JPS62183130A - 樹脂封止による半導体装置の製造方法 - Google Patents

樹脂封止による半導体装置の製造方法

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JPS62183130A
JPS62183130A JP2438986A JP2438986A JPS62183130A JP S62183130 A JPS62183130 A JP S62183130A JP 2438986 A JP2438986 A JP 2438986A JP 2438986 A JP2438986 A JP 2438986A JP S62183130 A JPS62183130 A JP S62183130A
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JP
Japan
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resin
cavity
semiconductor device
gap
gate
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Pending
Application number
JP2438986A
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English (en)
Inventor
Yoshitaka Kamiya
義孝 神谷
Tamotsu Inoue
保 井上
Yukio Tsuzuki
幸夫 都築
Toshio Suzuki
俊夫 鈴木
Hatsuyuki Kato
加藤 初幸
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Denso Corp
Original Assignee
NipponDenso Co Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は樹脂封止による半導体装置の製造方法に関し、
例えば、挿入物と放熱体との間隙に気泡を含有しない半
導体装置の製造方法に関するものである。
〔従来の技術〕
半導体装置においては、リードフレームのアイランド部
上に半導体素子を搭載し、この半導体素子とリードフレ
ームとの間をワイヤでボンディングしておき、半導体素
子及びこれに関連する部分を保護する目的で、トランス
ファモールド法により樹脂封止が実施されている。この
場合、前記半導体素子が例えばパワートランジスタ等で
あって、その動作時に発熱を有するものである時には、
放熱体を同時に樹脂封止し、この放熱体により、半導体
素子に発生した熱を外部に放出している。ここで、リー
ドフレームと放熱体との間隙には電気絶縁性が維持され
なlすればならず、通常、この間隙にも樹脂を流し込み
、この樹脂によって両者の絶縁を行っている。
第4図(A)に従来の樹脂封止による半導体装置の製造
方法における半導体装置の破砕断面図、同図(B)にそ
の製造過程を説明する断面図を示す。図において、上型
1と下型2の合せ面にキャビティ3が形成してあり、こ
の合せ面によりリードフレーム4が位置決めされながら
保持されており、また、下型2に放熱体5が固定されて
いる。
リードフレーム4は連結された複数のリードピン6と、
その一端に一体化された、例えばパワートランジスタ等
の半導体素子7を搭載する複数個のアイランド部8から
なり、各々のリードピン6はワイヤ等の細線9により半
導体素子7と電気的に接続されている。尚、放熱体5は
半導体素子7で発生する熱を外部に放出する役割を持ち
、B図において下型2側に露出する状態で配置されてい
る。
11は半導体装置を外部に取り付けるための穴である。
キャビティ3の端部にはり−ドピン6と、反対側の下型
2にランナ12及びゲート13が形成しである。14は
エアベントでキャビティ3内の空気をエアベント14の
間隙を通して上型1及び下型2の外部へ排出する役割を
持つ。15・は複数のリードピン6を互いに橋絡し、支
持するタイバーであり、各々のリードピン6を安定的に
固定しており、さらに、樹脂封止の際の樹脂10のキャ
ビテイ3外部への流れを防止するものである。
尚、タイバー15は樹脂封止後には切断して各々のリー
ドピン6を電気的に分離する。以上に示した状態で、樹
脂10をランナ12からゲート13を通し、キャビティ
3内に注入し、樹脂封止を行なう。
〔発明が解決しようとする問題点〕
しかしながら、第4図においてリードフレーム4と放熱
体5との間隙(以下間隙部という)の厚みがより厚くな
れば絶縁性は向上するが熱伝導性が悪くなるため、使用
する樹脂10の特性を考慮し絶縁性が許す限り間隙部の
厚みは薄い方が好ましく、一方、間隙部以外の所で、特
にアイランド部8より上部の樹脂が入り込む部分(以下
アイランド部上部という)はアイランド部8に搭載され
た半導体素子7及び細線9の高さを考慮し、間隙部に比
較するとかなり太き(なっているのが一般的であり、上
記のような従来の状態で樹脂封止を行った場合、第4図
(B)における矢印が示す様に、ゲート13から注入さ
れた樹脂工0はその大半が抵抗の少ないアイランド部上
部に流れるため間隙部には少ししか流れず、さらに流れ
が進行するとアイランド部上部の樹脂流は本来の流れ方
向とは逆行する形で、間隙部に回り込むように流れるた
め、逃げ場を失なった空気が間隙部に気泡21として残
ってしまう。このような半導体装置は1!l縁性、熱伝
導性が低下し、また、この気泡21の存在は外観検査に
よっては確認する事ができないために非常に問題となっ
ている。
そこで本発明は、間隙部に積極的に樹脂10を流す事に
よって、間隙部の気泡21を消去し、良品の半導体装置
を製造する事ができる樹脂封止による半導体装置の製造
方法を提供する事を目的としている。
〔問題点を解決するための手段〕
上記の目的を達成する為に本発明は、ゲートを有する金
型のキャビティ内部に挿入物と放熱体とを所定の間隙を
もって固定した状態でゲートよりキャビティ内に樹脂を
流入して樹脂封止する方法であって、挿入物と放熱体と
の間隙に樹脂を積極的に誘導する樹脂誘導手段を、挿入
物または放熱体または金型に施した状態で樹脂封止する
事を特徴とする樹脂封止による半導体装置の製造方法を
採用している。
〔作用〕
上記の樹脂封止による半導体装置の製造方法を採用する
事により、樹脂は絶縁部に流れ易くなり、絶縁部に気泡
が生じなくなる。
〔実施例〕
以下、本発明の樹脂封止による半導体装置の製造方法を
図面により詳述する。第1図に本発明の第1の実施例の
樹脂封止による半導体装置の製造方法を示し、同図(A
)に第1の実施例によって製造される半導体装置の破砕
断面図、同図(B)にその製造過程を説明する断面図を
示す。図において、上型1と下型2の合せ面にキャビテ
ィ3が形成してあり、この合せ面によりリードフレーム
4が位置決めされながら保持されており、また、下型2
に放熱体5が固定されている。リードフレーム4は連結
された複数のリードビン6と、その一端に一体化された
、半導体素子7を搭載する複数個のアイランド部8から
なり、各々のり−ドピン6はワイヤ等の導電性の細線9
により半導体素子7と電気的に接続されている。10は
例えばエポキシ樹脂、シリコーン樹脂等の樹脂、11は
外部取付用穴、12はランナ、13はゲート、14はエ
アベント、15はタイバーである。尚、それぞれの構成
部分は、以下に示すもの以外のものは基本的には従来の
ものと同様であり、その配置についても同様である。本
実施例では上型1及びリードフレーム4のアイランド部
8が特殊形状、言い換えると樹脂10を間隙部に誘導す
る形状となっている。上型1は図中延長部1aに示すよ
うに、ゲート13側壁面からアイランド部8のゲート1
3側端部近辺まで延長されている。また、アイランド部
8には一対の半導体素子7の間にゲート13側より貫通
した溝8a(以下貫通溝という)が形成しである。そし
てこの状態で樹脂10をゲート13より例えば温度17
0°C1注入圧カフ 0 kgf/cJでもって注入す
ると、キャビティ3内に注入された樹脂10は上型1の
延長部1aによりアイランド部上部への流れが制限を受
け、また、アイランド部8の貫通溝8aによりアイラン
ド部上部から間隙部に樹脂10が流れ込み易くなってい
る為に、アイランド部上部と間隙部を流れる樹脂10は
均一に流れ、空気を巻き込み気泡を生じる事なく樹脂封
止が行なえる。尚、貫通溝8aはアイランド部8におい
て、一対の半導体素子7の間に形成されているが、半導
体素子7が搭載されている部分を除(どの部分に形成し
てもよく、ゲート13側より形成されな(ともよい。
第2図に本発明の第2の実施例の樹脂封止による半導体
装置の製造方法を示し、同図(A)に第2の実施例によ
って製造される半導体装置の破砕断面図、同図(B)に
その製造過程を説明する断面図を示す。図において、ア
イランド部8が特殊形状となっている。すなわち、第1
図の第1の実施例と同様に貫通溝8aが形成されており
、さらに、ゲート13側端部8bが直角に上型1側に曲
折している。本実施例に示す状態において、樹脂10を
キャビティ3内に注入すると、曲折した端部8bの先端
と上型1の上型1との間隔が、間隙部の幅にほぼ等しく
なるように調整できるので、樹脂10は間隙部とアイラ
ンド部上部に流れ込む際にほぼ同等の抵抗をうけること
になり、両者にほぼ均等に流れ、間隙部にも十分に樹脂
10が流れ込み、気泡を生じる事なく樹脂封止が行なえ
る。
尚、本実施例は、貫通溝8aが形成されなくてもよ(、
曲折した端部8bを形成するだけでも同様の効果が得ら
れるものであり、また、端部8bは直角に曲折する事に
限定されずに所定の角度をもって曲折していればよい。
さらに、本実施例はアイランド部8のリードピン6側端
部が曲折している場合も含むもので、リードピン6側端
部を下型2側へ曲折して、樹脂10の間隙部内において
の逆行を防止してもよい。
第3図に本発明の第3の実施例の樹脂封止による半導体
装置の製造方法を示し、同図(A)に第3の実施例によ
って製造される半導体装置の破砕断面図、同図(B)に
その製造過程を説明する断面図を示す。図において、ラ
ンナ12a及びゲート13aは上型1に形成されている
。また、放熱体5には切欠き部5aが形成されている。
さらに、第1図の第1の実施例と同様にアイランド部8
には貫通溝8aが形成されている。本実施例に示す状態
において、樹脂10をキャビティ3内に注入すると樹脂
10は、まず下型2側に流れ込み、下型2側から充満す
る樹脂10は間隙部に流入し易くなり、間隙部において
気泡を生じる事なく樹脂封止が行なえる。尚゛、本実施
例は切欠き部5aまたは貫通溝8aが形成されていな(
てもよく、ランナ12及びゲー1−13aが上型1に形
成されているだけでも同様の効果が得られるものである
また、切欠き部5aは貫通した溝であってもよい。
以上、本発明の第1.第2.第3の実施例を示したが、
本発明はその組合せでもよい事は勿論である。また、本
発明は第1.第2.第3の実施例に限定される事なく、
その主旨を逸脱しない限り種々変形可能である。尚、本
発明の製造方法による製造過程において、樹脂10をキ
ャビティ3に注入する際に、樹脂10が間隙部に所定の
注入圧力をもって流入されると、その力を受けてアイラ
ンド部8が上型1側に曲げられ、間隙部の幅が変化する
事が考えられるが、アイランド部8が樹脂10からの力
を受けてもリードフレーム4に安定的に固定されるよう
に、第5図のリードフレームの切断前の平面図に示され
るようなリードフレームを用いてアイランド部8が曲げ
られて間隙部の幅が変化するのを防止してもよい。尚、
図においてアイランド部8は第1のサイドフレーム16
に支持されているリードピン18と、第2のサイドフレ
ーム17に支持されているブリッジ19と、支持タイバ
ー20とからの複数の点から支持されているので、樹脂
10の注入圧力程度の力で曲げられる事のないものであ
る。
〔発明の効果〕
以上述べたように、本発明の樹脂封止による半導体装置
の製造方法によれば、樹脂を間隙部に十分流す事ができ
、間隙部に気泡の生じない良品の半導体装置を製造する
事ができるという効果がある。
【図面の簡単な説明】
第1図(A)は本発明の第1の実施例における半導体装
置の破砕断面図、同図(B)は第1の実施例の製造過程
を説明する断面図、第2図(A)は本発明の第2の実施
例における半導体装置の破砕断面図、同図(B)は第2
の実施例の製造過程を説明する断面図、第3図(A)は
本発明の第3の実施例における半導体装置の破砕断面図
、同図(B)は第3の実施例の製造過程を説明する断面
図、第4図(A)は従来方法における半導体装置の破砕
断面図、同図(B)は従来方法の製造過程を説明する断
面図、第5図はリードフレームの切断前の平面図である
。 1・・・上型、la・・・延長部、2・・・下型、3・
・・キャビティ、4・・・リードフレーム、5・・・放
熱体、7・・・半導体素子、8・・・アイランド部、3
a・・・貫通した溝、10・・・樹脂、13・・・ゲー
ト。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. ゲートを有する金型のキャビティ内部に挿入物と放熱体
    とを所定の間隙をもって固定した状態で前記ゲートより
    前記キャビティ内に樹脂を流入して樹脂封止する方法で
    あって、前記挿入物と前記放熱体との間隙に樹脂を積極
    的に誘導する樹脂誘導手段を、前記挿入物または前記放
    熱体または前記金型に施した状態で樹脂封止する事を特
    徴とする樹脂封止による半導体装置の製造方法。
JP2438986A 1986-02-06 1986-02-06 樹脂封止による半導体装置の製造方法 Pending JPS62183130A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008240947A (ja) * 2007-03-28 2008-10-09 Ntn Corp アンギュラ玉軸受の潤滑装置

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5967031A (ja) * 1982-10-08 1984-04-16 Hitachi Ltd 成形機
JPS5942044B2 (ja) * 1980-05-22 1984-10-12 ドネツキイ ナウチノ−イスレドバテルスキイ インステイチユト チエルノイ メタルウルギイ 粉末状燃料混合物を高炉羽口へ供給する方法
JPS60175433A (ja) * 1984-02-21 1985-09-09 Sanyo Electric Co Ltd 樹脂封止型半導体装置の製造方法およびリ−ドフレ−ム
JPS6139554A (ja) * 1984-07-31 1986-02-25 Toshiba Corp 樹脂封止型半導体装置

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5942044B2 (ja) * 1980-05-22 1984-10-12 ドネツキイ ナウチノ−イスレドバテルスキイ インステイチユト チエルノイ メタルウルギイ 粉末状燃料混合物を高炉羽口へ供給する方法
JPS5967031A (ja) * 1982-10-08 1984-04-16 Hitachi Ltd 成形機
JPS60175433A (ja) * 1984-02-21 1985-09-09 Sanyo Electric Co Ltd 樹脂封止型半導体装置の製造方法およびリ−ドフレ−ム
JPS6139554A (ja) * 1984-07-31 1986-02-25 Toshiba Corp 樹脂封止型半導体装置

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008240947A (ja) * 2007-03-28 2008-10-09 Ntn Corp アンギュラ玉軸受の潤滑装置

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