JPS6211147A - Apparatus for inspecting foreign matter - Google Patents

Apparatus for inspecting foreign matter

Info

Publication number
JPS6211147A
JPS6211147A JP60140142A JP14014285A JPS6211147A JP S6211147 A JPS6211147 A JP S6211147A JP 60140142 A JP60140142 A JP 60140142A JP 14014285 A JP14014285 A JP 14014285A JP S6211147 A JPS6211147 A JP S6211147A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
foreign matter
foreign
foreign object
wafer
inspection
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP60140142A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPH0375054B2 (en
Inventor
Toshiaki Taniuchi
谷内 俊明
Takuro Hosoe
細江 卓朗
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi High Tech Corp
Original Assignee
Hitachi Electronics Engineering Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Electronics Engineering Co Ltd filed Critical Hitachi Electronics Engineering Co Ltd
Priority to JP60140142A priority Critical patent/JPS6211147A/en
Publication of JPS6211147A publication Critical patent/JPS6211147A/en
Publication of JPH0375054B2 publication Critical patent/JPH0375054B2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/84Systems specially adapted for particular applications
    • G01N21/88Investigating the presence of flaws or contamination
    • G01N21/94Investigating contamination, e.g. dust

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Biochemistry (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Immunology (AREA)
  • Pathology (AREA)
  • Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
  • Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
  • Image Processing (AREA)
  • Image Analysis (AREA)

Abstract

PURPOSE:To effectively perform the inspection of foreign matter containing visual observation, by preliminarily storing the correspondence table of the results of automatic inspection and visual observation in the inspection of foreign matter by polarizing laser in a table. CONSTITUTION:A foreign matter inspection apparatus is constituted so that the surface to be inspected of a wafer 30 is irradiated with laser beams of S-polarizing laser oscillators 32, 34, 36, 38 to automatically inspect foreign matter. The reflected laser beam from the surface of the wafer 30 reaches a 45 deg. prism 60 through the optical system common to a detection system 50 detecting foreign matter and a microscope 52 for the visual observation of the wafer 30, that is, an objective lens 54, a half mirror 56 and a prism 58. A means wherein the information of the visual observation result of foreign matter indicated by a means, which stores at least the positional information of the foreign matter detected on the basis of reflected beam in the table on the memory so as to correspond to each foreign matter and indicates the detected arbitrary foreign matter, is written in the aforementioned table so as to correspond to said foreign matter is provided and the memory content of said table is outputted.

Description

【発明の詳細な説明】 「産業上の利用分身] この発明は、LSI用のウェハの表面など、被検査面l
−の異物の有無などの検査を自動的に汁う異物検査装置
に関する。さらに詳しくは、この発明は、被検査面に偏
光レーザ光などの光ビームを照射し、その反射光に基づ
き被検査面上の兇物面上を自動的に行うだけでなく、顕
微鏡により被検査面の目視観察も可能な異物検査装置に
関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION "Industrial Utilization" This invention applies to
This invention relates to a foreign matter inspection device that automatically tests for the presence or absence of foreign matter. More specifically, this invention not only irradiates a light beam such as a polarized laser beam onto a surface to be inspected and automatically scans the surface of an object on the surface to be inspected based on the reflected light, but also uses a microscope to The present invention relates to a foreign matter inspection device that allows visual observation of surfaces.

〔従来の技術] 従来、LSI用のウェハを対象とした異物検査装置にお
いては、検出した異物を、そのサイズに対応したマーク
の形でウェハの輪郭図形に重ねて表した異物マツプとし
て、X−Yプロッタにより印刷出力している。このよう
な異物マツプによれば、異物の存在位置と、そのサイズ
がわかるが、異物の性質ないし種類はわからない。異物
の発生原因の分析などのためには、異物の性質ないし種
類の情報が必要になる。
[Prior Art] Conventionally, foreign matter inspection equipment for LSI wafers uses an Printed out using a Y plotter. According to such a foreign object map, the location and size of the foreign object can be known, but the nature or type of the foreign object cannot be determined. In order to analyze the cause of foreign matter, information on the nature or type of the foreign matter is required.

異物の性質ないし種類を調べるには、異物検査後のウェ
ハを顕微鏡下にセットし、異物をIJ視観察している。
In order to investigate the nature or type of foreign matter, the wafer after the foreign matter inspection is placed under a microscope and the foreign matter is observed with an IJ vision.

[解決しようとする問題点] さて、最終的には、この1」視観察の結果と自動検査の
結果とを対応づけた表などを作る必要がある。しかし従
来の異物検査装置は、そのような対応表の作成、保存、
印刷を行うことができなかった。また、従来の異物検査
装置は、自動検査の結果と目視検査の結果とを一括して
管理することができず、それらの対応関係を54りやす
いなど、検査結果データの管理に不便であった。
[Problem to be solved] Finally, it is necessary to create a table or the like that correlates the results of this 1" visual observation with the results of the automatic inspection. However, conventional foreign object inspection equipment does not require the creation, storage, and storage of such correspondence tables.
Unable to print. In addition, conventional foreign object inspection devices cannot manage automatic inspection results and visual inspection results all at once, making it difficult to manage their correspondence, making it inconvenient to manage inspection result data. .

[発明の目的] この発明は、前述のような問題に鑑みなされたものであ
り、その目的は、自動検査の結果と目視観察の結果とを
対応づけた対応表の作成、保存、出力が可能で、自動検
査と目視観察の結果を一括して管理可能な異物検査装置
を提供することにある。
[Purpose of the Invention] This invention was made in view of the above-mentioned problems, and its purpose is to create, save, and output a correspondence table that correlates the results of automatic inspection and the results of visual observation. The object of the present invention is to provide a foreign matter inspection device that can collectively manage the results of automatic inspection and visual observation.

[問題点を解決するための゛L段] そのような1:1的を達成するために、この発明にあっ
ては、光ビームを照射された被検査面からの反射光に基
づき、前記被検査面上の異物を自動的に検出できるとと
もに、前記被検査面を顕微鏡により1」視観察できる構
成の異物検査装置において、前記反射光に基づき検出さ
れた異物の少なくとも位置の情報を各異物と対応させて
メモリ上のテーブルに記憶させる手段と、ll’l記反
射光に基づき検出された任意の異物をt旨定する手段と
、その指定された異物の目視観察結果の情報を入力する
手段と、入力された異物の目視結果の情報をその異物と
対応させて前記テーブルに書き込む手段と、前記テーブ
ルの記憶内容を出力する手段とが備えられる。
[L Stage for Solving Problems] In order to achieve such a 1:1 ratio, in the present invention, the inspection target is In a foreign object inspection device configured to automatically detect foreign objects on the inspection surface and to enable visual observation of the surface to be inspected using a microscope, information on at least the position of the foreign object detected based on the reflected light is associated with each foreign object. means for storing the corresponding foreign matter in a table on the memory; means for determining an arbitrary foreign object detected based on the reflected light; and means for inputting information on the visual observation result of the specified foreign object. and a means for writing input visual inspection result information of a foreign object into the table in association with the foreign object, and a means for outputting the stored contents of the table.

[作用] 同一装置において、自動検査と目視観察の結果の対応表
を作成しテーブルに保存し、また出力するができる。こ
のように、その対応表の作成が従来より容易となり、検
査の能率が向−L−する。また、両検査の結果をテーブ
ルの形で一括して管理することができ、両検査の結果の
対応関係の誤りなどを防止できる。
[Function] In the same device, a correspondence table between the results of automatic inspection and visual observation can be created, stored in the table, and output. In this way, the creation of the correspondence table becomes easier than before, and the efficiency of inspection is improved. Furthermore, the results of both tests can be managed collectively in the form of a table, making it possible to prevent errors in the correspondence between the results of both tests.

[実施例コ 以下、図面を参照し、この発明の一実施例について詳細
に説明する。
[Embodiment] Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

第1図は、この発明によるウェハ用異物検査装置の光学
系部分などの構成を簡略化して示す概要図である。第2
図は、同装置の信号系および処理制御系の概要図である
FIG. 1 is a simplified schematic diagram showing the configuration of the optical system and other parts of the wafer foreign matter inspection apparatus according to the present invention. Second
The figure is a schematic diagram of the signal system and processing control system of the device.

まず第1図において、10はX方向に摺動可能にベース
12に支持されたXステージである。このXステージ1
0には、ステッピングそ一夕14の回転軸に直結された
スクリュー16が螺合しており、ステッピングモータ1
4を作動させることにより、Xステージ10をX方向に
進退させることができる。18はXステージ10のX方
向位置Xに対応したコード信号を発生するリニアエンコ
ーダである。
First, in FIG. 1, reference numeral 10 denotes an X stage supported by a base 12 so as to be slidable in the X direction. This X stage 1
A screw 16 directly connected to the rotating shaft of the stepping motor 14 is screwed into the stepping motor 1.
4, the X stage 10 can be moved forward and backward in the X direction. 18 is a linear encoder that generates a code signal corresponding to the position X of the X stage 10 in the X direction.

XステージlOには、Zステージ20がZ方向に移動+
1J能に取り付けられている。その移動手段は図中省略
されている。Zステージ20には、被検査物としてのウ
ェハ30が載置される回転ステージ22が回転可能に支
持されている。この回転ステージ22は、直流モータ2
4が連結されており、これを作動させることにより回転
されるようになっている。この直流モータ24には、そ
の回転角度位置0に対応したコード信号を出力するロー
クリエンコーダが内蔵されている。
On the X stage lO, the Z stage 20 moves in the Z direction +
It is attached to 1J Noh. Its transportation means are omitted in the figure. The Z stage 20 rotatably supports a rotation stage 22 on which a wafer 30 as an object to be inspected is placed. This rotation stage 22 is driven by a DC motor 2
4 are connected and can be rotated by operating them. This DC motor 24 has a built-in rotary encoder that outputs a code signal corresponding to its rotation angle position 0.

なお、ウェハ30は、回転ステージ22に負圧吸着によ
り位置決め固定されるが、そのための手段は図中省かれ
ている。
Note that the wafer 30 is positioned and fixed on the rotation stage 22 by negative pressure suction, but means for this purpose are omitted in the figure.

この異物検査装置は、偏光レーザ光を利用してウェハ3
0上の異物を自動的に検査するものであり、ウェハ30
の上面(被検査面)に、S偏光レーザ光が照射される。
This foreign matter inspection device uses polarized laser light to
This is a device that automatically inspects foreign objects on wafer 30.
The upper surface (surface to be inspected) of is irradiated with S-polarized laser light.

そのために、S偏光レーザ発振器32.34.38.3
8が設けられている。
For that purpose, an S-polarized laser oscillator 32.34.38.3
8 is provided.

1対のS偏光レーザ発振器32.34は、波長がλIの
S偏光レーザ光を発生するもので、例えば波長が830
0オングストロームの半導体レーザ発振器である。その
S偏光レーザ光は、X方向よりウェハ而に例えば2°の
照射角で照射される。
A pair of S-polarized laser oscillators 32 and 34 generate S-polarized laser light with a wavelength of λI, for example, with a wavelength of 830.
This is a 0 angstrom semiconductor laser oscillator. The S-polarized laser light is irradiated onto the wafer from the X direction at an irradiation angle of, for example, 2 degrees.

このように照射角が小さいため、円形断面のS偏光レー
ザ光のビームを照射した場合、ウェハ而におけるスポッ
トがX方向に延びてしまい、十分な照射密度を得られな
い。そこで、本実施例においては、S偏光レーザ発振器
32.34の前方にシリンドリカルレンズ40.42を
配置し、S偏光レーザ光をZ方向につぶれた扁平な断面
形状のビームにしてウェハ而に照射させ、スポット形状
を円形に近づけて照射密度を高めている。
Since the irradiation angle is thus small, when a beam of S-polarized laser light having a circular cross section is irradiated, the spot on the wafer extends in the X direction, making it impossible to obtain a sufficient irradiation density. Therefore, in this embodiment, a cylindrical lens 40.42 is placed in front of the S-polarized laser oscillator 32.34, and the S-polarized laser beam is turned into a beam with a flat cross-sectional shape collapsed in the Z direction and irradiated onto the wafer. , the spot shape is made closer to a circle to increase the irradiation density.

他方のS偏光レーザ発振器38.38は波長がλ2のS
偏光レーザ光を発生するもので、例えば波長が6330
オングストロームのHe −N eレーザ発振器である
。そのS偏光レーザ光は、シリ7ドリカルレンズ44.
48により2方向に絞られてから、Y方向より例えば2
°の照射角でウェハ而に照射される。
The other S-polarized laser oscillator 38.38 has an S polarization laser oscillator with a wavelength of λ2.
It generates polarized laser light, for example, the wavelength is 6330.
This is an Angstrom He-N e laser oscillator. The S-polarized laser beam is transmitted through a cylindrical lens 44.
48 in two directions, and then from the Y direction, for example, 2
The wafer is irradiated with an irradiation angle of °.

ウェハ而に照射されたS偏光レーザ光の反射レーザ光は
、ウェハ而が微視的に平滑ならば、はとんどS偏光成分
だけである。例えば、パターンが存在している場合、そ
れは微視的には平滑部と考えられるから、反射レーザ光
はS偏光成分だけとみなし得る。
If the wafer is microscopically smooth, the reflected laser light of the S-polarized laser light irradiated onto the wafer will contain only the S-polarized light component. For example, if a pattern exists, it is microscopically considered to be a smooth part, and therefore the reflected laser light can be considered to have only an S-polarized component.

他方、ウェハ而に質物が存在していると、異物の表面に
は一般に微小な凹凸があるため、照射されたS偏光レー
ザ光は散乱して偏光方向が変化する。その結果、反射レ
ーザ光には、S偏光成分の外に、P偏光成分がかなり含
まれることになる。
On the other hand, if a foreign material is present on the wafer, the surface of the foreign material generally has minute irregularities, so the irradiated S-polarized laser light is scattered and the polarization direction changes. As a result, the reflected laser light contains a considerable amount of P-polarized light component in addition to S-polarized light component.

このような現象に着L−I L 、反射レーザ光に含ま
れるP偏光成分のレベルに基づき、異物の有無と異物の
サイズを検出する。これが、この異物検査装置の検出原
理である。
Based on this phenomenon, the presence or absence of a foreign object and the size of the foreign object are detected based on the level of the P-polarized light component contained in the reflected laser light. This is the detection principle of this foreign object inspection device.

再び第1図を参照する。ウェハ30のS偏光レーザ光照
射領域からの反射レーザ光は、前記原理に従い異物を検
出する検出系50と、ウエノ1の目視観察のための顕微
鏡52の共通の光学系に入射する。すなわち、反射レー
ザ光は、対物レンズ54、ハーフミラ−56、プリズム
58を経由して45度プリズム60に達する。
Referring again to FIG. The reflected laser light from the S-polarized laser light irradiation area of the wafer 30 is incident on a common optical system of a detection system 50 for detecting foreign matter according to the above principle and a microscope 52 for visual observation of the wafer 1. That is, the reflected laser light reaches the 45-degree prism 60 via the objective lens 54, the half mirror 56, and the prism 58.

また、目視観察のためにランプ70が設けられている。A lamp 70 is also provided for visual observation.

このランプ70から出た可視光により、ハーフミラ−5
6および対物レンズ54を介してウェハ而が開明される
The visible light emitted from this lamp 70 causes the half mirror 5 to
6 and an objective lens 54, the wafer image is exposed.

プリズム60を経由して顕微鏡2側に入射したIII視
反対反射光60度プリズム62、フィールドレンズ64
、リレーレンズ66を順に通過して接眼レンズ68に入
射する。したがって、接眼レンズ68より、ウェハ而を
1−分大きな倍率でlit視観察することができる。こ
の場合の視!IIf内に、ウェハ而のS偏光レーザ光照
射領域が入る。
60 degree prism 62 and field lens 64
, passes through the relay lens 66 in order and enters the eyepiece lens 68. Therefore, through the eyepiece lens 68, the wafer can be observed with a 1-minute higher magnification. View in this case! The S-polarized laser beam irradiation area of the wafer falls within IIf.

また、プリズム58を通してウェハ30を低倍率で観察
することもできる。
The wafer 30 can also be observed at low magnification through the prism 58.

プリズム60を経由して検出系側に入射した反射レーザ
光は、スリット72に設けられた2つのアパーチャア4
A、74Bを通過して波長分離用のダイクロイックミラ
ー76に達し、波長λlの反射レーザ光と波長λ2の反
射レーザ光に分離される。
The reflected laser light that has entered the detection system side via the prism 60 passes through two apertures 4 provided in the slit 72.
A and 74B, it reaches the dichroic mirror 76 for wavelength separation, and is separated into a reflected laser beam with a wavelength λl and a reflected laser beam with a wavelength λ2.

分離された波長λノの反射レーザ光は、シャープカット
フィルタ78およびS偏光カットフィルタ(偏光板)8
0を通過し、そのP偏光成分だけが抽出される。抽出さ
れたP偏光レーザ光は分離ミラー82に入射し、スリッ
ト72のアパーチャア4Aを通過した部分はホトマルチ
プライヤ84Aに入射し、アパーチャア4Bを通過した
部分はホトマルチプライヤ84Bに入射する。
The separated reflected laser beam of wavelength λ is passed through a sharp cut filter 78 and an S polarization cut filter (polarizing plate) 8.
0 and only its P polarized component is extracted. The extracted P-polarized laser beam is incident on the separation mirror 82, the portion that has passed through the aperture 4A of the slit 72 is incident on the photomultiplier 84A, and the portion that has passed through the aperture 4B is incident on the photomultiplier 84B.

同様に、波長分離された波長λ2の反射レーザ光は、S
偏光カットフィルタ(偏光板)86を通され、そのP偏
光成分だけが抽出される。抽出されたP偏光レーザ光は
分離ミラー88に入射し、スリット72のアパーチャア
4A、74Bを通過パ) した部分がそれぞれホトマルチプライヤ90”A。
Similarly, the wavelength-separated reflected laser beam of wavelength λ2 is S
The light is passed through a polarization cut filter (polarizing plate) 86, and only the P polarized light component is extracted. The extracted P-polarized laser light enters the separation mirror 88, and the portions that pass through the apertures 4A and 74B of the slit 72 are photomultipliers 90''A, respectively.

90Bに入射する。90B.

各ホトマルチプライヤ84A、84B、90A。Each photomultiplier 84A, 84B, 90A.

90Bから、それぞれの入射光量に比例した値の検出信
号が出力される。後述のように、ホトマルチプライヤ8
4A、90Aの検出信号は加算され、同様に、ホトマル
チプライヤ84B、90Bの検出信号は加算される。後
述するように、この加算された信号のレベルに基づき、
S偏光レーザ光照射領域における(詳細は後述する)質
物の有無が判定され、また異物が存在する場合は、その
信けのレベルから異物の粒径が判定される。
90B outputs a detection signal having a value proportional to the amount of incident light. As described later, the photomultiplier 8
The detection signals of photomultipliers 84B and 90B are added together. As described later, based on the level of this added signal,
The presence or absence of foreign matter (details will be described later) in the S-polarized laser beam irradiation region is determined, and if foreign matter is present, the particle size of the foreign matter is determined based on the confidence level.

ここで、異物検査は、前述のようにウエノ1を回転させ
つつX方向(’t’ X方向)に送りながら行われる。
Here, the foreign matter inspection is performed while rotating the wafer 1 and feeding it in the X direction ('t' X direction) as described above.

そのようなウェハ30の移動に従い、第3図に7J<す
ように、S偏光照射領域30Aはウニ/X30の1−而
を外側より中心へ向かって螺旋状に移動する。スリット
72のアパーチャア4A、74Bの視野は、S偏光レー
ザ光照射領域30A内に位置する。すなわち、ウエノ1
而は螺旋走査される。
According to such movement of the wafer 30, the S-polarized light irradiation area 30A moves spirally from the outside toward the center of the sea urchin/X 30, as shown at 7J in FIG. The field of view of the apertures 4A and 74B of the slit 72 is located within the S-polarized laser beam irradiation area 30A. That is, Ueno 1
The object is scanned spirally.

また、スリット72のアパーチャア4A、74Bのウェ
ハ而における視野74a、74bは、第4図に示すごと
くである。この図における各寸法は、例えばl、=2X
12−αであり、各アパーチャは走査方向(O方向)と
直交する方向すなわちX方向にαたけ重なっている。そ
して、11はウェハのX方向つまり半径方向への送りピ
ッチより大きい。したがって、ウェハ而は一部重複して
走査されることになる。
Further, the fields of view 74a and 74b of the apertures 4A and 74B of the slit 72 on the wafer are as shown in FIG. Each dimension in this figure is, for example, l, = 2X
12-α, and each aperture overlaps by α in a direction perpendicular to the scanning direction (O direction), that is, in the X direction. Further, 11 is larger than the feeding pitch of the wafer in the X direction, that is, in the radial direction. Therefore, the wafer will be scanned partially overlappingly.

このように、スリット72のアパーチャを2つに分け、
それぞれの視野をX方向にずらせた理由は、次の通りで
ある。
In this way, the aperture of the slit 72 is divided into two,
The reason why each field of view is shifted in the X direction is as follows.

前記ホトマルチプライヤから出力される信号には、異物
に関係した信シ3・成分の外に、被検脊面の状態によっ
て決まるバックグラウンドノイズも含まれている。その
信号のS/Nを1−げ、微小な異物の検出を可能とする
ためには、スリットのアパーチャを小さくする必dがあ
る。しかし、アパーチャが1つの場合、アパーチャが小
さいと、走査線ピッチ(X方向への送りピッチ)を小さ
くしなければならず、被検査面全体を走査するための時
間が増加する。そこで、本実施例においては、l)’1
述のように、アパーチャを2つ(一般的には複数個)設
け、それぞれの視野をX方向にずらして総合視野をX方
向に拡げることにより、アパーチャを十分小さくした場
合における検査時間の短縮を図っている。
The signal output from the photomultiplier includes, in addition to the signal component related to the foreign object, background noise determined by the condition of the spinal surface to be examined. In order to increase the signal-to-noise ratio of the signal and make it possible to detect minute foreign objects, it is necessary to reduce the aperture of the slit. However, when there is only one aperture, if the aperture is small, the scanning line pitch (feeding pitch in the X direction) must be made small, which increases the time required to scan the entire surface to be inspected. Therefore, in this embodiment, l)'1
As mentioned above, by providing two apertures (generally more than one aperture) and shifting the field of view of each in the X direction to expand the overall field of view in the X direction, the inspection time can be shortened when the aperture is made sufficiently small. I'm trying.

尚、異物の異方性による検出誤差をなくす為、後述のよ
うに、異なる方向から116射した散乱光を検出してい
る各ホトマルチプライヤの出力信号を加算するようにし
ている。
In order to eliminate detection errors due to the anisotropy of foreign objects, the output signals of each photomultiplier that detects 116 scattered lights emitted from different directions are added, as will be described later.

次に、この異物検査装置の信号処理制御系について、第
2図を参照して説明する。
Next, the signal processing control system of this foreign matter inspection apparatus will be explained with reference to FIG.

前記ホトマルチプライヤ84A、90Aの出力信号は加
算増幅器100により加算増幅され、レベル比較回路1
02に入力される。同様に、ホトマルチプライヤ84B
、90Bの出力信号は増幅器104により加算増幅され
、レベル比較回路106に入力される。
The output signals of the photomultipliers 84A and 90A are summed and amplified by a summing amplifier 100, and then sent to a level comparison circuit 1.
02 is input. Similarly, photomultiplier 84B
, 90B are summed and amplified by an amplifier 104 and input to a level comparison circuit 106.

ここで、ウェハ上の異物の粒径と、ホトマルチプライヤ
84.90の出力信号レベルとの間には、第5図に示す
ような関係がある。この図において、Lt + L21
 Laはレベル比較回路102,106の閾値である。
Here, there is a relationship as shown in FIG. 5 between the particle size of the foreign matter on the wafer and the output signal level of the photomultiplier 84, 90. In this figure, Lt + L21
La is a threshold value of the level comparison circuits 102 and 106.

レベル比較回路102,108は、それぞれの入力信号
のレベルを各閾値と比較し、その比較結果に応じた論理
レベルの閾値対応の出力信号を送出する。すなわち、閾
値Ll、L2.LJに対応する出力信号Ot + 02
v OJの論理レベルは、その閾値以−上のレベルの信
号が入力した場合に“1°゛となり、大カイ5号レベル
が閾値未満のときに°“0°゛となる。したがって、例
えば、入力信号レベルが閾(lI′fL1未満ならば、
出力信号はすべてパ0”となり、大力イムリレベルが閾
値L2以1−で閾値L3未満ならば、出力信y)・はO
lと02が“1”、03が“0”となる。
The level comparison circuits 102 and 108 compare the level of each input signal with each threshold value, and send out an output signal corresponding to the logic level threshold value according to the comparison result. That is, the threshold values Ll, L2 . Output signal Ot + 02 corresponding to LJ
The logic level of vOJ becomes "1" when a signal with a level higher than the threshold is input, and becomes "0" when the Daikai No. 5 level is less than the threshold. Therefore, for example, if the input signal level is less than the threshold (lI'fL1,
All the output signals become 0'', and if the large power immediate level is 1- or more than the threshold L2 and less than the threshold L3, the output signal y) is O.
l and 02 become "1", and 03 becomes "0".

このように、出力信号o、、o2.o3は、入力信号の
レベル比較結果を示す2進コードである。
In this way, the output signals o, , o2 . o3 is a binary code indicating the result of level comparison of input signals.

レベル比較回路102.toeの出力信号は対応する信
号同士がワイアードオアされ、コードL(0,を最下位
ビットとした2進コード)として、データ処理システム
118のインターフェイス回路108に入力される。こ
のインターフェイス回路108には、前記ロータリエン
コーダおよびリニアエンコーダから、各時点における回
転角度位置0およびX方向(半径方向)位置Xの情報を
示す信号(2進コード)も、バッファ回路11O911
2を介し入力される。これらの入力コードは、−・定の
周期でインターフェイス回路108内部のあるレジスタ
に取り込まれ、そこに一時的に保持される。
Level comparison circuit 102. Corresponding signals of the toe output signals are wired-ORed and input as code L (binary code with 0 as the least significant bit) to the interface circuit 108 of the data processing system 118. This interface circuit 108 also receives a signal (binary code) indicating information about the rotation angle position 0 and the X direction (radial direction) position X at each time point from the rotary encoder and the linear encoder.
2. These input codes are taken into a certain register inside the interface circuit 108 at regular intervals and are temporarily held there.

また、インターフェイス回路10gの内部・には、処理
制御系よりステッピングモータ14、tdmモ−タ24
の制御情報がセットされるレジスタもある。このレジス
タにセットされた制御情報に従い、モータコントローラ
118によりステッピングモータ14、直流モータ24
の駆動制御が行われる。
Also, inside the interface circuit 10g, a stepping motor 14 and a TDM motor 24 are installed from the processing control system.
There are also registers in which control information is set. According to the control information set in this register, the motor controller 118 controls the stepping motor 14 and the DC motor 24.
drive control is performed.

データ処理システム118は、マイクロプロセッサ12
0.ROM122、RAM l 24、フロッピーディ
スク装置12B、X−Yプロッタ127、CRTディス
プレイ装置128、キーボード130などからなる。1
32はシステムバスであり、マイクロプロセッサ120
、ROM122、RAM124、前記インターフェイス
回路108が直接的に接続されている。
Data processing system 118 includes microprocessor 12
0. It consists of a ROM 122, a RAM 1 24, a floppy disk device 12B, an X-Y plotter 127, a CRT display device 128, a keyboard 130, and the like. 1
32 is a system bus, and a microprocessor 120
, ROM 122, RAM 124, and the interface circuit 108 are directly connected.

キーボード130は、オペレータが各種指令やデータを
入力するためのもので、インターフェイス回路134を
介してシステムバス132に接続されている。フロッピ
ーディスク装置126は、オペレーティングシステムや
各種処理プログラム、検査結果データなどを格納するも
のであり、フロッピーディスクコントローラ136を介
しシステムバス132に接続されている。
The keyboard 130 is used by an operator to input various commands and data, and is connected to the system bus 132 via an interface circuit 134. The floppy disk device 126 stores an operating system, various processing programs, test result data, etc., and is connected to the system bus 132 via a floppy disk controller 136.

この質物検査装置が起動されると、オペレーティングシ
ステムがフロッピーディスク装置12BからRAM12
4のシステム領域124Aヘロードされる。その後、フ
ロッピーディスク装置126に格納されている各種処理
プログラムのうち、必要な1つ以りの処理プログラムが
RAM 124のプログラム領域124Bヘロードされ
、マイクロプロセッサ120により実行される。処理途
中のデータなどはRAM124の作業領域に一時的に記
憶される。処理結果データは、最終的にフロッピーディ
スク装置126へ転送され格納される。
When this material inspection device is started, the operating system is transferred from the floppy disk device 12B to the RAM 12.
4 is loaded into the system area 124A. Thereafter, one or more necessary processing programs among the various processing programs stored in the floppy disk device 126 are loaded into the program area 124B of the RAM 124 and executed by the microprocessor 120. Data that is being processed is temporarily stored in the work area of the RAM 124. The processing result data is finally transferred to and stored in the floppy disk device 126.

ROM122には、文字、数字、記号などのドツトパタ
ーンが格納されている。
The ROM 122 stores dot patterns such as letters, numbers, and symbols.

CRTディスプレイ装置128は、オペレータとの対話
のための各種メツセージの表示、異物マツプやその他の
データの表示などに利用されるものであり、その表示デ
ータはビデオRAM138にビットマツプ展開される。
The CRT display device 128 is used to display various messages for interaction with the operator, a foreign object map, and other data, and the display data is expanded into a bit map in the video RAM 138.

140はビデオコントローラであり、ビデオRAM13
8の書込み、読出しなどの制御の外に、ドツトパターン
に応じたビデオ信ジノ・の発生、カーソルパターンの発
生などを行う。このビデオコントローラ140はインタ
ーフェイス回路142を介してシステムバス132に接
続されている。カーソルのアドレスを制御するためのカ
ーソルアドレスポインタ140Aがビデオコントローラ
140に設けられているが、このポインタはキーボード
130からのカーソル;bす列信号に従いインクリメン
トまたはデクリメントされ、またマイクロプロセッサ1
20によりアクセス可能である。
140 is a video controller, and the video RAM 13
In addition to controlling the writing and reading operations of 8, it also generates video signals according to dot patterns, generates cursor patterns, etc. The video controller 140 is connected to the system bus 132 via an interface circuit 142. A cursor address pointer 140A for controlling the address of the cursor is provided in the video controller 140, and this pointer is incremented or decremented according to the cursor column signal from the keyboard 130, and
20.

X−Yプロッタ127は異物マツプなどの印刷出力に使
用されるものであり、プロッタコントローラ137を介
してシステムバス132に接続すれている。
The X-Y plotter 127 is used to print out foreign matter maps and the like, and is connected to the system bus 132 via a plotter controller 137.

次に、兇物面上処理について、第6図のフローチャート
を参!t(l Lながら説明する。ここでは、異物の自
動検査、11視観察、印刷などのジョブをオペレータが
指定する型式としているが、これは飽くまで一例である
Next, please refer to the flowchart in Figure 6 for processing on the object surface! t(l This will be explained while referring to L. Here, jobs such as automatic foreign object inspection, 11-view observation, and printing are specified by the operator, but this is just an example.

回転ステージ22の所定位置にウェハ30をセットした
1大態で、4オペレータがキーボード130より検査開
始を指令すると、検査処理プログラムがフロッピーディ
スク装置126からRAM124のプログラム領域12
4Bヘロードされ、走り始める。
With the wafer 30 set at a predetermined position on the rotary stage 22, when four operators command the start of inspection from the keyboard 130, the inspection processing program is transferred from the floppy disk device 126 to the program area 12 of the RAM 124.
Loaded to 4B and started running.

まず、マイクロプロセッサ120は、初期化処理を行う
。具体的には、XステージlOおよび回転ステージ22
を初期位置に位置決めさせるためのモータ制御情報がイ
ンターフェイス回路108の内部レジスタにセットされ
る。このモータ制御情報に従い、モータコントローラ1
16がステ、ンピングモータ14、直流モータ24を制
御し、各ステージを初期位置に移動させる。また、マイ
クロプロセッサ120は、後述のテーブル、カウンタ、
検査データのバッファなどのための記憶領域(第2図参
照)をRAM124J−に確保する(それらの記憶領域
はクリアされる)。
First, the microprocessor 120 performs initialization processing. Specifically, the X stage lO and the rotation stage 22
Motor control information for positioning the motor to the initial position is set in an internal register of the interface circuit 108. According to this motor control information, motor controller 1
16 controls the steering wheel, pumping motor 14, and DC motor 24 to move each stage to its initial position. The microprocessor 120 also operates tables, counters, etc., which will be described later.
Storage areas (see FIG. 2) for test data buffers, etc. are secured in the RAM 124J- (those storage areas are cleared).

上記テーブル(テーブル領域124Dに作成される)の
概念図を第7図に示す。このテーブル150の各エント
リは、異物の番号(検出された順番)、異物の位置(検
出された走査位置X、0)、その種類ないし性質(1−
1視観察によって調べられる)、およびサイズの各情報
から構成されている。
A conceptual diagram of the above table (created in the table area 124D) is shown in FIG. Each entry in this table 150 includes the number of the foreign object (the order in which it was detected), the position of the foreign object (detected scanning position X, 0), and its type or property (1-
(investigated by one-view observation), and size information.

前記初期化の後に、ジョブメニューがCRTディスプレ
イ装置128に表示され、オペレータからのジョブ指定
を待つ状態になる。
After the initialization, a job menu is displayed on the CRT display device 128, and the system waits for job designation from the operator.

「自動検査」のジョブが指定された場合の処理の流れを
、第6図(A)のフローチャートを参照して説明する。
The flow of processing when an "automatic inspection" job is designated will be described with reference to the flowchart in FIG. 6(A).

自動検査のコードがキーボード130を通じてマイクロ
プロセッサ120に入力されると、マイクロプロセッサ
120は、自動検査処理を開始する。まず、マイクロプ
ロセッサ120は、インターフェイス回路108を通じ
、モータコントローラ116に対し走査開始を指示する
(ステップ210)。この指示を受けたモータコントロ
ーラ116は、前述のような螺旋走査を一定速度で杼わ
せるように、ステッピングモータ14、直流モータ24
を駆動する。
When the autotest code is entered into microprocessor 120 through keyboard 130, microprocessor 120 begins the autotest process. First, the microprocessor 120 instructs the motor controller 116 to start scanning through the interface circuit 108 (step 210). Upon receiving this instruction, the motor controller 116 controls the stepping motor 14 and the DC motor 24 so as to carry out the spiral scanning at a constant speed as described above.
to drive.

マイクロプロセッサ120は、インターフェイス回路l
O8の特定の内部レジスタの内容、すなわち、ウェハ3
0の走査位置X+(7のコードと、レベル比較回路10
2,106によるレベル比較結果であるコードLとから
なる入力データを取り込み、RAM124.上の大力バ
ッフy124cに書き込む(ステップ215)。
The microprocessor 120 includes an interface circuit l
The contents of certain internal registers of O8, i.e. wafer 3
0 scanning position X+ (7 code and level comparison circuit 10
The input data consisting of code L, which is the result of the level comparison by 2. The data is written to the upper power buffer y124c (step 215).

マイクロプロセッサ120は、取り込んだ走査位置情報
を走査綿1泣置の位置情報と比較することにより、走査
の終了判定を行う(ステップ220)。
The microprocessor 120 compares the captured scanning position information with the position information of the position of the scanning cotton 1 to determine the end of scanning (step 220).

この判定の結果がNo(走査途中)ならば、マイクロプ
ロセッサ120は、取り込んだコードLのゼロ判定を行
う(ステップ225)。L二000ならば、その走査位
置には異物が存在しない。
If the result of this determination is No (scanning is in progress), the microprocessor 120 determines that the loaded code L is zero (step 225). If L2000, no foreign matter exists at that scanning position.

L≠000ならば、異物が存在する。If L≠000, foreign matter exists.

ステップ225の判定結果がYESならばステップ21
5に戻る。ステップ225の判定結果がNoならば、マ
イクロプロセッサ120は、取り込んだ位置情報(X、
O)と、テーブル150に記憶されている既検出の他の
異物の位置情報(X。
If the determination result in step 225 is YES, step 21
Return to 5. If the determination result in step 225 is No, the microprocessor 120 stores the acquired position information (X,
O) and position information of other detected foreign objects stored in the table 150 (X.

0)とを比較する(ステップ230)。0) (step 230).

位置情報の・致がとれた場合、現在の異物は他の異物と
同一とみなせるので、ステ、ノブ215に戻る。
If the position information is correct, the current foreign object can be considered to be the same as another foreign object, so the process returns to step 215.

位置情報の比較が不一致の場合、新しい異物が検出され
たとみなせる。そこで、マイクロプロセッサ120は、
RAM124上に確保された領域124Eであるカウン
タNを1だけインクリメントする(ステップ235)。
If the location information does not match, it can be assumed that a new foreign object has been detected. Therefore, the microprocessor 120
A counter N, which is an area 124E secured on the RAM 124, is incremented by 1 (step 235).

そして、テーブル150のN番目のエントリに、当該異
物の位置情報(X、  0)およびコードL(サイズ情
報として)を14き込む(ステップ240)。
Then, the position information (X, 0) of the foreign object and the code L (as size information) are entered into the Nth entry of the table 150 (step 240).

ウェハ30の走査が終了するまで、同様の処理が繰り返
し実行される。
Similar processing is repeated until the scanning of the wafer 30 is completed.

ステップ220で走査終了と判定されると、マスタ12
0は、インターフェイス回路108を通じて、モータコ
ントローラ11Bに対し走査停止1゜指示を送る(ステ
ップ250)。この指示に応答して、モータコントロー
ラtteはステッピングモータ14、直流モータ24の
駆動を停止する。
When it is determined in step 220 that scanning has ended, the master 12
0 sends a 1° scan stop instruction to the motor controller 11B through the interface circuit 108 (step 250). In response to this instruction, the motor controller tte stops driving the stepping motor 14 and the DC motor 24.

次にマイクロプロセッサ120は、テーブル150を参
照し、コードLが12の異物の合−l数TL1%コード
Lが32の異物の合計数TL2、コードLが72の異物
の合計数TLaを計算し、その異物合計数データを、R
AM124上の特定領域124F、124G、124H
に謹iき込む(ステップ251)。そして、テーブル1
50の記憶内容および異物合計データを、ウェハ番号を
付加してフロッピーディスク装置12Bへ転送し、格納
させる(ステップ252)。
Next, the microprocessor 120 refers to the table 150 and calculates the total number of foreign substances with a code L of 12 - l number TL1%, the total number of foreign substances with a code L of 32 TL2, and the total number of foreign substances with a code L of 72 TLa. , the total number of foreign objects data, R
Specific areas 124F, 124G, 124H on AM124
(step 251). And table 1
The stored contents of 50 and the foreign matter total data are transferred to the floppy disk device 12B with a wafer number added thereto and stored therein (step 252).

これで、自動検査のジョブが終1’L、CRTディスプ
レイ装置128の画面にジョブメニューが表示される。
This completes the automatic inspection job 1'L, and a job menu is displayed on the screen of the CRT display device 128.

つぎに「目視観察」の処理の流れを、第6図(B)ない
し第811 (E)のフローチャートにより説明する。
Next, the flow of the "visual observation" process will be explained using flowcharts shown in FIGS. 6(B) to 811(E).

目視検査としては、観察対象の異物の指定方式の違いに
より、順次モード、番号指定モード、およびカーソル指
定モードがあり、キーボード130より指定できる。
The visual inspection includes a sequential mode, a number specification mode, and a cursor specification mode, depending on the method of specifying the foreign object to be observed, and can be specified using the keyboard 130.

目視観察のジョブおよびモードが指定されると、マイク
ロプロセッサ120は、ウエノ1の輪郭画像のドツトパ
ターンデータをフロ、ツピーディスク装置12Bよりビ
デオRAM138へI)MA転送させる(ステップ28
5)。この転送の起動制御はマイクロプロセッサ120
により行われるが、その後の転送制御はビデオコントロ
ーラ140およびフロンピーディスクコントローラ13
6によって行われる。ビデオRAM138のドア)パタ
ーンデータは、ビデオコントローラ140により順次読
み出されビデオ信号に変換されてCRTディスプレイ装
置128に送られ、表示される。
When the job and mode of visual observation are specified, the microprocessor 120 causes the dot pattern data of the outline image of the wafer 1 to be transferred from the flow disk device 12B to the video RAM 138 (step 28).
5). The activation control of this transfer is performed by the microprocessor 120.
However, subsequent transfer control is performed by the video controller 140 and the floppy disk controller 13.
6. The door) pattern data in the video RAM 138 is sequentially read out by the video controller 140, converted into a video signal, and sent to the CRT display device 128 for display.

つぎにマイクロプロセッサ120は、観察対象のウェハ
の番号(ジョブ選択時にキーボード130より入力され
る)が付加されてフロッピーディスク装置126に格納
されているテーブル150の記憶内容と異物合計数デー
タを読み込み、RAM124の対応する領域に8き込む
(ステップ290)。
Next, the microprocessor 120 reads the stored contents of the table 150 stored in the floppy disk device 126 and the total number of foreign objects data, with the number of the wafer to be observed (entered from the keyboard 130 when selecting a job) added, and 8 is written into the corresponding area of the RAM 124 (step 290).

マイクロプロセッサ120は、RAM124上のテーブ
ル150から、各異物の位置情報とサイズ情報(Lコー
ド)を順次読み出し、Lコードに対応したドツトパター
ンデータをROM122から読み出し、位置情報に対応
したビデオRAM138のアドレス情報とともにビデオ
コントローラ140へ転送し、ビデオRAM138に書
き込ませる(ステップ295)。この処理により、テー
ブル150に記憶されている異物のマツプがCRTディ
スプレイ装置128の画面に表示される。
The microprocessor 120 sequentially reads the position information and size information (L code) of each foreign object from the table 150 on the RAM 124, reads the dot pattern data corresponding to the L code from the ROM 122, and sets the address of the video RAM 138 corresponding to the position information. It is transferred along with the information to the video controller 140 and written into the video RAM 138 (step 295). Through this process, the foreign object map stored in the table 150 is displayed on the screen of the CRT display device 128.

つぎにマイクロプロセッサ120は、インターフェイス
回路108を介して、モータコントローラ11Bに走査
位置の初期位置への位置決めを指示する(ステップ30
0)。以下、指定モードにより処理が異なる。
Next, the microprocessor 120 instructs the motor controller 11B to position the scanning position to the initial position via the interface circuit 108 (step 30
0). The following processing differs depending on the specified mode.

順次モードが指定された場合、マイクロプロセッサ12
0は、カウンタM(RAM124の領域124J)に1
をセットしくステップ320)、テーブル150のM番
目のエントリに格納されている異物(M番1」に検出さ
れた異物)のデータを読み出す(ステップ325)。そ
して、その位置情報(X +  θ)に対応した位置に
走査位置を移動させるための制御情報を、インターフェ
イス回路108を介してモータコントローラ116へt
j、える(ステップ330)。モータコントローラ11
6によりステッピングモータ14、直流モータ24が制
御され、走査位置の位置決めがなされれば、当然、その
光学顕微鏡52の視野の中心に、注目しているM番[I
の異物が位置する。
If sequential mode is specified, the microprocessor 12
0 is 1 in counter M (area 124J of RAM 124)
is set (step 320), and the data of the foreign object (the foreign object detected at M number 1) stored in the M-th entry of the table 150 is read (step 325). Then, control information for moving the scanning position to a position corresponding to the position information (X + θ) is sent to the motor controller 116 via the interface circuit 108.
j, er (step 330). Motor controller 11
6 controls the stepping motor 14 and the DC motor 24, and when the scanning position is determined, the M number [I
foreign body is located.

マイクロプロセッサ120は、M番目の異物のしコード
に対応する異物パターンと、P番目(PはRAM124
の領域124にカウンタPの値)の異物のしコードに対
応する異物パターンをROM122から読み出し、P番
目の異物のパターンはそのまま、M番目の異物のパター
ンは反転して、アドレス情報とともにビデオコントロー
ラ140へ順次転送し、それらのパターンをビデオRA
Mの該当アドレスに計き込ませる(ステップ335)。
The microprocessor 120 generates a foreign object pattern corresponding to the Mth foreign object code and a Pth foreign object pattern (P is the RAM 124
The foreign object pattern corresponding to the foreign object code (the value of the counter P) is read out from the ROM 122 in the area 124, and the P-th foreign object pattern is left as it is, the M-th foreign object pattern is inverted, and the foreign object pattern is sent to the video controller 140 along with the address information. sequentially transfer those patterns to the video RA
The corresponding address of M is calculated (step 335).

これで、CRTディスプレイ装置128の画面に表示さ
れている異物マツプ上のM番目」の異物だけは、反転パ
ターンとして表示されることになり、他の異物と視覚的
に区別される。
Now, only the Mth foreign object on the foreign object map displayed on the screen of the CRT display device 128 is displayed as an inverted pattern, and is visually distinguished from other foreign objects.

マイクロプロセッサ120は、インターフェイス回路1
08を介して位置情報を順次取り込み、M番目の異物の
位置情報と比較し、位置決めの完了を判定する(ステッ
プ340)。位置決めが完了すると、マイクロプロセッ
サ120は、観察可能の旨のメツセージをビデオRAM
138に転送し、CRTディスプレイ装置128の画面
に表示させる(ステップ345)。そして、キー入力を
待つ(ステップ350)。
The microprocessor 120 includes an interface circuit 1
The positional information is sequentially taken in through 08 and compared with the positional information of the Mth foreign object to determine whether positioning is complete (step 340). Once the positioning is complete, the microprocessor 120 sends a message to the video RAM that it can be viewed.
138 and displayed on the screen of the CRT display device 128 (step 345). Then, it waits for a key input (step 350).

オペレータは、異物の目視観察を行い、その異物の性質
ないし種類を識別し、その性質ないし種類のコードをキ
ーボード130より入力する。実際的には、目視観察ジ
ョブを指定することにより、CRTディスプレイ装置1
28の画面に、異物の性質ないし種類と番号の表が表示
されており、その表の該当する番号を入力する。
The operator visually observes the foreign object, identifies the nature or type of the foreign object, and inputs a code for the nature or type from the keyboard 130. In practice, by specifying a visual observation job, the CRT display device 1
A table of properties or types of foreign objects and numbers is displayed on the screen 28, and the corresponding number from the table is input.

マイクロプロセッサ120は、入力コードが異物の性質
ないし種類のコードならば(ステップ352)、そのコ
ードをテーブル150のM番目のエントリに書き込む(
ステップ355)。ただし、入力コードがタブなどの他
のコードの場合は、ステップ355はスキップされる。
If the input code is a code for the nature or type of foreign object (step 352), microprocessor 120 writes that code into the Mth entry of table 150 (step 352).
step 355). However, if the input code is another code such as a tab, step 355 is skipped.

つぎに、マイクロプロセッサ120は、カウンタM、P
を1だけインクリメントしくステップ360)、カウン
タMとカウンタN(この値は検出された異物の総合計数
になっている)との比較判定を行う(ステップ365)
。そして、MくNならばステップ325へ戻る。
Next, the microprocessor 120 operates counters M, P
is incremented by 1 (step 360), and a comparison is made between counter M and counter N (this value is the total number of detected foreign objects) (step 365).
. If M is N, the process returns to step 325.

また、M≧Nならば、RAM138にのテーブル150
の記憶内容と異物合計数データを、ウェハ番号とともに
フロッピーディスク装置126へ転送しくステップ37
0) 、ジョブメニュー画面状態に戻る。
Also, if M≧N, table 150 in RAM 138
In step 37, the memory contents and the total number of foreign particles are transferred to the floppy disk device 126 along with the wafer number.
0), return to the job menu screen state.

このように、順次モードにおいては、観察すべき異物は
、検出順に自動的に指定される。
In this way, in the sequential mode, foreign objects to be observed are automatically designated in the order of detection.

一方 a >j、指定モードが指定された場合、マイク
ロプロセッサ120はオペレータからの異物番号・の入
力を待つ(ステップ410)。キー入力がなされると、
その入力コードが異物番号であるか判定する(ステップ
415)。異物番号でなければ、キー入力を待つ。
On the other hand, if a>j and the designation mode is designated, the microprocessor 120 waits for the operator to input a foreign object number (step 410). When a keystroke is made,
It is determined whether the input code is a foreign object number (step 415). If it is not a foreign object number, wait for key input.

異物番号がキー入力されると、マイクロプロセッサ12
0は、その異物番号をカウンタMにセットしくステップ
420)、ステップ325へ進む。
When the foreign object number is keyed in, the microprocessor 12
0, the foreign object number is set in the counter M (step 420), and the process proceeds to step 325.

その後、ステップ357でカウンタMの値がカウンタP
にセットされ、次のステップ400において、現在のモ
ードが番号指定モードかカーソル指定モードであるかの
判定が行われる。ここでは、番号指定モードであるから
、ステップ410へ戻る。
Thereafter, in step 357, the value of the counter M is changed to the value of the counter P.
In the next step 400, it is determined whether the current mode is a number designation mode or a cursor designation mode. Since the mode is number designation mode here, the process returns to step 410.

以下同様にして、異物番号をキー入力することにより、
指定した異物が顕微鏡52の視野のほぼ中心に自動的に
位置決めされ、目視観察がなされ、目視観察の結果がテ
ーブル150の該当のエントリに書き込まれる。
In the same way, by key-inputting the foreign object number,
The designated foreign object is automatically positioned approximately at the center of the field of view of the microscope 52, visually observed, and the result of the visual observation is written into the corresponding entry in the table 150.

このように、このモードでは、異物番号をキー入力する
ことにより、観察対象の異物を指定する。
Thus, in this mode, the foreign object to be observed is specified by key-inputting the foreign object number.

なお、フローチャートには示されていないが、任意の時
点でキーボード130の終了キーを入力すれば、番号指
定モードが終了し、ステップ370の処理の後、ン3ブ
メニュー画面の状態に戻る。
Although not shown in the flowchart, if the end key of the keyboard 130 is input at any time, the number designation mode ends, and after the process of step 370, the screen returns to the three-b menu screen.

カーソル指定モードについて説明する。カーソル指定モ
ードにおいては、オペレータは、キーボード130に設
けられているカーソル操作キーを操作することにより、
カーソル制御信吋を通じてカーソルアドレスポインタ1
40Aを更新し、CRTディスプレイ装置128の画面
に表示されているカーソルを、同じく画面に表示されて
いる目的の異物の位置に移動させ、キーボード130の
カーソル読込みキーを押ドすることにより、観察すべき
異物を指定する。
The cursor specification mode will be explained. In the cursor specification mode, the operator operates the cursor operation keys provided on the keyboard 130 to
Cursor address pointer 1 through cursor control signal
40A, move the cursor displayed on the screen of the CRT display device 128 to the position of the target foreign object also displayed on the screen, and press the cursor read key on the keyboard 130 to make the observation. Specify the foreign object that should be removed.

このモードになると、マイクロプロセッサ120はキー
入力を待ち(ステップ430)、キー入力がなされると
、カーソル読込みキーのコードであるか判定する(ステ
ップ435)。判定結果がNOならば、キー入力待ちに
なる。
In this mode, the microprocessor 120 waits for a key input (step 430), and when a key input is made, it determines whether it is a code for a cursor read key (step 435). If the determination result is NO, the process waits for key input.

判定結果がYESであると、マイクロプロセJす120
は、カーソルアドレスポインタ140Aの内容(カーソ
ルアドレス)を読み取る(ステップ440)。そして、
そのカーソルアドレスを対応する走査位置、つまり異物
位置に変換する(ステ、プ445)。
If the judgment result is YES, the microprocessor 120
reads the contents (cursor address) of the cursor address pointer 140A (step 440). and,
The cursor address is converted into the corresponding scanning position, that is, the foreign object position (step 445).

次に、テーブル150をサーチし、求めた異物位置とテ
ーブル150に格納されている各異物の位置と比較を行
い、最も近い異物を検索しくステップ450)、その異
物の番号をカウンタMにセットする(ステップ455)
。そして、ステップ325へ進む。
Next, the table 150 is searched, the obtained foreign object position is compared with the position of each foreign object stored in the table 150, the nearest foreign object is searched (step 450), and the number of the foreign object is set in the counter M. (Step 455)
. Then, the process advances to step 325.

このようにして、カーソルで指定された異物が自動的に
顕微鏡の視野に位置決めされ、その観察結果がテーブル
150の該当するエントリに8き込まれる。
In this way, the foreign object designated by the cursor is automatically positioned in the field of view of the microscope, and the observation result is entered into the corresponding entry in the table 150.

なお、図示されていないが、キーボード130の終了キ
ーを押丁すれば、ステップ370に分岐し、その終r後
に:)ヨブ選択画面の状態になる。
Although not shown, if the end key of the keyboard 130 is pressed, the process branches to step 370, and after the end of step 370, the job selection screen is displayed.

以十、説明したように、目視観察によって、目視観察の
結果と自動検査の結果とが統合されたテーブルが得られ
る。
As explained above, by visual observation, a table is obtained in which the results of visual observation and the results of automatic inspection are integrated.

なお、目視観察において、観察中の異物がCRTディス
プレイ装置128に画面表示されている異物マツプ1−
に、反転パターンとして表示されるため、オペレータ(
観察者)は、観察中の異物を質物マ、ブ1−で容易に確
認できる。
Note that during visual observation, the foreign object being observed is displayed on the CRT display device 128 on the foreign object map 1-
, the operator (
The observer) can easily confirm the foreign object being observed using the object marker or button.

ジョブ選択画面の状態において、「印刷」を指定すれば
、検査結果をX−Yプロッタ127より印刷出力させる
ことができる。
If "print" is specified on the job selection screen, the test results can be printed out from the X-Y plotter 127.

印刷が指定されると、第6図(F)に示されるように、
マイクロプロセッサ120は、ウェハ輪郭画像データを
フロッピーディスク装置126より読み出し、それをプ
ロッタコントローラへ転送する(ステップ465)。
When printing is specified, as shown in FIG. 6(F),
Microprocessor 120 reads wafer contour image data from floppy disk device 126 and transfers it to the plotter controller (step 465).

つぎにマイクロプロセッサ120は、印刷対象のウェハ
の番号(ジョブ選択時にキーボード130より入力され
る)が付加されてフロッピーディスク装置126に格納
されているテーブル150の記憶内容と質物合計数デー
タを順次読み出し、プロッタコントローラ137へ転送
する(ステップ470)。
Next, the microprocessor 120 sequentially reads out the stored contents of the table 150 stored in the floppy disk drive 126 and the total number of materials, to which the number of the wafer to be printed (input from the keyboard 130 when selecting a job) is added. , is transferred to the plotter controller 137 (step 470).

かくして、異物マツプ、テーブルの内容(表)、異物合
計数データ、ウェハ番号がX−Yプロッタ127により
印刷される。
In this way, the foreign matter map, the table contents (table), the total number of foreign matter data, and the wafer number are printed by the X-Y plotter 127.

印刷が終了すると、ジョブ選択画面の状態に戻る。When printing is completed, the screen returns to the job selection screen.

以−1−1この発明の−・実施例について説明したが、
この発明はそれだけに限定されるものではなく、適宜変
形して実施し得るものである。
Below-1-1 Examples of this invention have been described,
This invention is not limited to this, but can be implemented with appropriate modifications.

例えば、検出系の走査位置が常に顕微鏡の視野に入るよ
うになっている2隻は必ずしもなく、走査位置と視野と
が一定の位置関係を維持できればよい。但し、前記実施
例のようにすれば、目視観察中の異物の識別などの処理
が容易である。
For example, there are not necessarily two vessels in which the scanning position of the detection system is always within the field of view of the microscope, and it is sufficient that the scanning position and the field of view can maintain a constant positional relationship. However, if the above embodiment is adopted, processing such as identification of foreign objects during visual observation is easy.

前記ホトマルチプライヤの代わりに、他の適当な光電素
子を用い得る。
Instead of the photomultiplier, other suitable photoelectric elements can be used.

走査は螺旋走査に限らず、例えば直線走査としてもよい
。但し、直線走査は走査端で停屯するため、走査時間が
増加する傾向があり、また、ウェハのような円形などの
被検脊面を走査する場合、走査端の位置制御が複雑にな
る傾向がある。したがって、ウェハなどの異物検査の場
合、螺旋走査が一般に有利である。
The scanning is not limited to spiral scanning, but may be linear scanning, for example. However, since linear scanning stops at the scanning edge, the scanning time tends to increase, and when scanning a circular spinal surface such as a wafer, position control at the scanning edge tends to become complicated. There is. Therefore, for foreign object inspection, such as wafers, helical scanning is generally advantageous.

スリットのアパーチャは1個、または3個以−[−にす
ることもできる。
The slit may have one aperture, or three or more apertures.

また、この発明は、ウェハ以外の被検脊面の異物検査装
置にも同様に適用し得ることは勿論である。また、偏光
レーザ光以外の光ビームを利用する同様な異物検査装置
にも、この発明は適用可能である。
Furthermore, it goes without saying that the present invention can be similarly applied to an apparatus for inspecting foreign body surfaces other than wafers. Further, the present invention is also applicable to similar foreign matter inspection apparatuses that utilize light beams other than polarized laser light.

[発明の効果コ 以−1−説明したように、この発明によれば、光ビーム
を照射された被検脊面からの反射光に基づき、前記被検
査面上の異物を自動的に検出できるとともに、前記−被
検脊面を顕微鏡により]」視観察できる構成の異物検査
装置において、前記反射光に基づき検出された異物の少
なくとも位置の情報を各異物と対応させてメモリ」二の
テーブルに記憶させる手段と、前記反射光に基づき検出
された任意の異物を指定する手段と、その指定された異
物の目視観察結果の情報を入力する手段と、入力された
異物のL1視結果の情報をその異物と対応させて前記テ
ーブルに書き込む手段と、前記テーブルの記憶内容を出
力するL段とが備えられる。
[Effects of the Invention (1) As explained above, according to the present invention, it is possible to automatically detect a foreign object on the examined spinal surface based on the reflected light from the examined spinal surface irradiated with a light beam. At the same time, in the foreign body inspection device configured to allow visual observation of the spinal surface to be examined using a microscope, information on at least the position of the foreign body detected based on the reflected light is stored in a memory table by associating it with each foreign body. means for storing, means for specifying any foreign object detected based on the reflected light, means for inputting information on the visual observation result of the specified foreign object, and information on the L1 visual observation result of the input foreign object. It is provided with means for writing in the table in correspondence with the foreign matter, and an L stage for outputting the stored contents of the table.

したがって、目視検査の終rにより、自動検査と目視観
察の結果の対応表がテーブルの記憶内容として自動的に
得られ、[J視観察を含めた異物検査を効率的に行うこ
とができ、また自動検査とlTf視観察の結果の対応表
の保存および出力も可能であり、異物の発生原因の分析
などが容易になるともに、自動検査と目視検査の結果を
一括して管理できる。
Therefore, at the end of the visual inspection, a correspondence table of the results of automatic inspection and visual observation is automatically obtained as the stored contents of the table. It is also possible to save and output a correspondence table between the results of automatic inspection and 1Tf visual observation, which facilitates analysis of the cause of foreign matter generation, and allows the results of automatic inspection and visual inspection to be managed all at once.

【図面の簡単な説明】 第1図はこの発明による異物検査装置の光学系などの概
要図、第2図は同異物検査装置の信号系および処理制御
系を示す概略ブロック図、第3図は被検脊面走査の説明
図、第4図はスリットのアパーチャに関する説明図、第
5図は異物の粒径とホトマルチプライヤの出力信号との
関係、およびレベル比較の閾値との関係を示すグラフ、
第6図(A)ないし第6図(F)は検査処理のフローチ
ャート、第7図は検査処理に関連するテーブルの概念図
である。 10・・・Xステージ、14・・・ステッピングモータ
、22・・・回転ステージ、24・・・直流モータ、3
0・・・ウェハ、32.34,38.38・・・S偏光
レーザ発振器1.50・・・検出系、52・・・顕微鏡
、72・・・スリット、76・・・ダイクロイックミラ
ー、80・・・S偏光カットフィルタ、82・・・分離
ミラー、84A、84B・・・ホトマルチプライヤ、8
6・・・S偏光カットフィルタ、88・・・分離ミラー
、90A、90B・・・ホトマルチプライヤ、100,
104・・・加算増幅器、102.106・・・レベル
比較回路、108・・・インターフェイス回路、IIQ
・・・モードコントローラ、120・・・マイクロプロ
セッサ、122・・・ROM、124・・・RAM11
2B・・・フロッピーディスク装置、127・・・X−
Yプロッタ、128・・・CRTディスプレイ装置、1
30・・・キーボード、138・・・ビデオRAM、1
50・・・テーブル。
[BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS] FIG. 1 is a schematic diagram of the optical system etc. of the foreign matter inspection device according to the present invention, FIG. 2 is a schematic block diagram showing the signal system and processing control system of the foreign matter inspection device, and FIG. An explanatory diagram of the spinal surface scan to be examined, Fig. 4 is an explanatory diagram of the slit aperture, and Fig. 5 is a graph showing the relationship between the particle size of the foreign object and the output signal of the photomultiplier, and the relationship with the threshold value for level comparison. ,
6(A) to 6(F) are flowcharts of the inspection process, and FIG. 7 is a conceptual diagram of tables related to the inspection process. 10...X stage, 14...Stepping motor, 22...Rotating stage, 24...DC motor, 3
0... Wafer, 32.34, 38.38... S polarization laser oscillator 1.50... Detection system, 52... Microscope, 72... Slit, 76... Dichroic mirror, 80... ... S polarization cut filter, 82 ... Separation mirror, 84A, 84B ... Photomultiplier, 8
6... S polarization cut filter, 88... Separation mirror, 90A, 90B... Photomultiplier, 100,
104...Summing amplifier, 102.106...Level comparison circuit, 108...Interface circuit, IIQ
...Mode controller, 120...Microprocessor, 122...ROM, 124...RAM11
2B...Floppy disk device, 127...X-
Y plotter, 128...CRT display device, 1
30...Keyboard, 138...Video RAM, 1
50...table.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)光ビームを照射された被検査面からの反射光に基
づき、前記被検査面上の異物を自動的に検出できるとと
もに、前記被検査面を顕微鏡により目視観察できる構成
の異物検査装置において、前記反射光に基づき検出され
た異物の少なくとも位置の情報を各異物と対応させてメ
モリ上のテーブルに記憶させる手段と、前記反射光に基
づき検出された任意の異物を指定する手段と、その指定
された異物の目視観察結果の情報を入力する手段と、入
力された異物の目視結果の情報をその異物と対応させて
前記テーブルに書き込む手段と、前記テーブルの記憶内
容を出力する手段とを備えることを特徴とする異物検査
装置。
(1) In a foreign matter inspection device configured to automatically detect foreign matter on the surface to be inspected based on the reflected light from the surface to be inspected that has been irradiated with a light beam, and to visually observe the surface to be inspected using a microscope. , means for storing information on at least the position of a foreign object detected based on the reflected light in a table on a memory in association with each foreign object; means for specifying any foreign object detected based on the reflected light; means for inputting information on visual observation results of designated foreign objects; means for writing input information on visual observation results of foreign objects into the table in association with the foreign objects; and means for outputting the stored contents of the table. A foreign matter inspection device comprising:
JP60140142A 1985-06-28 1985-06-28 Apparatus for inspecting foreign matter Granted JPS6211147A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP60140142A JPS6211147A (en) 1985-06-28 1985-06-28 Apparatus for inspecting foreign matter

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP60140142A JPS6211147A (en) 1985-06-28 1985-06-28 Apparatus for inspecting foreign matter

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS6211147A true JPS6211147A (en) 1987-01-20
JPH0375054B2 JPH0375054B2 (en) 1991-11-28

Family

ID=15261849

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP60140142A Granted JPS6211147A (en) 1985-06-28 1985-06-28 Apparatus for inspecting foreign matter

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS6211147A (en)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0371014U (en) * 1989-11-15 1991-07-17
US5645441A (en) * 1995-05-18 1997-07-08 Niles Parts Co., Ltd. Rotary connector device
US5730386A (en) * 1995-09-04 1998-03-24 Sumitomo Electric Industries, Ltd. Cable reel

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0371014U (en) * 1989-11-15 1991-07-17
US5645441A (en) * 1995-05-18 1997-07-08 Niles Parts Co., Ltd. Rotary connector device
US5730386A (en) * 1995-09-04 1998-03-24 Sumitomo Electric Industries, Ltd. Cable reel

Also Published As

Publication number Publication date
JPH0375054B2 (en) 1991-11-28

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPS6211147A (en) Apparatus for inspecting foreign matter
JP2524532B2 (en) Wafer particle inspection system
JPS6211139A (en) Apparatus for inspecting foreign matter
JPH0774788B2 (en) Foreign substance presence inspection device
JPS6211148A (en) Apparatus for inspecting foreign matter
JPS6211146A (en) Apparatus for inspecting foreign matter
JPS6211136A (en) Apparatus for inspecting foreign matter
JPH0378928B2 (en)
JPS6211141A (en) Apparatus for inspecting foreign matter
JPH03156947A (en) Method and apparatus for inspection
JPH0378929B2 (en)
JP2735217B2 (en) Surface defect inspection equipment
JPS6366446A (en) Foreign matter inspecting device
JPS6276732A (en) Foreign material inspecting apparatus
JPH0363818B2 (en)
JPS6269151A (en) Inspecting device for foreign matter in wafer
JPS61278739A (en) Device or inspecting foreign matter
JPH06252230A (en) Method and apparatus for inspection of defect
JPS6211149A (en) Apparatus for inspecting foreign matter
JPS6211142A (en) Apparatus for inspecting foreign matter
JPS6269150A (en) Inspecting device for foreign matter in wafer
JPS6269149A (en) Inspecting device for foreign matter in wafer
JPS6269148A (en) Inspecting device for foreign matter in water
JPH0363817B2 (en)
JPH0516740B2 (en)

Legal Events

Date Code Title Description
S533 Written request for registration of change of name

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees