JPS62202840A - 感光性ガラスの加工方法 - Google Patents
感光性ガラスの加工方法Info
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- JPS62202840A JPS62202840A JP4414386A JP4414386A JPS62202840A JP S62202840 A JPS62202840 A JP S62202840A JP 4414386 A JP4414386 A JP 4414386A JP 4414386 A JP4414386 A JP 4414386A JP S62202840 A JPS62202840 A JP S62202840A
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- 239000006089 photosensitive glass Substances 0.000 title claims abstract description 15
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims abstract description 34
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 22
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 21
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- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims 1
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 13
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 7
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 6
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Landscapes
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の技術分野〕
本発明は、光学部品の位置決め用基板としての感光性ガ
ラスの加工方法に関する。
ラスの加工方法に関する。
光合分波器、分岐令結合器などは光通信システムを構築
する上で重要なデバイスであり、低損失、低1話など所
要の光学特性が要求される。これらの光学特性を満足さ
せるためには、デバイスの構゛成要素である元ファイバ
、レンズ、プリズム、フィルタなどの光学部品あるいは
光学部品が収納されたパッケージ等を高f[に位置決め
する必要があり、かつ低コストにするためには1組立て
工程における調整箇所をできるだけ少なくすることも重
要なことである。
する上で重要なデバイスであり、低損失、低1話など所
要の光学特性が要求される。これらの光学特性を満足さ
せるためには、デバイスの構゛成要素である元ファイバ
、レンズ、プリズム、フィルタなどの光学部品あるいは
光学部品が収納されたパッケージ等を高f[に位置決め
する必要があり、かつ低コストにするためには1組立て
工程における調整箇所をできるだけ少なくすることも重
要なことである。
光学部品あるいはパッケージ等を高精度でかつ。
調整箇所を少なくして位置決めする手法として、感光性
ガラスをエツチング加工して位置決め用基板として用い
る方法も考えられている。
ガラスをエツチング加工して位置決め用基板として用い
る方法も考えられている。
感光性ガラスは、マスク露光により、複雑な形状でも高
精度に加工できるという特長を有しており、また、同一
部材より同時に多くの基板を作製でき、有用な高精度位
置決め用基板の一つである。
精度に加工できるという特長を有しており、また、同一
部材より同時に多くの基板を作製でき、有用な高精度位
置決め用基板の一つである。
しかしながら、従来の感光性ガラスの加工方法において
は、平面゛的な加工は前述の通り精度よく行なわれるも
のに対し、深さ方向においては必ずしも高精度には加工
することが困難で元回路部品のようにμmオーダのW1
度は得られていなかった。
は、平面゛的な加工は前述の通り精度よく行なわれるも
のに対し、深さ方向においては必ずしも高精度には加工
することが困難で元回路部品のようにμmオーダのW1
度は得られていなかった。
この理由は、主として、加工用のエツチング液の循環が
必ずしも、場所において一様でないことが原因である。
必ずしも、場所において一様でないことが原因である。
第1図、@2図は本発明の加工方法により作製した光回
路素子基板の例とその基板上に光学部品を収納して分岐
・結合器を形成したものを示す。
路素子基板の例とその基板上に光学部品を収納して分岐
・結合器を形成したものを示す。
従来、第1図のような光回路素子基板を作製するために
は、第4図にその一部分を示すが、感光性ガラス部材1
0に、第4図の加工を施した後、破線15 、16のよ
うに切断して、−板の感光性ガラス部材より多くの光回
路素子基板を作製している。
は、第4図にその一部分を示すが、感光性ガラス部材1
0に、第4図の加工を施した後、破線15 、16のよ
うに切断して、−板の感光性ガラス部材より多くの光回
路素子基板を作製している。
このような加工方法においては、加工溝11゜12の加
工深さは全加工部にわたって一様ではなく、特に加工溝
11では、溝の外側程深さが浅いという傾向がある。こ
れは、HP等のエツチング液の循環が広い加工溝12で
は良好で、これに対し溝11の外側では、溝の端部に古
いエツチング液が溜まってしまい、結果的に循環が悪い
ためである。このように深さが一様でないと、第2図の
ように光学部品を基板上に配置した場合、各光学部品間
に角度が生じ、結果的に光結合損失が増大する。
工深さは全加工部にわたって一様ではなく、特に加工溝
11では、溝の外側程深さが浅いという傾向がある。こ
れは、HP等のエツチング液の循環が広い加工溝12で
は良好で、これに対し溝11の外側では、溝の端部に古
いエツチング液が溜まってしまい、結果的に循環が悪い
ためである。このように深さが一様でないと、第2図の
ように光学部品を基板上に配置した場合、各光学部品間
に角度が生じ、結果的に光結合損失が増大する。
そこで、第4図のような従来の加工法の問題を解決する
方法としてwcS図のように、加工溝11の必要な長さ
以上の溝17の加工を施こした後、必要な長さで、破1
1!15 、16のように切断して基板を作製する方法
が考えられる。この方法によると加工溝11の必要長あ
たりの深さ方向のばらつきは、エツチング液の循環性が
向上するので。
方法としてwcS図のように、加工溝11の必要な長さ
以上の溝17の加工を施こした後、必要な長さで、破1
1!15 、16のように切断して基板を作製する方法
が考えられる。この方法によると加工溝11の必要長あ
たりの深さ方向のばらつきは、エツチング液の循環性が
向上するので。
改善はされるものの、切断後廃棄される面積が大きくな
り収率が悪いといった欠点がある。
り収率が悪いといった欠点がある。
本発明は、上述した従来技術の問題点を等決するもので
、高精度で収率のよい光学部品の位置決め用感光性ガラ
ス部材の加工方法を提供することを目的とする。
、高精度で収率のよい光学部品の位置決め用感光性ガラ
ス部材の加工方法を提供することを目的とする。
本発明は、加工溝11の必要長より、若干長くエツチン
グ加工は行うものの、必要長外の加工形状は1幅が溝巾
より大きく、かつ、必要長外の溝の長手方向の長さは、
巾と同等かそれよりも小さな形状を有するようにエツチ
ング加工を行う方法である。
グ加工は行うものの、必要長外の加工形状は1幅が溝巾
より大きく、かつ、必要長外の溝の長手方向の長さは、
巾と同等かそれよりも小さな形状を有するようにエツチ
ング加工を行う方法である。
本発明の加工方法によるとエツチング液は加工溝の必要
長近傍では循環性が良く、新しいエツチング液が良好に
供給されるので、深さ方向のばらつきは小さくなる。し
かも必要長外の長さは小さいので、切断後、廃棄される
部分の面積は小さくできるので高収率で光回路素子基板
を作製することができる。すなわち高精度での位置合せ
が可能となり、またt産性に優れた光学部品位置合せ用
の光回路素子基板を実現できる。
長近傍では循環性が良く、新しいエツチング液が良好に
供給されるので、深さ方向のばらつきは小さくなる。し
かも必要長外の長さは小さいので、切断後、廃棄される
部分の面積は小さくできるので高収率で光回路素子基板
を作製することができる。すなわち高精度での位置合せ
が可能となり、またt産性に優れた光学部品位置合せ用
の光回路素子基板を実現できる。
以下1本発明の実施例について、図面を参照して詳細に
説明する。
説明する。
第1図は1本発明による加工方法によって実現した感光
性ガラス部材を、第2図は第1−の光回路素子基板上に
光学部品と光学部品が収納されたパッケージを配置し1
分岐・結合器を組みたてた例を示す図である。このよう
な光回路部品を組み立てるためには、プリズム4.光フ
ァイバ8や集光あるいはコリメート用レンズ(図示せず
)が収納されたパッケージ6とも相対的に高精度に配置
する必要がある。すなわち、x、y、zの三次元的位置
と共に相対的角度合せを厳密にする必要がある。
性ガラス部材を、第2図は第1−の光回路素子基板上に
光学部品と光学部品が収納されたパッケージを配置し1
分岐・結合器を組みたてた例を示す図である。このよう
な光回路部品を組み立てるためには、プリズム4.光フ
ァイバ8や集光あるいはコリメート用レンズ(図示せず
)が収納されたパッケージ6とも相対的に高精度に配置
する必要がある。すなわち、x、y、zの三次元的位置
と共に相対的角度合せを厳密にする必要がある。
ところで感光性ガラスのガラス面の平面方向の加工は、
露光用マスクの精度を向上させることにより、高精度で
加工できるという本質的利点を有している。これに対し
、深さ方向の加工では、一般的に一様な加工は困難であ
るといった欠点があった。第3図は、このような欠点を
解決する本発明の実施例を示す図である。第3図では、
破線15゜16で示した切断線の本来必要な加工溝11
の長さより若干長い部分までエツチング加工されており
(13) 、その幅は、加工溝11よりも大きく、また
必要長外の加工長さは、前記幅よりも小さくなるよう加
工されている。
露光用マスクの精度を向上させることにより、高精度で
加工できるという本質的利点を有している。これに対し
、深さ方向の加工では、一般的に一様な加工は困難であ
るといった欠点があった。第3図は、このような欠点を
解決する本発明の実施例を示す図である。第3図では、
破線15゜16で示した切断線の本来必要な加工溝11
の長さより若干長い部分までエツチング加工されており
(13) 、その幅は、加工溝11よりも大きく、また
必要長外の加工長さは、前記幅よりも小さくなるよう加
工されている。
第3図のような加工方法においては、加工溝11゜12
の深さ方向は、エツチング液の循環がスムーズであり、
新しいエツチング液が十分供給されるので、一様となり
光学部品の高精度位置合せが可能となる。しかも、必要
な形状に切断後、廃棄される部分の面積は小さくなり、
同一部材からの収率は大きくなる。
の深さ方向は、エツチング液の循環がスムーズであり、
新しいエツチング液が十分供給されるので、一様となり
光学部品の高精度位置合せが可能となる。しかも、必要
な形状に切断後、廃棄される部分の面積は小さくなり、
同一部材からの収率は大きくなる。
以上説明したように、本発明による光学部品の位置決め
用感光性ガラス基板の加工方法は、高精度で@産性に優
れた基板を提供するものである。
用感光性ガラス基板の加工方法は、高精度で@産性に優
れた基板を提供するものである。
嘉1図は本発明の加工方法によって作製した光回路素子
基板の実施例を示す図、@2図は第1図の光回路素子基
板を用いて組み立てた光回路素子の実施列を示す図、第
3因は本発明の実施列を示す図、$4図及び第5図は従
来例を示す図である。 1・・・光回路素子基板、2,3.11.12・・・加
工溝。 4・・・プリズム、5・・・干渉フィルタ、6・・・パ
ッケージ、8・・・光ファイバ、10・・・感光性ガラ
ス部材。 13.14.17・・・加工部、15.16・・・切断
線。 代理人 弁理士 則 近 憲 佑 同 竹 花 喜久男 第1図 第2図 O 第a図
基板の実施例を示す図、@2図は第1図の光回路素子基
板を用いて組み立てた光回路素子の実施列を示す図、第
3因は本発明の実施列を示す図、$4図及び第5図は従
来例を示す図である。 1・・・光回路素子基板、2,3.11.12・・・加
工溝。 4・・・プリズム、5・・・干渉フィルタ、6・・・パ
ッケージ、8・・・光ファイバ、10・・・感光性ガラ
ス部材。 13.14.17・・・加工部、15.16・・・切断
線。 代理人 弁理士 則 近 憲 佑 同 竹 花 喜久男 第1図 第2図 O 第a図
Claims (1)
- 光学部品あるいは光学部品が収納されたパッケージ等の
位置決め用基板としての感光性ガラスの深さ方向に対す
る部分的エッチング加工方法におけるエッチング加工部
を必要な形状よりも大きくした後、必要な形状通り切断
して基板を作製する方法において、切断・廃棄する部分
の形状が、その幅が基板加工幅よりも大きく、その長さ
は廃棄部分の幅より小さい形状となるよう加工すること
を特徴とする感光性ガラスの加工方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4414386A JPS62202840A (ja) | 1986-03-03 | 1986-03-03 | 感光性ガラスの加工方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4414386A JPS62202840A (ja) | 1986-03-03 | 1986-03-03 | 感光性ガラスの加工方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62202840A true JPS62202840A (ja) | 1987-09-07 |
Family
ID=12683415
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP4414386A Pending JPS62202840A (ja) | 1986-03-03 | 1986-03-03 | 感光性ガラスの加工方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS62202840A (ja) |
Cited By (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005157302A (ja) * | 2003-10-30 | 2005-06-16 | Tdk Corp | 光合分波器及びその製造方法 |
US11101532B2 (en) | 2017-04-28 | 2021-08-24 | 3D Glass Solutions, Inc. | RF circulator |
US11161773B2 (en) * | 2016-04-08 | 2021-11-02 | 3D Glass Solutions, Inc. | Methods of fabricating photosensitive substrates suitable for optical coupler |
US11264167B2 (en) | 2016-02-25 | 2022-03-01 | 3D Glass Solutions, Inc. | 3D capacitor and capacitor array fabricating photoactive substrates |
US11270843B2 (en) | 2018-12-28 | 2022-03-08 | 3D Glass Solutions, Inc. | Annular capacitor RF, microwave and MM wave systems |
US11342896B2 (en) | 2017-07-07 | 2022-05-24 | 3D Glass Solutions, Inc. | 2D and 3D RF lumped element devices for RF system in a package photoactive glass substrates |
US11367939B2 (en) | 2017-12-15 | 2022-06-21 | 3D Glass Solutions, Inc. | Coupled transmission line resonate RF filter |
US11373908B2 (en) | 2019-04-18 | 2022-06-28 | 3D Glass Solutions, Inc. | High efficiency die dicing and release |
US11594457B2 (en) | 2018-12-28 | 2023-02-28 | 3D Glass Solutions, Inc. | Heterogenous integration for RF, microwave and MM wave systems in photoactive glass substrates |
US11677373B2 (en) | 2018-01-04 | 2023-06-13 | 3D Glass Solutions, Inc. | Impedence matching conductive structure for high efficiency RF circuits |
US11908617B2 (en) | 2020-04-17 | 2024-02-20 | 3D Glass Solutions, Inc. | Broadband induction |
US11929199B2 (en) | 2014-05-05 | 2024-03-12 | 3D Glass Solutions, Inc. | 2D and 3D inductors fabricating photoactive substrates |
US11962057B2 (en) | 2019-04-05 | 2024-04-16 | 3D Glass Solutions, Inc. | Glass based empty substrate integrated waveguide devices |
-
1986
- 1986-03-03 JP JP4414386A patent/JPS62202840A/ja active Pending
Cited By (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP2005157302A (ja) * | 2003-10-30 | 2005-06-16 | Tdk Corp | 光合分波器及びその製造方法 |
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US11367939B2 (en) | 2017-12-15 | 2022-06-21 | 3D Glass Solutions, Inc. | Coupled transmission line resonate RF filter |
US11894594B2 (en) | 2017-12-15 | 2024-02-06 | 3D Glass Solutions, Inc. | Coupled transmission line resonate RF filter |
US11677373B2 (en) | 2018-01-04 | 2023-06-13 | 3D Glass Solutions, Inc. | Impedence matching conductive structure for high efficiency RF circuits |
US11594457B2 (en) | 2018-12-28 | 2023-02-28 | 3D Glass Solutions, Inc. | Heterogenous integration for RF, microwave and MM wave systems in photoactive glass substrates |
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US11373908B2 (en) | 2019-04-18 | 2022-06-28 | 3D Glass Solutions, Inc. | High efficiency die dicing and release |
US11908617B2 (en) | 2020-04-17 | 2024-02-20 | 3D Glass Solutions, Inc. | Broadband induction |
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