JPS62293237A - 感光性記録素子 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、支持体上に設けられた、高分子量結合剤を含
有する、アルカリ性水溶液で現像可能の光重合可能な記
録層を有し、殊に印刷版またはレジストパターンを製造
するのに適当である感光性記録素子に関する。

従来の技術 感光性１合体の印刷版または印刷パターンを製造するた
めの公知の、アルカリ現像水溶液で洗浄可能な感光性記
録素子は、寸法安定性の支持体、例工ばプラスチックフ
ィルムまたは金属薄板の上に、一般にアルカリ現像水浴
液に可溶または分散可能の少なくとも１つの高分子量結
合剤、光重合可能の低分子量の少なくとも１つのエチレ
ン性不飽和化合物、少なくとも１つの光重合開始剤なら
びに場合によっては他の加工技術特性および／または使
用技術特性を改善しおよび／または改質する添加剤およ
び／または助剤の混合物からなる光重合可能な記録層を
有する。

この場合、アルカリ性水溶液で現像可能の光重合可能な
記録層に対する高分子量結合剤としては、殊に例えはス
チロール／マレイン酸無水物共重合体、スチロール／マ
レイン酸半エステル共重合体、アルキル（メタ）アクリ
レート／（メタ）アクリル酸共重合体またはスチロール
、アルキル（メタ）アクリレートおよび（メタ）アクリ
ル酸ならびに場合によっては他のコモノマーからなる共
重合体のようにアルカリ現像水性溶剤に可溶または少な
くとも分散可能の、カルボキシル基含有またはカルボン
酸無水物基含有の共重合体が使用される（特に、ドイツ
連邦共和国特許出願公告第２０２７４６７号明細書、ソ
ビエト連邦共和国特許第１９０２１１号明細書、ドイツ
連邦共和国特許出願公開第２２０５１４６号明細書、欧
州特許出願公開第４９５０４号明細書またはドイツ連邦
共和国特許出願公開第２７３６０５８号明細書参照）。

米国特許第３７９６５７８号明細書には、オキシラン環
を有するエチレン性不飽和化合物でのカルボキシル基含
有共重合体のエステル化生成物、エチレン性不飽和化合
物および光重合開始剤からなる光重合可能な混合物なら
びにこの混合物をオフセット印刷板の製造のために使用
することが記載されている。しかし、この生成物の相容
性は、なお改善する必要がある。

更に、感光性重合体の印刷版またはレリーフ版を製造す
る１こめに：ｔＸ合可能な単量体とともに少なくとも１
つの光重合開始剤ならびに場合によっては高分子量結合
剤としての他の添加剤および／または助剤、例えはポリ
ビニルピロリドンまたはビニルピロリドン／酢酸ビニル
共亜合体のようなビニルピロリドン重合体を含有する光
重合可能な混合物を使用することは、既に公知である（
例えは、ドイツ連邦共和国特許出願公開第１７９フ３７
３溶剤、殊に純粋の水で現像することかできる。

公知の水で現像可能な感光性記録材料は、既に多くの目
的に適い使用することかできるか、その一連の性質の点
で所望のものには程遠い。］なわち、この水で現像可能
な感光性記録材料は、光重合された状態で屡々洗浄媒体
に対して敏感すぎ、すなわち現像の除に過洗浄不安定性
が大きいか、またはこの感光性記録材料から得られた印
刷版またはレジストパターンが使用の際に装入される水
性媒体に対して不十分な安定性を示ｊ。微細な画像素子
は、この記録材料を用いると屡々再現するのが困難であ
り、洗浄条件は、現像液の洗浄時間、温度および組成の
点で極めて狭い範囲を維持しなければならない。更に、
アルカリ水溶液で現像可能な公知材料の場合には、現像
で容易に残存層の形成を生じ、すなわち記録層の画隊に
応じての潴光の際に光重合されない含分は、徹底的に申
分なく支持体から除去することはできない。殊に金属支
持体または基材を使用する際に光重合可能な記録層に生
じる前記現象は、特にレジストパターンおよび平版印刷
板を製造する場合には妨げとなり、支障をきたす。その
上、アルカリ性水溶液で現像可能の光■合可能な記録材
料の１こめのこれまで公知の高分子量結合剤は、この記
録材料に使用された、常用の光重合可能な化合物との相
容性を限定し又のみ示し、それによって光重合可能な化
合物の使用範囲は制限されているかまたは光重合可能な
記録層の露光特性は実際には不満足なものである。

発明が解決しようとする問題点 本発明の課題は、より良好な相容性を有しかつ感光性重
合体の印刷版またはレジストパタンを製造するのにより
十分に好適である、アルカリ性水溶液で現像可能の光重
合可能な記録層を有する新規の感光性記録素子を得るこ
とであった。殊に、本発明の課題は、アルカＩＪ　ｍ潅
水溶液で洗浄する際に良好な現像可能性およびできるだ
け大きい現像のゆとりを有し、同時に露光された状態で
水性媒体に対して、また弱アルカリ性水溶液に対しても
高い安定性を有し、その際共通の特性プロフィルを不利
に変化させることがないような感光性記録素子を得るこ
とであった。この場合、アルカリ性水溶液で現像可能の
光重合可能な記録層は、妹に金属支持体または基材に対
して良好な付着力を有するはずであり、この場合には、
処理の際に残存層を形成させることはない。一般に、ア
ルカリ性水溶液で現像可能の新規の感光性記録素子は、
例えは良好な露光時性のように良好な処理技術的特性お
よび使用技術的特性を有するはすであり、この特性は、
微細な画像素子によっても正確に確実に再現することが
でき、広範な使用に適当であり、かつ種々の使用目的に
最適に簡単で容易に調節することができる。

問題点を解決するための手段 ところで、意外なことに、この課題は寸法安定性の支持
体上に設けられた、アルカリ性水溶液で現像可能の光１
合可能な記録層が高分子量結合剤として水に不溶性であ
るかアルカリ性水溶液に可溶性であるかまたは少なくと
も分散可能の少なくとも１つの皮膜形成性共重合体を含
有し、この皮膜形成性共重合体が少なくとも１つのＮ−
ビニルアミドｌＯ〜５０３［量チ、アクリル酸および／
またはメタクリル酸８〜３０］［量襲ならひにそれ自体
水およびアルカリ性水溶液に不溶の単独重合体を形成す
る重合導入された形の少なくとも１つの疎水性コモノマ
ー３０〜８０重量％からなり、かつ共重合体のカルボキ
シル基が部分的にグリシジルアクリレートまたはグリシ
ジルメタクリレートとの反応によってエステル化されて
いることにより、寸法安定性の支持体上に設けられた、
アルカリ性水溶液で現像可能の光重合可能な記録層を有
する感光性記録素子によって解決されることが見い出さ
れた。

それに応じて、本発明の対象は、光重合可能な記録層中
に高分子量結合剤として、少なくとも１つのＮ−ビニル
アミド１０〜５０重量％、アクリル酸および／またはメ
タクリル酸８〜３０重量％ならびにそれ自体水およびア
ルカリ性水溶性に不溶の単独重合体を形成する少なくと
も１つの疎水性コモノマー３０〜８０重量％からなる、
水に不溶性であるがアルカリ性水溶液に可溶性であるか
または少なくとも分散可能の少なくとも１つの皮膜形成
性共重合体が、共重合体のカルボキシル基が部分的にグ
リシジルアクリレートまたはグリシジルメタクリレート
との反応によってエステル化されているという条件で含
有されていることを特徴とする、寸法安定性の支持体上
に設けられた、アルカリ性水溶液で現像可能の、高分子
量結合剤を含有する光重合可能な記録層を有する、感光
性重合体の印刷版またはレジストパターンを製造するの
に適した感光性記録素子である。

すなわち、高分子量結合剤は、（、）少なくとも１つの
Ｎ−ビニルアミド１０〜５ｏＭｉ％、（ｂ）アクリル酸
および／またはメタクリル酸８〜３０重量％ならびに（
ｃ）それ自体水およびアルカリ性水溶液に不溶の単独１
合体を形成する重合導入された少なくとも１つの疎水性
コモノマー３０〜８０重量％を含有し、この場合（、）
〜（ｃ）に記載し１こ百分率の数の総和は、共重合体の
カルボキシル基の一部、特ニカルボキシル基の１０〜６
０％がグリシジルアクリレートま１こはグリシジルメタ
クリレートとの反応によってエステル化されているとい
う条件で１００である。

本発明によれば、特殊なＮ−ビニルアミド共重合体を高
分子量結合剤として光重合可能な記録層に使用すること
によって、極めて好ましい性質を有する感光性記録素子
は得られる。特に好適なのは、共重合体のカルボキシル
基の１０〜６０％０〜６０％カフリシジルクリレートで
エステル化されているような記録素子であるかないしは
グリシジル（メタ）アクリレートで部分的にエステル化
された共重合体がＫＯＨ２０〜１００　ｉ＋Ｆｒの酸価
を有するような記録素子である。このように多官能性で
もある九１合可能な単量体および／またはオリゴマーそ
れ自体は、本発明により使用すべき共重合体が光重合可
能な単量体およびオリゴマーと良好に相容性であること
によって広範に屡々犬量に光重合可能な記録層に使用す
ることができる。それによって、本発明による記録素子
を用いて得られた印刷版またはレジストパターンの画像
特性は、簡単に容易に変えることができる。純粋なアル
カリ現像水浴液中での良好な現像可能性にも拘らず、記
録材料は光重合された状態で水性媒体に対して高い安定
性を示し、例えばこの水性媒体は、印刷版を使用する場
合および殊にレジストパターンを使用する場合にもエツ
チング技術または電気メツキ技術に使用される。本発明
による感光′性゛記録素子は、僅かな過洗浄不安定性を
示し、また光重合可能な記録層は、金属支持体または基
材上で同時にこれらの支持体ないしは基材に対して良好
な付着力で安定゛であり、かつ微細な画像要素、例えば
幅１００μまたはそれ以下の線の正確で確実な再現をも
可能にする。感光性記録素子は、本発゛明による光重合
可能な記録層の付着力の差が良好であるために有利に乾
燥皮膜レジストとして乾式層転移に使用することもでき
る。

本発明によれは、感光性記録素子の光重合可能な記録層
中に含有されている高分子量結合剤は、カルボキシル基
含有Ｎ−ビニルアミド共重合体であり、この共重合体の
カルボキシル基は、部分的にグリシジルアクリレートま
たはグリシジルメタクリレートでエステル化されており
、かつこの共重合体は、純粋な水に不溶性であるが、ア
ルカリ性水溶液には可溶性であるかまたは少なくとも分
散可能である。この棟の変性されたＮ−ビニルアミド共
重合体は、約９よりも大きい、殊に約９〜１３の範囲内
のｐＨ値を有するアルカリ性水溶液中で可溶性であるか
または少なくとも分散可能であるが、約９よりも低いｐ
Ｈ値を有するアルカリ性水溶液の場合には不溶性である
。その上、本発明により使用すべき共重合体は、皮膜形
成性であり、かつ一般に約１００００よりも大きい、特
に約１５０００〜約５０００００の範囲内、殊に約２０
０００〜２５００００の範囲内の平均分子量（重量平均
）を有する。

本発明により使用すべき、カルボキシル基をグリシジル
（メタ）アクリレートで部分エステル化することによっ
て得られた共重合体は、通常Ｎ−ビニルアミド、アクリ
ル酸および／またはメタクリル酸ならびにそれ自体水お
よびアルカリ性水溶液に不溶の単独重合体を形成する疎
水性コモノマーを共重合させ、かつこの共重合体のカル
ボキシル丞の一部をグリシジルアクリレートまたはグリ
シジルメタクリレートによりエステル化することによっ
て得られる。疎水性コモノマーは、それ自体３００Ｋを
越える、殊に３２０Ｋを越えるガラス転移温度ｕ　ＤＳ
Ｏ法により測定した）を有する単独重合体を形成する能
力を有するようなものが有利であることか判明した。本
発明により使用すべき共重合体を製造するためのコモノ
マーは、勿論互いに共重合可能でなければならない。

Ｎ−ビニルアミドとしては、例えばＮ−ビニルホルムア
ミド、Ｎ−ビニルアセトアミドまたはＮ−ビニル−Ｎ−
メチルアセトアミドのように脂肪族カルボン酸アミドの
Ｎ−ビニル誘導体がこれに該当する。本発明により使用
すべき共重合体は、Ｎ−ビニルラクタム、殊にＮ−ビニ
ルピロリドンおよび／またはＮ−ビニルカプロラクタム
をＮ−ビニルアミドコモノマーとして重合導入させて含
有するのか好ましい。共重合体は、Ｎ−ビニルアミドコ
モノマーの１つまたはそれ以上を重合導入させて含有す
ることができ、この場合共重合体中に重合導入させたＮ
−ビニルアミドコモノマ一単位の含量は、共重合体に対
して１０〜５０］ｊ量矛の範囲内、特に２０〜４５重量
％の範囲内にある。

この共重合体は、アクリル酸および／またはメタクリル
Ｖをコモノマ−０第２の群として共重合体に対し８〜３
０重量％の量、殊に１０〜２５重量％の量で重合導入さ
せて含有する。

共重合体中に第３の成分として重合導入させて含有され
ている疎水性コモノマーの例としては、次のものか挙げ
られる：ビニル芳香族化合物、例えはスチロール、側鎖
または核中で例えはアルキル基またはハロゲン原子によ
って置換されている置換スチロール、例えばα−メチル
スチロール、ｐ−メチルスチロールおよび類似物、酢酸
ビニルならびにアクリル酸およびメタクリル酸のエステ
ル、妹に有利に１〜４個のＣ原子を有する直鎖状または
分枝鎖状モノアルカノールのアクリレートおよびメタク
リレート、この場合これらの中で特にメチルメタクリレ
ートは殊に有利である。共重合体は、疎水性コモノマー
の１つまたはそれ以上を重合導入させて含有することか
でき、この場合共重合体中での疎水性コモノマ一単位の
含量は、共重合体に対して３０〜８０重量％、特に４０
〜７０重量％である。

カルボキシル基をグリシジル（メタ）アクリレートで部
分エステル化した後に感光性記録素子の光重合可能な記
録層に高分子量結合剤として本発明により使用するのに
特に有利であることが判明し１こ共重合体の例は、なか
んずくＮ−ビニルラクタム／（メタ）アクリル酸／メチ
ルメタクリレート共重合体またはＮ−ビニルラクタム／
（メタ）アクリル酸／スチロール共重合体である。１つ
の典型的な実施態様の場合、この共重合体は、コモノマ
ーを例えばヤれぞれ共重合体に対してＮ−ビニルカプロ
ラクタムおよび／またはＮ−ビニルピロリドン２５〜３
５重量襲、（メタ）アクリル酸１０〜１５１Ｕ量チおよ
び疎水性コモノマー５５〜６５ｍ童チの重で重合導入さ
せて含有する。

本発明により使用すべき共重合体のコモノマーは、＠記
しＴこ一叡的軛囲内の種類および量に応じ壬、共重合体
がグリシジル（メタ）アクリレートでのカルボキシル基
の部分的、特に１０〜６０％のエステル化後に皮膜形成
性でありかっこの共重合体に課された、溶解性ないしは
分散可能性に関連する要件を充足させるように選択され
る。この場合、個々のコモノマー基の含量の範囲は、共
重合体の一般的性質および特にこの共重合体を用いて得
られた本発明による感光性記録素子の一般的性質の点で
重要である。共重合体中での個々のコモノマーの含量な
らびにグリシジル（メタ）アクリレートでの個々のコモ
ノマーのエステル化度が前記範囲の外にある場合には、
本発明による感光性記録素子の性質ないしはこの感光性
記録素子から得られた印刷版またはレジストパターンの
性質ハ、不利に影響を及ぼされる。

本発明によれば、グリシジル（メタ）アクリレートで部
分エステル化された共重合体は、ＫＯＨ２０−１００Ｍ
Ｖｔの酸価を有するのが有利である。

本発明によれば、高分子量結合剤として使用すべき共重
合体は、常用の自体公知の重合法によりコモノマーを、
例えは溶液中で共１合させることによって得ることがで
きる。溶液重合には、例えば低級アルカノール、ケトン
、エステルおよび類似物、例えはメタノール、アセトン
、メチルエチルケトン、エチルアセテート等が溶剤とし
て適当である。重合開始剤としては、常用のラジカル反
応開始剤、例えはアゾビスイソブチロニトリル、ベンゾ
イルペルオキシドおよび類似物がこれに該当する。

グリシジルアクリレートおよび／またはグリシジルメタ
クリレートでのエステル化は、一般に通常カルボキシル
基含有共重合体をグリシジル（メタ）アクリレートと、
溶液中で７０℃〜ｌ’ｌ　０℃で反応させることによっ
て行なうことができる。

有利には、カルボキシル基含有共重合体をグリシジル（
メタ）アクリレートで官能化することは次のように行な
うことができるニ ジエチレングリコールジメチルエーテル中のカルボキシ
ル基含有共重合体の１０〜２０％の溶液を装入し、約１
１０℃でグリシジル（メタ）アクリレート３０％、熱安
定剤２部（例えは、キシリデン（Ｘｙｌｉｇｅｎ■）Ａ
Ｌ）および触媒２部（例えは、ジメチルアミノピリジン
、Ｎ−メチルイミダゾールまたはテトラブチルアンモニ
ウムヨージド）からなる溶液を約２時間で滴加する。反
応は一般に約３！５時間後に終結する。次に、冷たい反
応混合物は、１〜５％の固体含量に希釈し、かつ水中で
沈殿させることができる。

共重合体のカルボキシル基の変換率に応じて、意図的に
種々の酸価（ＳＺ）を有する結合剤を得ろことができる
。この結果、結合剤を困難なしに現像剤のｐＨ範囲に調
節することができるという利点を有する（例えば、ＳＺ
　９０、ｐＨ１１で現像可能；ＳＺ　２５、ｐ）１１２
．５で現像可能）。

当該形式の１つまたはそれ以上のＮ−ビニルアミド共重
合体は、高分子量結合剤として本発明による感光性記録
素子の光重合可能な記録層中に含有されていてもよい。

光重合可能な記録層は、高分子ｘｉ合剤とともに一般に
少なくとも１つの光重合可能なエチレン性不飽和化合物
、少なくとも１つの光重合開始剤ないしは光重合開始剤
系ならびに場合によっては感光性記録素子ないしはこれ
から得られた印刷版またはレジストパターンの一般的性
質を改善しおよび／または改質するための他の添加剤お
よび／または助剤を含有する。

この場合、光重合可能なエチレン性不飽和化合物として
は、単量体ならびに光重合可能なエチレン性不飽和オリ
ゴマーがこれに該当する。単量体は、一般に１０００よ
りも低い分子量を有する。光１合可能なオリゴマーの平
均分子量（数平均）は、特に約１０００〜１００００の
範囲内、殊に約１５００〜６０００の範囲内にある。こ
の場合、光重合可能な単量体およびオリゴマーは、−官
能価であっても多官能価であってもよく、すなわち１つ
ま１こはそれ以上の光重合可能なエチレン性二重結合を
有することができる。通常、光重合可能の記録層中には
、二官能価または多官能価の光重合可能のエチレン性不
飽和化合物か単独で含有されているかまたは一官能価の
光重合可能のエチレン性不飽和化合物の従属的含量を有
するその混合物で含有されている。

本発明によれば、高分子量結合剤として使用すべき特殊
なＮ−ビニルアミド共重合体の良好な相容性のために、
本発明による感光性記録素子の場合に光重合可能な化合
物としては、単独で使用することができるかまたは互い
の混合物で使用することができる極めて多数の単量体お
よびオリゴマーがこれに該当する。

光重合可能な単量体の代表例としては、殊に（メタ）ア
クリル酸誘導体、取りわけ（メタ）アクリル酸エステル
が挙げられる。その例は、約５００までの分子量を有ｊ
ろエチレングリコール、ジエチレンクリコール、トリエ
チレングリコールモジくはポリエチレングリコール、１
，２−プロパンジオール、１，３−プロパンジオール、
約５００までの分子量を有するポリプロピレングリコー
ル、１．４−ブタンジオール、１，１．１−トリメチロ
ールプロパン、２．２−ジメチルプロパンジオール、グ
リセリンま１こはペンタエリトリットのジー（メタ）ア
クリレートおよびトリー（メタ）アクリレート；ペンタ
エリ　トリットテトラ−（メタ）アクリレート、グルコ
ーストリーまたはグリコ−ステトラ−（メタ）アクリレ
ート、さらに記載したジオールおよびポリオールのモノ
アクリレートおよびモノメタクリレート、例えはエチレ
ングリコール−、ジエチレングリコール−、トリエチレ
ングリコール−ま１こはテトラエチレングリコールモノ
（メタ）アクリレート、プロパンジオール−モノ（メタ
）アクリレートおよびブタンジオール−モノ（メタ）ア
クリレートならびにモノアルカノール、殊に１〜２０個
のＣ原子を有するようなものの（メタ）アクリレートで
ある。前記種類の好ましいアクリレートおよびメタクリ
レートとともに、光重合可能な単量体としては、例えば
Ｎ−ビニルピロリドン、Ｎ−ビニルカプロラクタム、酢
酸ビニル、プロピオン酸ビニル、（メタ）アクリルアミ
ド、Ｎ−メチロール−（メタ）アクリルアミド、エチレ
ングリコールのビスエーテルおよびＮ−メチロール−（
メタ）アクリルアミド、ビニルカルバメート、ビスアク
リルアミド酢酸、グリオキサールビスアミド等である。

また、本発明による感光性記録素子に極めて好適の光重
合可能なエチレン性不飽和化合物は、２個またはそれ以
上のアクリロイル基および／またはメタクリロイル基を
有する単量体のウレタンアクリレートもしくはウレタン
メタクリレートである。このような単量体ウレタン（メ
タ）アクリレートは、例えは脂肪族ジーまたはポリオー
ルな有機ジイソシアネートと、ＯＨ：Ｎｅｏ約１：２の
当量比で反応させ、引続き得られた反応生成物の遊離イ
ンシアネート基を適当なアクリロイル化合物および／ま
たはメタクリロイル化合物、例えばヒドロキシアルキル
−（メタ）アクリレートと反応させることによって得る
ことができる。脂肪族ジーまたはポリオールとしては、
なかんず（ジ（メタ）アクリレートおよびトリ（メタ）
アクリレートと関連させて前記したジヒドロキシ化合物
およびポリヒドロキシ化合物がこれに該当し；有機ジイ
ソシアネートの例としては、ヘキサメチレンジイソシア
ネート、トルイレンジインシアネート、インホロンジイ
ンシアネートおよび類似物が挙げられ；ヒドロキシアル
キル（メタ）アクリレートは、例エバヒドロキシエチル
−（メタ）アクリレート、プロパンジオール−モノ（メ
タ）アクリレートまたはブタンジオール−モノ（メタ）
アクリレートである。全く同様に好適で好ましいのは、
例えばジーまたはポリグリシジル化合物をアクリル酸お
よび／またはメタクリル酸と反応させることによって得
ることができるように２個またはそれ以上のアクリロイ
ル基および／まＴこはメタクリロイル基を有する単量体
である。この場合、ジグリシジル化合物およびポリグリ
シジル化合物としては、殊に多価フェノール、例えばビ
スフェノールｈ−ｉたはビスフェノールＡの置換生成物
のジグリシジルエーテルおよびポリグリシジルエーテル
が当てはまる。このようにアクリロイル基および／また
はメタクリロイル基を有する単量体σ）例は、ビスフェ
ノールＡ−ビスグリシジルエーテルと、アクリル酸およ
び／ま１こはメタクリル酸とのモル比約ｌ：２での反応
生成物が強調される。

感光性記録素子か、光重合可能な記録層中に２個ま１こ
は特に２個よりも多いアクリロイル基および／ｆ：たは
メタクリロイル基を有するオリゴマーを光重合可能な化
合物として含有することは、殊にレジストパターンを製
造するのに特に有利であることが判明した。これは、例
えばアクリロイル基および／またはメタクリロイル基を
有するオリゴマーのウレタン樹脂であることができるか
、またはそれ自体公知であり刊行物に記載されているよ
うなジーまたはポリエポキシドを基礎とするものである
ことができる。この場合、特に重要なのは、アクリロイ
ル基および／またはメタクリロイル基とともに付加的に
なお遊離カルボキシル基を分子中に有する当該形式のオ
リゴマーである。この場合、この光重合可能なオリゴマ
ー中の遊離カルボキシル基の含量は、有利にオリゴマー
がＫＯＨ５０〜１５０１１Ｖｒの範囲内の酸価を有する
ような程度の高さにある。本発明による感光性記録素子
中に含有されていてもよいような前記種類の適当な光重
合可能なオリゴマーは、例えはドイツ連邦共和国特許出
願公開第２４４２５２７号明細書、ドイツ連邦共和国特
許第２５５７４０８号明細書に記載されているかまＴこ
はドイツ連邦共和国特許出願公開第２９１７４８３号明
細書に記載されている。本発明による感光性記録素子に
使用して待に有利な結果を生じ１こ他の光重合可能なオ
リゴマーは、例えばアクリロイル基および／またはメタ
クリロイル基を有するジオール−またはポリオール化合
物のヒドロキシル基を、種々のカルボン酸の酸部分エス
テルが形成するヨウニ種々のカルボン酸またはその誘導
体、殊に環状カルボン酸無水物と反応させ、引続きこう
して得られた反応生成物の遊離カルボキシル基の一部を
連鎖延長下ならびに場合によっては枝分れさせながらジ
エポキシドおよび／またはポリエポキシドと反応させる
ことにより得ることができる。

このようなオリゴマーを得るために原料物質として使用
される、アクリロイル基および／またはメタクリロイル
基を有するジオールまたはポリオール化合物は、有利に
例えはジーまたはポリグリシジルエーテルないしはジー
またはポリグリシジルエステルのようなジーまたはポリ
エポキシ化合物をアクリル酸および／またはメタクリル
酸と、グリシジル基：　０ＯＯＨ基約１：ｌの当量比で
反応させることにより得られる。この場合、ジーまたは
ポリエポキシ化合物は、例えば（メタ）アクリル酸との
反応前または反応の間にジカルボン酸と反応′させるこ
とによって予め延長させることもできる。最後に記載し
た種類のオリゴマーの例および代表例としては、例えは
ビスフェノールＡ−ビスグリシジルエーテルをアクリル
酸および／またはメタクリル酸と反応させるかないしは
グリシジル基：全部の０ＯＯＨ約１：１の当量比のジカ
ルボン酸、例えはアジピン酸約３０〜７０モル慢と、ア
クリル酸および／またはメタクリル酸約３０〜７０モル
チとの混合物と反応させ、こうして得られた反応生成物
のヒドロキシル基を、場合によっては別の種々のカルボ
ン酸の無水物、例えはトリメリット酸無水物の従属量と
の混合物の環状ジカルボン酸無水物、例えば無水フタル
酸と、ＯＨ基：無水物基ＦＪ１　：　ｌの当量比で種々
のカルボン酸の酸部分エステルの形成下に反応させ、最
後にこうして得られた反応生成物の遊離カルボキシル基
の一部をジグリシジルエーテルおよび／マ１こはポリグ
リシジルエーテル、例工ばビスフェノールＡ−ビスグリ
シジルエーテルまたはペンタエリトリットトリグリシジ
ルエーテルと、Ｃ０ＯＨ基ニゲリシジル基１：ｌよりも
大きい、特に約１．１５　：　１〜５：１の範囲内の当
量比で反応させることによって得られるような生成物が
挙げられる。

この場合、光重合可能のエチレン性不飽和の単量体およ
び／またはオリゴマーは、当栗者にとって自明のことで
あるが、それらか尚分子重結合剤として使用されたＮ−
ビニルアミド共重合体と相容性であるように選択される
。本発明による感光性記録素子の光重合可能な記録層中
での高分子量結合剤と、光重合可能なエチレン性不飽和
化合物との量比は、広範な範囲内で変動させることがで
き、例えば１：９９〜９０　：　１０の範囲内にある。

高分子量結合剤の、例えは光重合可能な記録層に対して
約１〜３５重量襲の範囲内の低い含量は、殊に２個より
も多いアクリロイル基および／またはメタクリロイル基
ならびに遊離カルボキシル基を有する１個またはそれ以
上のオリゴマーの高い含量、例えば光重合可能な記録層
に対して６０重量％またはそれ以上、殊に約４５重量％
よりも多い含量か光重合可能なエチレン性不飽和化合物
として光重合可能な記録層に含有されている場合に当て
はまる。

光重合可能な記録層のための元１合開始剤としては、元
１合可能な感光性記録材料に常用で自体公知のｊｔＭ合
開合剤始剤しは光重合開始剤系がこれに該当ｊる。その
ｆこめの例は、次のものが挙げラレル：ベンゾイン、ベ
ンゾインエーテル、殊にベンゾインアルキルエーテル、
置換ベンゾイン、置換ベンゾインのアルキルエーテル、
例えはα−メチルベンゾインアルキルエーテルまたはα
−ヒドロキシメチルベンゾインアルキルエーテル；ベン
ジル、ベンジルケタール、殊にベンジルジメチルケター
ル、ペンジルメチルエチルケタールマ１こはベンジルメ
チルベンジルケタール；光重合開始剤として公知で有効
なアシルホスフィンオキシト化合物、例えば２　、４　
、６−　ト！Ｊメチルベンゾイルジアリールホスフィン
オキシド；ベンゾフェノン、ベンゾフェノン誘導体、４
　、４’−ジメチルアミノベンゾフェノン、４．４’−
ジエチルアミノベンゾフェノン、ミヒラーケトンの誘導
体；アントラキノンおよび置換アントラキノン；アリー
ル置換イミダゾールまたはその誘導体、例えは２，４゜
５−トリアリールイミダゾールニ量体；２−クロルチオ
キサントンおよび光重合開始剤として有効なアクリジン
−またはフェナジン誘導体。光重合開始剤糸の例は、記
載した光重合開始剤と、増感助剤または活性剤、例えは
殊に第三アミンとの組合せ物である。このような開始剤
系の典型的な例は、ベンゾフェア７ンま１こはベンゾフ
ェノン誘導体と、第三アミン、例えはトリエタノールア
ミンまたはミヒラーケトンとの組合せ物であるがまたは
２．４．５−トリアリールイミダゾールニ量体と、２−
メルカプトベンゾキナゾールまたはトリフェニルメタン
染料のロイコ塩基との混合物である。

光重合開始剤ないしは光重合開始剤糸を適当に選択する
ことは、当東者の周知せるところである。

九皿合開始剤ないしは光重合開始剤系は、元工合可能な
記録層中に一般に光重合可能な記録層に対して０．００
１〜１０重量％の量、籍に０．０５〜５重量％の量で含
有されている。

本発明による感光性記録素子の光重合可能な記録層中に
含有されていてもよい他の添加剤および／または助剤と
しては、例えは熱重合抑制剤、染料および／または顔料
、フォトクロミック化合物もしくはフォトクロミック系
、センシトメトリック調整剤、可塑剤、流展助剤、艶消
剤ま１こは滑剤および類似物がこれに該当する。適当な
熱重合抑制剤は、例えはヒドロキノン、ヒドロキノン誘
導体、２，６−ジー第三ブチル−ｐ−クレゾール、ニト
ロフェノール、Ｎ−ニトロンアミン、例えばＮ−ニトロ
ンジフェニルアミンまたはＮ−ニトロソシクロへキシル
ヒドロキンルアミン塩である。

コントラスト剤であつ℃もよいし、層強化作用を有して
いてもよい染料および／または顔料の例は、なかんずく
ブリリアントグリーン染料（カラーインデックス番号４
２０４０　）　、　　ビクトリアピュアブルー　ＦＧＡ
、ビクトリアピュアブルーＢＯ（カラーインデックス番
号４２５９５　）　、ビクトリアブルーＢ（カラーイン
テックス番号４４０４５　）、ローダミン６Ｇ（カラー
インデックス番号４５１６０　）、トリフェニルメタン
染料、ナフタルイミド染料、アゾゾルおよび３−フェニ
）１．／−７−シメチルアミンー２．２−スピロ−ジー
（２Ｈ−１−ベンゾビラン）である。

化学線での露光σ）際に可塑的ま１こは不可逆的に色を
変えるが、その際光重合過程を損なうことのないフォト
クロミック系は、例えは適当な活性剤と一緒のロイコ染
料である。ロイコ染料のψりとしては、トリフェニルメ
タン染料のロイコ塩基、例えばクリスタルバイオレット
−ロイコ塩基およヒーｒラカイトグリーン・ロイコ塩基
、ロイコ−塩基性ブルー、ロイコ−バラロスアニリン、
ロイコ−パテントブルーＡまたは■が挙けられ；さらに
ローダミンＢ−塩基も当てはまる。このフォトクロミッ
ク化合物に対する活性剤としては、なかんす（化学線で
の露光σ）際にハロゲン遊離基を脱離する有情ハロゲン
化合物が当てはまるかまたはへキサアリールビスイミダ
ゾールが当てはまる。センシトメトリック調整剤には、
例えは９−ニトロアントラセン、１０．１０−ビスアン
トロン、殊に温和な還元剤との組合せ物のツェナジニウ
ム−、フェノキサジニウム−、アクリジニウム−または
フェノチアジニウム染料、１．３−ジニトロペンゾール
および類似物が属する。可塑剤としては、自体公知の常
用の低分子量ま１こは高分子量エステル、例エバフタレ
ートまたはアジペート、ドルオールスルホンアミドまた
はトリクレジルホスフェートを使用することができる。

添加剤および／ま１こは助剤は、光重合可能な記録層中
にこれらの物質に対して常用で公知の有効量で存在して
いる。しかし、この有効量は、一般に光重合可能な記録
層に対して３０重量％、特に２０重量％を越えてはなら
ない。

個々の成分が光重合可能な記録層中に含有されている混
合比は、一般にこの記録層がアルカリ性水溶液で現像可
能なだけでなく、好ましくは室温で固体であり、粘着せ
ず、かつ良好な皮膜形成特性を有するような程度に選択
される。そσ）上、本発明による感光性記録素子をフォ
トレジストフィルムとして使用するには、組成は、光重
合可能な記録層が良好に積層可能であり、かつ圧力の使
用下および場合によっては熱の使用下に基材上に転移可
能であるように選択される。光重合可能な記録層の厚さ
は、周知のように感光性記録素子の使用目的に左右され
、したかつて広範な範囲内で変動することができる。凸
版印刷版または凹版印部１１版を製造するには、光重合
可能な記録層の厚さは、一般に約１００μ〜数■の範囲
内にあり；レジストパターンを製造するには、通常光重
合可能な記録層の層厚は、約１〜５０μの範囲内に調節
され；平版印刷仮のためには、光重合可能な記録層の厚
さは、一般に約０．５〜６μの範囲内にある。

本発明の典型的な芙施悪様の場合、感光性記録索子の光
重合可能な記録層は、 ａ）高分子重結合剤としての前記種類のグリシジル（メ
タ）アクリレートで部分エステル化されり少なくとも１
つのカルボキシル基金’Ｗ　Ｎ−ビニルアミド共亜合体
４０〜８０亜重チ、特に４５〜８５Ｍ童矛、 ｂ）高い羊量体含童の際に場合によっては１つまたはそ
れ以上の相容性の光重合可能なオリゴマーの従属量と一
緒の混合物で高分子量結合剤と相容性の少なくとも１つ
のエチレン性不飽和の光１合可能な単量体５〜５５重量
％、特に５〜４５重量％、 Ｃ）少なくとも１つの光重合開始剤　０．００１〜１０
重量％、特に３〜７重量％ならびに ｄ）記録素子の一般的性質ないしはこれから得られた印
刷版またはレジストパターンの一般的性質を改善するか
ないしは改質する他の添加剤および／または助剤０〜３
０重量％、特に０．０５〜２０Ｍ量係、例えば一般に１
〜４重量％の量の増感剤、一般に帆５〜３Ｎ量チの量の
染料、ならびに例えは０．５〜５Ｘ食＝Ｓ、殊に１〜３
重量％の量の常用の可塑剤 の均質でアルカリ性水溶液に可溶であるかまたは少なく
とも分散可能な皮膜形成性混合物からなる。

しかし、前記に既述したように、光重合可能な記録層は
、高分子量結合剤を光重合可能な記録層に対して４０重
量−未満、例えは１〜約３５軍量予含有することもでき
る。この場合、この光重合可能な記録層は、光重合開始
剤ならびに場合によっては他の添加剤および／または助
剤とともに、２個よりも多い光重合可能なエチレン性二
重結合、殊にアクリロイル基および／またはメタクリロ
イル基、ならびに特に遊離カルボキシル基を有しかつ約
１０００〜１００００の範囲内の平均分子量（数平均）
を有する１つまたはそれ以上のアルカリ性水溶液に可溶
であるかまたは少なくとも分散可能なオリゴマーを光重
合可能な記録層に対して少なくとも４０重量％、特に４
５〜７５重量％含有する。この場合、光重合可能なオリ
ゴマーとともに光重合可能な記録層は、なお光重合可能
な単量体を光重合可能な記録層に対して殊に約１〜３０
重量％の量、有利に約１〜３０重量饅の量で含有するこ
とができる。極めて僅少量の高分子量結合剤を有するか
かる光重合可能な記録層は、殊に例えはレジストパター
ンおよびフォトレジストフィルムを製造する際に使用さ
れるような薄い層に好適である。

光重合可能な記録層のための支持体としては、当該形式
の感光性記録素子に常用の自体公知で寸法安定性の剛性
または特に可撓性の層支持体がこれに該当し、こσ）場
合この層支持体の種類は、感光性記録素子の使用目的に
よって決定される。すなわち、印刷板を製造するために
は、寸法安定性の支持体としては、殊に例えはポリエス
テルからなるプラスチックフィルムまたは一シートおよ
び例えば鋼またはアルミニウムからなる金属の層支持体
が当てはまる。フォトレジストフィルムおよび層転移材
料には支持材料として、特に光重合可能な記録層に対し
て適度の付着力を有しかつ光重合可能な記録層を支持体
上に積層するかないしは貼り合せた後にこの記録層から
化学線での露光前または露光後に剥離することができる
プラスチックフィルムまたは−シート、殊にポリエステ
ルシートが使用される。レジストパターンを製造するに
は、光重合可能な記録層は、保護すべきならびに場合に
よっては耐久的に改質すべき丞材上に直接設けることも
でき、この場合この基材は、光重合可能な記録層のため
の支持体として働く。フォトレジスト層のための基材と
しては、例えば銅薄板、鋼張りした基材、金属または金
属酸化物層で被覆されたセラミック基材、半導体素子、
シリコーンウェファ−および類似物かこれに該当する。

光重合可能な記録層のための支持材料は、場合によって
は自体公知の方法で、例えば機械的、化学的、電気化学
的に前処理されていてもよ（および／または付着下塗剤
を備えさせることによって前処理されていてもよい。同
様に、光重合可能な記録層と支持体との間にはなお１つ
ま１こはそれ以上の中間層が配置されていてもよい。印
刷版、殊に凸版印刷版または凹版印刷版を製造するため
の感光性記録素子の場合、この中間層は、付着層および
／またはハレーション防止層として構成させることかで
きる。フォトレジストフィルムおよび層転移材料の場合
、光重合可能な記録層と、剥離可能の一時的な層支持体
との間のかかる中間層は、光重合可能な記録層を支持体
上に積層するかないしは貼り合せた後に層支持体の剥離
を簡易化しおよび／または層支持体の剥離後に酸素遮断
層として使用することができる。

全く同様に、光重合可能な記録層の支持体から離れた底
面上には、有利に光重合可能な記録層と同様に現像溶剤
に可溶であるかまたはこの記録層から剥離可能である被
覆層または被覆シートがなお配置されていてもよい。こ
の被覆層もしくは被覆シートは、なかんずく感光性記録
素子を貯蔵しかつ取扱う際に光重合可能な記録層を保護
することに使用され、かつ場合によっては光重合可能な
記録層のための酸素遮断層として使用される。例えは、
ポリビニルアルコールまたはポリビニルアルコール誘導
体からなる被覆層ないしは殊にフォトレジストフィルム
の場合に例えはポリエチレンまたはポリプロピレンのよ
うなポリオレフィンからなる被覆シートは、特に好適で
あることが判明した。

本発明による感光性記録素子を製造することは、常用の
自体公知の方法で光重合可能な記録層を形成する成分の
均質混合物を製造しかつこの混合物を場合によっては中
間層を有する支持体上に層状に設けることによって行な
うことができる。例えは、光１合可能な記録層の成分は
、純粋に機械的に適当な混合装置中、例えは混合機まγ
こは押出機中で均質混合し、かっこの混合物は、例えば
押出し、圧延または圧縮によって所望の厚さの層に成形
することかでき、この層は、さらに支持体上に積層され
るかないしは貼り合せられる。しがし、感光性記録素子
は、光重合可能な記録層の成分を適当な浴剤または浴剤
混合物に浴解し、かっこの溶液を注型、浸漬、噴霧また
は別の公知の塗布技術によって所望の層厚で支持体上に
設けることにより得るのが好ましい。引続き、浴剤は、
常法で除去され、光重合可能な記録層は乾燥される。成
分を混合しかつ光重合可能な記録層を支持体上に設ける
のに適当な浴剤は、ながんす（低級アルコール１ケトン
ま１こはエステル、例えはメタノールアセトン、メチル
エチルケトン、エチルアセテートおよび類似物、ならび
にこれらの混合物である。

引続ぎ、光重合可能な記魅層上には、心安に比、じてな
お被覆層または板積シート？：設けることができる。

本発明による感光性記録素子は、好ましくは印刷版ま１
こはレジストパターンを常用の自体公知の方法により製
造するのに適当である。このために、光重合可能な′記
録層は、フォトレジストフィルムおよび層転移材料の場
合に保護すべき基材上への層転移後に画像に応じて化学
線で露光され、この場合伴のために化学線の常用の光源
、例えばＵＶ−螢光管、高圧水銀灯、中圧水銀灯または
低圧水銀灯、超化学線発光管、キセノン灯、またＵＶ−
レーザー、アルゴンレーザーおよび類似物は適当である
。光源から放射される波長は、一般に２３０〜４５０　
ｎｍの間、有利に３００〜４２０　ｎｍの間にあり、殊
に光重合可能な記録層中に含有されている光重合開始剤
の固有吸収に一致していなければならな（ゝ。

光重合は、画像に応じて化学線で露光することによって
記録層の露光領域内で開始され、この光１合は、露光し
た層領域内での架橋、ひいては露光した層領域と、未露
光の層領域との間の浴解度の差を導く。画像に応じての
露光後、印刷版ないしはレジストパターンは、記録層の
未露光の架橋されてない領域をアルカリ現像水溶液で洗
浄除去することによって現像される。現像は、洗浄、噴
霧、擦過、刷毛塗り等によって行なうことができる。こ
の場合、本発明による記録素子は、大きい現像のゆとり
および極めて僅かな過洗浄不安定性を示す。現像液とし
ては、一般に８〜１４の範囲内、特に約９〜１３の範囲
内の最も有利なｐＨ値に調節するためにアルカリ性反応
する物質、例えばボラックス、燐酸水素二ナトリウム、
ソーダ、アルカリ金属水酸化物または有機塩基、例えば
水に溶解し°たジーまたはトリエタノールアミンを含有
するアルカリ性水溶液がこれに該当する。また、アルカ
リ現像水溶液は、緩衝塩、例えば水溶性アルカリ金属燐
酸塩、−珪酸塩、−硼敵塩、−酢酸塩または一安息香酸
塩を含有することができる。現像液の他の成分としては
、湿潤剤、特に陰イオン性湿潤剤、及び場合によっては
水浴性重合体、例えはナトリウムカルボキシメチルセル
ロース、ポリビニルアルコール、ポリナトリウムアクリ
レートおよび類似物を一緒に使用することができる。本
発明による記録素子が一般に純粋なアルカリ現像水溶液
で洗浄除去されるとしても、勿論アルカリ現像水浴液が
なお水溶性有機溶剤、例えば脂肪族アルコール、アセト
ンまたはテトラヒドロフランの僅かな添加量を有するこ
とが不必要でもあることは、原則的に可能である。

本発明による感光性記録素子は、良好な露光特性および
アルカリ現像水溶液中での良好な現像可能性を示し、そ
れによって極めて微細な画像素子をオリジナルに正確に
確実に再現させることも可能である。本発明による光重
合可能な記録層は、金属または金属酸化物素地上で、画
像に応じて露光した記録層を現像する際に洗浄除去した
領域内での残存層の付着物の形成を生じることなしに卓
越した付着力を有する。更に、記録素子は、露光した、
すなわち光架橋した状態で、例えば印刷版またはレジス
トパターンを使用する際に使用されるような水性媒体に
対して極めて高い安定性を有する。本発明による感光性
記録材料は、原則的に電子複写および光学的情報固定の
全ての使用分野に適当である。

本発明による感光性記録素子は、本質的に改善された感
光性を有する。それによって、ＰＶＡＬ−保護フィルム
なしのプレセンシタイズされたオフセット板は、一部公
知技術水準に相当するものよりも迅速な露光時間を有す
る。

結合剤の分子間架橋のために極端な分子量の増大が得ら
れ、このことは、オフセット層の安定性が改善されたこ
とを表わｊ。

本発明による感光性記録素子を基礎とする、ＰＶＡＬ−
保護フィルムを有する感光性重合体のオフセット層は、
レーザーで書き込むことができ、かつ印刷＆のコンピュ
ーターによる電気版製造に適当である。

実施例 次に、本発明を実施例によって詳説する。実施例中に記
載された「都」および「羨」は、別記しない限り「重量
部」または「重量φ」である〇グリシジ／Ｉ／（メタ）
アクリレートでのカルボキシル基含有共重合体の改質： 反応容器中でメタクリル酸メチルエステル６７．５％、
Ｎ−ビニルピロリドン２２．５％およびメタクリル酸ｌ
Ｏ％からなる共重合体（フイケンチャー（Ｆｉｋｅｎｔ
ｓｃｈｅｒ　）によるに値：２７）をジエチレングリコ
ールジメチルエーテルに溶解し、したがって固体含量１
５％の溶液を生成させる。この溶液を１１０℃に加熱し
、この温度でこれにグリシジルメタクリレート３０部、
熱安定剤２部（例えは、キシリデン（Ｘｙｌｉｇｅｎ■
）Ａｔ）およびエステル化触媒２部（例えば、ジメチル
アミノピリジン、Ｎ−メチルイミダゾールまたはテトラ
ブチルアンモニウムヨージド）からなる溶液を２時間で
均一に滴加する。

反応し１約３．５時間後に終結する。冷却後、生じる反
応混合物を３％の固体含量に希釈し、水中で沈殿させ、
かつ沈殿した共重合体を５０℃で油ポンプによる真空下
で乾燥する。得られた共重合体は、ＫＯＨ２５１１９７
＃の酸価を有する。

実施例１ 上記のグリシジルメタクリレートで改質されたカルボキ
シル基含有共重合体（酸価：２５）５９％単量体（１，
４−ブタンジオールジグリシジルエーテルのジアクリレ
ート）３０％ ミヒラーケトン　　　　　　　　　　　　　２％２−（
４−メトキシナフチル−１）　４．６−ビス−（トリク
ロルメチル）−８−トリアジン　６％ブロムフェノール
ブルー　　　　　　　　１％可Ｗ　剤（ペンゾールスル
ホンＨ−ｎ−プｆルアミ　ド　）　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　２　
％をテトラヒドロフラン中で処理して５％の溶液にし、
この均質溶液をドクターブレード（注型間隙３５μ、排
出速度２５０ｍ／分）を用いて電気分解により粗面化さ
れかつ陽極酸化された、平版印刷板に典型的なアルミニ
ウム支持薄版上に塗布しｔこ。それぞれ８０℃で１０分
間σ）乾燥後、２．５μ（約２．７９７？？１′）の乾
燥層厚を有する光重合可能な層を生じ１こ。こうして得
られ１こ平版印刷板（酸素遮断層なし）は、差当り６日
間閉じＴこ袋σ）中に留めた。その後に、この平版印刷
板を必要とされる最小無光時間を測定するためにフオノ
ン（ＦＯ（）ＲＡ　）　ＰＭＥＩ　−試験ス）　ＩＪツ
ブを通じて化学線で露光し１こ。露光後、この板をアル
カリ現像水浴液（ｐＨ１２，５）で５０秒間現像した。

記録素子の性質： ｐＶＡＬなし： 露光時間：２５秒間（３ＫＷσ）Ｈｇ−灯で）分解　能
−Ｋ値（フオノン（ＦＯＧＲＡ　）後）１０ド色の変化
：　良好 実施例２ 実施例１を繰り返し１こが、平版印刷板の光重合可能な
層の自由表面上に乾燥直後にポリビニルアルコール（鹸
化度約９８％）からなる酸素遮断層を５μ（約６　ｙｆ
ｉｒ？　）の層厚で設けた。この酸素遮断層を有する平
版印刷板につい又、酸素遮断層なしの板と同様に必要と
される最少話元時間およびフオノン（ＦＯＧＲＡ　）　
ＰＭＥＩ−試験ストリップを通じての化学線での画像に
応じての無光によって達成可能な分解能を測冗した。

性質： 露光時間＝　１秒間 分　解　能二に１１ド（フオノン（ＦＯＧＲＡ　）後）
　　１５〜２０μ色σ）変化：　僅か 実施例３ 実施例１の場合と同様に実施するか、単量体３０頭の代
りに単量体２０％および結合剤５９％の代りに結合剤６
９％を使用し１こ。

性質： 露光時間−４５秒間 分　解　能＝　　Ｋ値（フオノン（ＦＯＧＲＡ）後）１
２　μ色の変化：　良好 実施例４ 実施例２の記載と同様に実施するが、ｌ、４−ブタンジ
オールジグリシジルエーテル レート３０％の代りにトリメチロールブロンよント１）
アクリレート４０％、結合剤５９チの代りに結合剤４９
頭およびブロムフェノールブルー リアブルーな使用しｆこ。

こ）して得られ１こ記録素子〇）性質：感　度；　帆（
ｉ　ｍＪ歯−２ 分解能二　Ｋ値（フオグラ（ＦＯＧＲＡ　）後）１２μ
この記録素子は、レーザー露光（３５１ｎｍ、アルゴン
１−レーザー）にも好適である。

Claims (11)

【特許請求の範囲】
1. （１）寸法安定性の支持体上に設けられた、高分子量結
   合剤を含有する、アルカリ性水溶液で現像可能の光重合
   可能な記録層を有し、印刷版またはレジストパターンを
   製造するのに適当である感光性記録素子において、光重
   合可能な記録層中に高分子量結合剤として、少なくとも
   １つてＮ−ビニルアミド１０〜５０重量％、アクリル酸
   および／またはメタクリル酸８〜３０重量％ならびにそ
   れ自体水およびアルカリ性水溶液に不溶の単独重合体を
   形成する少なくとも１つの疎水性コモノマー３０〜８０
   重量％からなる、水に不溶でアルカリ性水溶液に可溶で
   あるかまたは少なくとも分散可能の少なくとも１つの皮
   膜形成性共重合体が含有されており、この場合この共重
   合体のカルボキシル基は部分的にグリシジル（メタ）ア
   クリレートとの反応によってエステル化されていること
   を特徴とする、感光性記録素子。
2. （２）共血合体のカルボキシル基の１０〜６０％がグリ
   シジル（メタ）アクリレートでエステル化されている、
   特許請求の範囲第１項記載の感光性記録素子。
3. （３）カルボキシル基が部分的にグリシジル（メタ）ア
   クリレートとの反応によってエステル化されている共重
   合体がＫＯＨ２０〜１００ｍｇ／ｇの酸価を有する、特
   許請求の範囲第１項記載の感光性記録素子。
4. （４）光重合可能な記録層中に高分子量結合剤として含
   有されている共重合体が少なくとも１つのＮ−ビニルラ
   クタム、殊にＮ−ビニルピロリドンおよび／またはＮ−
   ビニルカプロラクタムをＮ−ビニルアミドコモノマーと
   して重合導入して含有する、特許請求の範囲第１項から
   第３項までのいずれか１項に記載の感光性記録素子。
5. （５）光重合可能な記録層中に高分子量結合剤として含
   有されている共重合体がスチロール、核置換スチロール
   または側鎖置換スチロール、ビニルアセテート、アルキ
   ルアクリレートおよび／またはアルキルメタクリレート
   を疎水性コモノマーとして重合導入して含有する、特許
   請求の範囲第１項から第４項までのいずれか１項に記載
   の感光性記録素子。
6. （６）光重合可能な記録層中にＮ−ビニルラクタム／（
   メタ）アクリル酸／メチルメタクリレート共重合体が高
   分子量結合剤として含有されており、この場合この共重
   合体のカルボキシル基の１０〜６０％はグリシジル（メ
   タ）アクリレートでエステル化されている、特許請求の
   範囲第１項から第５項までのいずれか１項に記載の感光
   性記録素子。
7. （７）光重合可能な記録層中にＮ−ビニルラクタム／（
   メタ）アクリル酸／スチロール共重合体が高分子量結合
   剤として含有されており、この場合この共重合体のカル
   ボキシル基の１０〜６０％はグリシジル（メタ）アクリ
   レートでエステル化されている、特許請求の範囲第１項
   から第５項までのいずれか１項に記載の感光性記録素子
   。
8. （８）光重合可能な記録層中に高分子量結合剤として含
   有されている共重合体が少なくとも１つのＮ−ビニルア
   ミド２０〜４５重量％、アクリル酸および／またはメタ
   クリル酸１０〜４０重量％ならびに前記した種類の少な
   くとも１つの疎水性コモノマー４０〜７０重量％を重合
   導入して含有し、この場合記載した百分率はそれぞれ共
   重合体に対するものであり、かつ共重合体のカルボキシ
   ル基の１０〜６０％はグリシジルメタクリレートでエス
   テル化されている、特許請求の範囲第１項から第７項ま
   でのいずれか１項に記載の感光性記録素子。
9. （９）光重合可能な記録層が高分子量結合剤とともに少
   なくとも１つの光重合可能なエチレン性不飽和化合物、
   少なくとも１つの光重合開始剤ならびに場合によっては
   他の添加剤および／または助剤を含有する、特許請求の
   範囲第１項から第８項までのいずれか１項に記載の感光
   性記録素子。
10. （１０）光重合可能な記録層が２個またはそれ以上のア
    クリロイル基および／またはメタクリロイル基を有する
    単量体および／またはオリゴマーを光重合可能なエチレ
    ン性不飽和化合物として含有する、特許請求の範囲第９
    項記載の感光性記録素子。
11. （１１）光重合可能な記録層が高分子量結合剤および光
    重合可能なエチレン性不飽和化合物を１：９９〜９０：
    １０の重量比で含有する、特許請求の範囲第９項または
    第１０項に記載の感光性記録素子。