JPS6263570A - ピペリジル−アミノ酸誘導体及び高分子材料用安定剤 - Google Patents
ピペリジル−アミノ酸誘導体及び高分子材料用安定剤Info
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- JPS6263570A JPS6263570A JP60202615A JP20261585A JPS6263570A JP S6263570 A JPS6263570 A JP S6263570A JP 60202615 A JP60202615 A JP 60202615A JP 20261585 A JP20261585 A JP 20261585A JP S6263570 A JPS6263570 A JP S6263570A
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- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（目的）
本願発明は、新規なピペリジル−アミノ酸誘導体及びそ
の酸付加塩並びにそれらの合成高分子材料用安定剤とし
ての用途に関するものである。
の酸付加塩並びにそれらの合成高分子材料用安定剤とし
ての用途に関するものである。
ソビエット連邦共和国特許４９８２６８号公報には、式
（式中、Ｒは、エチル、ブチル等を示す。）を有する化
合物が、高分子材料の安定剤として有用であることが開
示されている。
合物が、高分子材料の安定剤として有用であることが開
示されている。
これらの化合物は、安定化効果が十分とはいえず、しか
も揮散し易い等の欠点を有する。
も揮散し易い等の欠点を有する。
本願発明者等は、上記化合物の欠点を改善するために、
ピペリジル−アミノ酸誘導体の合成とそれらの安定化効
果について、長年に亘って鋭意研究を重ねた結果、新規
なピペリジル−アミノ酸誘導体が、匿れた安定化効果を
有し、かり揮散性も少ないことを見出して、本願発明を
完成させた。
ピペリジル−アミノ酸誘導体の合成とそれらの安定化効
果について、長年に亘って鋭意研究を重ねた結果、新規
なピペリジル−アミノ酸誘導体が、匿れた安定化効果を
有し、かり揮散性も少ないことを見出して、本願発明を
完成させた。
（構成）
本願発明の新規なピペリジル−アミノ酸誘導体は、次式
（１）によって示される。
（１）によって示される。
上記式中、
Ｒ及びＲ２は、同一又は異なって、水素原子、Ｃ−Ｃの
アルキル基”２−Ｃ［１のアシル基又は置換されていて
もよいアラルキル基を示す。
アルキル基”２−Ｃ［１のアシル基又は置換されていて
もよいアラルキル基を示す。
Ｒ５は、水素原子、Ｃ−Ｃのアルキル基、Ｃ２−Ｃ８の
アルコキシアルキル１４、Ｃ２−Ｃ８のアルキルチオア
ルキル基、ベンジル基又はアミノ−（Ｃ４−Ｃ４）のア
ルキル基〔該アミノ基は、置換基を有してもよく、その
直換基は、同一又は異なって、Ｃ１−Ｃ４８のアルキル
基、’２ ’１８のア前述したものと同意義を示す。
アルコキシアルキル１４、Ｃ２−Ｃ８のアルキルチオア
ルキル基、ベンジル基又はアミノ−（Ｃ４−Ｃ４）のア
ルキル基〔該アミノ基は、置換基を有してもよく、その
直換基は、同一又は異なって、Ｃ１−Ｃ４８のアルキル
基、’２ ’１８のア前述したものと同意義を示す。
）を示す。〕を示す。
Ａは、酸素原子又はイミノ基（−ＮＨ−）を示す。
ｎは、２乃至４の整数を示す。
ｎが２のとき、Ｒ４は、酸素原子、硫黄原子又は（上記
式中、Ｒ６は、水素原子又はＣ１−０４のアルキル基を
示し、ｐは、１乃至４の整数を示し、ｑ及びｒは、同一
又は異なって、Ｏ乃至３の整数を示す。）を示し、 ｎが３のとき、Ｒ４は、窒素原子で中断されていてもよ
いＣ，−Ｃ８のアルカントリイル基又は式 を有する基（式中、Ｓは、１乃至６の整数を示す。）を
示し、 ｎが４のとき、酸素原子で中断されていてもよいＣ４−
０８のアルカンテトライル基を示す。
式中、Ｒ６は、水素原子又はＣ１−０４のアルキル基を
示し、ｐは、１乃至４の整数を示し、ｑ及びｒは、同一
又は異なって、Ｏ乃至３の整数を示す。）を示し、 ｎが３のとき、Ｒ４は、窒素原子で中断されていてもよ
いＣ，−Ｃ８のアルカントリイル基又は式 を有する基（式中、Ｓは、１乃至６の整数を示す。）を
示し、 ｎが４のとき、酸素原子で中断されていてもよいＣ４−
０８のアルカンテトライル基を示す。
式（Ｉンにおいて、
ＲＲ又はＲ５等が示すＣＩ ’１８のアルキル１＃２
基は直鎖又は分枝でもよく、例えば、メチル、エチル、
ｎ−１７’口ビル、イソプロピル、ｎ−ブチル、ｎ−ヘ
キシル、ｎ−オクチル、２−エチルヘキシル、ｎ−デシ
ル、ｎ−ドデシル、ｎ−オクタデシルであり得、好適に
はＣ，−０８のアルキル基、例えばメチル、エチル、ｎ
−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、ｎ−ヘキシル
、ｎ−オクチル、２−エチルヘキシルであり、特に好適
にはメチルである。
ｎ−１７’口ビル、イソプロピル、ｎ−ブチル、ｎ−ヘ
キシル、ｎ−オクチル、２−エチルヘキシル、ｎ−デシ
ル、ｎ−ドデシル、ｎ−オクタデシルであり得、好適に
はＣ，−０８のアルキル基、例えばメチル、エチル、ｎ
−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、ｎ−ヘキシル
、ｎ−オクチル、２−エチルヘキシルであり、特に好適
にはメチルである。
ＲＲ又はＲ等が示すＣ２−Ｃ１８のアシル基１ｔ ２
５ は、例えばアセチル、プロピオニル、アクリロイル、ｎ
−ブチリル、ｎ−ヘキサノイル、ベンゾイル、ｎ−オク
タノイル、ラウロイル、バルミトイル、ステアロイルで
あり得、好適にはＣ２Ｃ４の脂肪族アシルであり、特に
好適にはアセチルである。
５ は、例えばアセチル、プロピオニル、アクリロイル、ｎ
−ブチリル、ｎ−ヘキサノイル、ベンゾイル、ｎ−オク
タノイル、ラウロイル、バルミトイル、ステアロイルで
あり得、好適にはＣ２Ｃ４の脂肪族アシルであり、特に
好適にはアセチルである。
Ｒ，、Ｒ２及びＲ５等が示す置換されていてもよいアラ
ルキル基は、置換基として、メチル、エチル、ｎ−プロ
ピル、イソプロピル、ｎ−ブチルのようなＣ１−Ｃ４の
アルキル基、メトキシ、エトキシ、ｎ−プロポキシ、イ
ソプロポキシ、ｎ−ブトキシ、イソブトキシのようなＣ
ｌ−０４のアルコキシ基又はフルオロ、クロルのような
ハロゲン原子を有していてもよいベンジル基又はフェネ
チル基であり、好適にはベンジルである。
ルキル基は、置換基として、メチル、エチル、ｎ−プロ
ピル、イソプロピル、ｎ−ブチルのようなＣ１−Ｃ４の
アルキル基、メトキシ、エトキシ、ｎ−プロポキシ、イ
ソプロポキシ、ｎ−ブトキシ、イソブトキシのようなＣ
ｌ−０４のアルコキシ基又はフルオロ、クロルのような
ハロゲン原子を有していてもよいベンジル基又はフェネ
チル基であり、好適にはベンジルである。
Ｒが示すＣ１−０４のアルキル基又はアミノ−（Ｃ，−
Ｃ４）のアルキル基のアルキル部分等は、例えばメチル
、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル又
はイソブチルであり得、好適には、メチルである。
Ｃ４）のアルキル基のアルキル部分等は、例えばメチル
、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル又
はイソブチルであり得、好適には、メチルである。
Ｒが示すＣ２Ｃｓのアルコキシアルキル基は、Ｃ−Ｃの
アルコキシ基を有するＣ１−０４のアルギル基であり、
好適には、メトキシメチルである。
アルコキシ基を有するＣ１−０４のアルギル基であり、
好適には、メトキシメチルである。
Ｒが示すＣ２Ｃｓのアルキルチオアルキル基は、Ｃ−Ｃ
のアルキルチオ基を有するＣ１−０４のアルキル基であ
り、好適には２−（メチルチオ）エチル基である。
のアルキルチオ基を有するＣ１−０４のアルキル基であ
り、好適には２−（メチルチオ）エチル基である。
を有する基で中断されていてもよいＣ２−Ｃ１８のアル
キレン基は、例えば、メチレン、エチレン、トリメチレ
ン、プロピレン、テトラメチレン、ペンタメチレン、ヘ
キサメチレン、ヘプタメチレン、オクタメチレン、デカ
メチレン、ドデカメチレン、ヘキサデカメチレン、 式（ＣＨ）−０（ＣＨ２）Ｔ、 ％ＣＨ２ｈｅ子ＣＨ２
千、。
キレン基は、例えば、メチレン、エチレン、トリメチレ
ン、プロピレン、テトラメチレン、ペンタメチレン、ヘ
キサメチレン、ヘプタメチレン、オクタメチレン、デカ
メチレン、ドデカメチレン、ヘキサデカメチレン、 式（ＣＨ）−０（ＣＨ２）Ｔ、 ％ＣＨ２ｈｅ子ＣＨ２
千、。
（−ＣＨ０−）−、−（−ＣＨ＋０−（ＣＨΣ−０イＣ
Ｈ２后ＯイＣＨ２冴。
Ｈ２后ＯイＣＨ２冴。
又は ＋ＣＨ２）７４０（ＣＨ２ｑ 。
を有する基であり得、好適には、Ｃ２−Ｃ８のアルキレ
ンである。
ンである。
Ｒ４が示す窒素原子で中断されていてもよいＣ’５−０
８アルカントリイル基は、式を有する基であり得、好適
には式−（’Ｈ−ＣＭ−１□−Ｒ４が示す酸素原子で中
断されていてもよいＣ４−０８のアルカンテトライル基
は、式を有する基であり得、好適には式 本願発明において、好適な化合物として、ｔｉ＋ 式
（ト）において、Ｒ４及びＲ２が、同一又は異なって、
Ｃ，−０４のアルキル基、Ｌ ２ Ｃ４０アシル基又
はベンジル基である化合物、 （２） 式（■ンにおいて、Ｒが、水素原子、Ｃ，−
０４のアルキル基又は式（−ＣＨ２） ４−ＮＨ２を有
する基〔該アミノ基は、置換基を有してもよく、その置
換基ｅユ、同一又は異なって、Ｃ，−Ｃ４のアルキ示す
。〕である。〕である化合物、 （３）式（１）において、ｎが２のとき、Ｒ４が、Ｃ２
（上記式中、Ｒは、水素原子又はＣ１Ｃ４のアルキル基
を示し、ｐは、１乃至４の整数を示し、ｑ及びｒは、同
一又は異なって、Ｏ又は１を示す。）であり、ｎが３の
とき、Ｒ４が、窒素原子で中断されていてもよいＣＭ５
−ＣＩ□のアルカントリイル基又は式 を有する基（式中、８は、１乃至６の整数を示す。）で
あり、ｎが４のとき、Ｒ４が、酸素原子で中断されてい
てもよいＣ４−Ｃ１゜のアルカンテトライル基である化
合物、 をあげることができる。
８アルカントリイル基は、式を有する基であり得、好適
には式−（’Ｈ−ＣＭ−１□−Ｒ４が示す酸素原子で中
断されていてもよいＣ４−０８のアルカンテトライル基
は、式を有する基であり得、好適には式 本願発明において、好適な化合物として、ｔｉ＋ 式
（ト）において、Ｒ４及びＲ２が、同一又は異なって、
Ｃ，−０４のアルキル基、Ｌ ２ Ｃ４０アシル基又
はベンジル基である化合物、 （２） 式（■ンにおいて、Ｒが、水素原子、Ｃ，−
０４のアルキル基又は式（−ＣＨ２） ４−ＮＨ２を有
する基〔該アミノ基は、置換基を有してもよく、その置
換基ｅユ、同一又は異なって、Ｃ，−Ｃ４のアルキ示す
。〕である。〕である化合物、 （３）式（１）において、ｎが２のとき、Ｒ４が、Ｃ２
（上記式中、Ｒは、水素原子又はＣ１Ｃ４のアルキル基
を示し、ｐは、１乃至４の整数を示し、ｑ及びｒは、同
一又は異なって、Ｏ又は１を示す。）であり、ｎが３の
とき、Ｒ４が、窒素原子で中断されていてもよいＣＭ５
−ＣＩ□のアルカントリイル基又は式 を有する基（式中、８は、１乃至６の整数を示す。）で
あり、ｎが４のとき、Ｒ４が、酸素原子で中断されてい
てもよいＣ４−Ｃ１゜のアルカンテトライル基である化
合物、 をあげることができる。
また式（１）の化合物の酸付加塩も本発明の範囲に含ま
れる。このような酸付加塩としては高分子の安定化を阻
害しないものであれば特に限定はなく、例えば酸は硫酸
、塩酸又はリン酸のような無機酸、ギ酸、酢酸、吉草酸
、ステアリン酸、蓚酸、アジピン酸、セパチン酸、マレ
イン酸、安息香酸、ｐ −ｔ−ブチル安息香酸、３，５
−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ安息香酸、サルチル
酸、テレフタル酸のような有機カルボン酸、メタンスル
ホン酸、ベンゼンスルホン酸、ｐ−）ルエンスルホン酸
のような有機スルホンＲあるいはフェニルホスホン酸の
ような有機ホスホン酸であり得る。
れる。このような酸付加塩としては高分子の安定化を阻
害しないものであれば特に限定はなく、例えば酸は硫酸
、塩酸又はリン酸のような無機酸、ギ酸、酢酸、吉草酸
、ステアリン酸、蓚酸、アジピン酸、セパチン酸、マレ
イン酸、安息香酸、ｐ −ｔ−ブチル安息香酸、３，５
−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ安息香酸、サルチル
酸、テレフタル酸のような有機カルボン酸、メタンスル
ホン酸、ベンゼンスルホン酸、ｐ−）ルエンスルホン酸
のような有機スルホンＲあるいはフェニルホスホン酸の
ような有機ホスホン酸であり得る。
下記に式（１）を有する悶々のピペリジル−目。
実施例中で、それらの化合物を指示するために使用され
る。
る。
１ ＨＨＨ（−ＣＨ２）ｙ ０２
ＣＨ３ＣＨ３１＃ １３ （テＯ岬２つＩ
Ｉ Ｉ４ ＣＨ，ＣＭ Ｉ
Ｉ Ｎ５ ＃
＃ ＣＨ，＃ Ｏｓ Ｉ
＃ Ｈ−＜ＣＩ！２＋４ＦＴ Ｉ
＃ ＣＨ，＃ ＃＠ Ｃ４Ｈ，
Ｃ４Ｈ，＃ ｌ Ｉ９
ＣＨ，ＣＨ，ＨＩ Ｎ１０ ｚ
ｃ ４Ｈｐ ＃ ＃
Ｉ１２ １ ｔｔ ＣＨ３１Ｉ１４
Ｃ４Ｈ９ｃ ４Ｈ９ｓ ＃ ｔ
ｒ１５ ＣＨ２ＣＨ２Ｈ（ＣＨ２九 Ｉ１６
／ｌ ＃ ＣＨ３／Ｆ
１１７ １ ＃ Ｈ＃
Ｎ１８ ｚ ｔｒ Ｃ
Ｈ３ｔｔ Ｉ１９−ｃａ２−□ｃＨ２ツＨ／
ｌ Ｉ２０ ｔｔ ｐ Ｃｌ
１３ｉｔ ｔｒ２１ ＨＨＨ（ｃａ２
枯 ０２２ ＣＨ３ＣＨ，ＨＩ
Ｎ２３ Ｃ５Ｈ１ｙ ＣｓＨ１ｙ ＃
／ｌ Ｉ２４ ＣＨ３ＣＨ３ＣＨ
３÷部２片 Ｏ２５−ＣＨ２→ぺＨ？■ ＨＩＩ ２６ ＣＨ３ＣＨ３−ＣＨ（七 Ｉ
Ｉ２７ ｐ ｔｔ−ＣＨ２Ｃ
Ｈ２−８−０Ｍ３＃ ｐ２８Ｉ〃−ｃＨ２ＣＨ
２→Ｃ２Ｈ５〃Ｉ２ｇ ｔｔ ｔｒ −
ａＨ２−＠） ｐ Ｉ３１ ｃ ４Ｈ
９Ｃ４Ｈ９ｔｔ ｐ ｔｔ３３
ＨＨＨ蜘、乞。 Ｉ ３４ ＣＨ２ＣＨ２＃ ＃
／／３６ ＣＨ，ＣＨ３ＣＨ，−（’ＣＨ２汁
、 ０３７ ｃ ４Ｈ９Ｃ４Ｈ９ＨＩ
Ｉ３ Ｂ ＨＨ＃ −（ＣＨ２汁、
Ｉ３９ ＣＨ３ＣＨ，ＣＨ３＃ Ｉ４１
ｓ ｔｔ ＣＨ，＃
Ｉ４４ ｐ ｌ Ｈ七Ｈ２＋七Ｈ２
ケ Ｉ４５ 〃Ｉ ＣＨ３／／
Ｉ１４６ ｔｔ ｓ −ｃａ＜
’、、”：ｓ （−ｃａ２）２−ｏ（−ａＨ，）ｙ
ｓ七Ｈ２）Ｔ８ （ＣＩ ２−１−２０ ４６ ＃ Ｉ Ｈ＋ｃｍ２涜−（ｃｕ２
）ｐ神、）２− Ｎ４９ −ＣＨ４２つ−ａｙ２−＠）
Ｉ Ｉ Ｉｓｏ ＣＨ，ＣＨ，
ＣＭ、 −ａｎ２ｃｕ２４ｃＨ２ＣＨ２−ｚ５１
ｚ ｚ Ｈ＋ｚ ５２ Ｃ４Ｈ，Ｃ，Ｈ，ＣＨ，ｚ Ｎ５
３ ＃ ｚ Ｈ−ＣＨ２−４戸Ｈ２−０
５５ｚ ＃ ＣＨ，−ｆｃｕ２斌父トＨ２汁 １
５１１ ＃ ＃ ＃ ＃
Ｎ８０ ｃｕ５ Ｃ）１５
Ｈ−ＣＨ５−ＣＨ−ｃＨ，−０８１−ｃＨ２
＠−ｃＨ２！ ／／ ｔｔ
／／６２ ＣＨｉｃｉｉａ Ｃ１（
。
ＣＨ３ＣＨ３１＃ １３ （テＯ岬２つＩ
Ｉ Ｉ４ ＣＨ，ＣＭ Ｉ
Ｉ Ｎ５ ＃
＃ ＣＨ，＃ Ｏｓ Ｉ
＃ Ｈ−＜ＣＩ！２＋４ＦＴ Ｉ
＃ ＣＨ，＃ ＃＠ Ｃ４Ｈ，
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Ｉ３９ ＣＨ３ＣＨ，ＣＨ３＃ Ｉ４１
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Ｉ Ｉ Ｉｓｏ ＣＨ，ＣＨ，
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ｚ ｚ Ｈ＋ｚ ５２ Ｃ４Ｈ，Ｃ，Ｈ，ＣＨ，ｚ Ｎ５
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５５ｚ ＃ ＣＨ，−ｆｃｕ２斌父トＨ２汁 １
５１１ ＃ ＃ ＃ ＃
Ｎ８０ ｃｕ５ Ｃ）１５
Ｈ−ＣＨ５−ＣＨ−ｃＨ，−０８１−ｃＨ２
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／／ｆ１７ ／／ ｓ
［（／／ Ｎ□ ｆ、９ ＣａＨｑ ｃ４励 ／／
／／ Ｉ／７０
ＣＨａ ＣＨＩＣＨＩ
／Ｉ Ａ／ＴＩ Ｃ６Ｈ１７Ｃ
ＩＩＨ１７ｔｔ ／／
。
／／ｆ１７ ／／ ｓ
［（／／ Ｎ□ ｆ、９ ＣａＨｑ ｃ４励 ／／
／／ Ｉ／７０
ＣＨａ ＣＨＩＣＨＩ
／Ｉ Ａ／ＴＩ Ｃ６Ｈ１７Ｃ
ＩＩＨ１７ｔｔ ／／
。
７３ ｔｔ ｔｔ Ｈ）ＣＨ２九
Ｃ１（−（ＣＨ２牙〃■ ７４ ｔｔ ｔ
ｔ ｉｔ Ｒ７
５／／ Ｉ／ Ｃｆｉ、
Ｎ７７ ／／
）Ｉ
Ｎ７ ｇ ｗ ／／
ＣＨ、ｔｔ ｕ６ ｇ
ｕ Ａ／ ／／
ｔｔ Ｈ１１２ゝ１ヒ１１１”
Ｒ・ Ｒ２Ｒ，Ｒ４Ａ査号 ８２ Ｃ４Ｈｐ Ｃ４Ｈｐ ＃ ｔ
ｔ８３ 何２＠ −ＣＨ２や ・ ・８
４ ＣＯＣＨ３Ｃ０ＣＨＩ ＃
ｔｔ８５ 酎ｌ ＣＨＢ ＣＨ！ｔｔ８６
／／ ／／ −ｃＨ２ｃｎｓ８Ｔ ／／
＃ −ＣＩ（２ＣＨ２−８−ＣＨ。
Ｃ１（−（ＣＨ２牙〃■ ７４ ｔｔ ｔ
ｔ ｉｔ Ｒ７
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／／ ／／ −ｃＨ２ｃｎｓ８Ｔ ／／
＃ −ＣＩ（２ＣＨ２−８−ＣＨ。
４１９ ／／ ｔｔ ＨＮ９１ −ＣＩ（
２＠−ｃＨ２＠ ｔｔ ｔｔ
０８２ ＣＨ３ＣＨ３ＣＬ（５ｔｔ ／／本願発
明に係る式（Ｚ）を有する化合物は、以下に示す方法に
従って製造することができる。
２＠−ｃＨ２＠ ｔｔ ｔｔ
０８２ ＣＨ３ＣＨ３ＣＬ（５ｔｔ ／／本願発
明に係る式（Ｚ）を有する化合物は、以下に示す方法に
従って製造することができる。
（Ｉ［） （Ｉ）上記式中、
Ｒ＋ ＋ Ｒ２ｍ ”５ ＋ ’４ ＋ Ａ及びｎは、
前述したものと同意義を示し、Ｒ７ｒｒｉ、Ｃ，−ｃ４
のぞ鷺、基を□す。
Ｒ＋ ＋ Ｒ２ｍ ”５ ＋ ’４ ＋ Ａ及びｎは、
前述したものと同意義を示し、Ｒ７ｒｒｉ、Ｃ，−ｃ４
のぞ鷺、基を□す。
第１工程は、目的化合物（Ｉ）を製造する工程で、不活
性溶剤中、塩基の存在下、一般式（ｎ）を有するアミノ
酸エステルを、一般式 ％式％） （式中、Ｒ４，Ａ及びｎは、前述したものと同意義を示
す。） を有するアルコール又はアミンと反応させることによっ
て達成される。
性溶剤中、塩基の存在下、一般式（ｎ）を有するアミノ
酸エステルを、一般式 ％式％） （式中、Ｒ４，Ａ及びｎは、前述したものと同意義を示
す。） を有するアルコール又はアミンと反応させることによっ
て達成される。
使用される塩基としては、水酸化す） ＩＪウム、水酸
化カリウムのようなアルカリ金属水酸化物。
化カリウムのようなアルカリ金属水酸化物。
リチウムアミド、ナトリウムアミドのようなアルカリ金
属アミド、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシ
ド、カリウムｔ−ブトキシド、ナトリウムｔ−ベントキ
シドのようなアルカリ金属アルコキシド又はチタン酸テ
トライソプロピル、チタン酸テトラｎ−ブチル、チタン
酸テトラインブチルのようなチタン酸Ｃ，−Ｃ，のアル
キルをあげることができる。
属アミド、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシ
ド、カリウムｔ−ブトキシド、ナトリウムｔ−ベントキ
シドのようなアルカリ金属アルコキシド又はチタン酸テ
トライソプロピル、チタン酸テトラｎ−ブチル、チタン
酸テトラインブチルのようなチタン酸Ｃ，−Ｃ，のアル
キルをあげることができる。
使用される不活性溶剤としては、反応に関与しなければ
特に制限されないが、好適には、ベンゼン、トルエン、
キシレン、シクロへ中サン、ｎ−ヘキサン、ｎ−へブタ
ン、ｎ−オクタンのような炭化水素類をあけることがで
きる。
特に制限されないが、好適には、ベンゼン、トルエン、
キシレン、シクロへ中サン、ｎ−ヘキサン、ｎ−へブタ
ン、ｎ−オクタンのような炭化水素類をあけることがで
きる。
反応温度は、２０℃乃至１８０℃であル、反応に要する
時間は、原料化合物、塩基の種類又は反応温度によって
異なるが通常３０分間乃至２５時間である。
時間は、原料化合物、塩基の種類又は反応温度によって
異なるが通常３０分間乃至２５時間である。
反応終了後、目的化合物は常法に従って反応混合物から
採取することができる。例えば所望によシ反応混合物に
不溶物が存在する場合にはＰ別し、又は反応混合物が＠
性又はアルカリ性の場合は中和し友後、水を加え水下混
合性有機浴剤で抽出し、得られた抽出液を乾燥し、抽出
液から溶剤を留去することによって得ることができる。
採取することができる。例えば所望によシ反応混合物に
不溶物が存在する場合にはＰ別し、又は反応混合物が＠
性又はアルカリ性の場合は中和し友後、水を加え水下混
合性有機浴剤で抽出し、得られた抽出液を乾燥し、抽出
液から溶剤を留去することによって得ることができる。
さらに必要に応じて、例えばカラムクロマトグラフィー
、分取薄層クロマトグラフィー、蒸留法、再結晶法等に
よシ精製することもできる。
、分取薄層クロマトグラフィー、蒸留法、再結晶法等に
よシ精製することもできる。
末完ＢＡＫ係る式（Ｉ）を有するピペリジル−アミノ酸
誘導体及びその酸付加塩は重合体との相溶性に優れ、揮
散性及び表面移行性も小さく、シかも優れた光及び熱安
定化効果並びに耐ガス効果を有するため、広範囲の合成
高分子の安定化に利用できる。
誘導体及びその酸付加塩は重合体との相溶性に優れ、揮
散性及び表面移行性も小さく、シかも優れた光及び熱安
定化効果並びに耐ガス効果を有するため、広範囲の合成
高分子の安定化に利用できる。
この方法によシ安定化される合成高分子には次のものが
含まれる。
含まれる。
オレフィン及びジエンポリマー
オレフィン及びジエンのホモポリマー（例えば、低密度
、直鎖状低密度、高密度及び架橋ポリエチレン、ポリプ
ロピレン、ポリイソブチレン、ポリメチルブテン−１、
ポリメチルペンテン−１、ポリイソプンン及びポリブタ
ジェン〕、そのようなホモポリマーの混合物（例えば、
ポリプロピレンとポリエチレン、ポリプロピレンとポリ
ブテン−１、又はポリプロピレンとポリイソブチレンの
混合物〕、及びオレフィンとジエンノコポリマーＣ例、
ｔばエチレン−プロピレン コポリマー、フロビレンー
フテン−１コポリマー、プａピレン−インブテン コポ
リマー、エチレンーフテンー１ コポリマー、プロピレ
ン−ブタジェン コポリマー及ヒエチレン及びプロピレ
ンとへキサジエン、ジシクロペンタジェン又はエチリデ
ンノルボルネンのよウナジエンとのターポリマー）： スチレンポリマー ホリスチレン、スチレンまたはα−メチルスチレンのコ
ーホリマ−（例、ｔ＆Ｉスチレン−ブタジェン コホリ
マー、スチレン−アクリロニトリル コポリマー、スチ
レンーアクリロニトリルーメチルメタクリレート コポ
リマー、スチレン−アクリロニトリル−アクリル酸エス
テル コポリマー、衝撃強度を与えるためにアクリル酸
エステルポリマーで変性されたスチレン−７クリロニト
リル コポリマー、および衝撃強度を与えるためにＫＰ
ＤＭで変性されたスチレンポリマー〕、及びスチレンの
グラフト コポリマー（例えは、ポリブタジェンに対す
るスチレンのグラフトポリマー、通常アクリロニトリル
−ブタジェン−スチレン又はＡＢＳ プラスチックスと
いわれるポリブタジェンに対するスチレンおよびアクリ
ロニトリルのグラフトポリマー及び上記スチレン コポ
リマーとＣれとの混合物）： ハロケン化ビニル及びビニリデンポリマーポリ塩化ビニ
ル、ポリ塩化ビニリデン、ポリフッ化ヒニル、ポリクロ
ロプレン、！素化ゴム、塩化ビニル−塩化ビニリデン
コポリマー、塩化ビニル−酢酸ビニル コポリマー、塩
化ビニリチン−酢酸ビニル コポリマー二 α、Ｉ−不飽相酸及びその誘導体のポリマーポリアクリ
ル醸エステル及びポリメタクリル酸エステル、ポリアク
リルアミド及びポリアクリロニトリル： ポリビニルアルコール、ポリ酢酸ビニル、ポリステアリ
ン酸ビニル、ポリ安、ハ谷酸ビニル、ポリマレイン酸ビ
ニル、ポリビニルアルコ−ル、ポリフタル酸アリル、ポ
リメラミンアリル及び前記単量体と他種のビニル化合物
とのコポリマー（例えばエチレン−酢酸ビニル コポリ
マー）：エポキシ化合物のホモポリマー及びコポリマー
（例えは、ポリエチレンオキシド）及びビスグリシジル
エーテル化合物のポリマー：ポリオキシメチレン、オキ
シメチレン−エチレンオキシド コポリマー、ポリオキ
シエチレン、ポリプロピレンオキシド、ポリイソブチレ
ンオキシド及びポリフェニレンオキシド：ジアミンと脂
肪族又は芳香族ジカルボン酸から誘導される、及び／又
はアミノカルボン酸又はそれに対応するラクタムから誘
導されるポリアミド及びコポリアミド：例えば、ナイロ
ン−６、ナイロン−６／８、ナイロン−６／１０、 ナ
イロン−１１、ナイロン１２ニ ジカルボン酸とジアルコールとから、及び／又はオキシ
酸またはそれに対応するラクトンから誘導されるポリエ
ステル：例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリブ
チレンテレフタレート、ポリ−シクロヘキサン−１，４
−ジメチレンテレフタレートニ 一方がアルデヒド、他方がフェノール、尿素又はメラミ
ンとから誘導される架橋ポリマー：例工は、フェノール
−ホルムアルデヒド樹脂、尿累−ホルムアルデヒド樹脂
、メラミン−ホルムアルデヒド樹脂及びジアリールフタ
レート樹脂： 例えば、グリセロール−フタル酸樹脂、及びこれとメラ
ミン−ホルムアルデヒド値崩との混合物： 飽和及び不飽和ジカルボン酸と多価アルコールとのコポ
リエステルから誘導され、架橋剤としてビニル化合物を
用いて得られた不飽和ポリエステル樹脂、及びそれを塩
素化して難燃化変性を施したもの。
、直鎖状低密度、高密度及び架橋ポリエチレン、ポリプ
ロピレン、ポリイソブチレン、ポリメチルブテン−１、
ポリメチルペンテン−１、ポリイソプンン及びポリブタ
ジェン〕、そのようなホモポリマーの混合物（例えば、
ポリプロピレンとポリエチレン、ポリプロピレンとポリ
ブテン−１、又はポリプロピレンとポリイソブチレンの
混合物〕、及びオレフィンとジエンノコポリマーＣ例、
ｔばエチレン−プロピレン コポリマー、フロビレンー
フテン−１コポリマー、プａピレン−インブテン コポ
リマー、エチレンーフテンー１ コポリマー、プロピレ
ン−ブタジェン コポリマー及ヒエチレン及びプロピレ
ンとへキサジエン、ジシクロペンタジェン又はエチリデ
ンノルボルネンのよウナジエンとのターポリマー）： スチレンポリマー ホリスチレン、スチレンまたはα−メチルスチレンのコ
ーホリマ−（例、ｔ＆Ｉスチレン−ブタジェン コホリ
マー、スチレン−アクリロニトリル コポリマー、スチ
レンーアクリロニトリルーメチルメタクリレート コポ
リマー、スチレン−アクリロニトリル−アクリル酸エス
テル コポリマー、衝撃強度を与えるためにアクリル酸
エステルポリマーで変性されたスチレン−７クリロニト
リル コポリマー、および衝撃強度を与えるためにＫＰ
ＤＭで変性されたスチレンポリマー〕、及びスチレンの
グラフト コポリマー（例えは、ポリブタジェンに対す
るスチレンのグラフトポリマー、通常アクリロニトリル
−ブタジェン−スチレン又はＡＢＳ プラスチックスと
いわれるポリブタジェンに対するスチレンおよびアクリ
ロニトリルのグラフトポリマー及び上記スチレン コポ
リマーとＣれとの混合物）： ハロケン化ビニル及びビニリデンポリマーポリ塩化ビニ
ル、ポリ塩化ビニリデン、ポリフッ化ヒニル、ポリクロ
ロプレン、！素化ゴム、塩化ビニル−塩化ビニリデン
コポリマー、塩化ビニル−酢酸ビニル コポリマー、塩
化ビニリチン−酢酸ビニル コポリマー二 α、Ｉ−不飽相酸及びその誘導体のポリマーポリアクリ
ル醸エステル及びポリメタクリル酸エステル、ポリアク
リルアミド及びポリアクリロニトリル： ポリビニルアルコール、ポリ酢酸ビニル、ポリステアリ
ン酸ビニル、ポリ安、ハ谷酸ビニル、ポリマレイン酸ビ
ニル、ポリビニルアルコ−ル、ポリフタル酸アリル、ポ
リメラミンアリル及び前記単量体と他種のビニル化合物
とのコポリマー（例えばエチレン−酢酸ビニル コポリ
マー）：エポキシ化合物のホモポリマー及びコポリマー
（例えは、ポリエチレンオキシド）及びビスグリシジル
エーテル化合物のポリマー：ポリオキシメチレン、オキ
シメチレン−エチレンオキシド コポリマー、ポリオキ
シエチレン、ポリプロピレンオキシド、ポリイソブチレ
ンオキシド及びポリフェニレンオキシド：ジアミンと脂
肪族又は芳香族ジカルボン酸から誘導される、及び／又
はアミノカルボン酸又はそれに対応するラクタムから誘
導されるポリアミド及びコポリアミド：例えば、ナイロ
ン−６、ナイロン−６／８、ナイロン−６／１０、 ナ
イロン−１１、ナイロン１２ニ ジカルボン酸とジアルコールとから、及び／又はオキシ
酸またはそれに対応するラクトンから誘導されるポリエ
ステル：例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリブ
チレンテレフタレート、ポリ−シクロヘキサン−１，４
−ジメチレンテレフタレートニ 一方がアルデヒド、他方がフェノール、尿素又はメラミ
ンとから誘導される架橋ポリマー：例工は、フェノール
−ホルムアルデヒド樹脂、尿累−ホルムアルデヒド樹脂
、メラミン−ホルムアルデヒド樹脂及びジアリールフタ
レート樹脂： 例えば、グリセロール−フタル酸樹脂、及びこれとメラ
ミン−ホルムアルデヒド値崩との混合物： 飽和及び不飽和ジカルボン酸と多価アルコールとのコポ
リエステルから誘導され、架橋剤としてビニル化合物を
用いて得られた不飽和ポリエステル樹脂、及びそれを塩
素化して難燃化変性を施したもの。
高分子の効果的安定化に必要な本発明の安定剤の１ｍは
、種々の要因、例えば対象となるポリマーの種類及び性
質、その使用目的、及び他の安定剤の存在等に依存する
。通常、高分子の１（址を基準にして本発明の安定剤を
０．０１乃至５重量チ用いると充分であるが、最も有効
な範囲はポリマーの種類によジ変る：即ち、オレフィン
、ジエンおよびスチレンポリマーについては０．０１乃
至２．０重量％、好ましくは０．０２乃至１．０］ｊｉ
１％：塩化ビニルおよび塩化ビニルデンボリマーについ
ては０．０１乃至１．０重ｉチ、好ましくは０．０２乃
至０．５重ｉｓ：そして、ポリウレタン及びポリアミド
については０．０１乃至５．０重量％、好ましくは０．
０２乃至２．０重量％である。所望によシ、本発明の安
定剤の２Ｈ１またはそれ以上を一緒に用いることができ
る。
、種々の要因、例えば対象となるポリマーの種類及び性
質、その使用目的、及び他の安定剤の存在等に依存する
。通常、高分子の１（址を基準にして本発明の安定剤を
０．０１乃至５重量チ用いると充分であるが、最も有効
な範囲はポリマーの種類によジ変る：即ち、オレフィン
、ジエンおよびスチレンポリマーについては０．０１乃
至２．０重量％、好ましくは０．０２乃至１．０］ｊｉ
１％：塩化ビニルおよび塩化ビニルデンボリマーについ
ては０．０１乃至１．０重ｉチ、好ましくは０．０２乃
至０．５重ｉｓ：そして、ポリウレタン及びポリアミド
については０．０１乃至５．０重量％、好ましくは０．
０２乃至２．０重量％である。所望によシ、本発明の安
定剤の２Ｈ１またはそれ以上を一緒に用いることができ
る。
本発明の安定剤は通常の技術によシ、成形物品を製造す
る前の都合のよいあらゆる段階で高分子に容易に混入で
きる。例えば、該安定剤を液状または乾燥粉末状で高分
子と混合するか。
る前の都合のよいあらゆる段階で高分子に容易に混入で
きる。例えば、該安定剤を液状または乾燥粉末状で高分
子と混合するか。
あるいは該安定剤の懸濁液または乳濁液を高分子の溶液
、懸濁液または乳濁液と混合することができる。
、懸濁液または乳濁液と混合することができる。
本発明の安定化された高分子組成物はまた。
高分子技術の分野で種々の慣用の添加剤を適宜含ませる
ことができ、そのような添加剤は英国特許ＢＡ、ｍ曹１
４０１９２４の１１〜１３頁に記載されている。
ことができ、そのような添加剤は英国特許ＢＡ、ｍ曹１
４０１９２４の１１〜１３頁に記載されている。
この様にして安定化されたプラスチックは、非常に広範
な形態で、例えはフィルム、繊維、テープ、圧縮成形材
料、塗料組成物またはペイントとして使用できる。
な形態で、例えはフィルム、繊維、テープ、圧縮成形材
料、塗料組成物またはペイントとして使用できる。
本発明を更に次の参考例および実施例で説明するが、こ
れらの参考例および実施例において、全ての部及びパー
セントは１墓単位である。
れらの参考例および実施例において、全ての部及びパー
セントは１墓単位である。
参考例１
２、２． ｓ、 ｓ−テトラメチル−４−ピペリドン１
５５Ｉとグリシンエチルエステル塩酸塩１５４１をエタ
ノール１２００ ｔＲｌに溶解したのち、酸化白金２０
ｙを添加し、中圧水添装置によシ室温で５時間２乃至３
気圧の水素と共に振とうした。反応終了後、白金触媒を
１別した溶液から溶剤を減圧で留去して得北残留物に、
パラホルム１５０ｇと９ａ酸５５０ゴを加え５時間加熱
還流した。反応終了後、反応混合物から溶剤を留去した
のち、ベンゼンと水を加え炭酸カリウムで中和した。
５５Ｉとグリシンエチルエステル塩酸塩１５４１をエタ
ノール１２００ ｔＲｌに溶解したのち、酸化白金２０
ｙを添加し、中圧水添装置によシ室温で５時間２乃至３
気圧の水素と共に振とうした。反応終了後、白金触媒を
１別した溶液から溶剤を減圧で留去して得北残留物に、
パラホルム１５０ｇと９ａ酸５５０ゴを加え５時間加熱
還流した。反応終了後、反応混合物から溶剤を留去した
のち、ベンゼンと水を加え炭酸カリウムで中和した。
ベンゼン溶液を分離し、無水炭酸カリウムで乾燥した。
ベンゼン溶液から溶剤を減圧で留去したのち、蒸留によ
り精製し、汚点１３２−１４０℃／４ｒｒｔｍＨｇの油
状物として目的物を得た。
り精製し、汚点１３２−１４０℃／４ｒｒｔｍＨｇの油
状物として目的物を得た。
同様にして、ピペリドン化合物と対応するアミノ酸のエ
ステル化合物の塩酸塩から下記の化合物を得た。
ステル化合物の塩酸塩から下記の化合物を得た。
沸点１０９−１１１°Ｇ ／ ３．５ ｍｍ Ｈｐネー
ト（Ｃ） 沸点２３５°Ｇ ／ ２．６ Ｘｌ０−２閣Ｈ７実施例
１ 〔Ｎ−メチル−Ｎ−（１，２，２，８，６−ペンタメチ
合物番号６４） 参考例１（Ａ）で得られた化合物９．１１とトリメチロ
ールプロパン１．５Ｊｉｌトルエン２５０−に溶解し、
ンジウム第ミプトキサイド０．３ ｉを添加し、１０５
℃乃至１１５℃で２６時間加熱した。この間生成するエ
タノールと共にトルエン１５０ ｍｌを留去した。反厄
終了後１反応混合物を水中に注ぎ１次いでベンゼンで抽
出した。抽出液ｆ、無水炭酸カリウムで乾燥したのち、
抽出液よシ溶剤を留去した。得られた残留物をシリカゲ
ルを用いたカラムクロマトグラフィー〔溶離剤：酢酸エ
チル：エタノール：トリエチルアミン（５０：２：１）
の混合溶剤〕に付し、無色油状物として目的物を得た。
ト（Ｃ） 沸点２３５°Ｇ ／ ２．６ Ｘｌ０−２閣Ｈ７実施例
１ 〔Ｎ−メチル−Ｎ−（１，２，２，８，６−ペンタメチ
合物番号６４） 参考例１（Ａ）で得られた化合物９．１１とトリメチロ
ールプロパン１．５Ｊｉｌトルエン２５０−に溶解し、
ンジウム第ミプトキサイド０．３ ｉを添加し、１０５
℃乃至１１５℃で２６時間加熱した。この間生成するエ
タノールと共にトルエン１５０ ｍｌを留去した。反厄
終了後１反応混合物を水中に注ぎ１次いでベンゼンで抽
出した。抽出液ｆ、無水炭酸カリウムで乾燥したのち、
抽出液よシ溶剤を留去した。得られた残留物をシリカゲ
ルを用いたカラムクロマトグラフィー〔溶離剤：酢酸エ
チル：エタノール：トリエチルアミン（５０：２：１）
の混合溶剤〕に付し、無色油状物として目的物を得た。
本品は、シリカゲルを用いた薄層クロマトグラフィー〔
展開溶剤：酢酸エチル：エタノール：トリエチルアミン
（２０：１：１）の混合溶剤〕でＲｆ値０．３６を示し
た。
展開溶剤：酢酸エチル：エタノール：トリエチルアミン
（２０：１：１）の混合溶剤〕でＲｆ値０．３６を示し
た。
同様にして、相当するピペリジン化合物とボリアルコー
ル化合物から下記の化合物を得た。
ル化合物から下記の化合物を得た。
Ｒｆ値は、 シリカゲルを用いた薄層クロマトグラフィ
ー〔展開浴剤：酢酸エチル：エタノール：トリエチルア
ミン（２０：１ ：１）の混合溶剤〕で得たものである
。
ー〔展開浴剤：酢酸エチル：エタノール：トリエチルア
ミン（２０：１ ：１）の混合溶剤〕で得たものである
。
実施例２
Ｒｆ値０．３５
実施例３
Ｒｆ値０．４１
実施例４
〕（例示化合物番号１３）
Ｒｆｊ直 ０．３８
実施例５
ペンタン（例示化合物番号４３）
Ｒｆ値０１３１
実施例６
Ｒ，ｆ値０．４３
実施例Ｔ
Ｒｆ値０．３６
実施例８
−４−ピペリジル）リジネート〕（例示化合物番号３０
） Ｒｆ値０ツ６ 実施例９ 物番号４４） Ｒｆ値０．３３ 実施例１０ 物番号４５ ） Ｒｆ値 ０．４０実施例１
１ （例示化合物番号４７） Ｒｆ値０．３６ 実施例１２ （例示化合物番号５４） Ｒｆ値０．３９ 実施例１３ ン（例示化合物番号５７ ） Ｒｆ値０，４２ 実施例１４ （例示化合物番号５８） Ｒｆ値０．４６ 実施例１５ ウンデカン（例示化合物番号５９） Ｒｆ値０．３９ 実施例１６ Ｒｆ値０．３２ 実施例ＩＴ Ｒｆ値０，４０ 実施例１８ −４−ピペリジル）アラニネート〕（例示化合物番号６
５） Ｒｆ値０．４４ 実施例１９ ’Ｒｆ値０．３３ 実施例２０ Ｒｆ値０．３８ 実施例２１ Ｒｆ値０．３９ 実施例２２ １、３．５− ）リエタノール−１，３，５−トリアジ
Ｒｆ値０．４２ 実施例２３ ８１）Ｒｆ値０．３２ 実施例２４ ８５ン Ｒｆ値０．４０ 実施例２５ 参考例１（Ａ）で得られた化合物工９ｙとへキサメチレ
ンジアミンｏ、 ａ ｙ ’６ベンゼン１００ｍ１ＶＣ
溶解し、５０％水素化す、トリウム０．１９を添加して
４時間８０℃乃至８５℃で加熱した。この間生成するエ
タノールと共にベンゼン６０−を留去した。反応終了後
１反応混合物を水中に注ぎ、次いで酢酸エチルで抽出し
た。抽出液を無水炭酸カリウムで乾燥したのち、抽出液
より溶剤を留去した。得られた残留物をシリカゲルを用
いたカラムクロマトグラフィー〔溶離剤：酢酸エチル：
エタノール：トリエチルアミン（２０：１：１）の混合
溶剤〕に付し、融点８６−８８℃の目的物を得た。
） Ｒｆ値０ツ６ 実施例９ 物番号４４） Ｒｆ値０．３３ 実施例１０ 物番号４５ ） Ｒｆ値 ０．４０実施例１
１ （例示化合物番号４７） Ｒｆ値０．３６ 実施例１２ （例示化合物番号５４） Ｒｆ値０．３９ 実施例１３ ン（例示化合物番号５７ ） Ｒｆ値０，４２ 実施例１４ （例示化合物番号５８） Ｒｆ値０．４６ 実施例１５ ウンデカン（例示化合物番号５９） Ｒｆ値０．３９ 実施例１６ Ｒｆ値０．３２ 実施例ＩＴ Ｒｆ値０，４０ 実施例１８ −４−ピペリジル）アラニネート〕（例示化合物番号６
５） Ｒｆ値０．４４ 実施例１９ ’Ｒｆ値０．３３ 実施例２０ Ｒｆ値０．３８ 実施例２１ Ｒｆ値０．３９ 実施例２２ １、３．５− ）リエタノール−１，３，５−トリアジ
Ｒｆ値０．４２ 実施例２３ ８１）Ｒｆ値０．３２ 実施例２４ ８５ン Ｒｆ値０．４０ 実施例２５ 参考例１（Ａ）で得られた化合物工９ｙとへキサメチレ
ンジアミンｏ、 ａ ｙ ’６ベンゼン１００ｍ１ＶＣ
溶解し、５０％水素化す、トリウム０．１９を添加して
４時間８０℃乃至８５℃で加熱した。この間生成するエ
タノールと共にベンゼン６０−を留去した。反応終了後
１反応混合物を水中に注ぎ、次いで酢酸エチルで抽出し
た。抽出液を無水炭酸カリウムで乾燥したのち、抽出液
より溶剤を留去した。得られた残留物をシリカゲルを用
いたカラムクロマトグラフィー〔溶離剤：酢酸エチル：
エタノール：トリエチルアミン（２０：１：１）の混合
溶剤〕に付し、融点８６−８８℃の目的物を得た。
実施例２６
参考例１（Ｂ）で得られた化合物とヘキサンメチレンジ
アミンから実施例２５と同様に反応、処理して、融点９
２−８５℃の目的物を得た。
アミンから実施例２５と同様に反応、処理して、融点９
２−８５℃の目的物を得た。
実施例２７
未安定化ポリプロピレン粉末（ＭＦＲ〜１８）１００部
、酸化防止剤としてオクタデシル３−（３、５−シｍ三
）ｆルー４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート０．
２部及び本発明の安定剤０．２５部をプラベンダー、グ
ラスチコーダー中、２００℃で１０分間均質化した。得
られた塊をプレス機で２〜３藺厚のプレートに圧延し念
。このプレートの一部をプレス機で２６０℃で６分間加
圧し１次いで直ちに冷水中に投入して０．５薦厚のシー
トを得た。同様の方法によって、０．５薦厚のシートか
ら０．１１厚のフィルムを成形した。このフィルムを５
０Ｘ１２Ｇｍｍの試験片に切断した。
、酸化防止剤としてオクタデシル３−（３、５−シｍ三
）ｆルー４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート０．
２部及び本発明の安定剤０．２５部をプラベンダー、グ
ラスチコーダー中、２００℃で１０分間均質化した。得
られた塊をプレス機で２〜３藺厚のプレートに圧延し念
。このプレートの一部をプレス機で２６０℃で６分間加
圧し１次いで直ちに冷水中に投入して０．５薦厚のシー
トを得た。同様の方法によって、０．５薦厚のシートか
ら０．１１厚のフィルムを成形した。このフィルムを５
０Ｘ１２Ｇｍｍの試験片に切断した。
この試験片全サンシャインカーボンウェザ−メーター中
黒板温度６３±３°Ｃ１水スプレーなしで光照射した。
黒板温度６３±３°Ｃ１水スプレーなしで光照射した。
露光された試料を定期的に引張試験を行い、各試料につ
いて伸びが初期の５０チに低下する時間を劣化時間とし
た。また上記の０．５ ｒｍ厚シートから、１０１０Ｘ
１００の試験片を詐取し、１５０℃のオーブン中に経時
し、１８０“折曲げ試験により脆化するまでの日数を調
べた。
いて伸びが初期の５０チに低下する時間を劣化時間とし
た。また上記の０．５ ｒｍ厚シートから、１０１０Ｘ
１００の試験片を詐取し、１５０℃のオーブン中に経時
し、１８０“折曲げ試験により脆化するまでの日数を調
べた。
０れらの結果を表１に示した。なお化合物番号は前述の
化合物例に示した化合物を表わす。
化合物例に示した化合物を表わす。
表 １
４３ ９４０ １Ｇ
無添加 １８０４
実施例２８
ポリスチレン ベレット（商品名ニスタロイロン６６６
、旭ダク■設品） １０ｒＪ部に本発明の安定剤０．２
５部を加え、プラベンダー プラスチコーダー中、２０
０℃で５分間均質化した。得られた塊を直ちにプレス機
で２〜３Ｂ厚のプレートに圧延した。このプレートの一
部を１８０℃で２分間圧縮成形して１．５１１１１１１
１厚のプレートにした〇得られたプレートｌキセノン・
ウエザーオメタ−（５５ＷＲ型、アトラス社製）中、黒
板温度６３±３℃で６００時間、水スプレーなしで光照
射した。照射したプレートの黄色度ＣＹＩ６００）をＪ
ＩＳ Ｋ ７１０３ の方法によシ測定した。これら
の結果を表２に示した。
、旭ダク■設品） １０ｒＪ部に本発明の安定剤０．２
５部を加え、プラベンダー プラスチコーダー中、２０
０℃で５分間均質化した。得られた塊を直ちにプレス機
で２〜３Ｂ厚のプレートに圧延した。このプレートの一
部を１８０℃で２分間圧縮成形して１．５１１１１１１
１厚のプレートにした〇得られたプレートｌキセノン・
ウエザーオメタ−（５５ＷＲ型、アトラス社製）中、黒
板温度６３±３℃で６００時間、水スプレーなしで光照
射した。照射したプレートの黄色度ＣＹＩ６００）をＪ
ＩＳ Ｋ ７１０３ の方法によシ測定した。これら
の結果を表２に示した。
７・、・上
ｆ：：、’−。
−ｒ 。
−とニ
表 ２
例示化合物番号 黄色度（ｙｒｓｏｏ）１１３
７、２ ４４ 乙３ ５８ ７．４ ６４ ６．８ ７８ ７、０ ８１６．１ 無添加 １３９ 実施例２９ 熱可塑型ポリウレタン（商品名：バラプレンベレット２
２Ｓ１日本ポリウレタン工業■製品９１００部及び本発
明の安定剤１部金ジメチルホルムアミド３００部に均一
に溶解した。得られた溶液をガラス板上に約０．４１厚
の層に流延した。
７、２ ４４ 乙３ ５８ ７．４ ６４ ６．８ ７８ ７、０ ８１６．１ 無添加 １３９ 実施例２９ 熱可塑型ポリウレタン（商品名：バラプレンベレット２
２Ｓ１日本ポリウレタン工業■製品９１００部及び本発
明の安定剤１部金ジメチルホルムアミド３００部に均一
に溶解した。得られた溶液をガラス板上に約０．４１厚
の層に流延した。
これを６０℃で２０分間、次いで１２０℃で１５分間乾
燥して、約０．１ ｍ３厚のフィルムが得られた。得ら
れたフィルムをサンシャイン カーボン ウェザ−メー
ター中、黒板温度６３±３℃、水スプレーなしで３００
時間光照射した。照射したフィルムの黄色度（ＹＩ３０
０ ）をＪＩＳ Ｋ７１０３の方法により測定した。
燥して、約０．１ ｍ３厚のフィルムが得られた。得ら
れたフィルムをサンシャイン カーボン ウェザ−メー
ター中、黒板温度６３±３℃、水スプレーなしで３００
時間光照射した。照射したフィルムの黄色度（ＹＩ３０
０ ）をＪＩＳ Ｋ７１０３の方法により測定した。
また、得られたフィルムの一部を、ｒｒｓ Ｌ ０８５
５「酸化窒素ガスに対する染色堅ろう度試験方法」にし
たがい、酸化鼠素ガス濃度ｓｓｏ ｐｐｍ中に２時間暴
露したのち、上と同じ方法にしたがい黄色度（ＹＩ ）
を測定した。これらの結果を表３に示した。
５「酸化窒素ガスに対する染色堅ろう度試験方法」にし
たがい、酸化鼠素ガス濃度ｓｓｏ ｐｐｍ中に２時間暴
露したのち、上と同じ方法にしたがい黄色度（ＹＩ ）
を測定した。これらの結果を表３に示した。
表 ３
２２１５４．１
１３ ２１．４ ３．７
１７ ２４．７ ５．１
４７ ２２．９ ４．０
５７ ２４．６ ４．９
６Ｂ ２４．１ ４．５
７８ ２３．５ ４．１
Claims (5)
- （１）式 ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） を有するピペリジル−アミノ酸誘導体又はその酸付加塩
。 上記式中、 Ｒ＿１及びＲ＿２は、同一又は異なつて、水素原子、Ｃ
＿１−Ｃ＿１＿８のアルキル基、Ｃ＿２−Ｃ＿１＿８の
アシル基又は置換されていてもよいアラルキル基を示す
。 Ｒ＿３は、水素原子、Ｃ＿１−Ｃ＿４のアルキル基、Ｃ
＿２−Ｃ＿８のアルコキシアルキル基、Ｃ＿２−Ｃ＿８
のアルキルチオアルキル基、ベンジル基又はアミノ−（
Ｃ＿１−Ｃ＿４）アルキル基〔該アミノ基は、置換基を
有してもよく、その置換基は、同一又は異なつて、Ｃ＿
１−Ｃ＿１＿８のアルキル基、Ｃ＿２−Ｃ＿１＿８のア
シル基、置換されていてもよいアラルキル基又は式▲数
式、化学式、表等があります▼を有する基（式中、Ｒ＿
５は前述 したＲ＿１と同様の基を示す。）を示す。〕を示す。 Ａは、酸素原子又はイミノ基（−ＮＨ−）を示す。 ｎは、２乃至４の整数を示す。 ｎが２のとき、Ｒ＿４は、酸素原子、硫黄原子若しくは
式▲数式、化学式、表等があります▼を有する基で中断
されていてもよいＣ＿２−Ｃ＿１＿８のアルキレン基、
式▲数式、化学式、表等があります▼を有する基、式▲
数式、化学式、表等があります▼を有する基、 式▲数式、化学式、表等があります▼を有する基又は式 ▲数式、化学式、表等があります▼を有する 基（上記式中、Ｒ＿６は、水素原子又はＣ＿１−Ｃ＿４
のアルキル基を示し、ｐは、１乃至４の整数を示し、ｑ
及びｒは、同一又は異なつて、０乃至３の整数を示す。 ）を示し、 ｎが３のとき、Ｒ＿４は、窒素原子で中断されていても
よいＣ＿３−Ｃ＿６のアルカントリイル基又は式 ▲数式、化学式、表等があります▼ を有する基（式中、ｓは、１乃至６の整数を示す。）を
示し、 ｎが４のとき、Ｒ＿４は、酸素原子で中断されていても
よいＣ＿４−Ｃ＿８のアルカンテトライル基を示す。 - （２）式（ I ）において、Ｒ＿１及びＲ＿２が、同一
又は異なつて、Ｃ＿１−Ｃ＿４のアルキル基、Ｃ＿２−
Ｃ＿４のアシル基又はベンジル基である特許請求の範囲
第１項の化合物。 - （３）式（ I ）において、Ｒ＿３が、水素原子、Ｃ＿
１−Ｃ＿４のアルキル基又は式−（ＣＨ＿２）＿４−Ｎ
Ｈ＿２を有する基〔該アミノ基は、置換基を有してもよ
く、その置換基は、同一又は異なつて、Ｃ＿１−Ｃ＿４
のアルキル基、Ｃ＿２−Ｃ＿４のアシル基、ベンジル基
又は式▲数式、化学式、表等があります▼を有する基（
式中、Ｒ＿５は、Ｃ＿１−Ｃ＿４のアルキル基、Ｃ＿２
−Ｃ＿４のアシル基又はベンジル基を示す。）である。 〕である特許請求の範囲第１項の化合物。 - （４）式（ I ）において、ｎが２のとき、Ｒ＿４が、
Ｃ＿２−Ｃ＿８のアルキレン、式▲数式、化学式、表等
があります▼を 有する基、式▲数式、化学式、表等があります▼を有す
る基又は 式▲数式、化学式、表等があります▼を有する基 （上記式中、Ｒ＿６は、水素原子又はＣ＿１−Ｃ＿４の
アルキル基を示し、ｐは、１乃至４の整数を示し、ｑ及
びｒは、同一又は異なつて、０又は１を示す。）であり
、ｎが３のとき、Ｒ＿４が、窒素原子で中断されていて
もよいＣ＿３−Ｃ＿８のアルカントリイル基又は式 ▲数式、化学式、表等があります▼を有する基（式 中、ｓは、１乃至６の整数を示す。）であり、ｎが４の
とき、Ｒ＿４が酸素原子で中断されていてもよいＣ＿４
−Ｃ＿８のアルカンテトライル基である特許請求の範囲
第１項の化合物。 - （５）式 ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） を有するピペリジル−アミノ酸誘導体又はその酸付加塩
からなる高分子材料用安定剤。 上記式中、 Ｒ＿１及びＲ＿２は、同一又は異なつて、水素原子、Ｃ
＿１−Ｃ＿１＿８のアルキル基、Ｃ＿２−Ｃ＿１＿８の
アシル基又は置換されていてもよいアラルキル基を示す
。 Ｒ＿３は、水素原子、Ｃ＿１−Ｃ＿４のアルキル基、Ｃ
＿２−Ｃ＿８のアルコキシアルキル基、Ｃ＿２−Ｃ＿８
のアルキルチオアルキル基、ベンジル基又はアミノ−（
Ｃ＿１−Ｃ＿４）のアルキル基〔該アミノ基は、置換基
を有してもよく、その置換基は、同一又は異なつて、Ｃ
＿１−Ｃ＿１＿８のアルキル基、Ｃ＿２−Ｃ＿１＿８の
アシル基、置換されていてもよいアラルキル基又は式▲
数式、化学式、表等があります▼を有する基（式中、Ｒ
＿５は、前 述したＲ＿１と同様の基を示す。）を示す。〕を示す。 Ａは、酸素原子又はイミノ基（−ＮＨ−）を示す。 ｎは、２乃至４の整数を示す。 ｎが２のとき、Ｒ＿４は、酸素原子、硫黄原子又は式▲
数式、化学式、表等があります▼を有する基で中断され
ていても よいＣ＿２−Ｃ＿１＿８のアルキレン基、式▲数式、化
学式、表等があります▼を有する基、式▲数式、化学式
、表等があります▼を有する 基、式▲数式、化学式、表等があります▼を有する基又
は 式▲数式、化学式、表等があります▼を有する 基（上記式中、Ｒ＿６は、水素原子又はＣ＿１−Ｃ＿４
のアルキル基を示し、ｐは、１乃至４の整数を示し、ｑ
及びｒは、同一又は異なつて、０乃至３の整数を示す。 ）を示し、 ｎが３のとき、Ｒ＿４は、窒素原子で中断されていても
よいＣ＿３−Ｃ＿８のアルカントリイル基又は式 ▲数式、化学式、表等があります▼ を有する基（式中、ｓは、１乃至６の整数を示す。）を
示し、 ｎが４のとき、Ｒ＿４は、酸素原子で中断されていても
よいＣ＿４−Ｃ＿８のアルカンテトライル基を示す。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60202615A JPS6263570A (ja) | 1985-09-13 | 1985-09-13 | ピペリジル−アミノ酸誘導体及び高分子材料用安定剤 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60202615A JPS6263570A (ja) | 1985-09-13 | 1985-09-13 | ピペリジル−アミノ酸誘導体及び高分子材料用安定剤 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6263570A true JPS6263570A (ja) | 1987-03-20 |
Family
ID=16460324
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60202615A Pending JPS6263570A (ja) | 1985-09-13 | 1985-09-13 | ピペリジル−アミノ酸誘導体及び高分子材料用安定剤 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6263570A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0290393A2 (en) * | 1987-05-07 | 1988-11-09 | Ciba-Geigy Ag | Piperidine compounds for use as light stabilizers, heat stabilizers and oxidation stabilizers for organic materials |
| US5446144A (en) * | 1987-10-30 | 1995-08-29 | Sankyo Company, Limited | Piperidyl-triazine derivatives and their use as polymer stabilizers |
| WO2023196527A3 (en) * | 2022-04-08 | 2023-11-30 | SunVax mRNA Therapeutics Inc. | Ionizable lipid compounds and lipid nanoparticle compositions |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5877862A (ja) * | 1981-10-30 | 1983-05-11 | Sumitomo Chem Co Ltd | ピペリジン化合物およびその製造法 |
| JPS59139359A (ja) * | 1983-01-24 | 1984-08-10 | チバ−ガイギ− アクチエンゲゼルシヤフト | ポリオ−ルのｎ−（ポリアルキルピペリジニル）−カルバメ−ト |
| JPS59176257A (ja) * | 1983-03-21 | 1984-10-05 | サンド・アクチエンゲゼルシヤフト | ４−アミノポリアルキルピペリジン化合物 |
| JPS6032771A (ja) * | 1983-08-01 | 1985-02-19 | Sumitomo Chem Co Ltd | ２，２，６，６−テトラメチルピペリジン誘導体およびその製造法 |
-
1985
- 1985-09-13 JP JP60202615A patent/JPS6263570A/ja active Pending
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5877862A (ja) * | 1981-10-30 | 1983-05-11 | Sumitomo Chem Co Ltd | ピペリジン化合物およびその製造法 |
| JPS59139359A (ja) * | 1983-01-24 | 1984-08-10 | チバ−ガイギ− アクチエンゲゼルシヤフト | ポリオ−ルのｎ−（ポリアルキルピペリジニル）−カルバメ−ト |
| JPS59176257A (ja) * | 1983-03-21 | 1984-10-05 | サンド・アクチエンゲゼルシヤフト | ４−アミノポリアルキルピペリジン化合物 |
| JPS6032771A (ja) * | 1983-08-01 | 1985-02-19 | Sumitomo Chem Co Ltd | ２，２，６，６−テトラメチルピペリジン誘導体およびその製造法 |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0290393A2 (en) * | 1987-05-07 | 1988-11-09 | Ciba-Geigy Ag | Piperidine compounds for use as light stabilizers, heat stabilizers and oxidation stabilizers for organic materials |
| US5026749A (en) * | 1987-05-07 | 1991-06-25 | Ciba-Geigy Corporation | Piperidine compounds for use as light stabilizers, heat stabilizers and oxidation stabilizers for organic material |
| US5446144A (en) * | 1987-10-30 | 1995-08-29 | Sankyo Company, Limited | Piperidyl-triazine derivatives and their use as polymer stabilizers |
| US5486556A (en) * | 1987-10-30 | 1996-01-23 | Sankyo Company, Limited | Polymer composition containing a piperidyl-triazine compound |
| WO2023196527A3 (en) * | 2022-04-08 | 2023-11-30 | SunVax mRNA Therapeutics Inc. | Ionizable lipid compounds and lipid nanoparticle compositions |
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