JPS62281832A - 新規なビスシクロヘキサノール類 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 泣肌匹探亘方１ 本発明はＦｒ規なビスシクロへキナノール類およびその
製造方法に関する。

明の技術的背景ならびにその問題点 脂肪族、脂環族あるいは芳香族ジオール類は、ポリエス
テル、飽和ポリエステル樹脂、不飽和ポリエステル樹脂
、アルキッド樹脂、ポリカポネート樹脂、エポキシ樹脂
、ポリウレタンなど各種の高分子材料の原料として広く
用いられている。これらの用途分野では、要求性能の高
度化に対応するために、材料に対して強度、耐熱性、耐
候性、耐水性など各種の物性の向上がますます求められ
るようになっている。

本発明は、これらの材料に求められている各種の物性の
向上に対して、とくに耐熱性および耐水性の向上に対し
て有効な効果をもたらす新規なビスシクロヘキサノール
類およびその製造方法に関する。

また、ポリオレフィンあるいは塩化ビニルなど多くの高
分子材料の利用に必たっては、成形性および各種物性を
向上させるために、滑剤、可塑剤、帯電防止剤など各種
の添加剤が使用されているが、これらの添加剤に対して
も要求される性能がますます高度化している。

本発明は、このような高度な性能が要求される各種添加
剤としであるいは各種添加剤の原料として有用な新規な
ビスシクロヘキサノール類およびその製造法に関する。

また、潤滑油やブレーキ油など各種の油性製品において
も、それぞれの性能を高めるために各種の添加剤が使用
されているが、これらの分野の添加剤に対しても要求さ
れる性能がますます高度になってきている。

本発明は、このような分野に用いられる添加剤あるいは
添加剤の原料として有用な新規などスジクロヘキサノー
ル類およびその製造法に関する。

さらに、本発明はたとえば過酸化物など各種の右眼化合
物製品の原料としても有用な新規なビスシクロベキ１ナ
ノール類およびその製造法に関する。

ところで下記式で示されるようなビスシクロヘキサノー
ル類は、特開昭５１−３４１３３号公報に開示されてい
る。

（式中、Ｒ１−Ｒ４は炭素数１〜３個のアルキル基を表
わし、Ｘは単結合、炭素数１〜１０個の２価の脂肪族基
、炭素数５〜１５個の２価の環式脂肪族基、芳香族また
は環式脂肪族置換基をもった合計で炭素数６〜１５の２
価脂肪族基、あるいはしｈ３　　　　　　　　ＣＨ３ を表わす。） この公報には、上記のビスシクロヘキサノール類は、硬
化可能なポリエステル組成物を製造する際に極めて重要
であり、硬化したポリエステル組成物に耐薬品性を付務
しうる旨教示されている。

ところがこの特開昭５１−３４１３３Ｍ公報に開示され
た化合物は、あくまでもポリエステル組成物に耐薬品性
を付与するためのものであって、ポリエステルの耐熱性
、あるいは耐水性などを向上させることを目的とするも
のではない。

１肌の貝仰 本発明は、ポリエステル、飽和ポリエステル樹脂、不飽
和ポリエステル樹脂、アルキッド樹脂、ポリカーボネー
ト樹脂、エポキシ樹脂あるいはポリウレタンなどの原料
成分としであるいは原料成分の一部として用いることに
よって、物性が優れた、とくに耐熱性と耐水性が優れた
該高分子材料を製造することができる、新規なビスシク
ロへキナノール類およびその製造方法を提供することを
目的としている。

また本発明は、ポリオレフィンあるいは塩化ビニルなど
各種高分子材料の成形性および各種物性を向上させるた
めに有用な滑剤、可塑剤、帯電防止剤など各種添加剤と
しであるいは各種添加剤の原料として有用な新規なビス
シクロヘキサノール類およびその製造法を提供すること
を目的としている。

さらに、本発明は、潤滑油やブレーキ油など各種油性製
品の性能向上のための添加剤あるいは添加剤の原料とし
て、あるいはたとえば過酸化物など各種の有機化合物製
品の原料として有用な新規なビスシクロヘキサノール類
およびその製造法を提供することを目的とする。

発明の概要 本発明に係る新規なビスシクロヘキサノール類は、下記
式［Ｉ］で表わされる。

を表わす。ここでＲ１、Ｒ２は水素原子、低級アルキル
基、シクロヘキシル基またはアリール基を表わし、ただ
しＲ１とＲ２とは環を形成して２１ｔ［ｆｉのシクロヘ
キシル基を形成していてもよく、５２価のシクロヘキシ
ル基を形成しない場合にはＲ１とＲ２のうち少なくとも
いずれか一方はシクロヘキシル基またはアリール基であ
る。） 本発明に係るビスシクロヘキサノール類は、新規な化合
物であって、物性とくに耐熱性および耐水性に優れたポ
リエステル、飽和ポリエステル樹脂、不飽和ポリエステ
ル樹脂、アルキッド樹脂、ポリカーボネート樹脂、エポ
キシ樹脂おるいはポリウレタンなどの高分子材料を製造
するための原料あるいは原おｌ成分の一部として有用で
ある。

また、本発明に係るビスシクロヘキサノール類は、ポリ
オレフィンあるいは塩化ビニルなど各種高分子材料の成
形性あるいは各種物性を向上させるために有用な滑剤、
可塑剤、帯電防止剤などの各種添加剤として、あるいは
各種添加剤の原料としても有用である。

ざらに、本発明に係るビスシクロヘキサノール類は、ｉ
Ｅ潤滑油るいはブレーキ油など各種油性製品の性能向上
のための添加剤あるいは添加剤の原料として有用であり
、またたとえば有機過酸化物など各種の有機化合物製品
の原料としても有用である。

１肌り且体煎遺」 以下本発明に係る新規なビスシクロヘキサノール類およ
びその製造方法について具体的に説明する。

ビスシクロヘキサノール類 本発明に係る新規なヒスシクロヘキサノール類は、下記
式［ｉ］で表わされる。

（式中、 を表わす。ここでＲ１、Ｒ２は水素原子、低級アルキル
基、シクロヘキシル基またはアリール基を表わし、ただ
しＲ１とＲ２とは環を形成して２価のシクロヘキシル基
を形成していてもよく、２価のシクロヘキシル基を形成
しない場合にはＲ１とＲ２のうち少なくともいずれか一
方はシクロヘキシル基またはアリール基でおる。） この新規なビスシクロヘキサノール類の構造は、融点測
定、ガスクロマトグラフィー分析、Ｍｍ分析、’ｌ−ｌ
−１−Ｎにより確認することができる。

具体的には、上記の化合物をそのまま、あるいはトリメ
チルシリル化してガスクロ分析を行なうとともに、ビス
シクロヘキサノール類、あるいはｉ〜リメチルシリル化
されたビスシクロヘキサノール類を質量分析し、またＣ
ＤＣｌ３溶媒を用いて’Ｈ−ＮＭＲ（６０Ｍ、Ｒ２）に
より各プロトンのδ値を求めることにより構造が決定さ
れる。

製造方法　　。

本発明に係るビスシクロヘキサノール類は、下記式［■
］で示される対応するビスフェノール類の核水素化反応
により製造することができる。

（式中、Ｘは前記と同様である。） 具体的には、たとえば４．４’−（１，、ＩＩ−フェニ
レンビス（１−メチルエチリデン）］ビスフェノールを
特定の条件下で核水素化すれば、４．４’−［１，４−
フェニレンビス（１−メヂルエチリデン月ビスシクロヘ
キサノールが１仔られ、また、４．４’−［１，３−フ
ェニレンビス（１−メチルエチリデンロビスフェノール
を特定の条件下で核水素化すれば、４．４’−［１，３
−フェニレンビス（１−メチルエチリデン）］ビスシク
ロヘキサノールが得られる。ざらに、４，４°−（１−
フェニルエチリデン）ビスフェノールを核水素化すれば
、４．４’−（１−シクロへキシルエチリデン）ビスシ
クロヘキサノールが１ｑられ、４．４’−（フェニルメ
チリデン）ビスフェノールを核水素化すれば、４，４°
−（シクロへキシメチリデン）ビスシクロヘキサノール
が得られ、４，４゛−シクロへキシリデンビスフェノー
ルを核水素化すれば４，４°−シクロへキシリデンビス
シクロヘキサノールが得られる。

ビスフェノール類の核水素化反応は、次のような条件下
で行なうことができる。

ビスフェノール類の核水素化を行なうに際しては、従来
公知の核水素化触媒、たとえば担持Ｒｈ触媒、担持Ｒｕ
触媒、ラネーニッケルなどが用いられる。

反応に際しては、ビスフェノール類をそのまま核水素化
してもよく、またメタノール、エタン−ル、イソプロピ
ルアルコールなどのアルコール類、ジオキサンなどのエ
ーテル類などの溶媒の存在下に核水素化してもよい。

本発明では前記した一般式［ＩＩで示される原料のビス
フェノール類を核水素化して本発明に係わる一般式［Ｉ
Ｉで示されるごスジクロヘキサノール類が製造されるわ
けであるが、この場合、一般式［ＩＩと［ＩＩ］中にあ
るＸで示されるで、又Ｘが−ＣＲ１Ｒ２−の基の場合に
は該基中のアリール基を必要に応じて核水素化してシク
ロヘキシル基とし、Ｘの両端に位置するベンピン膿を核
水素化して、本発明に係わるビスシクロヘキサノール類
が得られる。このような原料のビスフェノール類の核水
素化反応は反応の際の溶媒、触媒の種類及び圧力、温度
等の反応条件をうまく選ぶことによってコン１〜ロール
することができる。

−例を必げれば、触媒として担持Ｒｈ触媒を用い、反応
温度１３０’Ｃ１水素圧力４０Ｋｌ／ｃｉＧの条件で、
溶媒としてエタノールを用いて一般式［ＩＩ］が、同様
の条件で溶媒としてイソプロパツールを用いて水素還元
を行うと一般式［Ｉ］のＸかにまで還元されたビスシク
ロヘキサノール化合物が得れる。

本発明では触媒の使用量は、触媒の種類、員金属担持徂
、ビスフェノール類、濃度などによっても変わるが、ビ
スフェノール類１００重量部に対して０．１〜１００重
ｆｆｉ部の量で用いられることが好ましい。

反応温度は、室温〜３５０℃好ましくは５０〜゛２５０
℃であり、反応時の水素圧は、常圧〜３００Ｋｇ／ｃｆ
ｆｌＧ好ましくは５〜２００Ｋｇ／ｃｍＧである。

反応終了後には、反応混合液から触媒を濾別し、次いで
溶媒を用いた場合には溶媒を留去した後、必要に応じて
減圧下で蒸留精製するか、あるいは適当な溶媒を加えて
晶析精製すれば、本発明のビスシクロヘキサノール類が
得られる。

五里塁 本発明に係る新規なビスシクロへキナノール類は、物性
とくに耐熱性および耐水性に優れたポリエステル、飽和
ポリエステル樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、アルキッ
ド樹脂、ポリカーボネート樹脂、エポキシ樹脂あるいは
ポリウレタンなどの高分子材料を製造するための原料あ
るいは原料成分の一部として有用である。たとえば代表
的なポリエステルであるテレフタル酸とエチレングリコ
ールとから成るポリエチレンテレフタレートを製造する
に際して、本発明に係るビスシクロヘキサノールを、テ
レフタル酸とエチレングリコールとの合計重量に対して
杓１０重母％程度添加すると、得られるポリエチレンテ
レフタレートのガラス転移温度は約８５℃以上となる。

これに対して、本発明に係るビスシクロヘキサノールを
全く添加しないでテレフタル酸とエチレングリコールと
から得られるポリエチレンテレフタレートは、そのガラ
ス転移温度は約７５℃程度である。このように本発明に
係る新規なビスシクロヘキサノール類を、テレフタル酸
とエチレングリコールとからポリエチレンテレフタレー
トを製造するに際して反応系に添加すると、得られるポ
リエチレンテレフタレートのガラス転移温度は上昇し、
引張強度、剛性、弾性などの実用物性がより高温まで保
持されるようになる。

また、本発明に係るビスシクロへキナノール類１丁 は、ポリオレフィンある（ζ化ビニルなど各種高・分子
材料の成形性あるいは各種物性を向上させるために有用
な滑剤、可塑剤、帯電防止剤など各種添加剤として、あ
るいは各種添加剤を！Ａ造するための原料として有用で
ある。たとえば軟質塩化ビニルにはフタル酸ジ２−エチ
ルヘキシル、フタル酸ジヘプチルなどの可塑剤が多量に
配合されているが、これらのかわりにあるいはこれらの
一部のかわりに本発明に係るビスシクロヘキサノールの
高級脂肪酸エステルを用いると、不揮発性、耐抽出性、
耐水性、吸水性などの保留性能を向上させることができ
る。

ざらに、本発明に係るビスシクロヘキサノール類は、潤
滑油やブレーキ油など各種油性ケ品の性能を向上させる
ために用いられる添加剤あるいは添加剤の原料としても
有用である。

またざらに、本発明に係るビスシクロヘキサノール類は
、過酸化物など各種の有機有用物質の原料としても有用
である。

発明の効果 本発明に係るビスシクロへキリツール類は、新規で有用
な化合物であって、物性とくに耐熱性および耐水性とに
優れた各種高分子材料の原料として、また各種高分子材
料の添加剤としておるいは各種高分子材料の添加剤の原
料として、ざらにたとえば潤滑油やブレーキ油など各種
油性製品の添加剤としであるいは添加剤の原料として、
あるいはたとえば過酸化物など各種のＴＪ機機台合物製
品原料として用いることができる。

以下本発明を実施例により説明するが、本発明はこれら
実施例に限定されるものではない。

実施例１ ’４．４’−［１，４−フェニレンビス（１−メチルエ
チリデン月ビスシクロヘキサノール （式Ａ）の合成 ４．４’−［１，４−フェニレンビス（１−メチルエチ
リデン）］ビスフェノール４５９、エタノール４５ｙお
よびカーボンに５重量％のＲｈを担持させた５％Ｒｈ／
炭素２９を、攪拌機を備えた２００ｍ１のステンレス製
オートクレーブに仕込み、１３０’Ｃ１水素圧力４０　
Ｋｌ／　ｃｕｔ　Ｇの条件で水素の吸収がほとんどなく
なるまで攪拌を行なって、上記ビスフェノールの核水素
化反応を行なった。

反応終了後、至温にまで冷却し、オーｌ−クレープ内に
残留した水素を系外にパージしたのら、反応内容物をエ
タノールで希釈して取り出した。エタノールで希釈した
反応内容物を濾過して触媒を除いたのら、減圧下でエタ
ノールを留去した。得られた残査にトルエンを加え加温
して全体を均一としたのら、ヘキサジを加えて結晶を析
出させた。

この結晶を濾別し乾燥したところ光透過法で測定した融
点（メトラーＦＰ−６１型自動融点測定装置を用いて測
定）が１３０’Ｃ〜１６０’Ｃの白色精品３５ｇが得ら
れた。

この化合物は下記の別器分析結果から式への構造を有す
る４、４’−［１，４−フェニレンビス（１−メチルエ
チリデン）１ビスシクロヘキサノール（シス／シス、シ
ス／トランス、およびトランス／トランスの混合物、Ｇ
Ｃ分析による純度、９６．４％）であることが確認され
た。

ガスクロ分析 上記の結晶をガスクロ工業（株）Ｍ　ｒＴＭＳＩ−ＨＪ
でトリメチルシリル化したのち、ガスクロ分析に供した
。下記の条件で分析を行ったところ、リテンションタイ
ム１９．４分、２１．６分および２４．４分＜　、ｔ＝
、　＊とじて用いたオルソ−ターフェニルのリテンショ
ンタイム：４，９分）に各々４０．７％、４４．９％お
よび１３．３％の面積で３本のピークが認められた。

（ガスクロ分析条件）； カラム；　Ｄｅｘｉｌ−３００ＧＣ，１ｍ、ガラスカラ
ム温度、　　　Ｃｏ１．．２００　→２８０°Ｃ５°Ｃ
／ｍｉｎ昇温Ｉｎｊ、、Ｄｅｔ、、２８０　°Ｃ キ（ノリャーガス、　Ｎ２４０ｍ／ｍｉｎ、検出器Ｆ１
Ｄ質徂分析 上記３ピーク中に含まれる化合物の分子布をＧＣ−ＭＳ
（Ｆｌ法）で測定した結果、いずれのピークも分子ｆｆ
１５０２をもった化合物であることが確認された。

の構造から計算される分子種：５０２ δ＝７．２１　ｓｉｎｇｌｅｔ　　　　４）４ｔｌ各吸
収の帰属は下記の通りておる。

１）　　ＯＨのｉ；ｌｅｍ−１１を除くシクロヘキサン
環プロトン及び−０１１プロ１〜ン ２）　　Ｃ１３ブトロン ３）ＯＨのｇｅｍ−Ｉｔ（ａｘｉａｌ及びｅｑｕａｔｏ
ｒｉａｌ）４）ベンゼン環プロトン 実施例２ ４．４’−［１，３−フェニレンビス（１−メチルエチ
リデン）１ビスシクロヘキサノール （式Ｂ）の合成 ４．４’−［１，３−フェニレンビス（１−メチルエチ
リデン月ビスフェノール５０３、エチルアルコール５（
ｌおよびカーボンに５重量％のＲｈを担持させた５％Ｒ
ｈ／炭素２７を、攪拌機を備えた２００戒のステンレス
製オートクレーブに仕込み、１３０℃、水素圧力４０　
Ｋｇ／　ｃｔｉ　Ｇの条件で水素の吸収がほとんどなく
なるまで攪拌を行なって、上記ビスフェノールの核水素
化反応を行なった。反応終了後、室温まで冷却し、オー
トクレーブ内に残留した水素を系外にパージしたのち、
反応内容物をエタノールで希釈して取り出した。エタノ
ールで希釈した反応内容物を濾別して触媒を除いたのら
、減圧下でエタノールを留去した。１ｑられた残香にト
ルエンを加え加温して全体を均一としたのらヘキサンを
加えて、結晶を析出させた。

この結晶を濾別し乾燥したところ光透過法で測定した融
点（メトラーＦＰ−６１型自動融点測定装置を用いて測
定）が１２２℃〜、１２６°Ｃの白色結晶３６．５ｇが
得られた。この化合物は下記の機器分析結果から式［Ｂ
］の構造を有する４、４′−［１，３−フェニレンビス
（１−メチルエチリデン月ビスシクロヘキサノール（シ
ス／シス、シス／トランス、およびトランス／トランス
の混合物、ＧＣ分析による純度、９５．６％）であるこ
とが確認された。

ガスクロ分析 上記結晶を実施例１と同様にトリメチルシリル化したの
ら、ガスクロ分析に供した。実施例１と同一条件で分析
を行ったところリテンションタイム１６．９分、１８．
５分および２０．６分（標準として用いたオルソ−ター
フェニルのリテンションタイム：４．９分）に各々２１
．８％、４５．１％よ３よび２Ｂ、７％の面積で３本の
ピークが認められた。

質量分析 上記３ピーク中に含まれる化合物の分子ＭをＧＣ−ＭＳ
（Ｆｌ法〉で測定した結果いずれのピークも分子ａ５０
２をちった化合物であることが確認された。

の構造から計算される分子ｍ：５０２ δ＝７．１〜７．２　ｍｕｌｔｉｐｌｅｔ　４）　　４
ｔｌ各吸収の帰属は下記の通りである。

１）０■のｇｅｍ−Ｈを除くシクロヘキ量ナン環プロト
ン及び−０１１プロトン ２）　　ＣＩ＋３ブトロン ３）　　Ｏｔｌのｇｅｍ−Ｉｆプロトン（ａｘｉａｌ及
びｅｑｕａｔｏｒｉａｌ） ４）ベンゼン環プロトン 実施例３ ｄ、／ｌ’−（１−シクロへキシルエチリデン）ビスシ
クロヘキサノール （式Ｃ）の合成 ４．４°−（１−フェニルエチリデン）ビスフェノール
５０ｙ、イソプロピルアルコール５０ｇおよびカーボン
に５重間％のＲｈを担持させた５％Ｒｈ／炭素２３を、
攪拌機を備えた２００威のステンレス製オートクレーブ
に仕込み、１３０’Ｃ水索圧力５０　Ｋｇ／　ｃｒｉ　
Ｇの条件で水素の吸収がほとんどなくなるまで攪拌を行
って、上記ビスフェノールの核水素化反応を行なった。

反応終了後、空温まで冷却し、オートクレーブ内に残留
した水素を系外にパージした後、反応内容物をテトラヒ
ドロフランで希釈して取り出した。

テトラヒドロフランで希釈した反応内容物を濾過して触
媒を除いた後、減圧下でイソプロピルアルコールとテト
ラヒドロフランを留去した。得られた残香にトルエンを
加え加温して全体を均一としたのち水冷させて、結晶を
析出させた。

この結晶を濾別し乾燥したところ光透過法で測定した融
点（メトラーＦＰ−６１型自動融点測定装置を用いて測
定）が１６９℃〜１７１°Ｃの白色結晶２９．５ｇが得
られた。

この化合物は下記の機器分析結果から式［Ｃｌの構造を
有する４、４’−（１−シクロへキシルエチリデン）ビ
スシクロヘキサノール（シス／シス、シス／トランス、
およびトランス／トランスの混合物、ＧＣ純度、８７．
２％）であることが確認された。

ガスクロ分析 上記結晶をテトラヒドロフランに溶解してガスクロ分析
に供した。実施例］と同一ガスクロ条件で分析したとこ
ろりテンションタイム１６．４分、１７．１分および１
７．９分（標準として用いたオルソ−ターフェニルのり
テンションタイム：４．９分）に各々３５．１％、４６
．２％および５．９％の面積で３本のピークが認められ
た。

且員左近 上記３ピーク中に含まれる化合物の分子聞をＧＣ−ＭＳ
（ＦＩ法）で測定した結果いずれのピークも分子ｆｉ３
０８をもった化合物であることが確認された。

の構造から訓算される分子用：３０８ 各吸収の帰属は下記の通りである。

１）　　Ｃｌ１３プロトン ２）０■のｇｅｍ−Ｉｆを除くシクロヘキサン環プロト
ン及び−ＯＨプロトン ３）　　０１１のｃ＋ｅｍ−ｎ　（ａｘ　ｒ　ａ　＋及
びｅｑｕａｔｏｒｉ　ａ　ｌ　）実施例４ ４．４′−シクロへキシリデンビスシクロヘキサノール （式Ｄ）の合成 ４．４−シクロへキシリデンビスフェノール５０９、イ
ソプロピルアルコール５０ｇおよびカーボンに５重量％
のＲｈを担持ざぜた５％Ｒｈ／炭素２Ｊを、攪拌機を備
えた２００ｄのステンレス製オートクレーブに仕込み、
１３０′Ｃ１水素圧力５０に３／ｃｎｉＧの条件下で水
素の吸収がほとんどなくなるまで攪拌を行って、上記ビ
スフェノールの核水素化を行なった・ 反応終了後、室温まで冷却し、オートクレーブ内に残留
した水素を系外にパージしたのち、反応内容物をテトラ
ヒドロフランで希釈して取り出した。テトラヒドロフラ
ンで希釈した反応内容物を濾別して触媒を除いたのち、
減圧下でテトラヒドロフランおよびイソプロピルアルコ
ールを留去した。得られた残香にヘキサンを加え、加熱
攪拌したのち全体を氷冷した。

ｊｑられた結晶を濾別し乾燥したところ光透過法で測定
した融点が１６０℃〜１６８℃の白色結晶２４ｇが得ら
れた。

この化合物は下記の機器分析結果から式［Ｄ］の構造を
有する４、４°−シクロヘキシレンビスシクロヘキサノ
ール（シス／シス、シス／トランス、およびトランス／
トランスの混合物、ＧＣ分析による純度、８７．５％）
であることが確認された。

ガスクロ分析 上記結晶をテトラヒドロフランに溶解してガスクロ分析
に供した。実施例１と同一ガスクロ条件で分析したとこ
ろリテンションタイム１３．９分、１４．６分、および
１５．２分く標準として用いたオルソ−ターフェニルの
リテンションタイム＝４．９分）に各々３５．５％、３
８．５％おＪ：び１３．５％の面積で３本のピークが認
められた。

乳夙分所 上記３ピーク中に含まれる化合物の分子量をＧＣ−ＭＳ
（Ｆｌ法）で測定した結果、いずれのピークも分子量２
８０をもった化合物であることが確の構造から計算され
る分子１：　２８０各吸収の帰属は下記の通りである。

１）　　ＯＨのｇｅｍ−Ｉｆを除くシクロヘキサン環プ
ロトン及び−ＯＨプロトン ２）　　ＯｆｌのＣＩｅｍ−Ｈ（ａＸｉａｌ及びｅｑｕ
ａｔｏｒｉａｌ）　　　−夫血叢支 ４．４’−（シクロへキシルメチレン）ビスシクロヘキ
サノール式７の合成 ４．４°−（フェニルメチレン）ビスフェノール５．０
９、インプロピルアルコール５．０９、および５％Ｒｈ
／炭素０．３ｇを攪拌機を備えた２００ｄのステンレス
製オートクレーブに仕込み１３０’Ｃ１水素圧力５０Ｋ
ｙ／ｃｉＧの条件で、水素の吸収がほとんどなくなるま
で攪拌を行った。反応終了後、室温まで冷却しオートク
レーブ内に残留した水素を系外にパージしたのち、反応
内容物をテトラヒドロフランで希釈して取り出した。テ
トラヒドロフランで希釈した反応内容物を濾過して触媒
を除いたのち、減圧化でテトラヒドロフランおよびイソ
プロピルアルコールを留去した。

得られた残香にトルエンを加え加温して全体を均一とし
たのち水冷し結晶を析出させた。

この結晶を濾別し乾燥したところ光透過法で測定した融
点（メトラーＦＰ−６１型自動融点測定装置を用いて測
定）が１４８〜１５３°Ｃの白色結晶が３．２ｇ得られ
た。この化合物は下記の機器分析結果から式７の構造を
有する４、４’−（シクロへキシルメチレン）ビスシク
ロヘキサノール（シス／シス、シス／トランス及びトラ
ンス／トランスの混合物、ＧＣ分析による純度８７．９
％）であることが確認された。

ガスクロ分析 上記の結晶をガスクロ工業（株）製ｒＴＭＳ　Ｉ−ＨＪ
でトリメチルシリル化したのら、ガスクロ分析に供した
。下記の条件で分析を行ったところ、リテンションタイ
ム１２．９分、１４．６分および１６．６分（標準とし
て用いたオルソ−ターフェニルのリテンションタイム：
５．７分）に各々１．８％、４２．３％および２３．８
％の面積で３本のピークが認められた。

（ガスクロ分析条件）： カラム；Ｄｅｘｉｌ−３００ＧＣ，１ｍ、ガラスカラム
温度、　　Ｃｏ１．．２００−＋２８０　’Ｃ５℃／ｍ
ｉｎ昇温Ｉｎｊ、　、　Ｄｅｔ、　、　２８０°Ｃキャ
リヤーガス、　Ｎ２４（７／ｍｉｎ、検出器ＦＩＤＩＤ
分母 分析３ピーク中に含まれる化合物の分子量をＧＣ−ＭＳ
　（Ｆ　Ｉ法）で測定した結果、いずれのピークも分子
■４３８をもった化合物であることが確認された。

の構造から計算される分子ｆｆｉ：４３８各吸収の帰属
は下記の通りである。

１）　　ＯＮのｇｅｍ−ＩＩを除くシクロヘキサン環プ
ロトン及び−叶プロトン

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １　下記式［ I ］ ▲数式、化学式、表等があります▼・・・［ I ］ （式中、 Ｘは▲数式、化学式、表等があります▼または▲数式、
   化学式、表等があります▼ を表わす。ここでＲ＿１、Ｒ＿２は水素原子、低級アル
   キル基、シクロヘキシル基またはアリール基を表わし、
   ただしＲ＿１とＲ＿２とは環を形成して２価のシクロヘ
   キシル基を形成していてもよく、２価のシクロヘキシル
   基を形成しない場合にはＲ＿１とＲ＿２のうち少なくと
   もいずれか一方はシクロヘキシル基またはアリール基で
   ある。）で表わされるビスシクロヘキサノール類。 ２、ビスシクロヘキサノール類が、４，４′−［１，４
   −フェニレンビス（１−メチルエチリデン）］ビスシク
   ロヘキサノール、４，４−［１，３−フェニレンビス（
   １−メチルエチリデン）］ビスシクロヘキサノール、４
   ，４′−（１−シクロヘキシルエチリデン）ビスシクロ
   ヘキサノール、４，４′−（シクロヘキシルメチリデン
   ）ビスシクロヘキサノールまたは４，４′−シクロヘキ
   シリデンビスシクロヘキサノールである特許請求の範囲
   第１項に記載のビスシクロヘキサノール類。 ３、下記式［II］ ▲数式、化学式、表等があります▼・・・［II］ （式中、 Ｘは▲数式、化学式、表等があります▼または▲数式、
   化学式、表等があります▼ を表わす。ここでＲ＿１、Ｒ＿２は水素原子、低級アル
   キル基、シクロヘキシル基またはアリール基を表わし、
   ただしＲ＿１とＲ＿２とは環を形成して２価のシクロヘ
   キシル基を形成していてもよく、２価のシクロヘキシル
   基を形成しない場合にはＲ＿１とＲ＿２のうち少なくと
   もいずれか一方はシクロヘキシル基またはアリール基で
   ある。）で表わされるヒスフェノール類を、核水素化す
   ることを特徴とする、下記式［ I ］で表わされるビス
   シクロヘキサノール類の製造方法： ▲数式、化学式、表等があります▼・・・［ I ］ （Ｘは上記と同一である。）