JPS62104779A - Rail shaft - Google Patents

Rail shaft

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Publication number
JPS62104779A
JPS62104779A JP24430185A JP24430185A JPS62104779A JP S62104779 A JPS62104779 A JP S62104779A JP 24430185 A JP24430185 A JP 24430185A JP 24430185 A JP24430185 A JP 24430185A JP S62104779 A JPS62104779 A JP S62104779A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
rail shaft
rail
ceramics
chamber
gas
Prior art date
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Pending
Application number
JP24430185A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Yoshiyuki Yui
油井 由行
Mutsuki Yamazaki
六月 山崎
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Toshiba Corp filed Critical Toshiba Corp
Priority to JP24430185A priority Critical patent/JPS62104779A/en
Publication of JPS62104779A publication Critical patent/JPS62104779A/en
Pending legal-status Critical Current

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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/22Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the deposition of inorganic material, other than metallic material
    • C23C16/30Deposition of compounds, mixtures or solid solutions, e.g. borides, carbides, nitrides

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Abstract

PURPOSE:To provide a rail shaft having high straightness, low in processing cost and having high abrasion resistance and corrosion resistance, by depositing ceramics on the surface of the main body of the rail shaft. CONSTITUTION:A rail shaft is formed by a method wherein a material having good machinability is formed into a predetermined shape by cutting processing and ceramics based on silicon, titanium or an element belonging to the Group III of the Periodic Table is subsequently deposited on the processed material. In forming a ceramics film by a plasma CVD method, a motor 21 is driven to rotationally drive a rail shaft main body 15 which is, in turn, heated to predetermined temp. by a heater. The stock gas used in the formation of the film is introduced into a chamber 14 through an introducing pipe 22 and, when a current is supplied to an electrode 16 while said gas is exhausted, plasma is generated in the chamber 14 to coat the rail shaft main body with predetermined ceramics.

Description

【発明の詳細な説明】 [発明の技術分野] この発明は、例えば、ドツトプリンタ、ファクシミリ及
び複写機等に使用され、ヘッド等が搭載された搬送体を
摺動させるレールシャフトに関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Technical Field of the Invention] The present invention relates to a rail shaft used in, for example, dot printers, facsimile machines, copying machines, etc., on which a conveying body on which a head and the like are mounted slides.

[発明の技術的背WA] ドツトプリンタにおいては、キャリッジく搬送体)にヘ
ッド及びインクリボンカセット等が搭載され、このキャ
リッジがレールシャフトに摺動しつつ往復移動する。こ
のように、レールシャフトは、キャリッジを支持すると
共に、給紙方向に垂直の方向に案内移動させるという機
能を有し、耐摩耗性及び耐食性が高いことが要求される
。このため、従来、このレールシャフトに、耐摩耗性及
び耐食性が高い材料を使用するか、又は切削性が高い材
料を使用して所定形状に加工した後、これを熱処理する
ことによりその耐摩耗性及び耐食性を向上させている。
[Technical Background of the Invention] In a dot printer, a head, an ink ribbon cassette, etc. are mounted on a carriage (transport body), and this carriage reciprocates while sliding on a rail shaft. As described above, the rail shaft has the function of supporting the carriage and guiding the carriage in a direction perpendicular to the paper feeding direction, and is required to have high wear resistance and corrosion resistance. For this reason, conventionally, materials with high wear resistance and corrosion resistance are used for this rail shaft, or materials with high machinability are processed into a predetermined shape and then heat treated to improve its wear resistance. and improved corrosion resistance.

[背景技術の問題点] しかしながら、耐摩耗性及び耐食性が高い材料は、一般
的に、切削性が低く、加工が困難で加工コストが高いと
いう欠点がある。一方、熱処理により、耐摩耗性及び耐
食性を高めようとすると、素材を800℃の高温に加熱
する必要があるために、この熱処理中に素材が熱変形し
やすく、このため、製造されたレールシャフトの真直度
が低いという問題点がある。
[Problems with Background Art] However, materials with high wear resistance and corrosion resistance generally have the drawback of low machinability, difficulty in processing, and high processing cost. On the other hand, when trying to improve wear resistance and corrosion resistance through heat treatment, it is necessary to heat the material to a high temperature of 800°C, which causes the material to be easily deformed by heat during this heat treatment. There is a problem that the straightness is low.

[発明の目的] この発明は、かかる票情に鑑みてなされたものであって
、その真直度が高く、加工コストが低く、耐摩耗性及び
耐食性が高いレールシャフトを提供することを目的とす
る。
[Object of the invention] This invention was made in view of the above circumstances, and an object thereof is to provide a rail shaft that has high straightness, low processing cost, and high wear resistance and corrosion resistance. .

[発明の概要] この発明に係るレールシャフトは、搬送体を駆動させる
ガイドとなるレールシャフトにおいて、レールシャフト
本体と、この本体の表面にセラミックスを被着させて形
成した被覆層とを有することを特徴とする。
[Summary of the Invention] A rail shaft according to the present invention is a rail shaft that serves as a guide for driving a conveyor, and includes a rail shaft body and a coating layer formed by depositing ceramics on the surface of this body. Features.

この発明においては、レールシャフト本体の表面にセラ
ミックスを被着させであるから、耐摩耗性及び耐食性が
高いレールシャフトを得ることができる。一方、レール
シャフト本体自体は、耐摩耗性又は耐食性が不要である
から、切削性が高い材料で製造することができる。この
ため、この発明のレールシャフトは加工が容易で加工コ
ストが低いと共に、熱処理が不要であるから、レールシ
ャフトの真直度が高い。
In this invention, since ceramics are coated on the surface of the rail shaft body, a rail shaft with high wear resistance and corrosion resistance can be obtained. On the other hand, since the rail shaft body itself does not require wear resistance or corrosion resistance, it can be manufactured from a material with high machinability. Therefore, the rail shaft of the present invention is easy to process and has low processing cost, and since no heat treatment is required, the rail shaft has high straightness.

[発明の実施例] 以下、添付の図面を参照してこの発明の実施例について
説明する。第1図は、ドツトプリンタの1     レ
ールシャフト周辺を示す斜視図である。1対のフレーム
4はプリンタ本体に設置されており、このフレーム4に
はレールシャフト1.5が相互に平行にフレーム4間に
架は渡されている。レールシャフト1はコピーカム2、
コピーレバー3及びネジ(図示せず)でフレーム4に固
定されており、レールシャフト5はネジ(図示せず)で
フレーム4に固定されている。実質的に板状のキャリッ
ジ6には、シャフトレール1,5側の端部に夫々ブツシ
ュ10及びCRGブツシュ11が配設されていて、この
ブツシュ10及びCRGブツシュ11が夫々レールシャ
フト1及び5に嵌め込まれている。レールシャフト1.
5に嵌合されたブツシュ10及びCRGブツシュ11が
レールシャフト1゜5を周動することにより、キャリッ
ジ6はレールシャフト1.5に支持されつつその長手方
向に往復移動することができる。キャリッジ6上にはヘ
ッド7が固定されており、インクリボンカセット8がキ
ャリッジ6上に取り付けられるようになっている。キャ
リッジ6のブツシュ10側の端部にはカードガイド9が
固定されている。
[Embodiments of the Invention] Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings. FIG. 1 is a perspective view showing the vicinity of a 1-rail shaft of a dot printer. A pair of frames 4 are installed in the main body of the printer, and rail shafts 1.5 are parallel to each other and a rack is passed between the frames 4. The rail shaft 1 is the copy cam 2,
The copy lever 3 is fixed to the frame 4 with a screw (not shown), and the rail shaft 5 is fixed to the frame 4 with a screw (not shown). The substantially plate-shaped carriage 6 is provided with bushings 10 and CRG bushings 11 at the ends of the shaft rails 1 and 5, respectively. It's embedded. Rail shaft 1.
The carriage 6 can reciprocate in its longitudinal direction while being supported by the rail shaft 1.5 as the bushing 10 and the CRG bushing 11 fitted on the rail shaft 1.5 rotate around the rail shaft 1.5. A head 7 is fixed on the carriage 6, and an ink ribbon cassette 8 can be mounted on the carriage 6. A card guide 9 is fixed to the end of the carriage 6 on the bush 10 side.

各フレーム4にはリールが設置されていて、このリール
にはベルト12が巻き掛けられている。
A reel is installed on each frame 4, and a belt 12 is wound around this reel.

そして、一方の駆動リールにはモータ13が連結されて
おり、このモータ13の回転により駆動リールが回転駆
動され、これによりベルト12がレールシャフト1,5
の長手方向に駆動される。キャリッジ6は、ベルト12
に固定されており、従って、モータ13の正逆回転によ
り、キャリッジ6はレールシャフト1.5に沿ってその
長手方向に往復走行する。
A motor 13 is connected to one of the drive reels, and the rotation of the motor 13 rotates the drive reel, thereby causing the belt 12 to move between the rail shafts 1 and 5.
driven in the longitudinal direction. The carriage 6 has a belt 12
Therefore, by the forward and reverse rotation of the motor 13, the carriage 6 reciprocates in the longitudinal direction along the rail shaft 1.5.

このように構成されるドツトプリンタにおいて、レール
シャフト1.5はキャリッジが走行する際にキャリッジ
を案内支持する機能を果たしており、このため、レール
シャフト1.5には真直度が高いことが要求されると共
に、キャリッジのブツシュが摺動するレールシャフト部
分には耐磨耗性及び耐食性が高いことが要求され、フレ
ームに取り付けるための両端部分には耐食性が高いこと
が要求される。
In the dot printer configured in this way, the rail shaft 1.5 has the function of guiding and supporting the carriage when it travels, and for this reason, the rail shaft 1.5 is required to have high straightness. At the same time, the rail shaft portion on which the bushing of the carriage slides is required to have high wear resistance and corrosion resistance, and both end portions for attachment to the frame are required to have high corrosion resistance.

この発明の実施例に係るレールシャフトは、快削1 (
SUM24 : J Is)等の切削性が良い材料を切
削加工して所定の形状にした後、このレールシャフト本
体の略々全表面にプラズマCVD、スパッタリング、イ
オンブレーティング又は熱CVD等の方法により、セラ
ミックスを被着させて製造される。
The rail shaft according to the embodiment of the present invention is free-cutting 1 (
After cutting a material with good machinability such as SUM24: J Is) into a predetermined shape, substantially the entire surface of the rail shaft body is coated with a method such as plasma CVD, sputtering, ion blasting, or thermal CVD. Manufactured by coating ceramics.

この発明において、レールシャフト表面の被覆層は、レ
ールシャフト本体にセラミックスを被着して形成される
。このセラミックスとしては、下記の材料がある。
In this invention, the coating layer on the surface of the rail shaft is formed by coating the rail shaft body with ceramics. The ceramics include the following materials.

(1)窒素N、酸素O及び炭素Cから選択された少なく
とも1種の元素を含有するケイ素Si基のセラミックス
(1) Silicon-based ceramics containing at least one element selected from nitrogen (N), oxygen (O), and carbon (C).

このようなセラミックスとしては、SiC、SiN、S
iO、SiCN又は5iON等がある。
Such ceramics include SiC, SiN, S
Examples include iO, SiCN, and 5iON.

(2)N、O及びCから選択された少なくとも1種の元
素を含有するチタンTi基のセラミックス。
(2) Titanium-based ceramics containing at least one element selected from N, O, and C.

このようなセラミックスとしては、TiC1TiN、T
ie、T1CN又はTioN等カアル。
Such ceramics include TiC1TiN, T
ie, T1CN or TioN etc.

(3)周期律表の第■族に属する元素(例えば、ホウ素
及びアルミニウム)を基にするセラミックス。
(3) Ceramics based on elements belonging to Group Ⅰ of the periodic table (for example, boron and aluminum).

このようなセラミックスとしては、BN。An example of such ceramics is BN.

A I203 、GaAS、GaP又はGaAsP等が
ある。
Examples include A I203 , GaAS, GaP, and GaAsP.

次に、この発明に係るプリンタ用レールシャフトの製造
方法について説明する。先ず、レールシャフト本体に、
ガス又は比較的蒸気圧が高い液体を原料として被覆層を
成膜する場合について説明する。第2図乃至第4図は、
その製造装置を示す図面であり、第2図は平面断面図、
第3図は正面断面図、第4図は側面断面図である。チャ
ンバ14は設置されており、このチャンバ14内には、
電極16及び成膜せんとする複数本のレールシャフト本
体15が配設される。チャンバ14の幅方向の両端部に
は、テフロン又はセラミックス等の1対の絶縁性の電橋
支持体17が設置されており、電極16はチャンバ14
の幅方向に延長する板状をなし、チャンバ14の中央に
て支持体17に架は渡されて支持されている。レールシ
ャフト本体15は快削鋼等の切削性が良い材料をレール
シャフトの所定の形状に加工成型したものであって、電
極16の両側に電極から所定寸法離隔してテーブル18
上に立設される。レールシャフト本体15の近傍には、
ヒータ(図示せず)が配設されており、成膜中に本体1
5を加熱するようになっている。各テーブル18には、
ギア19が固定されており、各ギア19は相互に噛合し
ている。チャンバ14外には、モータ21が配設されて
おり、このモータ21の回転軸はチャンバ14内に挿入
され、ギア19と噛合するギア20が固定されている。
Next, a method of manufacturing a rail shaft for a printer according to the present invention will be explained. First, on the rail shaft body,
A case will be described in which a coating layer is formed using a gas or a liquid with a relatively high vapor pressure as a raw material. Figures 2 to 4 are
It is a drawing showing the manufacturing equipment, and FIG. 2 is a plan sectional view,
FIG. 3 is a front sectional view, and FIG. 4 is a side sectional view. A chamber 14 is installed, and inside this chamber 14,
An electrode 16 and a plurality of rail shaft bodies 15 on which a film is to be formed are provided. A pair of insulating bridge supports 17 made of Teflon or ceramics are installed at both ends of the chamber 14 in the width direction, and the electrodes 16 are connected to the chamber 14.
It has a plate shape extending in the width direction of the chamber 14, and is supported by a support 17 at the center of the chamber 14. The rail shaft main body 15 is made of a material with good machinability, such as free-cutting steel, and is formed into a predetermined shape of the rail shaft.A table 18 is provided on both sides of the electrode 16 at a predetermined distance from the electrode.
erected above. Near the rail shaft body 15,
A heater (not shown) is installed, and the main body 1 is heated during film formation.
It is designed to heat 5. Each table 18 has
Gears 19 are fixed, and each gear 19 meshes with each other. A motor 21 is disposed outside the chamber 14, a rotating shaft of the motor 21 is inserted into the chamber 14, and a gear 20 that meshes with a gear 19 is fixed.

これにより、モータ21の回転によってギア19.20
を介して支持体15が自転するようになっている。チャ
ンバ14には、適宜のガス源に接続された導入バイブ2
2が連結されており、この導入バイブ22を介して原料
ガスがチャンバ14内に導入されるようになっている。
As a result, the rotation of the motor 21 causes the gear 19.20 to
The support body 15 is configured to rotate on its own axis. The chamber 14 includes an introduction vibe 2 connected to a suitable gas source.
2 are connected to each other, and raw material gas is introduced into the chamber 14 through this introduction vibe 22.

一方、チャンバ14の排気バイブ23が連結されており
、この排気バイブ23には口〜タリボンブ及びメカニカ
ルブースタポンプ(図示せず)に接続されていて、これ
らの排気手段によりチャンバ14内が排気バイブ23を
介して排気されるようになっている。電極16には、マ
ツチングボックス25を介して電源24が接続されてお
り、電i7!24からプラズマ生起用電力が供給される
ようになっている。
On the other hand, an exhaust vibrator 23 of the chamber 14 is connected, and this exhaust vibrator 23 is connected to a mouth-tally bomb and a mechanical booster pump (not shown), and these exhaust means cause the inside of the chamber 14 to be It is designed to be exhausted through the A power supply 24 is connected to the electrode 16 via a matching box 25, and plasma generation power is supplied from the power supply i7!24.

このような装置により、レールシャフト本体15に成膜
する場合には、先ず、チャンバ14内を、排気手段によ
り排気バイブ23を介して排気し、モータ21を駆動し
て本体15を回転駆動すると共に、ヒータにより、レー
ルシャフト本体15を所定温度に加熱する。そして、成
膜に使用する原料ガスを導入バイブ22を介してチャン
バ14内に導入し、排気手段により排気しつつ、チャン
バ14内を0.1乃至10トルの圧力に調整する。次い
で、電源24から電極16に給電すると、電極16と設
置されたチャンバ14の壁面との間で放電が発生し、チ
ャンバ14内にプラズマが生起される。これにより、レ
ールシャフト本体に所定のセラミックスがコーティング
される。この場合に、レールシャフト本体15は回転駆
動されているから、層厚及び品質が均一なセラミックス
層が形成される。また、レールシャフト本体の加熱温度
は低くても足りるから、この成膜処理中にレールシャフ
ト本体が変形することはない。
When forming a film on the rail shaft body 15 using such an apparatus, first, the inside of the chamber 14 is evacuated via the exhaust vibrator 23 by an exhaust means, and the main body 15 is rotationally driven by driving the motor 21. , the rail shaft body 15 is heated to a predetermined temperature by a heater. Then, the source gas used for film formation is introduced into the chamber 14 via the introduction vibe 22, and while being evacuated by the exhaust means, the pressure inside the chamber 14 is adjusted to a pressure of 0.1 to 10 torr. Next, when power is supplied to the electrode 16 from the power supply 24, a discharge occurs between the electrode 16 and the installed wall surface of the chamber 14, and plasma is generated within the chamber 14. As a result, the rail shaft body is coated with a predetermined ceramic. In this case, since the rail shaft body 15 is rotationally driven, a ceramic layer with uniform thickness and quality is formed. Further, since the heating temperature of the rail shaft body may be low, the rail shaft body will not be deformed during this film forming process.

次に、このようにガス又は高蒸気圧の液体を原料とする
成膜装置によりセラミックスを成膜した試験結果につい
て説明する。
Next, test results will be described in which a ceramic film was formed using a film forming apparatus using a gas or a high vapor pressure liquid as a raw material.

試験例1 原料ガスとして一、Si原子を含有するガス、例えば、
SiH+ 、5i21−1s 、SiF+、5iC14
,5iHC13,5iH2CI2等のガスと、N原子を
含有するガス、例えば、N2、Nhh等のガスとの混合
ガスを使用した。この場合には、レールシャフト本体に
、非晶質の窒化ケイ素SiNがコーティングされる。な
お、このSIN中には、水素H又はハロゲン原子(フッ
素等)が含有される。
Test Example 1 As a raw material gas, a gas containing Si atoms, for example,
SiH+, 5i21-1s, SiF+, 5iC14
, 5iHC13, 5iH2CI2, and a gas containing N atoms, such as N2, Nhh, etc., was used. In this case, the rail shaft body is coated with amorphous silicon nitride SiN. Note that this SIN contains hydrogen H or a halogen atom (fluorine, etc.).

試験例2 原料ガスとして、3i原子を含有するガスと、炭化水素
ガス、例えば、CH4、C2H6、C2H2等のガスと
の混合ガスを使用した。この場合には、非晶質の炭化ケ
イ素SiCがコーティングされる。
Test Example 2 A mixed gas of a gas containing 3i atoms and a hydrocarbon gas such as CH4, C2H6, C2H2, etc. was used as the raw material gas. In this case, amorphous silicon carbide SiC is coated.

試験例3 原料ガスとして、3i原子を含有するガスと、酸素原子
を含有するガス、例えば、02 、N20、GO2等の
ガスとの混合ガスを使用した。この場合には、非晶質酸
化ケイ素SiOが成膜されるが、原料ガス如何によって
はC又はNがこの層中に混1、     入することが
ある。
Test Example 3 A mixed gas of a gas containing 3i atoms and a gas containing oxygen atoms, such as 02, N20, GO2, etc., was used as the raw material gas. In this case, a film of amorphous silicon oxide (SiO) is formed, but C or N may be mixed into this layer depending on the source gas.

□ 1      なお、原料ガスとしては、これらのガス
に限ら□ ■ l     ず、例えば、SiH+ガスにCl−14ガ
ス及びN2ガスを混合したり、SiH+ガスにN2ガス
及びN20ガス又はo2ガスを混合しても良い。
□ 1 The raw material gas is not limited to these gases, for example, Cl-14 gas and N2 gas may be mixed with SiH+ gas, N2 gas and N20 gas or O2 gas may be mixed with SiH+ gas. It's okay.

次に、固体を原料とする場合の成膜方法についi   
  て、その実施に使用する装置を示す第5図を参照1
     して説明する。接地されたチャンバ31内に
は、その長手方向を水平にしてレールシャフト本体30
が配設されている。このレールシャフト本体30はチャ
ンバ31内に固定され水平方向に対向する1対の支持部
材32により回転可能に支持さ’    a、、cい。
Next, we will discuss the film formation method when using a solid as a raw material.
Please refer to Figure 5 which shows the equipment used for its implementation1.
and explain. Inside the grounded chamber 31 is a rail shaft body 30 with its longitudinal direction horizontal.
is installed. The rail shaft main body 30 is fixed within a chamber 31 and rotatably supported by a pair of support members 32 facing each other in the horizontal direction.

。、:、)ツー2.ツ、7、。30(Ifff!1.:
はヒータ34が配設されており、このヒータ34には電
源35から給電されるようになっている。
. , :, ) two 2. Tsu, 7,. 30 (Ifff!1.:
A heater 34 is provided, and power is supplied to the heater 34 from a power source 35.

チャンバ31にはガス導入口36及び排気口37が設置
されており、ガス導入口36からArガス及び必要に応
じて反応ガスがチャンバ31内に導入され、排気口37
を介して適宜の排気手段(油拡散ポンプ等)によりチャ
ンバ31内が排気されるようになっている。チャンバ3
1内には、3iを含有するセラミックス等のターゲット
38が設置される。このターゲット38はチャンバ31
の底壁に絶縁物を介して設置されたテーブル39上に配
置され、テーブル39の支持棒40を介してマツチング
ボックス41及び高周波電源42に接続されている。
A gas introduction port 36 and an exhaust port 37 are installed in the chamber 31. Ar gas and a reaction gas are introduced into the chamber 31 from the gas introduction port 36 as needed, and the exhaust port 37
The inside of the chamber 31 is evacuated by an appropriate exhaust means (such as an oil diffusion pump) through the evacuator. chamber 3
1, a target 38 made of ceramics or the like containing 3i is installed. This target 38 is located in the chamber 31
The matching box 41 and the high frequency power source 42 are connected to a matching box 41 and a high frequency power source 42 via a support rod 40 of the table 39.

このように構成された装置によれば、チャンバ31内が
排気されて高真空に保持されると共に、ヒータ34によ
りレールシャフト本体30が150乃至500℃に加熱
される。排気口37を介してチャンバ31内を排気しつ
つ、ガス導入口36を介してArガス等がチャンバ31
内に導入され、チャンバ31内を10−5乃至10−3
1−ルの圧力に調整する。そして、電源42からターゲ
ット38に高周波電力を印加する。そうすると、ターゲ
ット38はスパッタリングされ、スパッタリングされた
原子はレールシャフト本体30上に堆積する。これによ
り、レースシャフト本体がターゲットの構成原子でコー
ティングされる。なJ3、電源42としては、直流電源
を使用することも可能である。この場合には、マツチン
グボックスは不要である。
According to the apparatus configured in this manner, the inside of the chamber 31 is evacuated and maintained at a high vacuum, and the rail shaft body 30 is heated to 150 to 500° C. by the heater 34. While exhausting the inside of the chamber 31 through the exhaust port 37, Ar gas or the like is injected into the chamber 31 through the gas inlet 36.
10-5 to 10-3 inside the chamber 31.
Adjust the pressure to 1 liter. Then, high frequency power is applied to the target 38 from the power source 42. Then, the target 38 is sputtered, and the sputtered atoms are deposited on the rail shaft body 30. This coats the race shaft body with the constituent atoms of the target. As J3 and power source 42, it is also possible to use a DC power source. In this case, a matching box is not necessary.

次に、このような固体を原料としてレールシャフト上に
セラミックスを成膜した試験結果について説明する。
Next, the results of a test in which a ceramic film was formed on a rail shaft using such a solid as a raw material will be explained.

試験例4 ターゲットにSiO2を使用し、Arガスをチャンバ内
に導入してArのみで放電した。この場合には、レール
シャフト本体に5iOx(1≦X≦2)のiJlがコー
ティングされた。
Test Example 4 SiO2 was used as a target, Ar gas was introduced into the chamber, and discharge was performed only with Ar. In this case, the rail shaft body was coated with iJl of 5iOx (1≦X≦2).

試験例5 ターゲットにSiCを使用し、Arガスのみを導入して
放電した。この場合には、レールシャフト本体にSiC
が成膜された。
Test Example 5 SiC was used as a target, and only Ar gas was introduced for discharge. In this case, SiC is used in the rail shaft body.
was deposited.

試験例6 ターゲットに5iaN+を使用し、Arガスのみを導入
して成膜した。この場合には、レールシャフト本体にS
iNがコーティングされた。
Test Example 6 A film was formed using 5iaN+ as a target and introducing only Ar gas. In this case, S is attached to the rail shaft body.
iN was coated.

試験例7 ターゲットに単結晶又は多結晶の3iを使用し、Arガ
スに加えて、CH4又はC2H2等の炭化水素ガスをチ
ャンバ内に導入してSiCをコーティングした。なお、
炭化水素ガスの替わりに、N2又はNH3ガスを使用す
るとSiNが成膜され、02又はN20ガスを使用する
とSiOがコーティングされる。
Test Example 7 Single crystal or polycrystalline 3i was used as a target, and in addition to Ar gas, a hydrocarbon gas such as CH4 or C2H2 was introduced into the chamber to coat SiC. In addition,
If N2 or NH3 gas is used instead of hydrocarbon gas, SiN will be deposited, and if 02 or N20 gas is used, SiO will be coated.

被覆層のコーティング方法は、上述のプラズマCVD及
びスパッタリング法に限らず、レールシャフト本体に直
流又は高周波電力を印加しつつ、反応ガスを導入す、る
イオンブレーティング法によっても良く、更に、熱CV
D法によっても成膜することができる。プラズマCVD
及びスパッタリングの場合には、低温で成膜することが
できるので、母材の熱変形を防止することができる。ま
た、プラズマCVDのように、CvDに属する方法の場
合には、PVDに属する方法よりも、被覆層の接着性が
良い。しかし、イオンブレーティングの場合には、PV
Dに属するが、プラズマを使用しているので接着性は良
好である。また、プラズマCVD及びスパッタリング以
外の各方法でも、熱処理しないから、母材の熱変形は少
ない。
The method of coating the coating layer is not limited to the above-mentioned plasma CVD and sputtering methods, but may also be an ion blating method in which a reactive gas is introduced while applying direct current or high frequency power to the rail shaft body.
The film can also be formed by method D. plasma CVD
In the case of sputtering, the film can be formed at a low temperature, so thermal deformation of the base material can be prevented. Further, in the case of a method belonging to CvD such as plasma CVD, the adhesion of the coating layer is better than a method belonging to PVD. However, in the case of ion blating, the PV
Although it belongs to D, the adhesiveness is good because plasma is used. Moreover, since heat treatment is not performed in each method other than plasma CVD and sputtering, there is little thermal deformation of the base material.

なお、この発明は、ドツトプリンタ用のレールシャフト
に限らず、ファクシミリ及び複写機等の他のオフィスオ
ートメーション機器のレールシャフトに適用することが
できることは勿論である。
The present invention is of course applicable not only to rail shafts for dot printers but also to rail shafts for other office automation equipment such as facsimile machines and copying machines.

[発明の効果] この発明によれば、十分な耐食性及び耐磨耗性を示すレ
ールシャフトを得ることができるのに加え、レールシャ
フト本体に耐食性及び耐磨耗性が要求されないから、レ
ールシャフト本体を切削性が高い材料で作ることができ
るので、加工コストを低減することができると共に、熱
処理が不要であるので、真直度が品いレールシャフトを
得ることができる。
[Effects of the Invention] According to the present invention, in addition to being able to obtain a rail shaft that exhibits sufficient corrosion resistance and abrasion resistance, the rail shaft body is not required to have corrosion resistance and abrasion resistance. Since the rail shaft can be made of a material with high machinability, processing costs can be reduced, and since heat treatment is not required, a rail shaft with good straightness can be obtained.

【図面の簡単な説明】 第1図はこの発明の実施例に係るレールシャフトを装着
したプリンタの模式図であり、第2図乃至第4図はその
成膜装置を示し、第2図はその平面断面図、第3図はそ
の正面断面図、第4図はその側面断面図であり、第5図
は他の成膜装置を示す模式図である。 1.5:レールシャフト、6:キャリッジ、10.11
:プッシュ、14,31:チャンバ、15.30:レー
ルシャツ1〜本体、16;電極、24.42:電源、3
8;ターゲット 出願人代理人 弁理士 鈴江武彦 第2図 i     142 □ フ− 第5図
[Brief Description of the Drawings] Fig. 1 is a schematic diagram of a printer equipped with a rail shaft according to an embodiment of the present invention, and Figs. 2 to 4 show its film forming apparatus. 3 is a front sectional view thereof, FIG. 4 is a side sectional view thereof, and FIG. 5 is a schematic diagram showing another film forming apparatus. 1.5: Rail shaft, 6: Carriage, 10.11
: Push, 14, 31: Chamber, 15.30: Rail shirt 1 to main body, 16; Electrode, 24.42: Power supply, 3
8; Target applicant's agent Patent attorney Takehiko Suzue Figure 2 i 142 □ Fu- Figure 5

Claims (8)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)搬送体を摺動させるガイドとなるレールシャフト
において、レールシャフト本体と、この本体の表面にセ
ラミックスを被着させて形成した被覆層とを有すること
を特徴とするレールシャフト。
(1) A rail shaft that serves as a guide for sliding a conveyor, and is characterized by having a rail shaft body and a coating layer formed by depositing ceramics on the surface of this body.
(2)前記被覆層は、窒素、酸素及び炭素から選択され
た少なくとも1種の元素を含有するケイ素基のセラミッ
クスで形成されていることを特徴とする特許請求の範囲
第1項に記載のレールシャフト。
(2) The rail according to claim 1, wherein the coating layer is formed of silicon-based ceramics containing at least one element selected from nitrogen, oxygen, and carbon. shaft.
(3)前記ケイ素基のセラミックスは、SiC、SiN
、SiO、SiCN又はSiONであることを特徴とす
る特許請求の範囲第2項に記載のレルシャフト。
(3) The silicon-based ceramics are SiC, SiN
, SiO, SiCN, or SiON, the rail shaft according to claim 2.
(4)前記被覆層は、窒素、酸素及び炭素から選択され
た少なくとも1種の元素を含有するチタン基のセラミッ
クスで形成されていることを特徴とする特許請求の範囲
第1項に記載のレールシャフト。
(4) The rail according to claim 1, wherein the coating layer is formed of titanium-based ceramics containing at least one element selected from nitrogen, oxygen, and carbon. shaft.
(5)前記チタン基のセラミックスは、TiC、TiN
、TiO、TiCN又はTiONであることを特徴とす
る特許請求の範囲第4項に記載のレールシャフト。
(5) The titanium-based ceramics include TiC, TiN
, TiO, TiCN, or TiON, the rail shaft according to claim 4.
(6)前記被覆層は、周期律表の第III族に属する元素
を基にするセラミックスで形成されていることを特徴と
する特許請求の範囲第1項に記載のレールシャフト。
(6) The rail shaft according to claim 1, wherein the coating layer is formed of a ceramic based on an element belonging to Group III of the periodic table.
(7)前記周期律表の第III族に属する元素を基にする
セラミックスは、BN、Al_2O_3、GaAs、G
aP又はGaAsPであることを特徴とする特許請求の
範囲第6項に記載のレールシャフト。
(7) Ceramics based on elements belonging to Group III of the periodic table include BN, Al_2O_3, GaAs, G
The rail shaft according to claim 6, characterized in that it is made of aP or GaAsP.
(8)前記被覆層は、プラズマCVD法により形成する
ことを特徴とする特許請求の範囲第1項に記載のレール
シャフト。
(8) The rail shaft according to claim 1, wherein the coating layer is formed by a plasma CVD method.
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