JPS62158139A - Manufacture of glass sheet with reduced transmittance - Google Patents

Manufacture of glass sheet with reduced transmittance

Info

Publication number
JPS62158139A
JPS62158139A JP26362786A JP26362786A JPS62158139A JP S62158139 A JPS62158139 A JP S62158139A JP 26362786 A JP26362786 A JP 26362786A JP 26362786 A JP26362786 A JP 26362786A JP S62158139 A JPS62158139 A JP S62158139A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
layer
metal
protective layer
metal oxide
oxide
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP26362786A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
フランツ・ヨゼフ・シュミット
ディーター・ミューラー
ロルフ・グロス
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Flachglas Wernberg GmbH
Original Assignee
Flachglas Wernberg GmbH
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Flachglas Wernberg GmbH filed Critical Flachglas Wernberg GmbH
Publication of JPS62158139A publication Critical patent/JPS62158139A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
(57) [Summary] This bulletin contains application data before electronic filing, so abstract data is not recorded.

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は、所定のスペクトル範囲におけろ透過率を減少
せしめられたソーダ石灰ガラスから成る予負荷された、
かつ(または)彎曲せしめも肚だガラス板、特に日除は
ガラス板を製造するにあたって、ガラス基材の少なくと
も片面に周期律の原子番号22−28の元素の金属また
は合金を主として含有する金属層を少なくとも1つ、か
つ該金属層の、ガラス基材側とは反対側の面に金属酸化
物または金属酸化物混合物少なくとも1種を施し、かつ
熱的な予負荷工程および(または)曲げ工程を空気中、
温度580〜680℃1有利には600〜650℃で実
施するための方法に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION (Industrial Application) The present invention relates to a preloaded soda-lime glass with reduced transmission in a predetermined spectral range.
In manufacturing a glass plate, especially a glass plate for awnings, a metal layer containing mainly a metal or an alloy of an element having an atomic number of 22-28 in the periodic law is used on at least one side of the glass substrate. and at least one metal oxide or metal oxide mixture is applied to the side of the metal layer opposite to the glass substrate side, and a thermal preloading step and/or a bending step is performed. in the air,
The process is carried out at a temperature of 580 DEG to 680 DEG C., preferably 600 DEG to 650 DEG C.

(従来技術) 表面に金属または合金から成る被覆と、その上に金属酸
化物ないしは金属酸化物混合物から成る保護層を有する
ガラス板は建築の分野および乗物のガラス化で、被覆さ
れていないガラス基材の特定のスペクトル範囲における
透過率を減少させるために使用されている。これは例え
ば光減衰効果および(または)日除は作用を得るために
行なわれ、金属層としては色彩的に中立なガラス板が望
ましい場合には有利に周期律の原子番号22〜28の元
素の金属または合金が使用される。このような用途の多
(ではガラス基材を熱的に予負荷する必要がある。これ
は例えば機械的な安定性を高めるため、熱飛躍(Hit
zesprungen )を回避するため、そしてガラ
ス板破断時に破損のリスクを減少させるために行なわれ
る。
(Prior Art) Glass plates with a coating of a metal or alloy on the surface and a protective layer of a metal oxide or a mixture of metal oxides are used in the field of architecture and in the vitrification of vehicles, in which uncoated glass substrates are used. It is used to reduce the transmittance of materials in specific spectral ranges. This is done, for example, in order to obtain a light attenuation effect and/or a sunshade effect, and if a color-neutral glass plate is desired as the metal layer, it is advantageous to use elements with atomic numbers 22 to 28 of the periodic table. Metals or alloys are used. In many such applications, it is necessary to thermally preload the glass substrate.
This is done in order to avoid the risk of damage (e.g. zesprungen) and to reduce the risk of breakage when the glass plate breaks.

熱的な予負荷を生ぜしめるためには、上記の用途で殆ど
専ら使用されているソーダ石灰ガラスから成るガラス板
を空気中で急激にガラス転移点を上回る温度に加熱し、
引続き急冷する。この場合予負荷工程で必要な温度は5
80〜680℃1有利には600〜650℃である。こ
れと等しい温度が、ガラス製造から得られた平らなガラ
ス板を特定の用途、例えば自動車の分野で彎曲したガラ
ス板を得るために曲げ工程にかけるときにも必要とされ
る。
In order to produce a thermal preload, a glass plate made of soda-lime glass, which is used almost exclusively in the above-mentioned applications, is heated rapidly in air to a temperature above the glass transition temperature.
Continue to rapidly cool. In this case, the required temperature in the preloading step is 5
80-680°C, preferably 600-650°C. Similar temperatures are also required when flat glass sheets obtained from glass production are subjected to a bending process in order to obtain curved glass sheets for certain applications, for example in the automotive sector.

上位1概念に記載の形式の方法では、従来金属層の被覆
、同様にもちろん金属酸化物層の被覆はガ゛ラス板の別
個の予負荷ないしは曲げ工程および冷却の後に実施され
、通常真空被覆法が使用されている。
In methods of the type described in the first concept, conventionally the coating of the metal layer and also of course the coating of the metal oxide layer is carried out after a separate preloading or bending step of the glass plate and cooling, usually using a vacuum coating method. is used.

予負荷ないしは曲げ工程に引続いて被覆を実施するこの
方法は、先ず被覆を施し、引続き予負荷ないしは曲げ工
程を行なう作業方法に比べて種々の欠点を有している。
This process, in which a preloading or bending step is followed by a coating, has various disadvantages compared to a method in which a coating is first applied and then a preloading or bending step is carried out.

前者では固定寸法のものしか被覆することができない、
それというのも周知のように予負荷されたガラス板は切
断できないからである。それに対してフロート工程のガ
ラス製造品の規格寸法のもの、特に帯材品を被覆する方
が被覆技術上はるかに有利である。後者の場合には真空
被覆で均一な層厚さを得る問題は、被覆フイールドにお
いて各ガラス板間に相応する隙間を有する固定寸法のも
のを被覆する場合よりもずっと容易に、かつ簡単に解決
することができる。更には被覆装置を種々の寸法の個別
片を搬送通過させるよりも規格寸法のものを搬送する方
が費用も僅かである。
The former can only cover objects with fixed dimensions;
This is because, as is well known, preloaded glass sheets cannot be cut. On the other hand, it is much more advantageous in terms of coating technology to coat glass products of standard size in the float process, especially strip products. In the latter case, the problem of obtaining a uniform layer thickness in vacuum coating is solved much more easily and simply than in the case of coating fixed dimensions with corresponding gaps between each glass plate in the coating field. be able to. Furthermore, it is less expensive to transport standard sizes than to transport individual pieces of various sizes through the coating device.

もう1つの欠点は、予負荷もしくは曲げ工程の高温によ
って屡々ガラス表面上の不純物がガラスとの間にきわめ
て強い結合を生ぜしめるので、この不純物を引続く表面
清浄化で被覆工程実施前にこの被覆工程で必要とされる
程度取除くことができないことである。不純物はガラス
表面内にいわば焼付けられる。これによって被覆品質の
不都合な劣悪化が生じろ。
Another disadvantage is that the high temperatures of the preloading or bending process often cause impurities on the glass surface to form very strong bonds with the glass, which can be removed by subsequent surface cleaning before the coating process is carried out. It cannot be removed to the extent required by the process. The impurities are baked into the glass surface. This may lead to an undesirable deterioration of the coating quality.

彎曲せしめられたガラス板の被覆ではもちろん層の十分
な均一性を得る問題がきわめて大きい、それというのも
被覆源に対する角度と距離がガラス板の彎曲によって付
加的に変動するからである。
In the coating of curved glass sheets, of course, the problem of obtaining sufficient uniformity of the layer is extremely great, since the angle and distance to the coating source additionally vary due to the curvature of the glass sheet.

更に彎曲したガラス板の被覆のための真空被覆装置の費
用が平らなガラス板被覆のための装置よりも著しく太き
い、それというのも入口と出口のゲ゛−ト並びに種々の
被覆ステーション間のダートが平らなガラスを被覆する
場合よりも著しく巾広に設計しなければならないからで
ある。
Furthermore, the cost of vacuum coating equipment for coating curved glass sheets is significantly greater than equipment for coating flat glass sheets, since the inlet and outlet gates as well as the distance between the various coating stations are significantly higher than those for coating flat glass sheets. This is because the dart must be designed to be significantly wider than when covering flat glass.

上記の理由から特に規格寸法の形状の平らなガラスを被
覆し、引続き特に切断して固定寸法のものを製作後に予
負荷し、ないしは曲げる方法が著しい利点を有する。し
かしこの方法は上位概念に記載された方法、すなわち上
記の用途で使用される金属層では実施することができな
い、それというのも必要とされる480℃を上回る温度
によって障害的な層変化(特に層の酸化による)が起こ
るからである。
For the abovementioned reasons, the method of coating flat glass in the form of a particularly standard size and subsequently prestressing or bending the fixed size after production in particular by cutting has significant advantages. However, this method cannot be implemented with the method described in the general concept, i.e. with the metal layers used in the above-mentioned applications, since the required temperatures above 480° C. cause harmful layer changes (in particular This is because oxidation of the layer) occurs.

このことは例えば西ドイツ国特許出願公開第17712
23号明細書から明らかである。該明細書には酸化物層
形成方法が記載されており、該方法によれば真空蒸着に
よって形成された金属層もしイ、は該金属の亜酸化物層
、特に次の金属群:コバルト、鉄、マンガン、カドミウ
ム、ビスマス、銅、金、鉛、ニッケルから成る層が温度
315〜677.56Cの熱処理工程を施され、それに
よって当該酸化物に変えられる。酸化物に変わることに
よって該層の透過率は特に赤外線近くで高まる。したが
って日除は作用は金属層によるよりも不都合にも劣化す
る。
This can be seen, for example, in West German Patent Application No. 17712
This is clear from the specification of No. 23. The specification describes a method for forming an oxide layer, according to which the metal layer formed by vacuum evaporation is a suboxide layer of the metal, in particular from the following metal groups: cobalt, iron. , manganese, cadmium, bismuth, copper, gold, lead, nickel are subjected to a heat treatment step at a temperature of 315 to 677.56 C, thereby converting them into the oxide. By changing to an oxide, the transmittance of the layer is increased, especially near the infrared. The effect of the sunshade is therefore disadvantageously worse than that of the metal layer.

金属層の他に、この層と透明な酸化物層との組合せ°吃
提案された。すなわちガラス基材側とは反対側の金属層
の面に透明な酸化物層を保護層として機械的な性質を改
善するために、また可視領域のために1波長層として設
計する場合には脱鏡反射層(gntspiegelnn
gsschicht )として選択的な透過率を高める
ために配置することができろ。かかる層系のもう1つの
構成では、金属層の両面を金属酸化物から成る高屈折性
の脱鏡反射層内に埋込むように配慮されている(例えば
日本特許出願公開第54−058719号明細書参照)
。更にかかる層系の長期安定性を高めるために金属層と
、この金属層の、ガラス基材側とは反対側の面に設けら
れた脱鏡反射層との間にもう1つの薄い金属層を設ける
ことも既に提案された(ヨーロツ・ぐ特許出願公開第0
035906号明細書)。
Besides the metal layer, combinations of this layer with transparent oxide layers have also been proposed. In other words, a transparent oxide layer is used as a protective layer on the side of the metal layer opposite to the glass substrate side to improve mechanical properties. Mirror reflective layer (gntspiegelnn)
gsschcht) can be arranged to increase selective transmittance. In another configuration of such a layer system, care is taken to embed both sides of the metal layer in a highly refractive mirror-reflecting layer made of a metal oxide (for example, as described in Japanese Patent Application Publication No. 54-058719). (see book)
. Furthermore, in order to increase the long-term stability of such a layer system, another thin metal layer is provided between the metal layer and the mirror reflection layer provided on the side of this metal layer opposite to the glass substrate side. It has already been proposed to establish a
035906 specification).

試験の実施によって、金属層がガラス基材側とは反対の
側で酸化物層によって保護されている、上記のような層
構成ではこれらの層構成が予負荷ないしは曲げ工程で生
じるような温度負荷に曝された場合には十分な安定性が
得られないことが明らかになった。
Tests have shown that in the layer configurations described above, in which the metal layer is protected by an oxide layer on the side opposite to the glass substrate, these layer configurations cannot withstand the temperature loads that occur during the preloading or bending process. It has become clear that sufficient stability cannot be obtained when exposed to

上位概念に記載の方法でも得られろようなかかる層構成
は基本的に例えば米国特許第3846152号明細書か
ら知られている。
Such layer configurations, which can also be obtained with the method described in the generic concept, are known in principle, for example from US Pat. No. 3,846,152.

ヨーロッパ特許出願公開第0108616号明細書:6
二よれば、導電性の金属酸化物被覆を有する4曲せしめ
られた自動車用ガラス板を製造するためには曲げ工程を
亀°裂形成を回避するために当該金属酸化物層の所定の
化学量論的量を下回る状態で実施する。西ドイツ国特許
第917347号明組書は導電性の層を製造する方法に
関し、該方法では化学量論的量を下回る酸化錫層または
酸化インゾウム層をガラス基材に施し、引続き空気中で
加熱することにより完全な酸化物への変換を実施する。
European Patent Application Publication No. 0108616 Specification: 6
According to 2, in order to produce a four-bent automotive glass sheet with a conductive metal oxide coating, the bending process is changed to a predetermined stoichiometry of the metal oxide layer in order to avoid crack formation. Carry out at less than theoretical quantities. German Patent No. 917 347 relates to a method for producing electrically conductive layers, in which a substoichiometric layer of tin oxide or inzoum oxide is applied to a glass substrate and subsequently heated in air. This results in complete conversion to the oxide.

米国特軒下3962488号明細書並びに同第4017
661号明細書は同様に高い光透過性を有する導電性ノ
被覆ノ製造に関する。ただしこの方法では銀層ないしは
金層を両面で酸化チタン層中に埋込み、かつ該貴金属層
の凝集物化を避けるために酸化チタン層を酸素不足状態
で施す。最後に西ドイツ国特許出願公開第302725
6号明細書では透過率を変える金属HMのためのカバー
層の構成部分として化学量論的量を下回る酸化チタン層
を使用することが記載されており、この方法で他の手段
と並んで金属層の耐食性等を改善する目的を有している
。しかし最後に挙げた刊行物に記載された物質組合せは
特に西ドイツ国特許出願公開第3027256号明細書
による方法では上記の上位概念による形式の方法ではな
く、従来公知の工程実施を変更してガラス基材の被覆を
予負荷工程の前に行なう形式で使用することができる:
かかる方法はすなわち無条件に金属層の不都合な変化(
酸化によるものであれ、凝集物化によるものであれ)を
もたらすので、この刊行物も冒頭上位概念に記載の方法
の欠点を回避する示唆を与えることはできなし・。
U.S. Tokukenshita No. 3962488 and No. 4017
No. 661 likewise relates to the production of electrically conductive coatings with high optical transparency. However, in this method, the silver or gold layer is embedded in the titanium oxide layer on both sides, and the titanium oxide layer is applied in an oxygen-deficient state in order to avoid formation of agglomerates of the noble metal layer. Finally, West German Patent Application Publication No. 302725
No. 6 describes the use of a substoichiometric titanium oxide layer as a component of the cover layer for a metal HM that changes the transmission, and in this way, among other means, the metal The purpose is to improve the corrosion resistance of the layer. However, the substance combinations described in the last-mentioned publication, in particular in the method according to DE 30 27 256 A1, do not involve a method in the generic type mentioned above, but rather by modifying the previously known process implementation and using a glass base. It can be used in the form of coating the material before the preloading process:
Such a method ie unconditionally avoids any unfavorable changes in the metal layer (
This publication also cannot give any suggestion for avoiding the drawbacks of the method described in the opening generic section, since it results in the formation of agglomerates (whether by oxidation or agglomeration).

(発明が解決しようとする問題点) 本発明の課題は、冒頭に記載の形式の方法を予負荷ない
しは曲げ工程の後に行なわれるガラス基材の被覆に伴な
う方法的な欠点が回避され、かつ金属層の層変化のおそ
れなく必要な被覆手段をすでに予負荷および(または)
曲げ工程の前に実施し得るように改良することである。
Problems to be Solved by the Invention It is an object of the invention to avoid the methodological drawbacks associated with the coating of the glass substrate after the preloading or bending step in a method of the type mentioned at the outset. and already preloaded and/or coated with the necessary coating means without fear of layer change of the metal layer.
This is an improvement that can be carried out before the bending process.

(問題点を解決するだめの手段) 上記の課題を解決するための本発明の方法は、金属層も
保護層も熱的な予負荷および(または)曲げ工程の前に
ほぼ平らなガラス基材上に施し、かつ保護層を金属酸化
物ないしは金属酸化物混合物の金属原子に対して酸素不
足率x(0,05≦x≦0.4)でもって、かつ厚さl
Qnm〜1100nで、しかも予負荷工程および(また
は)曲げ工程で金属層への挙げるべき程の酸素拡散が起
らないような組成で施すことである。
(Alternative Means for Solving the Problems) The method of the present invention for solving the above-mentioned problems is characterized in that both the metal layer and the protective layer are applied to a substantially flat glass substrate before the thermal preloading and/or bending process. and a protective layer having an oxygen deficiency ratio x (0.05≦x≦0.4) with respect to the metal atoms of the metal oxide or metal oxide mixture and a thickness l.
Qnm to 1100n, and in a composition that does not cause significant oxygen diffusion into the metal layer during the preloading process and/or bending process.

(実施態様) 本発明による優れた実施態様によれば、保護層としてS
n、工n 、 Ta の群からの少なくとも1種の金属
酸化物または金属酸化物混合物から成る層または該金属
酸化物または金属酸化物混合物を主として含有する層を
施す。
(Embodiment) According to an advantageous embodiment of the present invention, as the protective layer S
A layer consisting of at least one metal oxide or metal oxide mixture from the group of n, n, Ta, or containing mainly said metal oxide or metal oxide mixture is applied.

その場合酸化不足率はO1l≦x≦0.3の範囲であっ
てもよい。
In that case, the oxidation deficiency rate may be in the range O1l≦x≦0.3.

更に本発明によれば保護層として工n01.5.Hの組
成を有する酸化インジウム層を施す。
Furthermore, according to the present invention, as a protective layer, a coating No. 01.5. An indium oxide layer having a composition of H is applied.

あるいは本発明によれば場合により保護層として5nO
2−X17) Mi成を有する酸化錫層が施される。
Alternatively, according to the present invention, 5nO may optionally be used as a protective layer.
2-X17) A tin oxide layer with Mi composition is applied.

本発明によれば保護層としてTaO2,5−xの組成を
有する酸化タンタル層も施すことができる。
According to the invention, a tantalum oxide layer having a composition of TaO2,5-x can also be applied as a protective layer.

本発明のもう1つの実施態様によれば、保護層の厚さは
少なくとも13nmであることが提案される。
According to another embodiment of the invention, it is proposed that the thickness of the protective layer is at least 13 nm.

その場合保護層の厚さを約20nm〜70 nmとして
もよい。
In that case, the thickness of the protective layer may be approximately 20 nm to 70 nm.

別の実施態様によれば保護層の上にほぼ化学量論酌量の
組成の金属酸化物少なくとも1種から成るカバー層を設
けることもできる。
According to a further embodiment, a cover layer of at least one metal oxide of approximately stoichiometric composition can be provided over the protective layer.

更に本発明の特別な実施態様によれば、カバー層が保護
層としての金属酸化物もしくは金属酸化物混合物が選択
される群からの金属酸化物少なくとも1種を有する。
Furthermore, according to a particular embodiment of the invention, the cover layer has at least one metal oxide from the group of selected metal oxides or metal oxide mixtures as a protective layer.

その場合にカバー層の金属の組成が保護層のものと等し
くてもよい。
In that case, the metal composition of the cover layer may be the same as that of the protective layer.

最後に本発明によれば場合により金属層(類)を施す前
のガラス基材に金属、合金、金属酸化物または金属酸化
物類から成る下地層を少なくとも1つ設けてもよい。
Finally, according to the invention, the glass substrate may optionally be provided with at least one underlayer consisting of a metal, alloy, metal oxide or metal oxides, before the metal layer(s) are applied.

例えば予負荷された手すりプレート等を製作すべき場合
にはもちろんガラス板の光透過性を零:こ減少せしめる
ことができる本発明は、金属、;※のガラス基材側とは
反対側に設けられた酸化物層の、予負荷もしくは曲げの
ために必要な保護作用が、該酸化物層の組成が当該酸化
物の化学量論的量の組成からずれている場合に達成され
るという意想外の認識に基いている。酸素の不足状態が
必要であり、この不足率の最大値を越えてはならず、ま
た最小値を下回ってもいけない。周期律の原子番号22
〜28の元素からの金属または合金を主とじて含有する
金属層では保護層は本発明によって提案された好適な物
質から成る;例えば西ドイツ国特許出願公開第3027
256号明細書から知られているような物質組合せは全
く使用できない、それというのも該明細書に記載されて
いるガラス板を曲げもしくは予負荷温度に加熱すると金
属層は不可避的に破壊されるからである。
For example, when a preloaded handrail plate or the like is to be manufactured, the present invention can of course reduce the light transmission of the glass plate to zero. It is surprising that the protective effect necessary for preloading or bending of the applied oxide layer is achieved if the composition of the oxide layer deviates from the composition of the stoichiometric amount of the oxide. It is based on the recognition of A state of oxygen deficiency is required and the maximum value of this deficiency rate must not be exceeded nor should it fall below a minimum value. Periodic law atomic number 22
In the case of metal layers containing mainly metals or alloys from the elements ~28, the protective layer consists of the preferred materials proposed by the invention; for example, German Patent Application No. 3027
The material combination known from No. 256 cannot be used at all, since the metal layer inevitably breaks when the glass panes described there are bent or heated to the preloading temperature. It is from.

この結合は予想されなかった。すなわち保護1層として
化学量論酌量の組成が存在している場合には加熱時にお
げろ金属層に対する酸素の作用は最小であろうと受止め
られていた。層を通っての拡散はすなわち周知のように
層における欠陥箇所を介して起る。しかし化学量論的量
の組成の酸化物がある場合には欠陥箇所の数は最小であ
る。特、定の酸素不足率の範囲内における観察された保
護作用の原因は知られていない。
This binding was unexpected. That is, it has been accepted that if a stoichiometric composition exists as the protective layer, the effect of oxygen on the metal layer during heating will be minimal. Diffusion through the layer thus takes place via defect points in the layer, as is well known. However, when there is a stoichiometric composition of oxide, the number of defect sites is minimal. In particular, the cause of the observed protective effect within a certain range of oxygen deficiency rates is unknown.

更に保護層の酸素不足率は所定の値を越えてはならない
ことは意想外である。より高い酸素不足率を有する層は
適さない。かかる層を使うと、再び保護すべき金属層の
光学データの著しい変化が現われ、特に温度処理後斑点
形成および濁り現象が現われる。この特に化学量論的量
を著しく下回る範囲では保護層が不均一に酸化され、そ
の結果被覆で高まった酸素拡散を伴なう付加的な粒界の
形成または亀裂形成が起ると推測される。しかしこの場
合にも工程の複雑さ故に推測が可能であるにすぎない。
Furthermore, it is surprising that the oxygen deficiency rate of the protective layer must not exceed a predetermined value. Layers with higher oxygen deficiency rates are not suitable. When using such layers, again significant changes in the optical data of the metal layer to be protected occur, in particular speckle formation and turbidity phenomena after temperature treatment. It is assumed that this, especially in the significantly substoichiometric range, results in non-uniform oxidation of the protective layer, resulting in the formation of additional grain boundaries or crack formation with increased oxygen diffusion in the coating. . However, even in this case, it is only possible to speculate because of the complexity of the process.

金属層の物質としては周期律の原子番号22〜280元
素、特に金属のクロム、鉄、ニッケル、チタン、バナジ
ウム並びにこれらの金属の合金、またこれらの金属また
は合金を主として含有する組成物が好適である。例えば
クロム−鉄−アルミニウム合金が優れていると証明され
た。
Suitable materials for the metal layer include elements with atomic numbers 22 to 280 in the periodic law, particularly metals such as chromium, iron, nickel, titanium, vanadium, alloys of these metals, and compositions mainly containing these metals or alloys. be. For example, chromium-iron-aluminum alloys have proven superior.

保護層としてはSn 、 ■n 、 Ta  の群から
の少なくとも1種の金属酸化物または金属酸化物混合物
から成るか、またはこれを主要な割合で含有する層が好
適であると証明された。既述したようにこれらの酸化物
層ないしは酸化物混合物層は酸化物の化学量論的量の組
成から異なっていて特定の酸素不足率を有していなけれ
ばならない。この不足率ばその都度該当する酸化物の金
属原子に対してほぼ等しい。必要な組成は工nO□、5
−X、5no2−X 、Ta O2,5−Xに相当し、
ここで又は0.05≦x≦0.4である。
A layer consisting of or containing a predominant proportion of at least one metal oxide or a mixture of metal oxides from the group Sn, ■n, Ta has proven suitable as a protective layer. As already mentioned, these oxide layers or oxide mixture layers must differ from the stoichiometric composition of the oxides and have a certain oxygen deficiency. This deficiency rate is approximately equal to the metal atoms of the corresponding oxide in each case. The required composition is engineering nO□, 5
-X, 5no2-X, corresponds to TaO2,5-X,
or 0.05≦x≦0.4.

酸素不足率を有する酸化物層の厚さは、予負荷ないしは
曲げ工程の温度周期との関連で十分な保護作用が存在す
るようにするためには最小値を下回ってはならない。こ
の最小値は約IQ nm、有利には13 nmである。
The thickness of the oxygen-deficient oxide layer must not fall below a minimum value in order to ensure that there is a sufficient protective effect in relation to the temperature cycles of the preloading or bending process. This minimum value is approximately IQ nm, preferably 13 nm.

より厚い層も同様に使用することができる。これは例え
ばその金属層に対する干渉作用を介して付加的な光学的
作用、例えば脱鏡反射作用または色作用を達成したい場
合に該当する。そのために必要な酸化物層は一般的に約
20nm〜70 nmの範囲である。
Thicker layers can be used as well. This is the case, for example, if it is desired to achieve additional optical effects, such as specular reflection effects or color effects, via interference effects on the metal layer. The oxide layer required for this purpose generally ranges from about 20 nm to 70 nm.

保護層に酸素不足率が存在しても一般的に保護層は被覆
されたガ′ラス板の予負荷ないしは彎曲前の取扱いのた
めに必要である硬度と耐摩耗性を有している。もちろん
その値は化学量論的量の組成を持つ酸化物層で達成され
ろ値よりは若干下回る。
Despite the presence of oxygen deficiencies in the protective layer, the protective layer generally has the hardness and abrasion resistance necessary for preloading or pre-curving handling of the coated glass plate. Of course, the value is slightly lower than that which would be achieved with an oxide layer having a stoichiometric composition.

層の硬度および耐摩耗性を更に改善するためには、先ず
酸素不足率を有する保護層を必要な最小厚さで、かつそ
の上にもう1つの酸化物層を施こす方法が有利であると
証明された。第2の酸化物層は保護層で使用されるのと
等しい金属の化学量論的量の組成を有する酸化物層であ
ってよい。しかし他の金属の酸化物層を設けてもよい。
In order to further improve the hardness and abrasion resistance of the layer, it may be advantageous to first apply a protective layer with oxygen deficiency to the required minimum thickness and then apply another oxide layer thereon. Proven. The second oxide layer may be an oxide layer having the same metal stoichiometric composition as used in the protective layer. However, oxide layers of other metals may also be provided.

二重の層を設けるこの方法は特に望ましい光学的作用の
ために必要な層の厚さが保護作用に関しての最小値を上
回る場合に有利である、それというのもこの場合にはこ
の観点を更に改善された層厚さと組合わせることができ
るからである。更には本発明で重要である、金属層のそ
のガラス基材側とは反対側の面が本°発明による組成と
厚さを有する保護層が化学量論的量を下回る量比で設け
られたことによって曲げおよび(または)予負荷工程で
必要とされる時間と温度において酸素の拡散に対して保
護されている限り、ガラス基材と金属層との間に別の層
、例えば銀または・母ラジウムその他の層を所望の分光
もしくは一般に光学的な性質に応じて配置することは本
発明による思想の範囲内でもちろん全く可能である。
This method of providing a double layer is particularly advantageous if the layer thickness required for the desired optical effect exceeds the minimum value with respect to the protective effect, since in this case this aspect can be further explained. This is because it can be combined with improved layer thicknesses. Furthermore, which is important in the present invention, the surface of the metal layer opposite to the glass substrate side is provided with a protective layer having a composition and thickness according to the present invention in an amount ratio below the stoichiometric amount. Another layer between the glass substrate and the metal layer, e.g. It is of course entirely possible within the scope of the invention to arrange the radium or other layers according to the desired spectral or generally optical properties.

本発明による被覆の製造は通常真空被覆によって行なわ
れる。層は抵抗加熱される蒸着装置から蒸着により、ま
たはまた電子線蒸着により設けることもできる。更に直
流スパッタリングまたは低周波ス・ゼソタリングとして
、特に高周波ス・ぐツタリング、マグネトロンスパッタ
リングとしての陰極ス・やツタリングが好適である。金
属層または合金層は中立的な雰囲気内で直接蒸着または
ス・七ツタリングすることにより製造することができる
The production of the coating according to the invention is usually carried out by vacuum coating. The layer can also be applied by vapor deposition from a resistively heated vapor deposition apparatus or alternatively by electron beam vapor deposition. Furthermore, as direct current sputtering or low frequency sputtering, high frequency sputtering and cathode sputtering as magnetron sputtering are particularly suitable. Metal or alloy layers can be produced by direct vapor deposition or sintering in a neutral atmosphere.

酸化物層を製造するには直接蒸着が、特にまた反対性ス
・セツタリングも好適である。その場合当該金属ターケ
゛ットないしは合金ターケ゛ットを中でも酸素を含む雰
囲気中でスパッタリングする反応性マグネトロンスパッ
タリングの方法が特に経済的である。この方法では層の
必要な酸素不足率は良好に特定して訓節することができ
る。
Direct vapor deposition is suitable for producing the oxide layer, in particular also also reversible settling. In this case, the method of reactive magnetron sputtering, in which the metal or alloy target is sputtered in an oxygen-containing atmosphere, is particularly economical. In this way, the required oxygen deficiency rate of the layer can be well identified and determined.

周期律の原子番号22−28の元素の金属または合金を
主要量含む金属層とは、本発明との関連において更に、
その性質が主として上記の元素によって決定されるよう
な金属層として理解される。通常これはこれらの元素の
1種または数種の含量が全部で少なくとも50原子チに
なる層が該当する。
In the context of the present invention, a metal layer containing a major amount of a metal or an alloy of elements with atomic numbers 22-28 of the periodic law further includes:
It is understood as a metallic layer whose properties are primarily determined by the above-mentioned elements. Usually this is a layer in which the total content of one or more of these elements is at least 50 atoms.

同様のことが、Sn 、 In 、 Ta  0群から
の金属酸化物または金属酸化物保護層少なくとも1種を
主要量含有する、本発明による保護層にも該当し、この
場合にはこれらの金属酸化物保護層では層の性質は上記
の金属酸化物のいずれかによって決定されろものである
。これは通常工n 、 Sn  および(または) T
a  の含量が酸化物層の諾金属含量に対して全部で少
なくとも50原子係になるような層において該当する。
The same applies to the protective layer according to the invention, which contains a major amount of at least one metal oxide or metal oxide protective layer from the group Sn, In, Ta0, in which case these metal oxides For material protective layers, the properties of the layer may be determined by any of the metal oxides mentioned above. This is usually done by engineering n, Sn and/or T
This is the case in layers in which the content of a totals at least 50 atoms relative to the metal content of the oxide layer.

本発明のその他の特徴と利点は以下の、図面を参照しな
がら実施例に基いて詳説された記述から得られる。
Further characteristics and advantages of the invention can be obtained from the following detailed description based on an exemplary embodiment and with reference to the drawings.

第1図に示された実施例ではガラス基材10上に厚さl
Q nmの、ニッケルから成る金属層12が設けられて
おり、この金属層に厚さ20nmの保護層14が続いて
いる。保護層は予負荷工程の前に組成Sn0.7を持っ
ている。
In the embodiment shown in FIG.
A metal layer 12 of nickel with a thickness of Q nm is provided, which is followed by a protective layer 14 with a thickness of 20 nm. The protective layer has a composition Sn0.7 before the preloading step.

第2図の実施例ではガラス基材10は順次厚さ6nm 
 の工n203から成る下地層16(これは付着を改善
する層として働く)、厚さ22nmのコバルトから成る
金属層12、厚さl(5nmの保護層14 (これは予
負荷工程前で組成SnO1.7を持つ)並びに厚さ20
nmのSnO2から成るカバー層18を有している。
In the embodiment shown in FIG. 2, the glass substrate 10 has a thickness of 6 nm.
a base layer 16 consisting of a coating of 203 (which acts as a layer to improve adhesion), a metal layer 12 consisting of cobalt with a thickness of 22 nm, a protective layer 14 with a thickness of 1 (5 nm) (which has a composition SnO 1 before the preloading step); .7) and thickness 20
It has a cover layer 18 made of SnO2.

第1図と第2図に示された形式のガラス板は適切な形式
で以下に記載の例によって製造可能である。
Glass plates of the type shown in FIGS. 1 and 2 can be manufactured in suitable form according to the examples described below.

例1 マグネトロン陰極スパッタリング用の被覆装置を備えた
真空被覆装置で寸法10 cm X 10 crnのフ
ロートガラス板に順次次の層を施した:先ず厚さ8.S
nm のニッケル層をアルゴン雰囲気中で圧力5・10
ミリバールでニッケルターケゝノドからスノぐツタリン
グすることにより、引続きこのニッケル層ノ上に酸化錫
層を酸素の割合40%のアルゴン−酸素雰囲気中で圧力
4・10  ζリバールで錫ターダットの反応性スパッ
タリングによって設けた。その時に反応性スパッタリン
グの被覆・ぞラメータを、層が組成5nO1,83を持
つように選択した。この組成は被覆全体の製造後にアラ
が一電子分析を介して特定された。層の厚さは28nm
であった。
Example 1 A float glass plate of dimensions 10 cm x 10 crn was successively coated with the following layers in a vacuum coating apparatus equipped with a coating apparatus for magnetron cathode sputtering: first a thickness of 8 cm. S
nm nickel layer in an argon atmosphere at a pressure of 5.10 nm.
A layer of tin oxide is then deposited on this nickel layer by sputtering from the nickel tube at mbar at a pressure of 4.10 ζ libar in an argon-oxygen atmosphere with a proportion of 40% oxygen. Established by. The reactive sputtering coating layer was then selected such that the layer had a composition of 5nO1.83. This composition was determined through single-electron analysis of the entire coating after it was manufactured. Layer thickness is 28nm
Met.

被覆されたガラス板は検査でガラス側から観て中立的な
外見を有していた。被覆されたガラス板を引続き予負荷
炉内で600℃に加熱し、かつ急冷した。この予負荷工
程によって板の外見は実質的には変らなかった。
The coated glass plate had a neutral appearance when viewed from the glass side upon inspection. The coated glass plate was subsequently heated to 600° C. in a preload oven and rapidly cooled. This preloading step did not substantially change the appearance of the board.

第3図に予負荷工程実施前と後の波長範囲300〜so
onmのスペクトル透過率が曲線lと曲線2として示さ
れている。第3図から判るように透過率の変化は特に可
視スペクトル範囲内で僅かである。
Figure 3 shows the wavelength range of 300~so before and after the preload process.
The onm spectral transmittance is shown as curve 1 and curve 2. As can be seen from FIG. 3, the change in transmittance is particularly small in the visible spectral range.

この最小の変化は外側の保護層が予負荷工程で更に酸化
することと、この酸化と結合した、酸素不足状態で存在
した残留吸収が除去されることによって惹起されると仮
定される。これに温度処理によって、蒸着層で一般に生
じるような熱処理効果が加わる。
It is hypothesized that this minimal change is caused by further oxidation of the outer protective layer during the preloading step and, coupled with this oxidation, the removal of residual absorption present in the oxygen-deficient conditions. The temperature treatment adds to this the heat treatment effect that typically occurs in vapor deposited layers.

例2 酸化錫層を測定可能な酸素不足率を持たない、すなわち
化学量論的量の組成Sn○2 による被覆パラメータを
選択して施したことを除いて例1と同様にして行なった
Example 2 The process was carried out in the same manner as in Example 1, except that the tin oxide layer had no measurable oxygen deficiency, that is, the coating parameters were chosen to have a stoichiometric composition of Sn○2.

予負荷工程を600℃で実施する前と後におけるスペク
トル測定の結果を第4図に曲線1と2として示す。これ
によれば予負荷工程によって透過率は著しく高まり、す
なわち言うに足る光の減衰および日除は作用はもはや存
在しな見・ことが判る。
The results of the spectral measurements before and after the preloading step at 600° C. are shown in FIG. 4 as curves 1 and 2. It can be seen that the preloading process significantly increases the transmittance, ie there is no longer any significant light attenuation or sunshading effect.

例3 酸化錫層を製造する際に被覆・ぐラメータを組成SnO
の亜酸化物層が得られるように調節したことを除いて例
1と同様にして実施した。
Example 3 When manufacturing a tin oxide layer, the coating/grammeter has a composition of SnO
Example 1 was carried out in the same manner as in Example 1, except that adjustments were made to obtain a suboxide layer of .

被覆された板の予負荷工程前のスRクトル透過率乞第5
図に曲@lとして示す。Sn0層の高い吸収能によって
例1と例11のものよりも著しい低い透過率の値が得ら
れた。予負荷工程実施後は著しい透過率の上昇が起った
(曲線2)。その上に被覆は斑点様の外見を持ち、した
がって上述の用途には不適切である。
Structural transmittance of the coated plate before preloading step No. 5
It is shown as song @l in the figure. Significantly lower transmittance values than those of Examples 1 and 11 were obtained due to the high absorption capacity of the Sn0 layer. A significant increase in transmittance occurred after carrying out the preloading step (curve 2). Moreover, the coating has a spot-like appearance and is therefore unsuitable for the above-mentioned applications.

例4 例1の被覆装置で10副×10crnのフロートガラス
板上に順次次の層を施した二 圧力4 ・10−3ミリバールで組成0250%、Ar
  5(’1%のアルコゞンー酸素雰囲気内で錫ターダ
ットの反応性スA’ツタリングにより厚さ20nmのS
nO2層、アルゴン雰囲気内で圧力4・10クリパール
でニッケルターケ9ットのスノぐツタリングにより厚さ
2nmのニッケル層、 アルゴン雰囲気中圧力3・10  ζリバールで銀ター
フ3ツトのスパツタリングにより厚さ3nmの銀層、ア
ルゴン雰囲気内で圧力4・10クリパールでニッケルタ
ーダットのス/?ツタリングにより厚さ3nmのニッケ
ル層、 圧力4−10  ;リバールで組成0235%、Ar 
65%のアルゴン−酸素雰囲気中で錫ターゲットの反応
性ス・七ツタリングにより厚さ3Qnmの、組成5no
1.70を有する酸化錫層。
Example 4 Two successive layers were applied in the coating apparatus of Example 1 on a float glass plate of 10 sides x 10 crn at a composition of 0.250%, Ar
5 (20 nm thick S by stumbling of the tin tart in a 1% alco-oxygen atmosphere)
nO2 layer, a nickel layer with a thickness of 2 nm by sputtering with 9 nickel turfs using a pressure of 4.10 Klipar in an argon atmosphere, and a 3 nm thick nickel layer by sputtering with 3 silver turfs at a pressure of 3.10 ζ Libar in an argon atmosphere. silver layer, nickel tardat at a pressure of 4.10 klipal in an argon atmosphere. Nickel layer 3 nm thick by tuttering, pressure 4-10; composition 0235% in Rivar, Ar
A composition of 5 no. with a thickness of 3 Qnm was obtained by reactive sintering of a tin target in a 65% argon-oxygen atmosphere.
Tin oxide layer with a value of 1.70.

被覆された板は検査で薄いアンバー色気味を呈し、ガラ
ス側から観察すると板はほぼ中立であつた。スペクトル
測定実施によって(第6図、曲線)、該板は可視範囲で
高い光透過性と赤外近くで低い透過率とを示す、すなわ
ち日除は作用はきわめて良好である。
Upon inspection, the coated plate had a slight amber tint, and when observed from the glass side, the plate appeared almost neutral. Spectral measurements carried out (FIG. 6, curves) show that the board exhibits a high light transmission in the visible range and a low transmission near the infrared, ie the sun protection works very well.

予負荷工程実施後は曲線2として示された透過率曲線が
得られた。曲線2は、太陽の全光線範囲についての光学
データがほぼ維持されることを示す。単に短波の可視ス
ペクトル範囲において透過率が前よりも若干高くなる。
After performing the preloading step, a transmittance curve designated as curve 2 was obtained. Curve 2 shows that the optical data for the entire solar ray range is approximately maintained. It simply has a slightly higher transmittance than before in the shortwave visible spectral range.

5nO1,2o層の後酸化によって惹起されたと推測さ
れるこの透過率の上昇は当初あった薄い帯色を減少させ
、したがって透明感を改善する。
This increase in transmittance, which is assumed to be caused by the post-oxidation of the 5nO1,2o layer, reduces the initially present light banding and thus improves the transparency.

上記の説明、図面並びに特許請求の範囲で開示された本
発明の特徴は単独でもまた任意の組合せにおいても本発
明を種々の実施形で実現させるにあたって重要である。
The features of the invention disclosed in the above description, the drawings and the claims are important both individually and in any combination for realizing the invention in various embodiments.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は本発明の方法によって製作可能なガラス板の1
実施例をガラス板平面に対して垂直に断面して示した図
、第2図は別の実施例の第1図と同様の断面図、第3図
は例1によって製造されタカラス板の予負荷工程前と後
のスペクトル透過率を示した図、第4図は例2によるガ
ラス板の予負荷工程前と後のスペクトル透過率を示した
図、第5図は例3によって製造されたガラス板の予負荷
工程前と後のスペクトル透過率を示した図、第6図は例
4によるガラス板のスペクトル測定の相当する結果を示
した図である。 10・・・・・・ガラス基材、  12・・・・・・金
属層、14・・・・・・保護層、     16・・・
・・・中間層、18・・・・・カバー層。 は力)1名
Figure 1 shows one of the glass plates that can be manufactured by the method of the present invention.
FIG. 2 is a cross-sectional view similar to FIG. 1 of another embodiment, and FIG. 3 shows the preload of the Takarasu plate manufactured according to Example 1. Figure 4 shows the spectral transmittance before and after the preloading process of the glass plate according to Example 2. Figure 5 shows the spectral transmittance of the glass plate manufactured according to Example 3. FIG. 6 shows the corresponding results of the spectral measurements of the glass plate according to Example 4. 10... Glass base material, 12... Metal layer, 14... Protective layer, 16...
...Middle layer, 18...Cover layer. 1 person

Claims (12)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)所定のスペクトル範囲における透過率を減少せし
められたソーダ石灰ガラスから成る予負荷された、かつ
(または)彎曲せしめられたガラス板、特に日除け板を
製造するにあたつて、ガラス基材の少なくとも片面に周
期律の原子番号22〜28の元素の金属または合金を主
要量含有する金属層を少なくとも1つ、かつ該金属層の
、ガラス基材側とは反対側の面に金属酸化物または金属
酸化物混合物少なくとも1種を施し、かつ熱的な予負荷
工程および(または)曲げ工程を空気中、温度580〜
680℃)有利には600〜650℃で実施する方法に
おいて、金属層も保護層も熱的な予負荷および(または
)曲げ工程の前にほぼ平らなガラス基材上に施し、かつ
保護層を金属酸化物ないしは金属酸化物混合物の金属原
子に対して酸素不足率x(0.05≦x≦0.4)でも
つて、かつ厚さ10nm〜100nmで、しかも予負荷
工程および(または)曲げ工程で金属層への挙げるべき
程の酸素拡散が起らないような組成で施すことを特徴と
する、減少せしめられた透過率を有する予負荷された、
および(または)彎曲せしめられたガラス板を製造する
ための方法。
(1) Glass substrates for the production of preloaded and/or curved glass plates, in particular sunshade plates, made of soda-lime glass with reduced transmittance in a given spectral range. at least one metal layer containing a major amount of a metal or alloy of an element with an atomic number of 22 to 28 in the periodic law on at least one side of the metal layer, and a metal oxide on the side of the metal layer opposite to the glass substrate side. or at least one metal oxide mixture and a thermal preloading step and/or bending step in air at a temperature of 580 to 580°C.
680° C.) In a process preferably carried out at 600-650° C., both the metal layer and the protective layer are applied to an approximately flat glass substrate before the thermal preloading and/or bending step, and the protective layer is The metal oxide or metal oxide mixture has an oxygen deficiency ratio x (0.05≦x≦0.4) with respect to the metal atoms, and the thickness is 10 nm to 100 nm, and the preloading process and/or bending process a preloaded material having a reduced transmittance, characterized in that it is applied in such a composition that no appreciable oxygen diffusion into the metal layer occurs;
and/or a method for manufacturing a curved glass sheet.
(2)保護層としてSn、In、Taの群からの少なく
とも1種の金属酸化物または金属酸化物混合物から成る
層または該金属酸化物または金属酸化物混合物を主とし
て含有する層を施す、特許請求の範囲第1項記載の方法
(2) A patent claim in which a layer consisting of at least one metal oxide or metal oxide mixture from the group of Sn, In, and Ta or a layer mainly containing the metal oxide or metal oxide mixture is applied as a protective layer. The method described in item 1.
(3)酸化不足率が0.1≦x≦0.3の範囲内にある
、特許請求の範囲第1項または第2項記載の方法。
(3) The method according to claim 1 or 2, wherein the underoxidation rate is within the range of 0.1≦x≦0.3.
(4)保護層としてInO_1_._5_−_xの組成
を有する酸化インジウム層を施す、特許請求の範囲第1
項から第3項のいずれか1つの項記載の方法。
(4) InO_1_. as a protective layer. Claim 1, in which an indium oxide layer having a composition of _5_-_x is applied.
The method described in any one of paragraphs 3 to 3.
(5)保護層としてSnO_2_−_xの組成を有する
酸化錫層を施す、特許請求の範囲第1項から第3項のい
ずれか1つの項記載の方法。
(5) The method according to any one of claims 1 to 3, wherein a tin oxide layer having a composition of SnO_2_-_x is applied as a protective layer.
(6)保護層としてTaO_2_._5_−_Xの組成
を有する酸化タンタル層を施す、特許請求の範囲第1項
から第3項のいずれか1つの項記載の方法。
(6) TaO_2_. as a protective layer. 4. A method according to claim 1, wherein a tantalum oxide layer having a composition of _5_-_X is applied.
(7)保護層の厚さが少なくとも13nmである、特許
請求の範囲第1項から第6項のいずれか1つの項記載の
方法。
(7) A method according to any one of claims 1 to 6, wherein the protective layer has a thickness of at least 13 nm.
(8)保護層の厚さが約20nm〜70nmである、特
許請求の範囲第7項記載の方法。
(8) The method according to claim 7, wherein the protective layer has a thickness of about 20 nm to 70 nm.
(9)保護層の上にほぼ化学量論的量の組成の金属酸化
物少なくとも1種から成るカバー層を施す、特許請求の
範囲第1項から第8項のいずれか1つの項記載の方法。
(9) The method according to any one of claims 1 to 8, wherein a cover layer comprising at least one metal oxide having a composition in a substantially stoichiometric amount is applied on the protective layer. .
(10)カバー層が保護層としての金属酸化物もしくは
金属酸化物混合物が選択される群からの金属酸化物少な
くとも1種を含有する、特許請求の範囲第9項記載の方
法。
(10) The method according to claim 9, wherein the cover layer contains at least one metal oxide from the group selected from metal oxides or metal oxide mixtures as a protective layer.
(11)カバー層の金属の組成が保護層のものと等しい
、特許請求の範囲第10項記載の方法。
(11) The method according to claim 10, wherein the metal composition of the cover layer is the same as that of the protective layer.
(12)金属層(類)を施す前のガラス基材上に金属、
合金、金属酸化物または金属酸化物類から成る下地層を
少なくとも1つ施す、特許請求の範囲第1項から第10
項のいずれか1つの項記載の方法。
(12) Metal on the glass substrate before applying the metal layer(s),
Claims 1 to 10, wherein at least one underlayer consisting of an alloy, metal oxide or metal oxides is applied.
The method described in any one of the sections.
JP26362786A 1985-11-05 1986-11-05 Manufacture of glass sheet with reduced transmittance Pending JPS62158139A (en)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE3539130.8 1985-11-05
DE3539130 1985-11-05

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS62158139A true JPS62158139A (en) 1987-07-14

Family

ID=6285156

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP26362786A Pending JPS62158139A (en) 1985-11-05 1986-11-05 Manufacture of glass sheet with reduced transmittance

Country Status (2)

Country Link
JP (1) JPS62158139A (en)
ZA (1) ZA868390B (en)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7527868B2 (en) 1997-07-21 2009-05-05 Saint-Gobain Vitrage Transparent substrate coated with at least one thin layer
WO2016159252A1 (en) * 2015-03-31 2016-10-06 ホヤ レンズ タイランド リミテッド Eyeglass lens and method for manufacturing same, and eyeglasses

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7527868B2 (en) 1997-07-21 2009-05-05 Saint-Gobain Vitrage Transparent substrate coated with at least one thin layer
WO2016159252A1 (en) * 2015-03-31 2016-10-06 ホヤ レンズ タイランド リミテッド Eyeglass lens and method for manufacturing same, and eyeglasses
JPWO2016159252A1 (en) * 2015-03-31 2018-01-25 ホヤ レンズ タイランド リミテッドHOYA Lens Thailand Ltd Spectacle lens, method of manufacturing the same, and spectacles
AU2016240877B2 (en) * 2015-03-31 2019-01-17 Hoya Lens Thailand Ltd. Spectacle lens, method of manufacturing the same, and spectacles
US10393925B2 (en) 2015-03-31 2019-08-27 Hoya Lens Thailand Ltd. Spectacle lens, method of manufacturing the same, and spectacles

Also Published As

Publication number Publication date
ZA868390B (en) 1987-07-29

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4715879A (en) Method for the manufacture of a tempered and/or curved glass pane with reduced transmission
CA1338403C (en) Low emissivity film for automotive heat load reduction
EP1611265B1 (en) Substrates coated with mixtures of titanium and aluminum materials
CA1337483C (en) Low emissivity film for high temperature processing
EP1080245B1 (en) Coated article comprising a sputter deposited dielectric layer
US4948677A (en) High transmittance, low emissivity article and method of preparation
EP1194385B1 (en) Protective layers for sputter coated article
US6833194B1 (en) Protective layers for sputter coated article
JP6374395B2 (en) Coated product having a low emissivity coating comprising a zinc oxide containing layer with additional metal
US6010602A (en) Annealed low emissivity coating
US20050258030A1 (en) Effects of methods of manufacturing sputtering targets on characteristics of coatings
EP0546302A1 (en) Method of making a heat treated coated glass
JP6950103B2 (en) A coated article having an IR reflective layer (s) and a silicon nitride zirconium layer (s), and a method for producing the same.
CZ20011943A3 (en) Method for producing an article with a coating, the article with such coating produced thereby and coating apparatus
US20040137235A1 (en) Coated glass sheet
EP0536607A2 (en) Heat processable metallic appearing coatings
JPH0745710B2 (en) Products with high transmittance and low emissivity
JPS5931147A (en) Visible-ray transmitting heat wave shielding membrane and its manufacture
JP2016504253A (en) Coated product having a low emissivity coating comprising a tin oxide containing layer with additional metal
AU4124899A (en) Transparent substrate coated with a silver deposit
CN110520390B (en) Coated article with low-E coating having silver doped IR reflecting layer
JPH013036A (en) Low reflective coated articles
JPS62158139A (en) Manufacture of glass sheet with reduced transmittance
CN114667272A (en) Coated article with low-E coating having protective contact layer comprising Ag, Ni and Cr for protecting silver-based IR reflecting layer and method for making same
RU2772854C1 (en) Coated article with an ir-reflecting layer or layers and a zirconium-silicon oxynitride layer or layers