JPS62277374A - ２，３−エポキシアミドの製造法 - Google Patents

２，３−エポキシアミドの製造法

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JPS62277374A
JPS62277374A JP62106540A JP10654087A JPS62277374A JP S62277374 A JPS62277374 A JP S62277374A JP 62106540 A JP62106540 A JP 62106540A JP 10654087 A JP10654087 A JP 10654087A JP S62277374 A JPS62277374 A JP S62277374A
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bromide
chloride
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tetrabutylammonium
hydrogen
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JP62106540A
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English (en)
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デイーター・ヘビツヒ
ボルフガング・ハルトビツヒ
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Bayer AG
Original Assignee
Bayer AG
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Publication date
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    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D303/00—Compounds containing three-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom
    • C07D303/02—Compounds containing oxirane rings
    • C07D303/48—Compounds containing oxirane rings with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, directly attached to ring carbon atoms, e.g. ester or nitrile radicals
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
    • Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は２，３−エポキシアミドの新規な製造方法に関
し、該化合物の成るものは公知であり、そしてカルバペ
ネム（ｃａｒｂａｐｅｎｅｍ　）抗生物質の合成に対す
る重要な中間体である。
適当に置換された２、３−エポキシアミドが６位置にヒ
ドロキシアルキル側頭を有するカルバペネム抗生物質の
製造に用いられることは公知である［エイチ・マルヤマ
（）（、Ｍａｒｕｙａｓ＋）等、テトラヘドロン“レタ
ーズ（Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ　Ｌｅｔｔｅｒｓ）１９
８５．４５２１；エイチ・シオザキ（Ｈ。
Ｓ　ｈｉｏｚａｋｉ　）等、ヘテロサイクリルズ（Ｈｅ
ｔｅｒｏ−ｃｙｃｌｅｓ）　２２．１７２７　（Ｉ９８
４）］。
同様に、２．３−エポキシアミドは適当に置換された２
−ハロゲン−３−ヒドロキシアミドがら、強塩基の作用
によって製造されることが公知である。この場合、塩基
としてアルカリ金属水素化物、アルカリ金属アミド、二
環式の第三有機アミン、アルキルリチウム化合物または
他の有機リチウム化合物が用いられる。これらの塩基は
いくつかの欠点を有している。かくして、その成るもの
は入手困難であり、反応溶液中で直接製造しなければな
らない、加えて、これらの塩基は極めて空気−及び水分
−敏感性であり、従って、その取扱い、及びまた比較的
大きなバッチの処理には度々極めて高度の安全性が要求
される。第三有機アミンの使用には、２，３−エポキシ
アミドが酸条件下で分解するために、困難な処理の追加
の問題が含まれる。
一般式（ｎ） ＯＨＯ Ｉ　　　　　　１１ Ｒ’−Ｃ−ＣＨ−Ｃ−Ｎ−ＣＨ２−Ｒコ　　　　（ＩＩ
）Ｘ　　　　　　Ｒ’ 式中、Ｒ１は水素またはフェニルもしくはハロゲンで置
換されていてもよい直鎖状または分枝鎖状Ｃ２〜ＣＩ＋
−アルキルを表わずが、或いはＣ１〜Ｃ２−シクロアル
キル、フェニル、０１〜Ｃ８−アルコキシカルボニルま
たは式％式％ の基を表わし、ここに Ｒ４およびＲ５は同一もしくは相異なるものであり、水
素、フェニル、ベンジル、アセチルまたは随時フェニル
もしくはハロゲンで置換されていてもよいＣ１〜Ｃ＠−
アルキルを表わし、 Ｒ２は水素またはアミノ保護基を表わし、Ｒ３はメチレ
ン基を活性化する基を表わし、そして Ｘはフッ素、塩素、臭素またはヨウ素、好ましくは臭素
を表わす、 の２−ハロゲノ−３−ヒドロキシアミドを不活性溶媒中
で、直接または相間移動触媒の存在下において、アルカ
リ金属水酸化物と反応させることを特徴とする一般式（
Ｉ） 式中、Ｒ１、Ｒ２及びＲ′は上記の意味を有する、 の２．３−エポキシアミドの製造方法が見出された。
驚くべきことに、本発明による方法は良好な収率で２．
３−エポキシドを生成する。
本方法は大きな技術的複雑さなしに行い得ると云う利点
を有している０本発明に従って、塩基としてアルカリ金
属水酸化物を使用する際に、可燃性ガス例えば水素（塩
基として水素化物を用いる場合）またはブタン（塩基と
してブチルリチウムを用いる場合）を生成し得ぬために
、水の完全排除を確実にする必要がない、このことは特
別な追加の安全予防策の費用を回避させる。加えて、生
成物を反応混合物からｒ過または抽出によって、次に溶
媒の蒸発によって簡単に得ることができる。
本発明における方法によって製造する２、３−エポキシ
アミドは一最に式（Ｉ）によって定義される。
上記の定義に関連して、Ｒ２がアミン保護基を表す場合
、このものは好ましくは次の一連の基からなるβ−ラク
タム化学において普通の保護基を表わす：４−メトキシ
フェニル、４−メトキシメチルオキシフェニル、４−　
［（２−メトキシエトキシ）メチルオキシコフェニル、
３，４−ジメトキシフェニル、ベンジル、２−ニトロベ
ンジル、４−ニトロベンジル、４−メトキシベンジル、
２．４−ジメトキシベンジル、３．４−ジメトキシベン
ジル、２１，４．６−トリメトキシベンジル、ビニル、
アリル、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル、ベンジルオキ
シカルボニル、２−ニトロベンジルオキシカルボニル、
４−ニトロベンジルオキシカルボニル、ホルミル、アセ
チル、クロロアセチル、トリクロロアセチル、トリフル
オロアセチル、ベンゾイル、メトキシカルボニル、アリ
ルオキシカルボニル、２．４−ジメトキシベンゾイルオ
キシカルボニル、２，２−ジェトキシエチル、メトキシ
カルボニルメチル、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルメチ
ル、アリルオキシカルボニルメチル、ベンゾイルメチル
、ビス−（４−メトキシフェニル）−メチル、メトキシ
メチル、メチルチオメチル、ゾＬホ’／　Ｔ　Ｉ＋番ζ
ノゾ；ドル　９−（メ壬ｌし壬オメトキシ）エトキシカ
ルボニル、２−ヒドロキシ−２−フェニルメチル、メト
キシ−（４−メトキシフェニル）メチル、トリメチルシ
リル、トリエチルシリル、トリフェニルシリル、ｔｅｒ
ｔ−ブチル−ジメチルシリル、ｔｅｒｔ−ブチル−ジフ
ェニルシリル及び［２−１リメチルシリル）エトキシコ
メチル。
上記の定義に関連して、Ｒ２がメチレン基を活性化する
基を表わす場合、このものは好ましくは電子吸引基（ｅ
ｌｅｃｔｒｏｎ−ｄｒａｗ＋ｉＢ　ｒａｄｉｃａｌ）を
表わす、これらの基には、例えばケトンまたはエステル
基、エーテルまたはチオエーテル基、スルフィニルまた
はスルホニル基、ホスボネート基、ニトリルまたはニト
ロ基、或いはニトロ、フェニル、エーテル、チオエーテ
ル、シリル、スルホニルまたはエステル基で置換される
アセチレン基が含まれる。
本発明における方法によって、好ましくは一般式（Ｉ）
、但し、 Ｒ’が水素または随時フェニル、フッ素、塩素もしくは
臭素で置換されていてもよい直鎖状または分枝鎖状Ｃｌ
”　Ｃｓアルキルを表わすか、或いはＣ１〜Ｃ１−シク
ロアルキル、Ｃ１〜Ｃ６−アルコキシカルボニルまたは
式％式％ Ｒ４およびＲ５は同一もしくは相異なるものであり、水
素または随時フェニル、フッ素、塩素もしくは臭素で置
換されていてもよい０１〜Ｃ１−アルキルを表わし、 Ｒ２が水素または４−メトキシフェニル、３゜４−ジメ
トキシフェニル、４−メトキシメチルオキシフェニル、
４−［（２−メトキシエトキシ）メチルオキシ］フェニ
ル、ベンジル、４−メトキシベンジル、２，４−ジメト
キシベンジル、３．４−ジメトキシベンジル、２゜４．
６−１−ジメトキシベンジル、メトキシ−（４−メトキ
シフェニル）メチル、トリメチルシリル、トリエチルシ
リル、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル、ｔｅｒｔ−ブ
チルジフェニルシリル、ビニル、アリル、２，２−ジェ
トキシエチル、メトキシカルボニルメチル、ｔｅｒｔ−
ブトキシカルボニルメチル、ベンゾイルメチルもしくは
２−ヒドロキシ−２−フェニルエチルからなる一連のア
ミノ保護基を表わし、そして Ｒ３が −ｃ＝ｃ−ｃｓＨｓ、　ｃ＝ｃ　　ＯＣ５Ｈｓ、−ｃ＝
ｃ　　Ｓ　　Ｃ５Ｈｓ、　ｃ＝ｃ　　５ＯｉＣｓＨｓ、
−〇ミＣ−Ｎｏ２、−ＣＥＣ−８ｉ　（ＣＨ，）３、−
ＣＥＣ−ＣＯＯＣＨ３、Ｃ＝ＣＣＯＯＣ２Ｈｓ、−ＣＥ
−Ｃ−ＣＯＯＣ（ＣＨ３）ｓ、−ＣＮ、　Ｎ　Ｏｘ、Ｓ
　　ＣａＨｓ、　Ｓｏ　　Ｃ５Ｈｓ、　Ｓ　Ｏ２Ｃ＊　
Ｈｓ、Ｓ　Ｏ２ＣＨｓ、−８○２−Ｃ（ＣＨ３）　ｖ、
ＰＯ（ＯＣＨｚ）　ｚ、−ＰＯ（ＯＣ２Ｈ５）　１、−
ＰＯ（○ＣＩＨり２、　Ｃｏ　　Ｃ５Ｈｓ、ＣＯＯＣＨ
ｓ　＋　　ＣＯＯＣ２Ｈｓ、　ＣＯＯＣ３Ｈｔ、−ＣＯ
ＯＣＨ（ＣＨ，＞２、　ＣＯＯＣ（ＣＨ３）３、からの
一連の基を表わす、 の２．３−エポキシアミドを製造する。
本発明における方法によって、殊に好ましくは一般式（
Ｉ）、但し、 Ｒ１が水素または随時フェニルもしくは３個までのフッ
素原子で置換されていてもよい直鎖状または分枝鎖状Ｃ
１〜Ｃ４−アルキルを表わずか、或いはシクロプロピル
、シクロペンチル、シクロヘキシル、Ｃ，−Ｃ４−アル
コキシカルボニルまたは式 ％式％ Ｒ４は水素を表わし、 Ｒ５は随時フェニルで置換されていてもよいＣ，〜Ｃ４
−アルキルを表わし、 Ｒ２が水素または４−メトキシフェニル、４−メトキシ
ベンジル、２，４−ジメトキシベンジル、３．４−ジメ
トキシベンジルもしくはｔｅｒし一ブヂルジメチルシリ
ルからなる一連のアミノ保護基を表わし−そして Ｒ３が −ＣＯＯＣＨ，、ＣＯＯＣ２Ｈｓ、 −ＣＯＯＣ（ＣＨｓ）ｓ、　　Ｃｏ　　　ＣｇＨｓ、Ｓ
Ｏ２Ｃ５Ｈｓ　　ｏｒ　　　Ｓｏ２　Ｃ（ＣＨ３）３か
らの一連の基を表わす、 の２．３−エポキシアミドを製造する。
出発物質として（２Ｓ、３Ｒ）−Ｎ−（４−メトキシフ
ェニル）−Ｎ−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルメチル
）−２−ブロモ−３−ヒドロキシブチルアミドを用いる
場合、この反応過程を次の反応式によって表わすことが
できる： 出発物質として用いる一般式（Ｉ［）の２−へロゲノー
３−ヒドロキシアミドは公知のものであるか　礎いは公
知の古注６７上って製造すみｒ？がて゛きる［エム・シ
オザギ（Ｍ　、　Ｓ　ｈｉｏｚａｋｉ　）等、テトラヘ
ドロン（Ｔ　ｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ　）　４更、１７９
５（Ｉ９８４）　；　Ｍ、　５ｈｉｏｚａｋｉ等、ヘテ
ロサイクルス（Ｈｅｔｅｒｏｅｙｃｌｅｓ）　２２．１
７２７　（Ｉ９８４）；エイチ・マルヤマ（Ｈ、Ｍ　ａ
ｒｕｙａｍａ　）等、Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｓ　Ｌｅｔ
ｔ、　１９８５．４５２１；Ｍ。
５ｈｉｏｚａｋｉ等、ブレティン・オブ・ザ・ケミカル
・ソサエティ・オブ・ジャパン（Ｂｕｌｌ、　Ｃｈｅｖ
ｓ。
Ｓｏｃ、　Ｊｐｎ、　）　５７．２１３５　（Ｉ９８４
）；ヨーロッパ特許出願筒１４８，１２８号及び同第１
２６．７０９号並びに特許出願箱６．００５１−１７１
号；ハネスジアン（Ｈａｎｅｓｓｉａｎ　）等、ジャー
ナル・オブ・ジ・アメリカン・ケミカル・ソサエティ（
Ｊ　、　Ａｍｅｒ、　Ｃｈｅｗ、　Ｓｏｃ、　　）　１
０７．１４３８　（Ｉ９８５）］。
適当な溶媒は反応条件下で変化せぬ全ての不活性有機溶
媒である。これらの溶媒には、好ましくはエーテル、例
えばジエチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラ
ン、ジメトキシエタン、ジグリム、トリグリムまたはｔ
ｅｒｔ−ブチルメチルエーテル、ハロゲン化された炭化
水素、例えば塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭素
、ジクロロエタン、１，１．２−トリクロロエタン、ジ
クロロエチレン、トリクロロエチレン、クロロベンゼン
またはジクロロベンゼン、炭化水素、例えばベンゼン、
トルエン、キシレン、ヘキサン、シクロヘキサンまたは
石油留分、酢酸エチル、アセトニトリル、ジメチルホル
ムアミド、ヘキサメチルリン酸トリアミド、ピリジン、
ピコリン、モルホリンまたはピペリジン、或いは上記溶
媒の混合物が含まれる。
好ましくはアルカリ金属水酸化物として、水酸化リチウ
ム、水酸化カリウムまたは水酸化ナトリウムを用いるこ
とができ、殊に好ましくは水酸化カリウムまたは水酸化
ナトリウムを用いる。
本発明に従って用いるアルカリ金属水酸化物を固体の状
態、好ましくは粉末にした状態で、或いは水溶液、好ま
しくはアルカリ金属水酸化物１０〜６０重量％、好まし
くは３０〜５５重量％の濃度を有する水溶液の状態で用
いることができる。
本発明に従って、アルカリ金属水酸化物を固体として用
いる場合、溶媒として好ましくはエーテル、例えばジエ
チルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジメ
トキシエタンまたはｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル、
炭化水素、例えばベンゼン、トルエン、キシレンまたは
シクロヘキサン、ジメチルホルムアミド、或いは上記溶
媒の混合物を用いる。
本発明に従って、アルカリ金属水酸化物を水溶液の状態
で用いる場合、好ましくは４０〜５０％溶液の状態で用
いる。この場合、好ましくは不活性溶媒として、ハロゲ
ン化された炭化水素、例えば塩化メチレン、四塩化炭素
、１，２−ジクロロエタンまたはｌ、１．２−トリクロ
ロエタン、炭化水素、例えばベンゼン、トルエン、キシ
レンまたはシクロヘキサン、或いは上記溶媒の混合物を
用いる。
適当ならば、相間移動触媒として、第四級アルソニウム
、ホスホニウム、ピリジニウム、チアゾ１１ウム寸たｔ
寸アン卆ニウム庄めｋＩき棉］ｍめ相間移動触媒が用い
られる。
これらの触媒には好ましくは次のものが含まれる： 塩化ｎ−ベンジルシンコニジニウム、 塩化ｎ−ベンジルシンコニニウム、 塩化ベンジルジメチルヘキサデシルアンモニウム、 塩化ベンジルジメチルテトラデシルアンモニウム、 臭化ペンシルトリブデルアンモニウム、塩化ベンジルト
リブチルアンモニウム、臭化ベンジルトリエチルアンモ
ニウム、塩化ベンジルトリエチルアンモニウム、ヨウ化
ベンジルトリエチルアンモニウム、テトラフルオロホウ
酸ベンジルトリエチルアンモニウム、 臭化ベンジルトリメチルアンモニウム、塩化ベンジルト
リメチルアンモニウム 臭化ベンジルトリフェニルホスホニウム、臭化ジエチル
メチルプロピルアンモニウム、臭化（−）−Ｎ、Ｎ−ジ
エチルエフエトリニウム、ヨウ化３．４−ジメチル−５
−（２−ヒドロキシエチル）チアゾリウム、 臭化ドデシルエチルジメチルアンモニウム、臭化（−）
−Ｎ−ドデシル−Ｎ−メチルエフエトリニウム、 臭化エチルジメチルプロピルアンモニウム、臭化エチル
ヘキサデシルジメチルアンモニウム、臭化３−エチル−
５−（２−ヒドロキシエチル）−４−メチルチアゾリウ
ム、 臭化エチルトリフェニルホスホニウム、臭化ヘキサデシ
ルピリジニウム、 塩化ヘキサデシルピリジニウム、 臭化ヘキサデシルトリブチルホスホニウム、臭化ヘキサ
デシルトリメチルアンモニウム、塩化ヘキサデシルトリ
メチルアンモニウム、臭化メチルトリオクチルアンモニ
ウム、塩化メチルトリオクチルアンモニウム、ヨウ化メ
チル１〜リオクチルアンモニウム、臭化オクタデシルト
リメチルアンモニウム、臭化フェニルトリメチルアンモ
ニウム、塩化フェニルトリメチルアンモニウム、臭化テ
トラブチルアンモニウム、 塩化テトラブチルアンモニウム、 ヘキサフルオロリン酸テトラブチルアンモニウム、 硫酸水素テトラブチルアンモニウム、 水酸化テトラブチルアンモニウム、 メタンスルホン酸テトラブチルアンモニウム、過塩素酸
テトラブチルアンモニウム、 テトラフルオロホウ酸テトラブチルアンモニウム、テト
ラフェニルホウ酸テトラブチルアンモニウム、トリフル
オロメタンスルホン酸テトラブチルアンモニウム、 塩化テトラブチルホスホニウム、 臭化テトラデシルトリメチルアンモニウム、臭化テトラ
ドデシルアンモニウム、 過塩素酸テトラドデシルアンモニウム、具化テトラエチ
ルアンモニウム、 塩化テトラエチルアンモニウム、 ヘキサフルオロリン酸テトラエチルアンモニウム、 水酸化テトラエチルアンモニウム、 過塩素酸テトラエチルアンモニウム、 テトラフルオロホウ酸テトラエチルアンモニウム、 トリフルオロメタンスルホン酸テトラエチルアンモニウ
ム、 臭化テトラヘプチルアンモニウム、 安息香酸テトラヘキシルアンモニウム、臭化テトラヘキ
シルアンモニウム、 塩化テトラヘキシルアンモニウム、 硫酸水素テトラヘキシルアンモニウム、ヨウ化テトラヘ
キシルアンモニウム、 過塩素酸テ１−ラヘキシルアンモニウム、臭化テトラキ
ス−くデシル）−アンモニウム、過塩素酸テトラキス−
（デシル）−アンモニウム、臭１ヒテトラオクチルアン
モニウム、 過塩素酸テｌ〜ラオクチルアンモニウム、Ｅｉ　４１’
　、ｌ−＋−→ベン手ルアルアンモニウムヨウ化テトラ
ペンチルアンモニウ ム化テトラフェニルアルソニウム、 臭化テトラフェニルホスホニウム、 塩化テトラフェニルホスホニウム、 臭化テトラプロピルアンモニウム、 水酸化テトラプロピルアンモニウム、 ヨウ化テトラプロピルアンモニウム、 過塩素酸テトラプロピルアンモニウム、テトラフルオロ
ホウ酸テトラプロピルアンモニウム、 臭化トリブチルヘプチルアンモニウム、臭化トリブチル
メチルアンモニウム、 塩化トリブチルメチルアンモニウム、 水酸化トリブチルメチルアンモニウム、ヨウ化トリブチ
ルメチルアンモニウム、臭化トリブチルペンチルアンモ
ニウム、塩化トリカプリルメチルアンモニウム（「アリ
フォート３３６Ｊ） 臭化トリエチルアンモニウム 相間移動触媒として、殊に好ましくは次のものを用いる
： 塩化テトラブチルアンモニウム、 臭化テトラブチルアンモニウム、 塩化ベンジルトリエチルアンモニウム、臭化ベンジルト
リエチルアンモニウム、塩化ベンジルトリブチルアンモ
ニウム、臭化ベンジルトリブチルアンモニウムまたは塩
化トリカプリルメチルアンモニウム（「アリフォート３
３６Ｊ）。
また相間移動触媒を水性またはアルコール性溶液の状態
で用いることもできる０本発明に従って、アルカリ金属
水酸化物をその水溶液の状態で用いる場合、好ましくは
相間移動触媒を用いる。
一般に、相間移動触媒を０．０１〜２５モル％、好まし
くは５〜１５モル％の量で用いる。アルカリ金属水酸化
物を大過剰量で用いることができる。
一般に、本発明に従って、出発化合物１モル当りアルカ
リ金属水酸化物１〜２００モル、好ましくは１〜１００
モルの量を用いる。
−ｍに本発明による方法は一２０℃乃至＋５゜℃、好ま
しくは０℃乃至＋５０℃の温度範囲で行われる。
本発明による方法は一般に大気圧下で行われるが、しか
し、また本方法を昇圧下または減圧下で行うこともでき
る。
実施例　１ （２Ｒ，３Ｒ）　　Ｎ−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニ
ルメチル”）−Ｎ−（４−メトキシフェニル）−２，３
−エポキシブチルアミド ○ 細かく粉砕した水酸化カリウム１５．５ｇ（０゜２７５
モル）をテトラヒドロフラン１０１００Ｏ中の（２Ｓ、
３Ｒ）−Ｎ−（４−メトキシフェニル）−Ｎ−（ｔｅｒ
ｔ−ブトキシカルボニルメチル）−２−ブロモ−３−ヒ
ドロキシブチルアミド［Ｍ。
５ｈｉｏｚａｋｉ等、Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ　４０．
１７９５（Ｉ９８４）］　１００．６１Ｆ（０，２５モ
ル）の溶液に室温で加え、この混合物を室温で５．５時
間撹拌した０反応終了後、生じた臭化カリウムを沢別し
、テトラヒドロフランで洗浄し、ｒ液を真空下で蒸発さ
せた。油として表題の化合物７７゜１ｆＩが得られた、
Ｒ，＝０．２４　（トルエン／酢酸エチル＝７：３）。
ＩＲ（ＫＢｒ）１７４３．１６８０．１５１１．１３７
２　、１３０２　、１２５２　、１　１　５　８ｃｍ−
’’ＨＮ　Ｍ　Ｒ（２５０Ｍ　Ｈ２，ＣＤ　ＣＩｓ）：
δ＝１．４４（ｄ、Ｊ　−６Ｈ２，ＣＨ２ＯＨ）；１．
４８（Ｓ、Ｃ（ＣＨ３）、）、１２Ｈと共に、３．０７
（ｄｑ、Ｊ＝５　Ｈｚ、６　Ｈ，、Ｉ　Ｈ、Ｈ−３）　
、３．３３（ｄ、Ｊ＝６　Ｈｚ、ＬＨ，Ｈ−２）；３．
８７（ｓ、３Ｈ１ＯＣＨっ）、４．１１及び４．５３（
Ａ　Ｂ　、Ｊ　＝１７．５　Ｈｚ、２Ｈ，ＣＨ２Ｃ０○
）、６．９８及び７．３４（Ａ　Ｂ　、Ｊ　＝９．５　
Ｈｚ、　ｐ−ＯＣＨ３Ｃ，Ｈ，） 友−ｊＬ二鼾 水中の５０％（重量％）水酸化ナトリウム溶液２００＋
＊ｌをジクロロメタン１５００ｍｌ中の（２Ｓ。
３Ｒ）−Ｎ−（４−メトキシフェニル）−Ｎ−（ｔｅｒ
ｔ−ブトキシカルボニルメチル）−２−ブロモ−３−ヒ
ドロキシブチルアミド２３０．０ｇ（０，５７モル）の
溶液に加え、この混合物を臭化テトラブチルアンモニウ
ム１８．４ｇ（０，０５７モル、１０モル％）の存在下
において、室温で１５分間はげしく撹拌した０次に有機
相を分液ロートで分離し、水’１（Ｘ３）、０．２５Ｎ
Ｈ。
５０４１１（Ｘｉ）及び水１１（Ｘｉ）で洗浄し、Ｍｇ
ＳＯ３上で乾燥した。溶媒を真空下で蒸発させた後、油
として表題の化合物１７９．５ｇ（理論量の９８％）が
得られた、Ｒ，＝０．２４　（Ｉ−ルエン：酢酸エチル
＝７：３）。分光学的データは方法Ａによって製造した
化合物と同一であった。
実施例　２ （２Ｒ）　−Ｎ　−（ｔ　ｅ　ｒ　ｔ−ブトキシカルボ
ニルメチル）−Ｎ−（４−メトキシフェニル）−２゜３
−エポキシプロピオンアミド Ｏ 粉末にした水酸化カリウム８３．３ｇ（Ｉ，４９モル）
をテトラヒドロフラン３１中の（２Ｓ）−Ｎ−（ｔｅｒ
ｔ−ブトキシカルボニルメチル）−Ｎ−（４−メトキシ
フェニル）−２−ブロモ−３−ヒドロキシプロピオンア
ミド４３６．８ｙ（０，９９モル）の溶液に室温で加え
、この混合物を室温で３時間撹拌した０反応終了後、生
じた臭化カリウムをｆ別し、テトラヒドロフランですす
ぎ、ｒ液をＭ　ｇ　Ｓ　ＯＡ上で短時間乾燥した。溶媒
を真空下で蒸発させた後、油として表題の化合物２９５
．２ｇ＜理論量の９７％）が得られた、Ｒ，＝０．３２
　（）ルエン：酢酸エチル＝７：３）。
’ＨＮＭＲ（３００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ＊、）：δ＝１．
４５（ｓ、９Ｈ、Ｃ（ＣＨｚ）ｓ）；２．７４（ｄｄ、
Ｊ　＝７　Ｈｚ、５　Ｈｚ、ＩＨ、エポキシド−Ｈ）　
、３．０１　（ｄｄ、Ｊ＝７°Ｈｚ、３　Ｈｚ、ＩＨ、
エポキシド−Ｈ）：３．２５（ｄｄ、Ｊ　＝５　　Ｈｚ
、３　　Ｈｚ、ＬＨ、エポキシド−Ｈ）；３．８４（ｓ
、３Ｈ、ＯＣＨ３）；４．１５及び４．４３（Ａ　Ｂ　
、Ｊ　＝　１８　Ｈｚ、２Ｈ１ｃ　Ｈｔｃ　Ｏｏ　）；
８．９４及び７．３３（Ａ　Ｂ、Ｊ＝９Ｈｚ、４Ｈ、ｐ
−ＯＣＨ１−Ｃ＠　Ｈ４）実施例　３ （２Ｒ，３Ｓ）−Ｎ−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル
メチル）−Ｎ−（４−メトキシフェニル）−３−メトキ
シカルボニル−２，３−エポキシ１０ピオンアミド （２Ｓ、３Ｒ）−Ｎ−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル
メチル）−Ｎ−（４−メトキシフェニル）−２−プロ亡
−３−ヒドロキシー３−メトキシカルボニルプロピオン
アミド９．８ｇ（２２ミリモル）から、実施例１の方法
Ｂに述べた如くして、室温で１７分間後、無色の結晶と
して表題の化合物が得られた、融点９０℃、Ｒ，＝０．
１７　（トルエン：酢酸エチル＝４：１）。
ＩＲ（ＣＨＣＩ、＞１７３７　（、Ｃ＝Ｏ、エステル）
、１６８１　　（Ｃ＝０、アミド）１５０９ｃｍ−’’
ＨＮＭＲ（２５０ＭＨ２，ＣＤＣｌ５）：δ＝１．４４
（ｓ、９Ｈ、ＣＨ、−Ｃ）；３．４６及び３．５１（Ａ
　Ｂ、Ｊ＝４．５　Ｈｚ、２Ｈ、オキシラン−Ｈ）；３
．８２（Ｓ、６Ｈ，ＯＣＨ，、Ｃ００ＣＨ３）；４．０
８及び４．３６（Ａ　Ｂ　、Ｊ　−１６Ｈｚ、ＣＨ２Ｃ
Ｏ○）；６．９１及び７．３１（Ａ　Ｂ　、Ｊ　＝９Ｈ
２，４Ｈ，Ｉ）ＯＣＨＩＣ５Ｈ１）一実施例　４ （２Ｒ，３Ｒ）−Ｎ−（ベンゾイルメチル）−Ｎ−（４
−メトキシフェニル）−２，３−エポキシブチルアミド 実施例１、方法Ｂと同様にして反応を行った。
（２Ｓ、３Ｒ）−Ｎ−（４−メトキシフェニル）−Ｎ−
（ベンゾイルメチル）−２−ブロモ−３−ヒドロキシブ
チルアミド［Ｈａｎｅｓｓｉａｎ等、Ｊ　、Ａｍ。
Ｃｈｅｗ、　Ｓｏｃ、　１０７．１４３８　（Ｉ９８５
）コ５０ｙ（０，１２３モル）を用いた。Ｒ，＝０．３
１（シクロヘキサン：酢酸エチル＝１：２）を有する表
題の化合物３８．４９（Ｅｌ論量の９６％）が得られた
。
’ＨＮＭＲ（２５０ＭＨｚ、ＣＤＣ１，）：δ＝１．４
８（ｄ、Ｊ　＝　６　Ｈｚ、３Ｈ、ＣＨ＊　ＣＨ）：３
．０９（ｄｑ、Ｊ＝６　Ｈｚ、Ｊ＝５　Ｈｚ、ＩＨ，Ｃ
（３）−Ｈ）；３．３９（ｄ、Ｊ　−５）ｔｚ−１）［
、Ｃ（２）−Ｈ）：３．８２（ｓ、３Ｈ、ＯＣＨｚ）：
Ａ　Ｂ−シグナル（δＡ＝４．８７、δ、＝５．４３、
ＪＡ、＝１６　Ｈｚ、２Ｈ、ＣＨ２Ｃ＝　Ｏ）；Ａ　Ｂ
−シグナル（δ、＝６．９２、δ、＝７．９６、Ｊ　＝
９　　Ｈｚ、４Ｈ１ｐ　　　ＯＣＨｓ　　　ＣｓＨ４）
；７．２８−７．６５（ｍ、５Ｈ，Ｃ１Ｈｓ）。
実施例　５ （２Ｒ，３Ｒ）−Ｎ−（メトキシカルボニルメチル）−
２，３−エポキシブチルアミド実施例１、方法Ｂと同様
にして反応を行った。
（２Ｓ、３Ｒ）−Ｎ−（メトキシカルボニルメチル）−
２−ブロモ−３−ヒドロキシブチルアミド２５ｇ（０，
０９８モル）を用いた。Ｒ，＝０．３９（酢酸エチル）
を有する表題の化合物１３．９ｇ（理論量の８２％）が
得られた。
’ＨＮＭＲ（３００ＭＨｚ、ＣＤＣｈ）：δ＝１．４１
（ｄ、Ｊ＝６　Ｈｚ、３　Ｈｚ、ＣＨｓ）；３．３２（
ｄｑ、Ｊ　＝５　　Ｈｚ、Ｊ　＝６　　Ｈｚ、ＩＨ、Ｃ
（３）−Ｈ）；３．５４（ｄ、Ｊ　＝５　　Ｈｚ、ＩＨ
、Ｃ（２）−Ｈ）；３．７８（ｓ、３Ｈ、ＯＣＨｓ）；
Ａ　Ｂ　Ｘ−シグナル（δ、＝３．９５．δ、＝　４．
２３、Ｊ　Ａ、＝　ｔｓ、ｓＨｚ、Ｊ、、＝Ｊ−１１＝
６　　Ｈｚ、２Ｈ１ＣＨ２）　；８．７２（ｂｒ、ＩＨ
、Ｎ　Ｈ）。
実施例　６ （２Ｒ，３Ｒ）−Ｎ−（メトキシカルボニルメチル）−
Ｎ−（２，４−ジメトキシフェニルメチル）−２，３−
エポキシブチルアミド ０　ＣＨ３ 実施例１、方法Ｂと同様にして反応を行った。
（２Ｓ、３Ｒ）−Ｎ−（メトキシカルボニルメチル）−
Ｎ−（２，４−ジメトキシフェニルメチル）−２−ブロ
モー３−ヒドロキシブチルアミド５０ｇ（０，１２４モ
ル）を用いた。Ｒｆ＝０．２５（シクロヘキサン：酢酸
エチル４ｘ：２）を有する表題の化合物３８．８ｇ（理
論量の９７％）が得られた。
’［（ＮＭＲ（２５０ＭＨ２，ＣＤＣ１３）：δ＝　１
．４０（ｄ。
Ｊ　＝６　Ｈｚ、　３　Ｈ１ＣＨ３）；３．４０（ｄ−
Ｑ−、Ｊ　＝５Ｈｚ、　Ｊ　＝６ｔｌｚ、　Ｉ　ＨｌＣ
（３）−Ｈ）：３．５９（ｄ、　Ｊ　＝５Ｈｚ、　Ｉ　
Ｈ，Ｃ（２）　−４）；３．７３．３．８４．３．８６
（ｊｅ　ｓ、９Ｈ、ＯＣＨ３）；ＡＢ−シグナル（δＡ
＝４．６０、（δＢ＝４．５８、Ｊ　＝　１７　、５　
Ｈｚ　：　２　Ｈ、ＣＨ２ＣＯ２）；ＡＢ−シグナル（
δＡ＝４．６０、δＢ＝４．７４、　Ｊ　　＝　　１７
Ｈｚ、　　２　　Ｈ％　ＣＨ，−Ｃ，Ｈ。
（ＯＣＨｐ）２）：ＡＢ　　＞７’ｆル＜８Ａ＝６．４
７、δｓ　＝７．１０．　Ｊ　＝　９　ＨＺ、２Ｈ、Ｃ
（５）、Ｃ（６）　　Ｃ５ｊ（＊（ＯＣＨ−）２）：６
．５１（ｓ。
Ｉ　Ｈ，Ｃ（３）−Ｃ，Ｈ，（ＱＣ旦ユ）２）。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 １、一般式（ I ） ▲数式、化学式、表等があります▼（II） 式中、Ｒ＾１は水素またはフェニルもしくはハロゲンで
    置換されていてもよい直鎖状または分枝鎖状Ｃ＿１〜Ｃ
    ＿８−アルキルを表わすか、或いはＣ＿３〜Ｃ＿７−シ
    クロアルキル、フェニル、Ｃ＿１〜Ｃ＿８−アルコキシ
    カルボニルまたは式▲数式、化学式、表等があります▼ の基を表わし、ここに Ｒ＾４およびＲ＾５は同一もしくは相異なるものであり
    、水素、フェニル、ベンジル、アセチルまたは随時フェ
    ニルもしくはハロゲンで置換されていてもよいＣ＿１〜
    Ｃ＿８−アルキルを表わし、 Ｒ＾２は水素またはアミノ保護基を表わし、Ｒ＾３はメ
    チレン基を活性化する基を表わし、そして Ｘはフッ素、塩素、臭素またはヨウ素、好ましくは臭素
    を表わす、 の２−ハロゲノ−３−ヒドロキシアミドを不活性溶媒中
    で、直接または相間移動触媒の存在下において、アルカ
    リ金属水酸化物と反応させることを特徴とする一般式（
    I ） ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） 式中、Ｒ＾１、Ｒ＾２及びＲ＾３は上記の意味を有する
    、 の２，３−エポキシアミドの製造方法。 ２、Ｘが特許請求の範囲第１項記載の意味を有し、Ｒ＾
    １が水素または随時フェニル、フッ素、塩素もしくは臭
    素で置換されていてもよい直鎖状または分枝鎖状Ｃ＿１
    〜Ｃ＿６アルキルを表わすか、或いはＣ＿３〜Ｃ＿６−
    シクロアルキル、Ｃ＿１〜Ｃ＿６−アルコキシカルボニ
    ルまたは式 ▲数式、化学式、表等があります▼ の基を表わし、ここに Ｒ＾４およびＲ＾５は同一もしくは相異なるものであり
    、水素または随時フェニル、フッ素、塩素もしくは臭素
    で置換されていてもよいＣ＿１〜Ｃ＿６−アルキルを表
    わし、 Ｒ＾２が水素または４−メトキシフェニル、３，４−ジ
    メトキシフェニル、４−メトキシメチルオキシフェニル
    、４−［（２−メトキシエトキシ）メチルオキシ］フェ
    ニル、ベンジル、４−メトキシベンジル、２，４−ジメ
    トキシベンジル、３，４−ジメトキシベンジル、２，４
    ，６−トリメトキシベンジル、メトキシ−（４−メトキ
    シフェニル）メチル、トリメチルシリル、トリエチルシ
    リル、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル、ｔｅｒｔ−ブ
    チルジフェニルシリル、ビニル、アリル、２，２−ジエ
    トキシエチル、メトキシカルボニルメチル、ｔｅｒｔ−
    ブトキシカルボニルメチル、ベンゾイルメチルもしくは
    ２−ヒドロキシ−２−フェニルエチルからなる一連のア
    ミノ保護基を表わし、そして Ｒ＾３が −Ｃ≡Ｃ−Ｃ＿６Ｈ＿５、−Ｃ≡Ｃ−Ｏ−Ｃ＿６Ｈ＿５
    、−Ｃ≡Ｃ−Ｓ−Ｃ＿６Ｈ＿５、−Ｃ≡Ｃ−ＳＯ＿２Ｃ
    ＿６Ｈ＿５、−Ｃ≡Ｃ−ＮＯ＿２、−Ｃ≡Ｃ−Ｓｉ（Ｃ
    Ｈ＿３）＿３、−Ｃ≡Ｃ−ＣＯＯＣＨ＿３、−Ｃ≡Ｃ−
    ＣＯＯＣ＿２Ｈ＿５、−Ｃ≡Ｃ−ＣＯＯＣ（ＣＨ＿３）
    ＿３、−ＣＮ、−ＮＯ＿２、−Ｓ−Ｃ＿６Ｈ＿５、−Ｓ
    Ｏ−Ｃ＿６Ｈ＿５、−ＳＯ＿２−Ｃ＿６Ｈ＿５、−ＳＯ
    ＿２ＣＨ＿３、−ＳＯ＿２−Ｃ（ＣＨ＿３）＿３、−Ｐ
    Ｏ（ＯＣＨ＿３）＿２、−ＰＯ（ＯＣ＿２Ｈ＿５）＿２
    、−ＰＯ（ＯＣ＿６Ｈ＿５）＿２、−ＣＯ−Ｃ＿６Ｈ＿
    ５、−ＣＯＯＣＨ＿３、−ＣＯＯＣ＿２Ｈ＿５、−ＣＯ
    ＯＣ＿３Ｈ＿７、−ＣＯＯＣＨ（ＣＨ＿３）＿２、−Ｃ
    ＯＯＣ（ＣＨ＿３）＿３、からの一連の基を表わす、 式（II）の２−ハロゲノ−３−ヒドロキシアミドを用い
    ることを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の一般式
    （ I ）の２，３−エポキシアミドの製造方法。 ３、反応に対してアルカリ金属水酸化物を用いることを
    特徴とする特許請求の範囲第１項及び第２項記載の方法
    。 ４、Ｘが特許請求の範囲第１項記載の意味を有し、Ｒ＾
    １が水素または随時フェニルもしくは３個までのフッ素
    原子で置換されていてもよい直鎖状または分枝鎖状Ｃ＿
    １〜Ｃ＿４−アルキルを表わすか、或いはシクロプロピ
    ル、シクロペンチル、シクロヘキシル、Ｃ＿１〜Ｃ＿４
    −アルコキシカルボニルまたは式 ▲数式、化学式、表等があります▼ の基を表わし、ここに Ｒ＾４は水素を表わし、 Ｒ＾５は随時フェニルで置換されていてもよいＣ＿１〜
    Ｃ＿４−アルキルを表わし、 Ｒ＾２が水素または４−メトキシフェニル、４−メトキ
    シベンジル、２，４−ジメトキシベンジル、３，４−ジ
    メトキシベンジルもしくはｔｅｒｔ−ブチルジメチルシ
    リルからなる一連のアミノ保護基を表わし、そして Ｒ＾３が −ＣＯＯＣＨ＿３、−ＣＯＯＣ＿２Ｈ＿５ −ＣＯＯＣ（ＣＨ＿３）＿３、−ＣＯ−Ｃ＿６Ｈ＿５、
    −ＳＯ＿２−Ｃ＿６Ｈ＿５ｏｒ−ＳＯ＿２−Ｃ（ＣＨ＿
    ３）＿３からの一連の基を表わす、 式（II）の２−ハロゲノ−３−ヒドロキシアミドを用い
    ることを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の一般式
    （ I ）の２，３−エポキシアミドの製造方法。 ５、反応に対して、水酸化リチウム、水酸化カリウムま
    たは水酸化ナトリウム或いはアルカリ金属水酸化物を固
    体状態において、または１０〜６０重量％、殊に３０〜
    ５５重量％の濃度を有する水溶液として用いる特許請求
    の範囲第１〜３項のいずれかに記載の方法。 ６、相間移動触媒として 塩化ｎ−ベンジルシンコニジニウム、 塩化ｎ−ベンジルシンコニニウム、 塩化ベンジルジメチルヘキサデシルアンモニウム、 塩化ベンジルジメチルテトラデシルアンモニウム、 臭化ベンジルトリブチルアンモニウム、 塩化ベンジルトリブチルアンモニウム、 臭化ベンジルトリエチルアンモニウム、 塩化ベンジルトリエチルアンモニウム、 ヨウ化ベンジルトリエチルアンモニウム、 テトラフルオロホウ酸ベンジルトリエチル アンモニウム、 臭化ベンジルトリメチルアンモニウム、 塩化ベンジルトリメチルアンモニウム、 臭化ベンジルトリフェニルホスホニウム、 臭化ジエチルメチルプロピルアンモニウム、臭化（−）
    −Ｎ，Ｎ−ジエチルエフェドリニウム、ヨウ化３，４−
    ジメチル−５−（２−ヒドロキシエチル）チアゾリウム
    、 臭化ドデシルエチルジメチルアンモニウム、臭化（−）
    −Ｎ−ドデシル−Ｎ−メチルエフェドリニウム、 臭化エチルジメチルプロピルアンモニウム、臭化エチル
    ヘキサデシルジメチルアンモニウム、臭化３−エチル−
    ５−（２−ヒドロキシエチル）−４−メチルチアゾリウ
    ム、 臭化エチルトリフェニルホスホニウム、 臭化ヘキサデシルピリジニウム、 塩化ヘキサデシルピリジニウム、 臭化ヘキサデシルトリブチルホスホニウム、臭化ヘキサ
    デシルトリメチルアンモニウム、塩化ヘキサデシルトリ
    メチルアンモニウム、臭化メチルトリオクチルアンモニ
    ウム、 塩化メチルトリオクチルアンモニウム、 ヨウ化メチルトリオクチルアンモニウム、 臭化オクタデシルトリメチルアンモニウム、臭化フェニ
    ルトリメチルアンモニウム、 塩化フェニルトリメチルアンモニウム、 臭化テトラブチルアンモニウム、 塩化テトラブチルアンモニウム、 ヘキサフルオロリン酸テトラブチルアンモニウム、 硫酸水素テトラブチルアンモニウム、 水酸化テトラブチルアンモニウム、 メタンスルホン酸テトラブチルアンモニウム、過塩素酸
    テトラブチルアンモニウム、 テトラフルオロホウ酸テトラブチルアンモニウム、テト
    ラフェニルホウ酸テトラブチルアンモニウム、トリフル
    オロメタンスルホン酸テトラブチルアンモニウム、 塩化テトラブチルホスホニウム、 臭化テトラデシルトリメチルアンモニウム、臭化テトラ
    ドデシルアンモニウム、 過塩素酸テトラドデシルアンモニウム、 臭化テトラエチルアンモニウム、 塩化テトラエチルアンモニウム、 ヘキサフルオロリン酸テトラエチルアンモニウム、 水酸化テトラエチルアンモニウム、 過塩素酸テトラエチルアンモニウム、 テトラフルオロホウ酸テトラエチルアンモニウム、 トリフルオロメタンスルホン酸テトラエチルアンモニウ
    ム、 臭化テトラヘプチルアンモニウム、 安息香酸テトラヘキシルアンモニウム、 臭化テトラヘキシルアンモニウム、 塩化テトラヘキシルアンモニウム、 硫酸水素テトラヘキシルアンモニウム、 ヨウ化テトラヘキシルアンモニウム、 過塩素酸テトラヘキシルアンモニウム、 臭化テトラキス−（デシル）−アンモニウム、過塩素酸
    テトラキス−（デシル）−アンモニウム、臭化テトラオ
    クチルアンモニウム、 過塩素酸テトラオクチルアンモニウム、 臭化テトラペンチルアンモニウム、 ヨウ化テトラペンチルアンモニウム、 塩化テトラフェニルアルソニウム、 臭化テトラフェニルホスホニウム、 塩化テトラフェニルホスホニウム、 臭化テトラプロピルアンモニウム、 水酸化テトラプロピルアンモニウム、 ヨウ化テトラプロピルアンモニウム、 過塩素酸テトラプロピルアンモニウム、 テトラフルオロホウ酸テトラプロピルアンモニウム、 臭化トリブチルヘプチルアンモニウム、 臭化トリブチルメチルアンモニウム、 塩化トリブチルメチルアンモニウム、 水酸化トリブチルメチルアンモニウム、 ヨウ化トリブチルメチルアンモニウム、 臭化トリブチルペンチルアンモニウム、 塩化トリカプリルメチルアンモニウム（「アリクォート
    　３３６」） 臭化トリエチルアンモニウム を用いることを特徴とする特許請求の範囲第５項記載の
    方法。 ７、相間移動触媒として 塩化テトラブチルアンモニウム、 臭化テトラブチルアンモニウム、 塩化ベンジルトリエチルアンモニウム、 臭化ベンジルトリエチルアンモニウム、 塩化ベンジルトリブチルアンモニウム、 臭化ベンジルトリブチルアンモニウムまたは塩化トリカ
    プリルメチルアンモニウム（「アリクォート　３３６」
    ） を用いることを特徴とする特許請求の範囲第５項記載の
    方法。 ８、相間移動触媒を式（II）の化合物に関して０．０１
    〜２５モル％の量で用い、そしてアルカリ金属水酸化物
    を式（II）の化合物１モル当たり１〜２００モルの量で
    用いることを特徴とする特許請求の範囲第１〜７項のい
    ずれかに記載の方法。 ９、反応を−２０℃乃至＋５０℃で行うことを特徴とす
    る特許請求の範囲第１〜８項のいずれかに記載の方法。 １０、反応を０℃乃至＋２５℃で行うことを特徴とする
    特許請求の範囲第１〜８項のいずれかに記載の方法。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008101115A (ja) * 2006-10-19 2008-05-01 Jfe Engineering Kk 保冷剤および保冷材
JP2016520101A (ja) * 2013-05-31 2016-07-11 インスティテュート オブ ファーマコロジー アンド トキシコロジー アカデミー オブ ミリタリー メディカル サイエンシズ ピー．エル．エー．チャイナ ２，３−ブタンジアミドエポキシド化合物ならびにその調製方法及び使用

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3927370A1 (de) * 1989-08-19 1991-02-21 Bayer Ag Verfahren zur herstellung von clausenamid und neoclausenamid und deren derivate
EP1295876A4 (en) * 2000-06-30 2005-10-19 EPOXYCARBOXYLIC AMIDE, AZIDE AND AMINO ALCOHOLS AND THEIR USE IN PROCESSES FOR THE PREPARATION OF ALPHA KETOAMIDES
DE102006009973A1 (de) * 2006-03-03 2007-09-06 Cognis Ip Management Gmbh Bei Raumtemperatur flüssige Verbindungen

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3290336A (en) * 1963-05-29 1966-12-06 Shell Oil Co Epoxide production
DE1275043B (de) * 1965-06-25 1968-08-14 Dynamit Nobel Ag Verfahren zur Herstellung von 2-Trichlormethyl-alkylenoxyden
JPS5922712B2 (ja) * 1976-05-06 1984-05-28 ダイキン工業株式会社 ３−パ−フルオロアルキル−１，２−エポキシプロパンの製造法
CH626810A5 (ja) * 1978-04-10 1981-12-15 Cerberus Ag
DE3484362D1 (de) * 1983-03-28 1991-05-08 Ciba Geigy Ag Verfahren zur herstellung von optisch aktiven azetidinonen.
DK613984A (da) * 1983-12-30 1985-07-01 Ciba Geigy Ag 2-heterocyclyl-6-hydroxylavalkyl-2-penem-forbindelser samt deres fremstilling og anvendelse
US4577036A (en) * 1985-01-30 1986-03-18 Ciba-Geigy Corporation Perfluoroalkyl-alkyl-thio, sulfinyl or sulfonyl-alkylene glycidyl ether

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008101115A (ja) * 2006-10-19 2008-05-01 Jfe Engineering Kk 保冷剤および保冷材
JP2016520101A (ja) * 2013-05-31 2016-07-11 インスティテュート オブ ファーマコロジー アンド トキシコロジー アカデミー オブ ミリタリー メディカル サイエンシズ ピー．エル．エー．チャイナ ２，３−ブタンジアミドエポキシド化合物ならびにその調製方法及び使用

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