JPS62299747A - スル−ホ−ル検査装置 - Google Patents

スル−ホ−ル検査装置

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JPS62299747A
JPS62299747A JP14393986A JP14393986A JPS62299747A JP S62299747 A JPS62299747 A JP S62299747A JP 14393986 A JP14393986 A JP 14393986A JP 14393986 A JP14393986 A JP 14393986A JP S62299747 A JPS62299747 A JP S62299747A
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JP
Japan
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hole
light
inspected
optical system
defect
Prior art date
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Pending
Application number
JP14393986A
Other languages
English (en)
Inventor
Kikuo Mita
三田 喜久夫
Moritoshi Ando
護俊 安藤
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Fujitsu Ltd
Original Assignee
Fujitsu Ltd
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Publication date
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Publication of JPS62299747A publication Critical patent/JPS62299747A/ja
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    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/84Systems specially adapted for particular applications
    • G01N21/88Investigating the presence of flaws or contamination
    • G01N21/95Investigating the presence of flaws or contamination characterised by the material or shape of the object to be examined
    • G01N21/956Inspecting patterns on the surface of objects
    • G01N21/95692Patterns showing hole parts, e.g. honeycomb filtering structures

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Biochemistry (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Immunology (AREA)
  • Pathology (AREA)
  • Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 3、発明の詳細な説明 し概要] 被検査スルーホール内部に発生しためっき欠陥部から漏
れた光に対し、該スルーホールが所定時間前に位置した
とき、または丁度その位置に隣接スルーホールがあった
とき、そのスルーホールを透過した照射光が強いため、
それらを個別の光学系により結像させて、漏光の像を確
実に検出し、スルーホール欠陥を検出する性能を向上さ
せるものである。
[産業上の利用分野] 本発明は印刷配線基板に設けたスルーホールについて、
例えばめっき処理に基づ(ような欠陥部の存在すること
を、光学的に検査する装置に関する。
配線基板の一方から照射し、被検査スルーホールのめっ
き欠陥からスルーホール内に漏れた光を結像させ、被検
査スルーホール内の欠陥部の有無を検査することが行わ
れている。そのとき従来の検査装置では、被検査スルー
ホール以外のスルーホールを通った照明光が観測面側で
乱反射して迷光となるので、漏光信号について暗レベル
を一定に保ことが難しい。したがってスルーホール欠陥
部の検査信号について暗レベルを一定に保ち検出性能を
向上させることが望まれている。
[従来の技術] 印刷配線基板は薄層板上に導電性パターンを配置し、多
数層重ねてプレス加工して得られる。導電性パターンは
上下方向における導電性接続を得るため、上下方向に各
層を貫いて微細な孔を穿け、その内面を「めっき」して
接続線相当のものを得ている。この孔を「スルーホール
」という。またスルーホール周辺はランドという島状の
半田を盛り上げた部分を設けて、導電チェックなどに使
用する。スルーホールは例えば厚さ3n+の基板のとき
内径0.2 am程度であるから、電解液を使用して孔
内面をめっきする。このとき液が完全に到達しない箇所
があるとめっきされずに欠陥となる。そのようなスルー
ホールの欠陥の有無はスルーホールの内径が細くて、検
査員が目視によって発見することができないので、照射
光によって検査している。第6図は従来のスルーホール
検査装置の構成を示す図である。第6図において、1は
多層の印刷配線基板、11は基板の被検査スルーホール
、10はスルーホール11が所定時間以前に位置した場
所を示すもの、2は光学系例えばレンズ、3はスルーホ
ール10を透過した光を検知する第1の光検知器(例え
ばCODを使用するもの)、4は基板照射光に対する円
筒状遮蔽物、5は被検査スルーホール11を漏出した光
を検知する第2の光検知器、6は遅延回路でスルーホー
ル11が10より移動するに要した時間だけ、第1光検
知器3の出力を遅延させるもの、7は論理積回路、8は
基板照明光、9はスルーホール11のめっき欠陥部を示
す。基板1は白太矢印の方向に移動しその速さは前記ス
ルーホール10と11との間を遅延回路6の遅延時間だ
けかかるような速さである。
スルーホール10は基板照射光8を透過させるから、光
学系2により第1光検知器3に結像したとき、出力信号
は大きな値となる。被検査スルーホール11は遮蔽物4
により照射光8を遮蔽しているから照射光8を透過させ
ず、めっき欠陥がないときはめっきにより完全に遮光さ
れるから、第2光検知器5の出力は零となる。したがっ
てこのとき論理積回路7において演算した出力は“0”
である。基板1への照射光8は一方の面全体にわたって
入射し方々へ散乱して行くから、スルーホール11にめ
っき欠陥部9が存在したときは、金属の光遮蔽部がない
ためそこからスルーホール11内に漏出した光を第2光
検知器5において検出することができる。即ち第2光検
知器5から所定値以上の出力があるとき(例えば欠陥部
9が所定値以上の大きさであるため)論理積回路7の出
力が“l”となるので、欠陥部9の存在を検査すること
ができる。
し発明が解決しようとする問題点コ 第6図では被検査スルーホールの移動前後において、光
検知器3.5に入射する光によりスルーホールのめっき
欠陥を検出するが、スルーホールが基板上に複数存在し
、第6図における10の位置に、第7図に示すように隣
接するスルーホール12が偶然存在したとき、検査が良
好にできない欠点があった。即ち第7図に示すように、
隣接スルーホール12からの透過光があると、それは可
成り強いため光学系2の表面と裏面とにおいて反射を繰
り返しながら、破線で示すようにして第2光検知器5に
到達する。第8図はCODを使用した第2光検知器によ
り、第7図の光検出を行っている状況を示す。横軸は時
間であるが、第7図における1点鎖線と大略対応してい
る。即ち第2光検知器5においてCCDを走査して出力
を得るからその時間的変化を示し、第7図では1点鎖線
のように被検査スルーホール11を経た線に沿う出力と
なる。縦軸は光検知器出力を示す。そのためスルーホー
ル12からの透過光は光学系2により本来第1光検知器
3に到達する筈の所、迷光が生じて第2光検知器5にも
到達している。そして欠陥のあるスルーホール11から
漏光が検出される。
第7図の場合はスルーホール12を透過した直接光によ
る迷光が、光検知出力を全体的に押し上げているから、
暗レベルが明確でなくなり、スルーホールに欠陥のある
ことが確実に検出できない。
したがってスルーホール検査装置として検査性能が低か
った。
本発明の目的は前述の欠点を改善し、被検査スルーホー
ルからの欠陥による漏光のみを確実に検出できる検査装
置を提供することにある。
[問題点を解決するための手段コ 第1図は本発明の基本構成を示す図である。第1図に示
すように被検査スルーホール11は外方への一方の開口
を遮蔽し、遮蔽した側から光8を照射することにより、
被検査スルーホール11の内部欠陥9から漏出する光を
検査する手段5と、該被検査スルーポール11が所定時
間以前に照射光8が遮蔽されずに通過した光を検出する
手段3とを具備し、該両光検出手段3,5の出力信号に
ついて論理演算する回路7を有してスルーホールの欠陥
の有無を判定するスルーホール検査装置において、本発
明は下記の構成を有する。即ち被検査スルーホール11
が所定時間以前の位置に在るときのスルーホール10と
第1光検知器3との間に第1光学系2を、また被検査ス
ルーホール11と第2光検知器5との間に第2光学系1
3が設けられる。そして第1光学系2と第2光学系13
との各出力を、論理演算する回路7に印加することであ
る。
[作用コ 第1図において、被検査スルーホール11が所定時間以
前の位置に在る時のスルーホール10を透過した光は、
第1光学系2により第1光検知器3に結像する。また被
検査スルーホール11の照射光が遮蔽された状態では、
めっき欠陥部9が存在したときの漏光が第2光学系13
により第2光検知器5に結像する。このときスルーホー
ル10の位置に隣接スルーホールがある場合、その透過
光は第1光学系2に向かうように各光学系2,13が設
けられているから、第2光検知器5に対しスルーホール
からの入射光は無視できる程度である。したがってCC
Dを使用した第2光検知器5の検知信号を調べると第2
図に示すようになる。
即ち隣接スルーホールがあっても、その透過光が第2光
検知器5に殆ど入射しないから、基板照射光8を検知し
ないレベル(第2図に示す暗レベル)が正確に得られる
。したがって被検査スルーホール11に欠陥があれば、
その漏出光のみが大きなピークとなり、論理積回路7に
おいて確実に検出することができる。
〔実施例] 第3図は本発明の第1実施例の構成を示す図である。第
3図において14は光遮断材で被検査スルーホール11
と光学系2,13との間に基板1と略平行に挿入され、
且つスルーホール10の透過光を第2光学系13に入射
させない位置に設ける。15はスリットで光遮断材14
においてスルーホール11からの漏出光のみを通過させ
る位置に設ける。他の第1図と同一符号は同様のものを
示している。第3図において被検査スルーホール11か
らめっき欠陥部9に基づく漏出光があれば、スリット1
5を経て第2光学系13に達する。そのとき第7図に示
すような隣接するスルーホール12があり、そこから透
過光があったとしても、光遮断材14により遮断され、
第2光学系13には到達できない。なお、光遮断材14
は図示しない隣接するスルーホール12から第1光学系
2に入射する光を遮断させないように配置することは当
然である。
このようにして第2光学系13には被検査スルーホール
11からの漏出光のみが到達するので、前記第2図の暗
レベルが十分正確に得られる。光遮断材14がないとき
、照射光8が極めて強力であると、基板lを透過しその
光学系側で散乱する光があって、第2光学系13にその
散乱光が入射することがあった。第3図に示す実施例の
構成により第2光学系13に到達する散乱光も有効に防
止できる。
次に第4図は本発明の第2実施例の構成を示す図である
。第4図において16は光反射部材で、スルーホール1
1の上方のスリット15の両側において傾斜するよう配
置される。そして第7図に示すような隣接するスルーホ
ール12がある場合、このスルーホール12からの透過
光が光反射部材16に当たったとき、スルーホール11
より外方向へ反射するように傾斜を選定する。15は光
反射部材16により構成したスリットを示す。他の第3
図と同一符号は同様のものを示す。図示しない隣接する
スルーホール12を透過した光が強いとき、第3図のよ
うに光遮断材14が設けられていると、透過光は遮断材
14に当たって反射し、更に基板lやスルーホール・ラ
ンドで反射することを繰り返すから、第2光検知器5に
よりスルーホール漏出光が増加していると検出する恐れ
があった。第4図に示す実施例ではその主要部を第5図
(隣接するスルーホール12を図示)の断面図に示すよ
うに構成しているから、隣接するスルーホール12から
の透過光が、光反射部材16に当たってスルーホール1
1より外方向に反射して行り、シたがって第2光検知器
5において誤検出することがなくなる。
[発明の効果] このようにして本発明によると、光検知器に結像させる
光学系を2個使用し、被検査スルーホールに生じている
欠陥から漏出している光のみを有効に検知できるように
したから、従来と比較し欠陥の検出性能を向上させた検
査装置を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の基本構成を示す図、 第2図は第1図の動作説明用波形図、 第3図は本発明の第1実施例の構成を示す図、第4図は
本発明の第2実施例の構成を示す図、第5図は第4図の
主要部を示す断面図、第6図・第7図は従来のスルーホ
ール検査装置の構成を示す図、 第8図は第7図の動作説明用波形図である。 ■・一基板 11・−被検査スルーホール 2−・第1光学系     3−・第1光検知器4−・
スルーホール遮蔽物 5・−第2光検知器6−・遅延回
路      7〜・−論理積回路8・・〜照射光  
     9−めっき欠陥部12−・被検査スルーホー
ル11に隣接するスルーホール 13−第2光学系    14・−光遮断材15−スリ
ット     16・・−光反射部材特許出願人   
 富士通株式会社 代理人    弁理士  鈴木栄祐 第1図 1丁Cリイヘ1説日月図 第2図 本音日月の第1大餞り 第3図 第7+図1;お゛けるlfr面図(隣接するスルーホー
ル図示)第5図 第6図 隣接するスルーホール力(あろ場合の説明図第7図

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)被検査スルーホール(11)は外方への一方の開
    口を遮蔽され、遮蔽された側から光(8)を照射するこ
    とにより、被検査スルーホール(11)の内部欠陥部(
    9)から漏出する光を検査する手段(5)と、該被検査
    スルーホール(11)が所定時間以前に照射光(8)が
    遮蔽されずに通過した光を検出する手段(3)とを具備
    し、該両光検出手段(3)、(5)出力信号について論
    理積回路(7)により演算することにより被検査スルー
    ホールの欠陥の有無を判定するスルーホール検査装置に
    おいて、 照射光(8)に対し遮蔽される被検査スルーホール(1
    1)と、所定時間以前の被検査スルーホール(10)と
    は、出力光についてそれぞれ独立した結像光学系(2)
    、(13)により結像させ、各光学系(2)、(13)
    出力を論理演算(7)することを特徴とするスルーホー
    ル検査装置。
  2. (2)照射光(8)に対し遮蔽される被検査スルーホー
    ル(11)と光学系(2)、(13)との間にスルーホ
    ール(11)からの漏出光のみを通過させるスリット(
    15)を有する光遮断材(14)を挿入したことを特徴
    とする特許請求の範囲第1項記載のスルーホール検査装
    置。
  3. (3)被検査スルーホール(11)と光学系(13)と
    の間及び被検査時より所定時間以前のスルーホール(1
    0)位置と光学系(2)との間について、前者ではスル
    ーホール(11)の漏出光を透過し、後者ではスルーホ
    ール(10)の透過光をスルーホール(11)より外方
    へ反射するように配置した部材(16)を挿入すること
    を特徴とする特許請求の範囲第1項記載のスルーホール
    検査装置。
JP14393986A 1986-06-19 1986-06-19 スル−ホ−ル検査装置 Pending JPS62299747A (ja)

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Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5920840A (ja) * 1982-07-28 1984-02-02 Fujitsu Ltd 欠陥検査装置
JPS59125693A (ja) * 1982-12-28 1984-07-20 富士通株式会社 スルーホール検査法及びその検査装置
JPS6175240A (ja) * 1984-09-20 1986-04-17 Fujitsu Ltd スルホ−ル検査装置

Patent Citations (3)

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