JPS62192330A - アリ−ル水酸化物の製造法 - Google Patents
アリ−ル水酸化物の製造法Info
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- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は、各種ポリマー原料として有用なフェノール類
の製造法に関するものである。
の製造法に関するものである。
(従来の技術)
アリールハロゲン化物を水の存在下、気相において加水
分解してアリール水酸化物に転化する方法は、古くから
7工ノール合成におけるラシヒ法の後段反応として知ら
れている。
分解してアリール水酸化物に転化する方法は、古くから
7工ノール合成におけるラシヒ法の後段反応として知ら
れている。
とのアリールハロゲン化物の加水分解の触媒としては、
銅を含むリン酸カルシウムアノぞタイト(米国特許第3
,148,222号明細書、米国特許第2.988,5
73号明細書)、銅を含むリン酸ジルコニウム(4I公
昭51−6108号公報)、希土類金属リン酸塩及び銅
を含んだ希土類金属リン酸塩(特開昭47−27936
号公報)等が知られている。
銅を含むリン酸カルシウムアノぞタイト(米国特許第3
,148,222号明細書、米国特許第2.988,5
73号明細書)、銅を含むリン酸ジルコニウム(4I公
昭51−6108号公報)、希土類金属リン酸塩及び銅
を含んだ希土類金属リン酸塩(特開昭47−27936
号公報)等が知られている。
(発明が解決しようとする問題点)
これまでの触媒は、活性が低いため高転化率を得るため
には、500℃以上の高温で反応をさせるが、又は非常
に低い空間速度で反応させる必要があった。さらに、−
とれらの触媒は、反応中の活性低下が著しく、触媒の再
生も困難であった。
には、500℃以上の高温で反応をさせるが、又は非常
に低い空間速度で反応させる必要があった。さらに、−
とれらの触媒は、反応中の活性低下が著しく、触媒の再
生も困難であった。
(問題を解決するための手段)。
本発明者らは、高活性でかつ活性低下が少なく、触媒再
生が容易な触媒を開発すべく鋭意検討した結果、周期律
表上のIB族及び/又は■族の金属を含有し、かつ8i
02/人12Ch(モル比)が、20〜1000の結晶
性アルミノシリケートが高活性かつ活性低下が少なく、
触媒再生が容易であることを見い出し、本発明を完成す
るに至った。
生が容易な触媒を開発すべく鋭意検討した結果、周期律
表上のIB族及び/又は■族の金属を含有し、かつ8i
02/人12Ch(モル比)が、20〜1000の結晶
性アルミノシリケートが高活性かつ活性低下が少なく、
触媒再生が容易であることを見い出し、本発明を完成す
るに至った。
すなわち、本発明は、アリールハロゲン化物を水の存在
下、気相において加水分解してアリール水酸化物に転化
する際に、触媒として周期律表のIB族及び/又は■族
の金属を含有し、かつ5ioz/A120g (モル比
)が20〜1000の結晶性アルミノシリケートを用い
ることを特徴とするアリール水酸化物の製造法に関する
ものである。
下、気相において加水分解してアリール水酸化物に転化
する際に、触媒として周期律表のIB族及び/又は■族
の金属を含有し、かつ5ioz/A120g (モル比
)が20〜1000の結晶性アルミノシリケートを用い
ることを特徴とするアリール水酸化物の製造法に関する
ものである。
本発明に用いられる結晶性アルミノシリケートとは、5
iQ4とAlO4とが酸素原子を介して交さ結合してい
る剛性の三次元構造を有する無機結晶体である。この中
のアルミニウム原子とケイ素原子の和と酸素原子との比
は、1:2であシ、またアルミニウムを含有する四面体
の電子価は、結晶内に種々のカチオンを含有することに
よって平衡が保たれている。この結晶性アルミノシリケ
ートのSi 02 / Al2O3(モル比)は1〜数
万のものまで多くのものが知られているが、本発明に用
いられる結晶性アルミノシリケートのS i04 /
AlB12 (モル比)は20〜1000、好ましくは
20〜500、さらに好ましくは30〜200である。
iQ4とAlO4とが酸素原子を介して交さ結合してい
る剛性の三次元構造を有する無機結晶体である。この中
のアルミニウム原子とケイ素原子の和と酸素原子との比
は、1:2であシ、またアルミニウムを含有する四面体
の電子価は、結晶内に種々のカチオンを含有することに
よって平衡が保たれている。この結晶性アルミノシリケ
ートのSi 02 / Al2O3(モル比)は1〜数
万のものまで多くのものが知られているが、本発明に用
いられる結晶性アルミノシリケートのS i04 /
AlB12 (モル比)は20〜1000、好ましくは
20〜500、さらに好ましくは30〜200である。
この範囲外のものは活性が低く実用的でない。
この様なS i02 / Al2O3(モル比)を有す
る結晶性アルミノシリケートとしては、モーピルオイル
社の開発したZSM−s(米国特許M 3702886
号明細書)、ZSM−11(才1開昭54−5269
9号公報)、ZSM−12(米国特許第3,832,4
49号明細書)、ZSM−35(特開昭53−1445
00号公報)、本研究者らが先に発明したAZ−1(%
開昭59−128210号公報、米国特許第4 、53
7 、757号明細書)等が挙げられる。好ましいのは
ZSM−5、ZSM−11、AZ−1テロ!?、特に好
ましいのはZSM−5である。
る結晶性アルミノシリケートとしては、モーピルオイル
社の開発したZSM−s(米国特許M 3702886
号明細書)、ZSM−11(才1開昭54−5269
9号公報)、ZSM−12(米国特許第3,832,4
49号明細書)、ZSM−35(特開昭53−1445
00号公報)、本研究者らが先に発明したAZ−1(%
開昭59−128210号公報、米国特許第4 、53
7 、757号明細書)等が挙げられる。好ましいのは
ZSM−5、ZSM−11、AZ−1テロ!?、特に好
ましいのはZSM−5である。
本発明に用いられる結晶性アルミノシリケートは、周期
律表のIB族及び/又は■族の金属を含有する必要があ
る。周期律表上のIB族とは、銅、銀、金であシ、■族
とはニッケル、パラジウム、白金、コノマルト、ロジウ
ム、イリジウム、鉄、ルテニウム、オスミウムであるが
、これらの中で好ましいのは銅、ニッケル、コノマルト
、・ソラジウムでsb、特に好ましいのは銅である。
律表のIB族及び/又は■族の金属を含有する必要があ
る。周期律表上のIB族とは、銅、銀、金であシ、■族
とはニッケル、パラジウム、白金、コノマルト、ロジウ
ム、イリジウム、鉄、ルテニウム、オスミウムであるが
、これらの中で好ましいのは銅、ニッケル、コノマルト
、・ソラジウムでsb、特に好ましいのは銅である。
結晶性アルミノシリケート中に含まれるこれらの金属の
状態は、カチオン、酸化物、ハロゲン化物等の塩、還元
金属いずれの状態でも構わないが好ましいのはカチオン
の状態である。
状態は、カチオン、酸化物、ハロゲン化物等の塩、還元
金属いずれの状態でも構わないが好ましいのはカチオン
の状態である。
これらの金属の含有量は、特に制限はないが、あまり少
ないと活性が低く多過ぎると選択性が低くなるため、通
常は結晶性アルミノシリケートに対してo、oos〜5
0vt%、好ましくは0.01〜20wt%、さらに好
ましくは0.1〜10wt%である。結晶性アルミノシ
リケートに、これらの金属を含有させる方法としては、
通常のイオン交換法、含浸法等が用いられる。
ないと活性が低く多過ぎると選択性が低くなるため、通
常は結晶性アルミノシリケートに対してo、oos〜5
0vt%、好ましくは0.01〜20wt%、さらに好
ましくは0.1〜10wt%である。結晶性アルミノシ
リケートに、これらの金属を含有させる方法としては、
通常のイオン交換法、含浸法等が用いられる。
本発明におけるアリールハロゲン化物とは、例エバクロ
ルベンぜン、ブロムベンゼン、ヨードベンゼン、ジクロ
ルベンゼン、クブロムベンゼン、ショートベンゼン、ク
ロルトルエン、ブロムトルエン、ヨードトルエン、クロ
ルキシレン、ブロムキシレン、ヨーPキシレン等が挙げ
られる。
ルベンぜン、ブロムベンゼン、ヨードベンゼン、ジクロ
ルベンゼン、クブロムベンゼン、ショートベンゼン、ク
ロルトルエン、ブロムトルエン、ヨードトルエン、クロ
ルキシレン、ブロムキシレン、ヨーPキシレン等が挙げ
られる。
本発明における水とアリールハロゲン化物の比は、通常
水/アリールハロゲン化物(モル比)で0.5〜100
、好ましくは1〜50、さらに好ましくは2〜20であ
る。
水/アリールハロゲン化物(モル比)で0.5〜100
、好ましくは1〜50、さらに好ましくは2〜20であ
る。
本発明におけるアリール水酸化物とは、原料がモノハロ
ゲン化ベンゼンの場合は、対応するヒrロキシベンゼン
でアシ、原料がジハロゲン化物の場合はモノヒドロキシ
ペンぜン及び/又は ジヒドロキシベンゼンである。
ゲン化ベンゼンの場合は、対応するヒrロキシベンゼン
でアシ、原料がジハロゲン化物の場合はモノヒドロキシ
ペンぜン及び/又は ジヒドロキシベンゼンである。
本発明における反応温度は、通常250〜600℃、好
ましくは300〜550℃、さらに好ましくは350〜
500℃である。
ましくは300〜550℃、さらに好ましくは350〜
500℃である。
本発明における圧力は減圧、常圧、加圧いずれでも良い
。
。
(発明の効果)
本発明における触媒は、従来の触媒に比べて活性が高く
、かつ活性低下が小さく触媒再生が容易である。この事
は工業的に行う上で非常に有利となる。
、かつ活性低下が小さく触媒再生が容易である。この事
は工業的に行う上で非常に有利となる。
(実施例)
以下、本発明を実施例を用いて説明する。なお、以下の
実施例、比較例における転化率、収率、選択率は通常の
ガスクロマトグラフ法による分析値をもとに求めた。
実施例、比較例における転化率、収率、選択率は通常の
ガスクロマトグラフ法による分析値をもとに求めた。
実施例 I
Q brandケイ酸塩水溶液(Nano 8.9wt
%、StO。
%、StO。
28.9wt%、H2O62,2wt%) 300 t
に10wt%テトラシロピルアンモニウムハイドロキサ
イド水溶液200fを加え、さらに水100fに硝酸ア
ルミニウム(人A(NOx)s・9H,0)!lを溶か
した溶液を加えて均質な溶液を得た。さらに硝酸をかき
まぜながら滴下してPHIG〜10.5に調整して均質
なゲルを得た。このゲルをテフロン内張シオートクレー
プに仕込み、かきまぜながら180℃、24時間結晶化
させた。
に10wt%テトラシロピルアンモニウムハイドロキサ
イド水溶液200fを加え、さらに水100fに硝酸ア
ルミニウム(人A(NOx)s・9H,0)!lを溶か
した溶液を加えて均質な溶液を得た。さらに硝酸をかき
まぜながら滴下してPHIG〜10.5に調整して均質
なゲルを得た。このゲルをテフロン内張シオートクレー
プに仕込み、かきまぜながら180℃、24時間結晶化
させた。
得られた生成物を濾過、洗浄、120℃で4時間乾燥、
500℃で6時間空気中で焼成した。この生成物は、X
線回折分析よ、9ZSM−5と同定された。
500℃で6時間空気中で焼成した。この生成物は、X
線回折分析よ、9ZSM−5と同定された。
又、ケイ光X線分析よシ求めたS i(h / Al2
O3(モル比)は55であった。
O3(モル比)は55であった。
得られたZSM−5を20wt%0uOJI2 ・2H
20水溶液中で一日室温でイオン交換を行い、濾過、洗
浄後、120℃で4時間乾燥、400℃で5時間焼成し
てOu担持ZSM−5を調製した。この□u−ZSM
SのOu含有率をケイ光X線を用いて測定した結果も
とのZSM−5に対して0.2wt%であった。
20水溶液中で一日室温でイオン交換を行い、濾過、洗
浄後、120℃で4時間乾燥、400℃で5時間焼成し
てOu担持ZSM−5を調製した。この□u−ZSM
SのOu含有率をケイ光X線を用いて測定した結果も
とのZSM−5に対して0.2wt%であった。
とのOu−ZSM−5を触媒に用い、下記反応条件でク
ロルベンゼンの加水分解反応を行った。
ロルベンゼンの加水分解反応を行った。
〔反応条件〕 水/クロルベンゼン(モル比)=2.6
、wH8v(クロルベンゼン基準) = 3.Ohr−
”。
、wH8v(クロルベンゼン基準) = 3.Ohr−
”。
反応温度=450℃、常圧。
反応開始から2〜3時間後及び10〜11時間後の結果
を表1に示す。
を表1に示す。
以下余白
表1
さらに、11時間反応した後の触媒を450℃、3時間
空気中で焼成して再生した後、同じ条件で反応を行った
。
空気中で焼成して再生した後、同じ条件で反応を行った
。
反応開始から2〜3時間後の結果線、クロルベンゼン転
化率=27−9 X sフェノール収率= 27.1%
、フェノール選択率= 97.0%、ベンゼン選択率=
3.0%であった。
化率=27−9 X sフェノール収率= 27.1%
、フェノール選択率= 97.0%、ベンゼン選択率=
3.0%であった。
この結果よシ、この触媒は完全に再生された事が分る。
実施例2
実施例1で得られたOu −ZSM −5を用いて下記
の反応条件でクロルベンゼンの加水分解反応を行った。
の反応条件でクロルベンゼンの加水分解反応を行った。
〔反応条件〕 水/クロルベンゼン(モル比)=6、
WH8V (クロルベンゼン基準)=3.0hr−”。
WH8V (クロルベンゼン基準)=3.0hr−”。
反応温度=450℃、常圧。
反応開始から3〜4時間後の結果は、クロルベンゼン転
化率=30%、フェノール選択率=96%、ベンゼン選
択率=4%であった。
化率=30%、フェノール選択率=96%、ベンゼン選
択率=4%であった。
実施例3
実施例1で得られたOu−28M−5を用い、下記の反
応条件でクロルベンゼンの加水分解反応を行った。
応条件でクロルベンゼンの加水分解反応を行った。
〔反応条件〕 水/クロルベンゼン(モル比)=6
、VllH8V (クロ/l/ペンぜン基準)=1.0
hr−”、 反応温度=400℃、常圧。
、VllH8V (クロ/l/ペンぜン基準)=1.0
hr−”、 反応温度=400℃、常圧。
反応開始から3〜4時間後の結果は、クロルベンゼン転
化率=18%、フェノール選択率=98%、ベンゼン選
択率=2%であった。
化率=18%、フェノール選択率=98%、ベンゼン選
択率=2%であった。
実施例4
実施例1で得られたZSM−5を、5wt%Na0jl
水溶液中で一日イオン交換した後、濾過、洗浄、120
℃で4時間乾燥し、さらに10wt%0uOj!1 e
2H20水溶液中で、−日イオン交換を行った。濾過・
洗浄・120℃で4時間乾燥後、450℃で4時間焼成
した後、ケイ光X線で測定したOuの含有率は0.15
wt%であった。
水溶液中で一日イオン交換した後、濾過、洗浄、120
℃で4時間乾燥し、さらに10wt%0uOj!1 e
2H20水溶液中で、−日イオン交換を行った。濾過・
洗浄・120℃で4時間乾燥後、450℃で4時間焼成
した後、ケイ光X線で測定したOuの含有率は0.15
wt%であった。
とのOu −ZSM −5を触媒に用い、下記反応条件
でクロルベンゼンの加水分解反応を行った。
でクロルベンゼンの加水分解反応を行った。
〔反応条件〕 水/クロルベンゼン(モル比)=2.
6、WH8V (りDA/ベンゼン基準)=3.0hr
−1、反応温度=450℃、常圧。
6、WH8V (りDA/ベンゼン基準)=3.0hr
−1、反応温度=450℃、常圧。
反応開始から2〜3時間後及び15〜16時間後の結果
を表2に示す。
を表2に示す。
表 2
16時間反応後の触媒を450℃で4時間空気中で焼成
して再生を行い、上記と同じ条件で反応を行った。
して再生を行い、上記と同じ条件で反応を行った。
反応開始から2〜3時間後の結果は、クロルベンゼン転
化率=26.5%、フェノール選択率=96.7%であ
った。
化率=26.5%、フェノール選択率=96.7%であ
った。
以上の結果よシ本触媒は再生によってもとの活性に完全
に戻る事が分った。
に戻る事が分った。
実施例5
実施例4の触媒を用い、下記の反応条件でブロムベンゼ
ンの加水分解反応を行った。
ンの加水分解反応を行った。
〔反応条件〕 水/ブロムベンゼン(モル比)=4.0
、WH8V (ブelAペンぜン基準)=1.0hr
−’、反応温度=450℃、常圧。
、WH8V (ブelAペンぜン基準)=1.0hr
−’、反応温度=450℃、常圧。
反応開始から2〜3時間後の結果は、ブロムベンゼン転
化率=15%、フェノール選択率=90%、ベンゼン選
択率=10%であった。
化率=15%、フェノール選択率=90%、ベンゼン選
択率=10%であった。
実施例6
実施例1で得られたZSM−5を、周期律表上のIB族
及び■族の各種金属でイオン交換した触媒を用い、下記
の反応条件でクロルベンゼンの加水分解反応を行った。
及び■族の各種金属でイオン交換した触媒を用い、下記
の反応条件でクロルベンゼンの加水分解反応を行った。
〔反応条件〕 水/クロル(ンゼン(モル比)=2.6
、WH8V (りC1/L/ベンゼン基準)=3.0h
r−1、反応温度=450℃、常圧。
、WH8V (りC1/L/ベンゼン基準)=3.0h
r−1、反応温度=450℃、常圧。
反応開始から2〜3時間後の結果を表3に示す。
表3
実施例7
特開昭59−128210号公報記載に従って、ゼオラ
イ)AZ−1を下記の手順で合成した。
イ)AZ−1を下記の手順で合成した。
1.8−?アミノー4−アミノメチルオクタン10f、
硫酸アルミニウム(Ajlz(804)3・18H20
) 0.5t1水酸化ナトリウム0.51を水1stに
とかし、さらにシリカゲル(30%8i(h) 20
fを加えて均質な溶液を得た。この溶液にかきまぜなが
ら20%硫酸を滴下してPH12に調整して均質なゲル
を得た。さらに、このゲルをミキサーに入れ1.OOO
rpmで10分間混合しゲル化を促進した。このゲルを
テフロン製試験管に仕込みステンレス製耐圧容器中で1
70℃、48時間静置して結晶化を行った。
硫酸アルミニウム(Ajlz(804)3・18H20
) 0.5t1水酸化ナトリウム0.51を水1stに
とかし、さらにシリカゲル(30%8i(h) 20
fを加えて均質な溶液を得た。この溶液にかきまぜなが
ら20%硫酸を滴下してPH12に調整して均質なゲル
を得た。さらに、このゲルをミキサーに入れ1.OOO
rpmで10分間混合しゲル化を促進した。このゲルを
テフロン製試験管に仕込みステンレス製耐圧容器中で1
70℃、48時間静置して結晶化を行った。
得られた生成物を濾過・洗浄120℃で4時間乾燥、5
50℃で4時間空気中で焼成した。この生成物はX線回
折分析よfiAZ−1と同定された。又、ケイ光X線分
析よシ求めた8i0z/A1zOs (モル比)は12
0であった。
50℃で4時間空気中で焼成した。この生成物はX線回
折分析よfiAZ−1と同定された。又、ケイ光X線分
析よシ求めた8i0z/A1zOs (モル比)は12
0であった。
とのAZ−1を10vrt%0uCfh ・2HzO水
溶液に浸漬した後、蒸発乾固し、さらに450℃で3時
間空気中で焼成して、Ou担持ZSM−5を調製した。
溶液に浸漬した後、蒸発乾固し、さらに450℃で3時
間空気中で焼成して、Ou担持ZSM−5を調製した。
この触媒のケイ光X線で測定したOu含有率は1.5w
t%であった。
t%であった。
この触媒を用い、下記反応条件でクロルベンゼンの加水
分解反応を行った。
分解反応を行った。
〔反応条件〕、水/クロルベンゼン(モル比)=a、o
、WH8V (クロルベンゼン基準)=0.8hr−
”、反応温度=460℃、常圧。
、WH8V (クロルベンゼン基準)=0.8hr−
”、反応温度=460℃、常圧。
反応開始から3〜4時間後の結果はクロルベンゼン転化
率=16%、フェノール選択率=97%、ペンゼン選択
率=3%であった。
率=16%、フェノール選択率=97%、ペンゼン選択
率=3%であった。
実施例8
実施例1で得られたZSM−5を20wt%0uOj!
2 j2 H20水溶液に浸漬した後、蒸発乾固して4
50℃で4時間空気中で焼成してOu担持ZSM−5を
調整した。ケイ光X線分析よシ求めたOu含有率は0.
90を行った。
2 j2 H20水溶液に浸漬した後、蒸発乾固して4
50℃で4時間空気中で焼成してOu担持ZSM−5を
調整した。ケイ光X線分析よシ求めたOu含有率は0.
90を行った。
〔反応条件〕、水/クロルベンゼン(モル比)=5.5
、WH8V (クロルベンゼン基準) =0.46 h
r−1゜反応温度=450℃、常圧。
、WH8V (クロルベンゼン基準) =0.46 h
r−1゜反応温度=450℃、常圧。
反応開始から3〜4時間後の結果は、クロルベンゼン転
化率=45%、フェノール選択率=94%、4ンゼン選
択率=6%であった。
化率=45%、フェノール選択率=94%、4ンゼン選
択率=6%であった。
比較例I
Na Y型ゼオライト(リンデ・デビジョン社製8に−
40,5io=/人XzOs (モル比)=4.6)を
15wt%0uOj12・2H20水溶液中で1日イオ
ン交換を行った。
40,5io=/人XzOs (モル比)=4.6)を
15wt%0uOj12・2H20水溶液中で1日イオ
ン交換を行った。
濾過・洗浄・120℃で4時間乾燥したのち、450℃
で3時間焼成して0u−Y型ゼオライトを得た。
で3時間焼成して0u−Y型ゼオライトを得た。
ケイ光X線分析によシ測定したOuの含有率は1.5w
t%であった。 ゛ この触媒を用い下記反応条件でクロルベンぜンの加水分
解反応を行った。
t%であった。 ゛ この触媒を用い下記反応条件でクロルベンぜンの加水分
解反応を行った。
〔反応条件〕 水/クロルベンゼン(モル比)=3.0
、WH8V (りC1/l/ベンゼン基準) =3.O
hr−”、反応温度=450℃、常圧。
、WH8V (りC1/l/ベンゼン基準) =3.O
hr−”、反応温度=450℃、常圧。
反応開始から2〜3時間後の結果は、クロルベンゼン転
化率=1.2%、フェノール選択率=99%であった。
化率=1.2%、フェノール選択率=99%であった。
比較例2
H−モルデナイト(東洋1達製8102 /Aj120
3 (モzy)=10)を20wt%0uO1−2・2
HzO水溶液中で1日イオン交換して、濾過・洗浄後、
120℃で4時間乾燥、450℃で3時間空気中で焼成
してOu−モルデナイトを得た。ケイ光X線分析よシ求
めたOu含有量は1.0wt%であった。
3 (モzy)=10)を20wt%0uO1−2・2
HzO水溶液中で1日イオン交換して、濾過・洗浄後、
120℃で4時間乾燥、450℃で3時間空気中で焼成
してOu−モルデナイトを得た。ケイ光X線分析よシ求
めたOu含有量は1.0wt%であった。
この触媒を用い、下記反応条件でクロルベンゼンの加水
分解反応を行った。
分解反応を行った。
〔反応条件〕 水/クロルベンゼン(モル比)=4.0
、WH8V (りOA/ベンゼン基準)=1.0hr−
”、反応温度=450℃、常圧。
、WH8V (りOA/ベンゼン基準)=1.0hr−
”、反応温度=450℃、常圧。
反応開始から3〜4時間後の結果は、クロルベンゼン転
化率=2.1%、フェノール選択率=99%であった。
化率=2.1%、フェノール選択率=99%であった。
比較例3
特開昭47−27936号公報の記載に従い、銅含有L
aPO4を調製した。
aPO4を調製した。
即ち、LSI (NOx)s ・6H20=28.8
fを水200Ql:に溶かした溶液に、(NH4)zH
PO4= 17.6 fを水100CCに溶かした溶液
を激しく攪拌し表から加える。その後、アンモニア水で
PH=6.0に調整して、濾過・洗浄した後、120℃
で24時間乾燥、500℃で16時間空気中で焼成して
白色のLaPO4粉末を得た。
fを水200Ql:に溶かした溶液に、(NH4)zH
PO4= 17.6 fを水100CCに溶かした溶液
を激しく攪拌し表から加える。その後、アンモニア水で
PH=6.0に調整して、濾過・洗浄した後、120℃
で24時間乾燥、500℃で16時間空気中で焼成して
白色のLaPO4粉末を得た。
このL!1PO4= 1OfをOu (NOs)z ・
3HzOの0.2wt%水溶液20CC中に浸漬して、
蒸発乾固した後、450℃で5時間空気中で焼成した。
3HzOの0.2wt%水溶液20CC中に浸漬して、
蒸発乾固した後、450℃で5時間空気中で焼成した。
このQu含有LaPO4中のOu含有率は0.05wt
%であった。
%であった。
とのOu含有LaPO4を触媒に用い下記反応条件でク
ロルベンゼンの加水分解反応を行った。
ロルベンゼンの加水分解反応を行った。
〔反応条件〕水/クロルベンぜン(モル比)=2.6
、WH8V (クロルベンゼン基準)=0.6hr−”
、反応温度=450℃、常圧。
、WH8V (クロルベンゼン基準)=0.6hr−”
、反応温度=450℃、常圧。
反応開始から2〜3時間後及び10〜11時間後の結果
を表4に示す。
を表4に示す。
表4
又、11時間反応した後、450℃で4時間空気中で焼
成して再生を行い、同じ反応条件で反応を行った。
成して再生を行い、同じ反応条件で反応を行った。
その結果、反応開始から2〜3時間後の結果は、クロル
ベンぜン転化率=7.0%、フェノール収率=6.8%
、フェノール選択率=97.0%、ベンゼン選択率=a
、oXであった。
ベンぜン転化率=7.0%、フェノール収率=6.8%
、フェノール選択率=97.0%、ベンゼン選択率=a
、oXであった。
この結果よシ、この触媒は、再生が困難である事が分る
。
。
比較例4
特公昭51−6108号公報の舶載に従って、銅を含む
リン酸ジルコニウムを調製した。
リン酸ジルコニウムを調製した。
即ち、Zr0C4!z ・8HzO=24 fを水10
0tに溶かし、さらにCu0jL1 H2H2O=0
、69を溶かした。この溶液をNa0H=8.Ofと8
5%HsPO4=14 、89を水100りに溶かした
溶液に加え44時間室温で攪拌を続けた。得られたスラ
リーを濾過・洗浄した後、110℃で4時間乾燥、40
0℃で3時間空気中で焼成を行い鋼含有リン酸ジルコニ
ウムを得た。
0tに溶かし、さらにCu0jL1 H2H2O=0
、69を溶かした。この溶液をNa0H=8.Ofと8
5%HsPO4=14 、89を水100りに溶かした
溶液に加え44時間室温で攪拌を続けた。得られたスラ
リーを濾過・洗浄した後、110℃で4時間乾燥、40
0℃で3時間空気中で焼成を行い鋼含有リン酸ジルコニ
ウムを得た。
この銅含有リン酸ジルコニウムを触媒に用い、比較例3
と同じ条件でクロル(ンゼンの加水分解反応を行った。
と同じ条件でクロル(ンゼンの加水分解反応を行った。
反応開始から2〜3時間後及び10〜11時間の結果を
表5に示す。
表5に示す。
以下余白
表 5
Claims (3)
- (1)アリールハロゲン化物を水の存在下、気相におい
て加水分解してアリール水酸化物に転化する際に、触媒
として周期律表の I B族及び/又はVIII族の金属を含
有し、かつSiO_2/Al_2O_3(モル比)が2
0〜1,000の結晶性アルミノシリケートを用いるこ
とを特徴とするアリール水酸化物の製造法 - (2)結晶性アルミノシリケートが、ZSM−5である
ことを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の方法 - (3)金属が、銅である事を特徴とする特許請求の範囲
第1項記載の方法
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61033837A JPS62192330A (ja) | 1986-02-20 | 1986-02-20 | アリ−ル水酸化物の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61033837A JPS62192330A (ja) | 1986-02-20 | 1986-02-20 | アリ−ル水酸化物の製造法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62192330A true JPS62192330A (ja) | 1987-08-22 |
Family
ID=12397601
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP61033837A Pending JPS62192330A (ja) | 1986-02-20 | 1986-02-20 | アリ−ル水酸化物の製造法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS62192330A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH069464A (ja) * | 1993-02-03 | 1994-01-18 | Asahi Chem Ind Co Ltd | アリール水酸化物の製造法 |
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