリフェニレンエーテル樹脂の配合量はポリフェニ
レンエーテル重合体単独成分換算としてポリフェニレン
サルファイド樹脂１００重量部に対し、０．１〜３０重
量部が本発明電子部品の樹脂成形物の機械的性質および
樹脂電子部品の信頼性の改善効果が大きく、しかも耐熱
性、溶融時の流動性に優れるので好ましい。
レンエーテル重合体単独成分換算としてポリフェニレン
サルファイド樹脂１００重量部に対し、０．１〜３０重
量部が本発明電子部品の樹脂成形物の機械的性質および
樹脂電子部品の信頼性の改善効果が大きく、しかも耐熱
性、溶融時の流動性に優れるので好ましい。
本発明に用いるポリフェニレンサルファ・（ド樹脂組成
物中にポリフェニレンエーテル樹脂のほか必要によって
はゴムが添加できる。該ゴムの添加量はポリフェニレン
エーテル樹脂の単独又は共重合体１００重量部に対し１
〜１００重量部の範囲が好ましい、該ゴムの添加により
、本発明の効果即ち、外部からの衝撃、力などに対して
改善された機械的性質を有し且つ高められた信頼性を有
する効果はより高められる。当該ゴムは天然又は合成ゴ
ムであり、例えばポリブタジェン、ポリイソプレンおよ
び同等物、およびかかるジエンとビニル単量体例えばス
チレンの如きビニル芳香族単量体との共重合体がある。
物中にポリフェニレンエーテル樹脂のほか必要によって
はゴムが添加できる。該ゴムの添加量はポリフェニレン
エーテル樹脂の単独又は共重合体１００重量部に対し１
〜１００重量部の範囲が好ましい、該ゴムの添加により
、本発明の効果即ち、外部からの衝撃、力などに対して
改善された機械的性質を有し且つ高められた信頼性を有
する効果はより高められる。当該ゴムは天然又は合成ゴ
ムであり、例えばポリブタジェン、ポリイソプレンおよ
び同等物、およびかかるジエンとビニル単量体例えばス
チレンの如きビニル芳香族単量体との共重合体がある。
好適なゴムまたはゴム状重合体の例には天然クレープゴ
ム、熱間または冷間乳化重合によって製造されるブタジ
ェン４０〜９８重量％とスチレン６０〜２重量％を含有
する合成ＳＢＲ型ゴム、ブタジェン６５〜８２重量％と
アクリロニトリル３５〜１８重量％を含有する合成ＧＲ
−Ｎ型ゴム、およびトリアルキルアルミニウムおよびハ
ロゲン化チタンの如き不均質触媒系を用いる方法によっ
て例えばブタジェン、ブタジェン−スチレンまたはイソ
プレンから作られた合成ゴムがある０本発明組成物を製
造するに当たって使用しうる合成ゴムの中には、弾性体
状変性ジエンホモポリマー、例えばヒドロキシ−および
カルボキシ−末端停止ポリブタジェン、ポリクロロブタ
ジェン例えばネオブレン；ポリイソブチレン、およびイ
ソブチレンとブタジェンまたはイソプレンとの共重合イ
ネ；ポリイソプレン；エチレンとプロピレンの共重合体
およびこれらとブタジェンの共重合体；サイオコールゴ
ム；多硫化ゴム；アクリルゴム；ポリウレタンゴム；ジ
エン例えばブタジェンおよびイソプレンと各種の単量体
例えばアルキル不飽和エステル、（例えばメチルメタク
リレート）、不飽和ケトン（例えばメチルイソプロペニ
ルケトン）、ビニル複素環例えばビニルピリジンとの共
重合体；ポリエーテルゴム；エピクロロヒドリンゴム等
がある。好ましいゴムはポリブタジェンおよびブタジェ
ン又は水素化ジエンとスチレンのゴム状共重合体などで
ある。
ム、熱間または冷間乳化重合によって製造されるブタジ
ェン４０〜９８重量％とスチレン６０〜２重量％を含有
する合成ＳＢＲ型ゴム、ブタジェン６５〜８２重量％と
アクリロニトリル３５〜１８重量％を含有する合成ＧＲ
−Ｎ型ゴム、およびトリアルキルアルミニウムおよびハ
ロゲン化チタンの如き不均質触媒系を用いる方法によっ
て例えばブタジェン、ブタジェン−スチレンまたはイソ
プレンから作られた合成ゴムがある０本発明組成物を製
造するに当たって使用しうる合成ゴムの中には、弾性体
状変性ジエンホモポリマー、例えばヒドロキシ−および
カルボキシ−末端停止ポリブタジェン、ポリクロロブタ
ジェン例えばネオブレン；ポリイソブチレン、およびイ
ソブチレンとブタジェンまたはイソプレンとの共重合イ
ネ；ポリイソプレン；エチレンとプロピレンの共重合体
およびこれらとブタジェンの共重合体；サイオコールゴ
ム；多硫化ゴム；アクリルゴム；ポリウレタンゴム；ジ
エン例えばブタジェンおよびイソプレンと各種の単量体
例えばアルキル不飽和エステル、（例えばメチルメタク
リレート）、不飽和ケトン（例えばメチルイソプロペニ
ルケトン）、ビニル複素環例えばビニルピリジンとの共
重合体；ポリエーテルゴム；エピクロロヒドリンゴム等
がある。好ましいゴムはポリブタジェンおよびブタジェ
ン又は水素化ジエンとスチレンのゴム状共重合体などで
ある。
更にまた、本発明に用いるポリフェニレンサルファイド
樹脂組成物中にポリスチレン類などの他の重合体を添加
することは本発明の目的を損なわぬ限り何ら差し支えな
い。
樹脂組成物中にポリスチレン類などの他の重合体を添加
することは本発明の目的を損なわぬ限り何ら差し支えな
い。
本発明では、無機充填材をポリフェニレンサルファイド
樹脂組成物中３０〜８０重量％配合することができるが
、特に好ましいのは５５〜７５重量％である。無機充填
材の例として、シリカ、ケイソウ土、アルミナ、酸化チ
タン、酸化亜鉛、酸化アンチモン、軽石、炭酸カルシウ
ム、炭酸マグネシウム、チタン酸カリウム、硫酸カルシ
ウム、硫酸バリウム、タルク、クレー、マイカ、アスベ
スト、ガラス、ケイ酸カルシウム、モンモリロナイト、
ベントナイト、ウオラストナイト、炭化ケイ素などの粒
状あるいは繊維状の定形又は不定形のもの及びこれらの
混合物が挙げられる。
樹脂組成物中３０〜８０重量％配合することができるが
、特に好ましいのは５５〜７５重量％である。無機充填
材の例として、シリカ、ケイソウ土、アルミナ、酸化チ
タン、酸化亜鉛、酸化アンチモン、軽石、炭酸カルシウ
ム、炭酸マグネシウム、チタン酸カリウム、硫酸カルシ
ウム、硫酸バリウム、タルク、クレー、マイカ、アスベ
スト、ガラス、ケイ酸カルシウム、モンモリロナイト、
ベントナイト、ウオラストナイト、炭化ケイ素などの粒
状あるいは繊維状の定形又は不定形のもの及びこれらの
混合物が挙げられる。
本発明で用いるポリフェニレンサルファイド樹脂組成物
は、公知の添加剤、例えばカップリング剤、酸化防止剤
、熱安定剤、腐食防止剤、滑剤、着色剤等を添加するこ
とができる。
は、公知の添加剤、例えばカップリング剤、酸化防止剤
、熱安定剤、腐食防止剤、滑剤、着色剤等を添加するこ
とができる。
本発明の樹脂電子部品は例えばフロレス、トランスファ
ー、射出成形機などの樹脂封止用成形機を用いて樹脂温
度２６０℃〜４００℃、金型温度２０℃〜２２０℃、成
形圧カ１０００ｋｇ／ｃｄ以下、特に好ましくは５００
ｋｇ／−以下の成形条件で得ることができる。
ー、射出成形機などの樹脂封止用成形機を用いて樹脂温
度２６０℃〜４００℃、金型温度２０℃〜２２０℃、成
形圧カ１０００ｋｇ／ｃｄ以下、特に好ましくは５００
ｋｇ／−以下の成形条件で得ることができる。
（発明の効果）
本発明のポリフェニレンサルファイド樹脂組成物で封止
された樹脂電子部品は外部からの力、衝撃に対し改善さ
れた機械的性質を有し、かつ高められた信鯨性を有する
。
された樹脂電子部品は外部からの力、衝撃に対し改善さ
れた機械的性質を有し、かつ高められた信鯨性を有する
。
（実施例）
以下、本発明を実施例および比較例により説明する。
実施例１〜５、比較例１
メルトフローレイトが８５００のポリフェニレンサルフ
ァイド樹脂とポリフェニレンエーテル樹脂（クロロホル
ム１％溶液、３０℃で測定された固有粘度０．４１）の
合計量１００重量部に対し、溶融シリカ１５０重量部、
ウオラストナイ）５０重量部の組成のものを６５ｆｉ押
出機を用いて３００℃で溶融混練したのち、３オンス射
出成形機を用いて、３１０℃、射出圧力１５０ｋｇ／−
で１４ｐｉｎのＩＣを封止しくセンターゲート）成形時
のクランク発生割合、およびボンディングワイヤー断線
個数の割合を調べたのが第１表の結果である。
ァイド樹脂とポリフェニレンエーテル樹脂（クロロホル
ム１％溶液、３０℃で測定された固有粘度０．４１）の
合計量１００重量部に対し、溶融シリカ１５０重量部、
ウオラストナイ）５０重量部の組成のものを６５ｆｉ押
出機を用いて３００℃で溶融混練したのち、３オンス射
出成形機を用いて、３１０℃、射出圧力１５０ｋｇ／−
で１４ｐｉｎのＩＣを封止しくセンターゲート）成形時
のクランク発生割合、およびボンディングワイヤー断線
個数の割合を調べたのが第１表の結果である。
第 １ 表
（注１）ポリフェニレンサルファイド樹脂１００重量部
に対する重量部（注２）クラックの断線が認められた封
止成形品個数の割合（％）実施例６〜１１ 実施例１〜５で用いたポリフェニレンサルファイド樹脂
およびポリフェニレンエーテル樹脂に、更に水素添加タ
イプスチレン−ブタジェン共重合体（シェル化学型、ク
レイトンＧ−１６５０）あるいはポリスチレン樹脂（大
日本インキ化学製、ディックスチレンＧＨ−８０００）
を配合し、同様に実験を行った結果を第２表に示した。
に対する重量部（注２）クラックの断線が認められた封
止成形品個数の割合（％）実施例６〜１１ 実施例１〜５で用いたポリフェニレンサルファイド樹脂
およびポリフェニレンエーテル樹脂に、更に水素添加タ
イプスチレン−ブタジェン共重合体（シェル化学型、ク
レイトンＧ−１６５０）あるいはポリスチレン樹脂（大
日本インキ化学製、ディックスチレンＧＨ−８０００）
を配合し、同様に実験を行った結果を第２表に示した。
第 ２ 表
実施例１２〜１９、比較例２
メルトフローレイトが４６００のポリフェニレンサルフ
ァイド樹脂と第３表に示したポリフェニレンエーテル樹
脂を合計１００重憧都合よび溶融シリカ２００重量部を
実施例１・〜４と同様の方法でＩＣを封止し、得られた
ＩＣ封止成形品を１２１’Ｃ１２気圧下で赤インク中に
浸漬し、１０時間保持し、金属表面の赤インク浸透度合
（第１図参照）を観察した。ＩＣのリードは４２７０イ
を用いた。又樹脂組成物のアイシフト衝撃強度もテスト
ピースを作成し測定した。
ァイド樹脂と第３表に示したポリフェニレンエーテル樹
脂を合計１００重憧都合よび溶融シリカ２００重量部を
実施例１・〜４と同様の方法でＩＣを封止し、得られた
ＩＣ封止成形品を１２１’Ｃ１２気圧下で赤インク中に
浸漬し、１０時間保持し、金属表面の赤インク浸透度合
（第１図参照）を観察した。ＩＣのリードは４２７０イ
を用いた。又樹脂組成物のアイシフト衝撃強度もテスト
ピースを作成し測定した。
第３表より明らかなようにポリフェニレンエーテル樹脂
の添加により、赤インクの浸透度合は減少し、ＩＣの耐
／ソ性が向上することを示している。
の添加により、赤インクの浸透度合は減少し、ＩＣの耐
／ソ性が向上することを示している。
第１図は６．２ｍＸ１９．ＯｍのＩＣ封止成形品の右上
部分のみを具体的に示した図であり、図中、■〜■の数
字はリード線金属表面の赤インク浸透度合を示す。 代理人 弁理士 高 橋 勝 利 図面の浄書（内容に変更なしン ！、 ｌ ｓ”Ａ 手続補正書 （方式） ％式％ １、 事件の表示 昭和６０年特許願第２０５２９４号 ２、発明の名称 樹脂封止電子部品 Ｓ 補正をする者 事件との関係 特許出願人 〒１７４東京都板橋区坂下三丁目６５番５８号（２８８
）大日本インキ化学工業株式会社代表者 川 村 茂
邦 ４、代理人 〒１０５東京都中央区日本橋三丁目７番２０号大日本イ
ンキ化学工業株式会社内 電話 東京（ＣＤ）２７２−４５１１ （大代表）（８
８７６）弁理士高橋勝利 ５、補正命令の日付 昭和６０年１１月２６日（発送日） ＆ 補正の対象 図面 １ 補正の内容 別紙のとおり（内容に変更なし）。
部分のみを具体的に示した図であり、図中、■〜■の数
字はリード線金属表面の赤インク浸透度合を示す。 代理人 弁理士 高 橋 勝 利 図面の浄書（内容に変更なしン ！、 ｌ ｓ”Ａ 手続補正書 （方式） ％式％ １、 事件の表示 昭和６０年特許願第２０５２９４号 ２、発明の名称 樹脂封止電子部品 Ｓ 補正をする者 事件との関係 特許出願人 〒１７４東京都板橋区坂下三丁目６５番５８号（２８８
）大日本インキ化学工業株式会社代表者 川 村 茂
邦 ４、代理人 〒１０５東京都中央区日本橋三丁目７番２０号大日本イ
ンキ化学工業株式会社内 電話 東京（ＣＤ）２７２−４５１１ （大代表）（８
８７６）弁理士高橋勝利 ５、補正命令の日付 昭和６０年１１月２６日（発送日） ＆ 補正の対象 図面 １ 補正の内容 別紙のとおり（内容に変更なし）。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、電子部品を、ポリフェニレンエーテル樹脂、無機充
填剤、および必要によりゴムを含有したポリフェニレン
サルファイド樹脂組成物で封止したことを特徴とする樹
脂封止電子部品。 ２、ポリフェニレンエーテル樹脂が、スチレングラフト
ポリフェニレンエーテル樹脂であることを特徴とする特
許請求の範囲第１項記載の樹脂封止電子部品。 ３、ポリフェニレンエーテル樹脂が、ポリフェニレンエ
ーテル樹脂とポリフェニレンサルファイド樹脂とのブロ
ック又はグラフト共重合体であることを特徴とする特許
請求の範囲第１項記載の樹脂封止電子部品。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60203294A JP2615550B2 (ja) | 1985-09-17 | 1985-09-17 | 樹脂封止電子部品 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60203294A JP2615550B2 (ja) | 1985-09-17 | 1985-09-17 | 樹脂封止電子部品 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6265351A true JPS6265351A (ja) | 1987-03-24 |
| JP2615550B2 JP2615550B2 (ja) | 1997-05-28 |
Family
ID=16471654
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60203294A Expired - Fee Related JP2615550B2 (ja) | 1985-09-17 | 1985-09-17 | 樹脂封止電子部品 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2615550B2 (ja) |
Cited By (10)
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-
1985
- 1985-09-17 JP JP60203294A patent/JP2615550B2/ja not_active Expired - Fee Related
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Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2615550B2 (ja) | 1997-05-28 |
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