JPS6189236A - Surface modification - Google Patents

Surface modification

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JPS6189236A
JPS6189236A JP21234984A JP21234984A JPS6189236A JP S6189236 A JPS6189236 A JP S6189236A JP 21234984 A JP21234984 A JP 21234984A JP 21234984 A JP21234984 A JP 21234984A JP S6189236 A JPS6189236 A JP S6189236A
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JP
Japan
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base material
gas
dispersion
monomer
graft
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JP21234984A
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Itsuki Sakamoto
逸樹 坂本
Takao Akagi
赤木 孝夫
Shinji Yamaguchi
新司 山口
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Kuraray Co Ltd
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Kuraray Co Ltd
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Abstract

PURPOSE:To perform modification of polymer base surface by plasma treatment of the surface under a specific gas pressure with specified electric energy followed be forming graft polymer layer using radically polymerizable monomer and transition metal salt. CONSTITUTION:Either or both surfaces of a polymer base (e.g., polyethylene terephthalate) is exposed, under a pressure 0.01-20mmHg, to either O2-contg. gas or O2-free gas capable of forming radically polymerizable activation point, being subjected to a low-temperature plasma treatment at an electric energy level 1-2,000 watt.sec/cm<2>. In case of O2-free gas, contact of said surface(s) with O2-gas or O2-contg. mixed gas follows to form radically polymerizable activation points at a level of 10<-11>-10<-8>mol/cm<2> on said surface(s). Further more, the surface(s) is brought into contact with 0.1-90% radically polymeriza ble monomer dispersion and 0.0001-1% transition metal salt dispersion or mixed liquid thereof followed by treatment either at room temperature or ele vated temperatures, thus forming the objective graft polymer layer with its graft level controlled.

Description

【発明の詳細な説明】 本@明は、高分子物質から成る基材に、グラフト重合層
を形成することを特徴とする表面改質法に関するもので
ある。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a surface modification method characterized by forming a graft polymerization layer on a base material made of a polymeric substance.

高分子物質から成る基材は、極めて取要な基材として広
く利用されている。しかし、これらの基材の表面が原因
で生じている欠点も数多くおるのが現状である。例えば
、静電気の発生、接着性。
Substrates made of polymeric materials are widely used as extremely demanding substrates. However, at present, there are many defects caused by the surfaces of these base materials. For example, generation of static electricity, adhesion.

印刷性、吸湿性、吸汗性、撥水性が悪いという欠点であ
る。これらの欠点を解決すべく各方面で積極的な表面改
質の研究がなされている。
The drawbacks are poor printability, moisture absorption, sweat absorption, and water repellency. In order to solve these drawbacks, active research on surface modification is being conducted in various fields.

高分子物質から成る基材の改質法に、グラフト重合層を
形成する方法がある。この種の方法として従来放射線グ
ラフト取合法、紫外線グラフト重合法等が検討されてき
た。
One of the methods for modifying a base material made of a polymeric substance is to form a graft polymerization layer. Conventionally, radiation grafting methods, ultraviolet graft polymerization methods, and the like have been studied as methods of this type.

放射線グラフト重合法は、基材へ放射線照射することに
より高分子基材中にラジカルを発生し、そのラジカルを
開始点として種々の単量体をグラフト重合させる表面改
質法である。放射にA法によシ生成したグラフト重合層
は耐久性に優れているが、放射線のエネルギーが極めて
大きいため、放射線が高分子基材表面のみならず内部へ
も侵入して、基材の機能を損ってしまう。さらに、ま念
低温プラズマの発生に比べると高価であり、危険でもあ
るといった欠点を有する。
The radiation graft polymerization method is a surface modification method in which radicals are generated in a polymeric substrate by irradiating the substrate with radiation, and various monomers are graft-polymerized using the radicals as a starting point. The graft polymerized layer produced by the radiation A method has excellent durability, but since the energy of the radiation is extremely high, the radiation penetrates not only the surface of the polymer base material but also the inside, impairing the functionality of the base material. will be damaged. Furthermore, it has the drawbacks of being more expensive and dangerous than generating low-temperature plasma.

紫外線グラフト重合法により得られる:(、り呆は低温
プラズマクラフト重合法と類似してい50が、同じ幼果
を得るためにはa(温プラズ°7の10〜100倍もの
エネルギーを必要とし、さ【っにこの方法は紫外線を充
分忙吸収する物質にのみ制限されるといった欠点を有す
る。
Obtained by the ultraviolet graft polymerization method: (50) The removal is similar to the low-temperature plasma craft polymerization method, but in order to obtain the same young fruit, it requires 10 to 100 times more energy than a (warm plasma), However, this method has the disadvantage that it is limited to materials that absorb UV radiation sufficiently.

高分子基材の表面を改質する方法とし−C低温プラズマ
放電グラフ)&合法がある。仁の方法は。
As a method of modifying the surface of a polymer base material, there is a -C low temperature plasma discharge graph) & method. What is Jin's method?

低温プラズマ放電により高分子基材表面を活性化してお
き、活性点よシ重合性単嫉体をグラフト重合し、高分子
基材表面に極めて薄いt′う分子層を形成する方法であ
る。この種のグラフト法として従来知られているものは
、(υプラズマ放′1Lにより高分子基材表面を活性化
した後、直ちに東付注単黄体に接触させてグラフト重合
する方法。(2〕茜分子粉体を0.1 rtm Hyの
ガス圧下でプラズマ放電処理し1M、素ガスにふれさせ
1次いで、アクリロニトリル浴液中でグラフト重合する
方法。イ8+ガス出0、.2mHt以上50flHs’
以下で高電圧放’if!、処fW e を酸素ガスに触
れさせ、その後ラジカル重合可能な単量体溶液中でグラ
フ) ML合する方法。(4)高分子基材を、ガス圧0
.01gHy以上0.1 rag Hy以下、出力0.
Olワット/ Ca以上5ワツ) / cl Ja下で
、プラズマ放電処理したのち、酸素に触れさせ次いで!
I(合性単量体をグラフト重合する方法がある。
This is a method in which the surface of a polymer substrate is activated by low-temperature plasma discharge, and a polymerizable monomer is graft-polymerized from the active site to form an extremely thin t' polymeric molecular layer on the surface of the polymer substrate. Conventionally known grafting methods of this type include (a method in which the surface of a polymer base material is activated by 1 L of plasma radiation, and then graft polymerized by immediately bringing it into contact with Tosuke monoluteum. (2) A method in which madder molecular powder is subjected to plasma discharge treatment under a gas pressure of 0.1 rtm Hy, exposed to 1 M elementary gas, and then graft polymerized in an acrylonitrile bath liquid.
If you release high voltage below! , fW e is exposed to oxygen gas, and then subjected to ML polymerization in a monomer solution capable of radical polymerization. (4) Polymer base material at 0 gas pressure
.. 01gHy or more and 0.1 rag Hy or less, output 0.
Ol watts / Ca or more 5 watts) / cl After plasma discharge treatment under Ja, exposed to oxygen and then!
I (There is a method of graft polymerizing a merizable monomer.

(1)の方法は高分子基材のプラズマ放電処理、及びそ
れに続くグラフ)重合とをラジカル袖)(!剤となる酸
素を先金に除去した系で行なう必要があり。
Method (1) requires that the plasma discharge treatment of the polymer base material and the subsequent polymerization (graph) be carried out in a system in which oxygen, which acts as a radical sleeve) (!), has been removed first.

そのような装置の開発は困難がっきわめて高価な吃のと
なり実用的でない。
Developing such a device would be difficult and extremely expensive, making it impractical.

(2)の方法はPolymer 1961年2巻277
頁に記載されているが、その中には高分子粉体をプラズ
マ放電処理する条件について詳しい記gがない。
Method (2) is published in Polymer 1961, Vol. 2, 277.
However, there is no detailed description of the conditions for plasma discharge treatment of polymer powder.

(8)および(4)の方法は、それぞれ特公昭59 3
3132゜特開昭59−80443 K記載きれている
。仁れらの方法は上記の(1)〜(4)の中では最も集
用にガへした方法と考えられた0そこで1本発明者らは
詳細な実験検討の結果、(8)の方法ではグラフト量が
比較的低い場合が多く、さらにグラフト量のコントロー
ルが困難であることが判明した。また(4)の方法では
高分子基材のプラズマ放電処理においてその減圧度が大
きく、大墓の高分子基材を処理するにあたりこの真空度
維持のために多大のエネルギーと厳密な装置を必要とす
る欠点がある。さらに詳細な追試を行ったところ、第1
゛図に示すようにラジカル重合可能な活性点の量は、処
理電気エネルギーに依存していることがわかった。第1
図でいうところのtiDPEとは、膜厚60μmの高密
度ポリエチレンである。これらのフィルム片を非接地式
プラズマ処理装置により周波数5KHz、Arガス圧力
0.04醜Hりで処理をした0 本発明者らは、低温プラズマ放電グラフト重合法を実用
化するために、グラフト量の安定したプラズマ処理条件
を鋭息研究した結果、意外にも前記特開昭59−804
43では唸とんどグラフトしていないとされている電気
エネルギー1,2ワツト。
Methods (8) and (4) are respectively
3132° JP-A-59-80443 K has been described. The method of Nire et al. was considered to be the most widely used method among the above (1) to (4). Therefore, as a result of detailed experimental studies, the present inventors developed method (8). In many cases, the amount of grafting is relatively low, and furthermore, it has been found that it is difficult to control the amount of grafting. In addition, in method (4), the degree of pressure reduction is large during plasma discharge treatment of polymer substrates, and a large amount of energy and strict equipment are required to maintain this degree of vacuum when processing large polymer substrates. There are drawbacks to doing so. After conducting a more detailed follow-up test, the first
As shown in the figure, it was found that the amount of active sites capable of radical polymerization depends on the electrical energy of the process. 1st
tiDPE in the figure is high-density polyethylene with a film thickness of 60 μm. These film pieces were processed using an ungrounded plasma processing device at a frequency of 5 KHz and an Ar gas pressure of 0.04 H. In order to put the low-temperature plasma discharge graft polymerization method into practical use, the present inventors As a result of intense research into stable plasma processing conditions for
43 has 1.2 watts of electrical energy, which is said to have not been grafted.

秒〜以上で、安定しfcjIJ:のグラフト取合体がイ
4られるプラズマ処理条件を見い出した。すなわち。
Plasma treatment conditions have been found under which the graft assembly of fcjIJ: can be stably formed in 4 seconds or more. Namely.

電気エネルギー5ワット・秒/ Ca以上50ワット・
秒4d以下でプラズマ処理を施すと安定したグラフト重
合が可能である。さらに高いグラフト重合体の量を必要
とする時は50ワット・秒/cm2以上とするとよい。
Electrical energy 5 watts / 50 watts over Ca
Stable graft polymerization is possible when plasma treatment is performed at a speed of 4 seconds or less. When a higher amount of graft polymer is required, it is preferably 50 watts/cm2 or more.

本発明者らはグラフト重合体量の安定し1得られるプラ
ズマ処理条件を見い出し、低温プラズマ放電グラフト重
合法による高分子基材の表面改質法の実用化を可能にし
本発明を完成した。
The present inventors have discovered plasma treatment conditions that can stabilize the amount of graft polymer, and have completed the present invention by making it possible to put into practical use a method for surface modification of polymeric substrates by low-temperature plasma discharge graft polymerization.

本発明の最も特徴的な事は、前記の特開昭59−804
43に詳細に記載されているようなグラフト量を、プラ
ズマ処理時間の微妙な調整でコントロ、□パ −ルしようとするものではなく、安定した量のラ   
、)ジカル重合可能な活性点を生成する低温プラズマ処
理を施し、単量体と併用して使用する遷移金属塩および
グラフトff重合反応条件によって、見かけのグラフト
取合体の量をコントロールしようとするものである。
The most characteristic feature of the present invention is the above-mentioned Japanese Patent Application Publication No. 59-804.
The amount of grafting is controlled by delicate adjustment of the plasma treatment time as described in detail in 43.It is not an attempt to pearl, but a stable amount of pearl.
,) A method in which low-temperature plasma treatment is performed to generate active sites capable of radical polymerization, and the apparent amount of graft aggregates is controlled by the transition metal salt used in combination with the monomer and the graft ff polymerization reaction conditions. It is.

以下1本発明を;iF、f’illに説明する。The present invention will be explained below.

本発明でいう高分子基材とは1両、Ii;1.絹、木材
などの天然C;分子、あるいにポリコースチル、ポリエ
ーテル、ポリアミド、ポリアクリロニトリル。
The polymer base material referred to in the present invention is 1. Natural C such as silk and wood; molecules, as well as polycoastyl, polyether, polyamide, and polyacrylonitrile.

ポリエチレン、ポリプロピ1/ン、ポリエチレン、ポリ
カーボネート、場化ビニルh 1ljA化ビニリデン。
Polyethylene, polypropylene, polyethylene, polycarbonate, vinylidene compound.

酢酸セルロース、セロファン、 A B S j、Bl
、 7 pリル樹脂、メタクリル樹脂、フタノール蝮(
脂、エリア樹脂、メラミン樹脂、エポキシ4ji JI
# 等の脅威高分子が序げられる。
Cellulose acetate, cellophane, A B S j, Bl
, 7 p-lyl resin, methacrylic resin, phthanol resin (
fat, area resin, melamine resin, epoxy 4ji JI
Threat polymers such as # are introduced.

また、これらの高分子基材の組成Fi即、独である必要
はなく、2種以上の混合物、2棟以」二のブロック共重
合体であってもなんらさしつかえない。
Furthermore, the composition Fi of these polymeric base materials does not necessarily have to be unique, and may be a mixture of two or more types or a block copolymer of two or more types.

形状においても41i維状、板状、シート状1円筒状。In terms of shape, it is 41i fiber-like, plate-like, sheet-like, and cylindrical.

ブロック状など、いかなる形状であつ又も良いが。Any shape, such as a block shape, is fine.

本発明はフィルム及び繊維成形物に特にJへするもので
ある。特に繊維成形物はフィラメント糸、紡績糸もしく
は編物でも織物でも良く、またこれらの成形物が染色加
工、 11脂加工なとの処J:J!、をさitていても
なんらさしつかえない。染色加工や叫脂加工と低温プラ
ズマ放電グラフトiJf廿H云#/l<みに組み合わせ
ること九より6柚1)1jピをイjする湧材。
The present invention is particularly directed to films and fiber molded articles. In particular, the fiber molded product may be filament yarn, spun yarn, knitted fabric, or woven fabric, and these molded products may be dyed or processed with 11 fat J:J! , there is no harm in ignoring it. Dyeing, processing and low-temperature plasma discharge grafting can be combined with 9 to 6 yuzu 1) 1j pi.

表裏Ni1機能機能中有基材や超耐久性の拘脂I−を有
する基材、耐久性の優れ1と高元色基44.十渉(訣H
Bを有する基材等多方面への応用がOJ能となるっ少な
くとも片面を、低温プラズマ処理することにより、基材
の片面にラジンノル点合ar ht5:よ活性点を生成
することが可能である。また両面ンこ低温プラズマ処理
を施せば、基材両面に活性点を与えることが可能である
。これらの処理面tよ口LI’J KL6じて適時選択
されるべきものでl>I)、Qlに限定されるものでは
ない。
Front and back Ni1 function base material with medium function and super durable resin I-, excellent durability 1 and high original color base 44. Ten battles (Tsuku H)
It is possible to generate active points on one side of the substrate by treating at least one side with low-temperature plasma. . Furthermore, if both sides are subjected to low-temperature plasma treatment, it is possible to provide active sites on both sides of the base material. These processing planes t, LI'J, and KL6 should be selected at the appropriate time (l>I), and are not limited to Ql.

木兄ゆJでいうとこりのポリエチし・ンデし・フル−ト
とは、繰り返し格造早位の少なくとも幻75チが、 o
−G−ooc−@−co (但し−G−は2〜18炭素
原子を含み1オ11炭素原子によ!j Mの酸素赤子と
結びついている2価の不桧茫)の単位で4うる如き、グ
リコールジカルボキシレート縁り返しh’j造単位を意
味するものである。テレフタレート&は繰り返し構造単
位の唯一のジカルボキシレート成分でおってもよく、萱
だは1り返しくI“’i y”、亙C7j位の約25矛
1ではアジペート、セバケート、イノフタレート、ピベ
ンゾエート、ヘキサヒトロチレフクレート、ジフェノキ
シエタン−4,4′−ジカルボキソレート、5−スルホ
・イソフタレート基の如キ他のジカルボキシレートを含
んでいても艮い。グリコール類としてはエチレングリコ
ール、テトラメチレングリコール、ヘキサメチレンクリ
コール等のポリメチレングリコール、2.2−ジメチル
−1゜3−グロバンジオールの如き枝鎖グリコール、ジ
エチレングリコール、あるいはこれらの混合物も使用で
きる。要すれは、約15%までの高分子量ポリエチレン
グリコールの如き高級グリコールも添加使用できる。艶
消剤、光沢改良剤、変色防止剤、無機微粒子等の色々の
他の物質も要すれば重合混合物に加えてもよい。
In Kienyu J, Kotori's polyechishi, ndeshi, and flute are at least phantom 75chi, which is repeated in the early position of the case, o.
-G-ooc-@-co (however, -G- contains 2 to 18 carbon atoms and has 1 o 11 carbon atoms!j) The unit of 4 is 4 times the divalent fuhii which is bonded to the oxygen baby of M. It means a glycol dicarboxylate rim-shaped unit such as h'j. Terephthalate & may be the only dicarboxylate component of the repeating structural unit, with I"'i y" repeated once, and adipate, sebacate, inophthalate, pi, etc. It is acceptable even if it contains other dicarboxylates such as benzoate, hexahytrotylephrate, diphenoxyethane-4,4'-dicarboxolate, and 5-sulfo-isophthalate groups. As the glycols, polymethylene glycols such as ethylene glycol, tetramethylene glycol and hexamethylene glycol, branched chain glycols such as 2,2-dimethyl-1.3-globandiol, diethylene glycol, or mixtures thereof can also be used. If desired, up to about 15% higher glycols such as high molecular weight polyethylene glycols can also be used. Various other substances such as matting agents, gloss improvers, anti-tarnish agents, inorganic particulates, etc. may also be added to the polymerization mixture if desired.

本発明でいう低温プラズマ放′11iは17−ク放電や
コロナ放電とは異なる気体放電であり、プラズマを構成
するイオン棟としテ、  Ar、 He、 N2、N2
、N(J2.02. Air、フッ化炭素、ハロゲン化
炭素等。
The low-temperature plasma discharge 11i referred to in the present invention is a gas discharge different from a 17-corona discharge or a corona discharge.
, N (J2.02. Air, fluorocarbon, halogenated carbon, etc.

あるいはこれらを混合した気体等を用い、直流、交流1
局周波電源などでプラズマを兄生きセる0この場合、真
全下のガス雰囲気中において反流高周波電源により、1
cIn以上1Ocrn以下の電極間間隔を有する電極間
にプラズマを発生させることが好ましいが、真を度が高
真績の場せには′1画間距離を拡け、真窒匿が低真堕の
場合には1!!A間距離を狭めると良い。
Alternatively, using a gas mixture of these, direct current, alternating current 1
In this case, a counter current high frequency power source is used to generate plasma in the gas atmosphere directly below the plasma.
It is preferable to generate plasma between electrodes having an inter-electrode spacing of cIn or more and 1Ocrn or less, but when the true degree is high, the distance between the strokes is increased by '1', and when the true degree is low, the distance between the strokes is widened. 1! ! It is better to narrow the distance between A.

両電極は板状あるいは棒状の電極がそれぞれ対となった
ものでも、また棒状電極とドラム状あるいは板状電極と
を、それぞれ対に組み合わせたものでもいずれも用いる
ことが出来る。さらに電極表面にガラスおよびセラミッ
クス等を被覆したものでも良い。また電極は必要に応じ
て冷却または加温しても良い。
Both electrodes may be a pair of plate-shaped or rod-shaped electrodes, or a combination of a rod-shaped electrode and a drum-shaped or plate-shaped electrode, respectively. Furthermore, the electrode surface may be coated with glass, ceramics, or the like. Further, the electrode may be cooled or heated as necessary.

低温プラズマ処理装置は缶体に対し1一方の電極が接地
した電極あるいは缶体に対して両電極が絶縁された非接
地式電極の・いずれを用いてもよいが非接地式電極を使
用すれは、電力が接地式の約172で同等の処理を施す
ことが出来る長所を有する0 本発明でいう酸素を含4了シないラジカル重合可能な活
性点を形成しうるガスとは、 Ar、 He、 N2、
N2 、 NO2、NO,C(J2、CO,ハロゲン、
ハロゲン化炭素、フッ化炭素等、あるいはこれらを混合
した気体である。次いで、酸素ガスを含4Tするガスの
代表的なものとして酸素、孕気があ々。酸素を含廟する
カスは特に隅丸されるものではなく、前記ガスを混合し
た気体であってもなんらさしつかえない。
Low-temperature plasma processing equipment may use either an electrode with one electrode grounded to the can body or an ungrounded electrode with both electrodes insulated from the can body, but it is not possible to use an ungrounded electrode. , which has the advantage of being able to perform the same treatment with a grounded type electric power of about 172. In the present invention, gases that can form radically polymerizable active sites that do not contain oxygen include Ar, He, N2,
N2, NO2, NO, C (J2, CO, halogen,
It is a gas such as halogenated carbon, fluorinated carbon, or a mixture of these. Next, oxygen and fertility are representative gases containing 4T. The corners of the oxygen-containing dregs are not particularly rounded, and a mixture of the above gases may be used.

本発明Vこかかわる低温プラズマ処理条件は放電に際し
τのガス圧力と処到!電気エネルギーで定めることが出
来る。
The low temperature plasma processing conditions related to the present invention V are the gas pressure of τ during discharge! It can be determined by electrical energy.

低温プラズマ処理におをする該ガス圧力は、0.01同
N2以上20 rrrra My以下であることが必決
1ある。
The gas pressure applied to the low-temperature plasma treatment must be 0.01 N2 or more and 20 rrrra My or less.

すなわち0.01 w Hf以下での実用化は、厳密な
装置を必要とするので好ましくない。20門kiy以上
では放電が不安定となり局5i的な放1)1が生じ、基
材に損傷を与えやすくなり、活性点も生成しにくくなる
。本発明のガス圧力は好ましくは0.05rmH2以上
10w)iy以下の範囲である。さらに対ましくは0.
1問Hp以上0.2 tan kiy以下である。この
範囲では基材に損傷を与えることなく1木兄り」省らが
鋭意検討した軸回において最も多くのラジカル重合可能
な活性点を生成する事がわかった。即ち。
That is, practical use at 0.01 w Hf or less is not preferable because it requires a precise device. At 20 kiy or more, the discharge becomes unstable and a local discharge 1) 1 occurs, which tends to damage the base material and makes it difficult to generate active points. The gas pressure of the present invention is preferably in the range of 0.05rmH2 or more and 10w)iy or less. More preferably 0.
1 question is Hp or more and 0.2 tan ki or less. It was found that within this range, the largest number of active sites capable of radical polymerization is generated in the axial rotation that was intensively investigated by Shishi et al., without causing damage to the base material. That is.

高いグラフト1合体量を必要とする時0.1關H7以上
0.2 tn k11以下でプラズマ処理することは■
匁な方法である。通常的には0.05 trrm Hf
以上10 rrra kb以下の範囲で十分である。
When a high amount of graft 1 is required, plasma treatment at 0.1 to H7 or more and 0.2 tn or less to K11 is recommended.
It's an elegant method. Usually 0.05 trrm Hf
A range of 10 rrra kb or more is sufficient.

基材がシート状物の場合、ドラム式あるいは板状電極を
使用して、ドラム式あるいは板状mb上を接しながら、
固定あるいは移動させることにより1片面のみ均一なラ
ジカル重合可能な活性点を有するシート状物をイ!する
ことか可能である。片面に活性点を有するシート状物の
もの一方の[l1lrヲ同様に処理することにより両面
に活性点ケ有するシート状物となる。
When the base material is a sheet-like material, using a drum type or plate-shaped electrode, while contacting the drum type or plate-shaped mb,
By fixing or moving it, you can create a sheet-like material that has uniform radically polymerizable active sites on only one side! It is possible to do so. A sheet-like material having active points on one side is processed in the same manner as one of the two, to obtain a sheet-like material having active points on both sides.

また、電極間に電極に接することなく、固定らるいは移
動させることによシ両血にノ4−なラジカル車台可能な
活性点?生成することができる。
In addition, by fixing or moving the active points between the electrodes without touching the electrodes, it is possible to generate radicals in both blood. can be generated.

低温プラズマ処理における該処理電気エネルギーは、1
ワット・抄/−以上2000ワット・秒/ tri以下
でめることが必要である。該処理′IE気エネルギーッ
ト)、T;処理時間(秒)、S;電極面積Cc、)で示
すことができる。該処理電気工ネルキーが1ワット・秒
/−以下では、4?開昭59−80443の実施例に比
較的高いグラフト重合体敏を得ることが出来、かつこの
範囲でプラズマ処理時間によりグラフト重合体量を自由
にコントロール出来る旨が記載されている。たしかにl
ワット・抄/d以下でそのような傾向が確かめられた。
The processing electrical energy in low temperature plasma processing is 1
It is necessary to set the value between watts/min and 2000 watts/tri. It can be expressed as the treatment time (seconds), S: electrode area Cc, ). If the processing electrician energy is less than 1 watt-second/-, 4? It is described in Examples of 1984-80443 that a relatively high graft polymer sensitivity can be obtained and that the amount of graft polymer can be freely controlled within this range by changing the plasma treatment time. Certainly l
Such a tendency was confirmed below Watts/d.

しかし、クラフト重合体賞を自由にコントロールする方
法としては。
However, as a way to freely control the craft polymer award.

宗りにプラズマ処理時間の調節幅が狭く、実際には細か
なコントロールは困難である。ま1ヒ、該処理電気エネ
ルギーが2000ワット・秒/ crti以上であると
1缶体及び基材に損傷を生じるおそれがめり実用にはむ
かない。本発明において特に好ましい該処理電気エネル
ギーは5ワット・抄/m以上1000ワット・秒/cr
A以下である。特に、通常のグラフト1合に使用する基
材の処理は5ワット・抄/crA以上50ワット・秒/
6A以下のラジカル重合可能なr占性点生成量の安定し
た範囲のプラズマ処理を行うことが、実用上、生産管理
上からも好ましい。しかるに見かけのグラフト重合体量
のコントロールは、単量体と併用される遷移金属塩、お
よびグラフト重合反応条件によシ可能である。また、高
い見かけのグラフト重合体竜が必要であれば、50ワッ
ト・秒/−以上2000ワット・秒/−以下の処理電気
エネルギーの中から適時選択することが可能である。
Unfortunately, the adjustment range for plasma treatment time is narrow, and detailed control is difficult in practice. However, if the processing electrical energy exceeds 2,000 watts/sec/crti, there is a risk of damage to the can body and the base material, making it unsuitable for practical use. In the present invention, the particularly preferable processing electric energy is 5 watts/m or more and 1000 watts/sec/cr.
A or below. In particular, the treatment of the base material used for normal grafting is 5 watts / crA or more 50 watts / seconds /
Practically and from the viewpoint of production control, it is preferable to perform the plasma treatment in a stable range of the amount of radically polymerizable r-occupied points of 6A or less. However, the apparent amount of graft polymer can be controlled by the transition metal salt used in combination with the monomer and the graft polymerization reaction conditions. Moreover, if a graft polymer with high appearance is required, it is possible to appropriately select the processing electrical energy from 50 watts/- to 2000 watts/-.

低温プラズマの発生は、前記ガス圧と処理電気エネルギ
ー下で対放電電極間に周波数5 KHz〜100 MH
zのような高−波を用いることが出来る。
The low-temperature plasma is generated between the counter discharge electrodes at a frequency of 5 KHz to 100 MH under the above gas pressure and processing electric energy.
High waves such as z can be used.

さらに放電周波数帯としては、前記高周波以外に低周波
、マイクロ波、直流なども用いることが出   76゜
よm 7’ 5 X−qい、や7.。、1.え  °)
内部電極型あるいは外部電極型コイル型などの容量結合
、誘導結合型のいずれであってもよい。
Furthermore, as the discharge frequency band, in addition to the above-mentioned high frequency, low frequency, microwave, direct current, etc. can also be used. . , 1. Eh)
It may be a capacitive coupling type such as an internal electrode type or an external electrode coil type, or an inductive coupling type.

表面をプラズマ処理された該茫1]ば1次いで酸素ガス
又は酸素ガスを會イ了する混合ガス(てふれさせるか、
または大気中へ取シ出し、プラズマ処理により基材表面
に生成したラジ刀ル屯合r′IJ龍l活性点と酸素を反
応させる。cil、索ガスわるいは、酸素ガスを含Mす
る混合ガス中で、プラズマ処理したものはこの操作ケす
る必要はない。
[1] The surface of the sintered surface has been plasma-treated, and then oxygen gas or a mixed gas containing oxygen gas (e.g.,
Alternatively, it is taken out into the atmosphere and reacted with oxygen and active sites generated on the surface of the base material by plasma treatment. It is not necessary to carry out this operation if the specimen is plasma-treated in a filtration gas, or a mixed gas containing oxygen gas.

このように処理された基相上のラジカル5(合可能な粘
性点の生成りjは、lOモルフ’c+4以−ヒ10モル
A(以下でるる。活性点の生成量か10 モル/ cr
l以下たと、見かけのグラフト重合体のj=は少ない。
The radical 5 on the base phase treated in this way (the generation of viscous points that can be combined is 10 mol A (below) from lOmorph'c+4 to 10 mol/cr).
When it is less than 1, the apparent value of j= of the graft polymer is small.

また、本発明者らの詳細な実験映討によると活性点の生
成M、’!ilOモル/cAす、上にするためには多量
のエネルギーが必要であり、実用上コストが高くなりす
ぎる。特にグラフト小会に好ましいl占性点の童はl 
Omol/7以上1.0mo17’c++!以下である
0 このようにして処理された該、’A 4;j を仄いて
0.1饅以上90%以下の1種以上のラジカル重合可能
な羊抗体分散准と、0.0001%以上O1%以下の遷
移金属塩分数取に、あるいは、該単j1(体と該り移金
属塩の混合分数取にふれさせる。
Also, according to detailed experimental studies conducted by the present inventors, the generation of active points M,'! A large amount of energy is required to increase ilO mol/cA, and the cost becomes too high for practical use. In particular, children with l divination points that are favorable for graft sessions are l
Omol/7 or more 1.0mo17'c++! The thus treated sheep antibody dispersant containing at least 0.1 and not more than 90% of one or more radically polymerizable sheep antibody dispersants and not less than 0.0001% O1 % or less, or touch the mixed fraction of the transition metal salt with the single body.

該晶相を単kL体分散阪および毒移金掬j益にふ九させ
るに際し、その組み廿せおよび順Hはり1に駕めるもの
でにない。
When converting the crystal phase into monokL-dispersed particles and toxic transfer metals, the combination and sequence of the process cannot be overstated.

該基拐をそれぞれの分散液にふれきせる方法は授漬、塗
布・斤特に足めるものではない。女は、ラジカル重合可
能な活性点を有する基材tく而にふれれば良いのである
There are no particular methods for applying the base material to each dispersion, such as dipping, coating, or spreading. All a woman has to do is touch a base material that has active sites capable of radical polymerization.

ラジカル重合可能な活性点を有する核元材を該単量体あ
るいは該遷移金属塩にふれさせるに際しあらかじめ該基
材表面を0. l trayr Hf以上100 rt
rm liy以下の真空脱気あるいは高圧不活性ガスを
ふきつけることにより、基材の含有する酸素ガスあ・よ
び不純物等を洗滌することによジグラフト重合反工6が
より容易に進行する。また該単量体等とふれさせて真空
脱気等を行なってもなんらさしつかえない0 また、該基tオと単it体および工l移金包緘をふれさ
せる前あるいは後、または反応中、各分散ill中に不
活性ガスを導入して脱tea ;≠することによりグラ
フト車台反応がより容易に進行する。
Before bringing the core material having active sites capable of radical polymerization into contact with the monomer or the transition metal salt, the surface of the base material is heated to 0. l trayr Hf or more 100 rt
The digraft polymerization reaction 6 progresses more easily by washing away oxygen gas and impurities contained in the base material by vacuum degassing or blowing with high pressure inert gas at a pressure of less than rm liy. There is no problem even if the monomer is brought into contact with the monomer, etc. and then subjected to vacuum degassing.In addition, before or after contacting the monomer, etc. with the monomer and the monomer, or during the reaction, The graft reaction proceeds more easily by introducing an inert gas into each dispersed ill to remove tea.

該単量体分tli、(I!La’LLIri o、 t
 %[上90 %以下テある。好ましくはo、i’>以
上50%以ドでるる。
The monomer fraction tli, (I!La'LLIri o, t
%[Upper 90% or less. Preferably o, i'>50% or more.

この範囲であれは、該遷移雀璃塩を用いることによりホ
モ原付反応を抑制し、見刀1けのグラフト車合体量r増
大またはコントロールすることが容易である。
Within this range, it is easy to suppress the homo-moped reaction and increase or control the amount r of grafted vehicles combined by using the transition makuri salt.

該迦移省属塩分数取一度は、0.0001チ以上l伽以
下である。0.0001%以−トの場合、ホモ取合反応
抑制効果は極めて低く実用に(+=4− Lない。さら
に1%以上の場合、該ハエへの着色が著しくなり実用的
ではない。また該単量体?M匪、該反応温度。
The amount of salinity involved in the transfer is not less than 0.0001 and not more than 1. If it is 0.0001% or more, the effect of suppressing the homozygous reaction is extremely low and cannot be used in practical use (+=4-L).Furthermore, if it is 1% or more, the flies will become too colored to be practical. The monomer ?M, the reaction temperature.

該反応時間によって該遷移金屑塩濃丸を変えることによ
り見かけのグラフト亀合体、−を増大あるいはコントロ
ールすることが可能でhる。
It is possible to increase or control the apparent graft polymerization by changing the concentration of transition gold scraps depending on the reaction time.

該反応温度は室温あるいは20℃以上80′C以下が好
ましい。最適温度は単tt体の反応性単紮体嬢度、遠移
金属塩龜度、反応時間により適時選択されるべきであり
、特に限定出来るものではない。
The reaction temperature is preferably room temperature or 20°C or more and 80'C or less. The optimum temperature should be appropriately selected depending on the degree of reactivity of the monoconjugate, the degree of distant metal salinity, and the reaction time, and cannot be particularly limited.

該反応時間はlO秒以上lO時間以下の範囲で行なう。The reaction time is in the range of 10 seconds or more and 10 hours or less.

反応時間は1反応方法1反応温ut、trtit体?I
!II波、ii移金楓塩瀬吸“等により迷択aれるべさ
であシ・特に限定出来るものではない。
Reaction time: 1 reaction method 1 reaction temperature ut, trtit body? I
! It is not something that can be particularly limited, as it is difficult to make a choice due to the II wave, II transfer money Kaede Shiose suction, etc.

該グラフト車台反応の方法は、該基材を単量体及び遷移
金属塩の混合@准にふれさせると同時に。
The grafting reaction method involves simultaneously exposing the substrate to a mixture of monomers and transition metal salts.

加熱する方法と、該混@浴故にふれさせ7このらに適度
に絞シ加熱する方法、さらには該基材を反応装置内で熱
処理後、viちに該混合毎液に触れさせ同う尊もしくは
別途加熱する方法のいずれで行なっても良い。また前述
の如く単量体と遷移戴践塩とを別々に基材にふれさせて
、上記グラフト重合反応を行なってもなんらさしつかえ
ない。
There is a method of heating the mixed solution, a method of heating the mixed solution by squeezing the mixture appropriately, and a method of heating the substrate by squeezing it moderately. Alternatively, the heating may be carried out by a separate heating method. Furthermore, as described above, there is nothing wrong with carrying out the above-mentioned graft polymerization reaction by contacting the monomer and the transition base salt separately with the base material.

グラフト重合反応装置内は酸素を排除した方が好ましく
1例えば反応装置内の大気および単量体遷移金属塩混合
阜gあるいは単量体電数、遷移金属塩浴液中の溶存酸素
は窒素ガスあるいは池の不活性ガスで置換するか、該浴
数の場合、該浴媒をあらかじめ煮沸脱気したのち不活性
ガスで置換するかあるいは基材と該単量体および遷移金
属頃浴7医と接触させた後、尚圧水蒸′〉(中へ基材を
導入して#1.素を出来るだけ取り除いた方が好ましい
It is preferable to exclude oxygen from the inside of the graft polymerization reactor (1) For example, in the atmosphere in the reactor, the monomer transition metal salt mixture, the monomer charge, and the dissolved oxygen in the transition metal salt bath solution, nitrogen gas or Either replace the bath medium with an inert gas in the bath, or in the case of this number of baths, boil and deaerate the bath medium in advance and replace it with an inert gas, or contact the substrate with the monomer and transition metal in the bath. After this, it is preferable to introduce the base material into the base material and remove as much of the #1 element as possible.

該単・耽体分数取が非水浴性弔爪体と乳化剤を含む水性
媒体から成るものであっても、ラジカル重合を阻害しな
い無機微粒子、たとえば、5iOz。
Inorganic fine particles, such as 5iOz, that do not inhibit radical polymerization even when the monomer fraction consists of a non-water-bathable nail body and an aqueous medium containing an emulsifier.

k12<J3 %を含有しているものであつ°Cも何等
さしつかえない。
As long as it contains k12<J3%, there is no problem with the temperature at °C.

本発明で用いられるラジカル取合OI能な単量体は、7
1時用途に応じて選択きれるべきもので、特に限定され
るものではない。該ラジカルil(合可能な単量体とは
、炭素−炭素二Il(紹介をMする化合物で、ラジカル
を生長末端としてIn廿していく単量体である。たとえ
ば、アクリルアミド、N−n−ブトキシメチルアクリル
アミド、N−メチロールアクリルアミドなとのアクリル
アミド化付物。
The radical-binding OI-capable monomer used in the present invention is 7
It should be possible to select one depending on the intended use and is not particularly limited. The monomers that can combine with the radical are carbon-carbon compounds, and are monomers that combine with the radical as the propagating terminal. For example, acrylamide, N-n- Acrylamidation adducts with butoxymethylacrylamide, N-methylolacrylamide, etc.

アクリル酸、メチルアクリレート、エナルアクリレート
、N−ブナルアクリレート、グリ7ジルアクリレート、
2−ジメチルアミノエチルアクリレート、2−3−ジグ
ロムプロヒルアクリレート。
Acrylic acid, methyl acrylate, enal acrylate, N-buna acrylate, glyc7dyl acrylate,
2-dimethylaminoethyl acrylate, 2-3-diglomoprohylacrylate.

ジエチレングリコールジアクリレート、2−ヒドロキシ
エチルアクリレート、メトキシポリエチレングリコール
アクリレートなどのアクリル化@物、メタクリル酸、メ
チルメタクリレート、ブチルメタクリレート、イソブチ
ルメタクリレート、ターシャリ−ブチルメタクリレート
、グリシジルメタクリレート、エチレングリコールジメ
タクリレート、2−ジメチルアミノエテルメタクリレー
ト。
Acrylated @ products such as diethylene glycol diacrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, methoxypolyethylene glycol acrylate, methacrylic acid, methyl methacrylate, butyl methacrylate, isobutyl methacrylate, tertiary-butyl methacrylate, glycidyl methacrylate, ethylene glycol dimethacrylate, 2-dimethylamino Ether methacrylate.

テトラヒドロフリフリルメタクリレート、トリメチロー
ルプロパントリメタクリレート、メタクリルプロヒルス
ルホン酸ソーダなどのメタクリル化合物、ジビニルベン
ゼン、2−ビニルピリジン。
Methacrylic compounds such as tetrahydrofurfuryl methacrylate, trimethylolpropane trimethacrylate, sodium methacrylprohylsulfonate, divinylbenzene, 2-vinylpyridine.

N−ビニル−2−ピロリドン、ビニル酢酸などのビニル
化合物、スチレン、スチレンスルフオン酸ソーダなどの
スチレン化合物などが挙げられる。
Examples include vinyl compounds such as N-vinyl-2-pyrrolidone and vinyl acetic acid, and styrene compounds such as styrene and sodium styrene sulfonate.

本発明で用いられる遷移金属塩は、F’eα2゜(NO
4)2Fe(SO2)2、Cuα、Cu(NO3)2 
、 Cu5L)4、Cuα2、N1(NO3)2. C
o(NO3)2. Cr(Nus)2. Pb(NO3
)2.  Liαなどが挙げられ、基材、単量体、反応
条件前に応じ、目的にめった遷移金属塩を選択すること
が可能である。
The transition metal salt used in the present invention is F'eα2° (NO
4) 2Fe(SO2)2, Cuα, Cu(NO3)2
, Cu5L)4, Cuα2, N1(NO3)2. C
o(NO3)2. Cr(Nus)2. Pb(NO3
)2. Examples include Liα, and it is possible to select a transition metal salt suitable for the purpose depending on the base material, monomer, and reaction conditions.

該基材表面に形成した該単1if一体のクラフト重合反
応生成物中に1よ、グラフト重合体、耐久性良好なホモ
ボ合体、耐久性不艮なホモIJ(合体、未反応単堆体弄
が@まれる。該クラフト重合反応生成物を、該単量体お
よび一車付体の艮61媒を用いて該良俗碌の沸点より3
5℃〜65“C低い温度の良俗媒中で洗浄、あるいは超
音波洗浄をすることにより、未反応単二通体および耐久
性不良のホモ風台体を除去することによシ得られたもの
を見かけのグラフト取合層とする。すなわち、見かけの
グラフト亀ば盾とはグラフト重合体と耐久性良好なホモ
重合体を含む見かけのクラフト重合体より成る。
In the monolithic kraft polymerization reaction product formed on the surface of the base material, 1, a graft polymer, a homozygote with good durability, a homozygote with poor durability (coalescence, unreacted monopolymerization) The kraft polymerization reaction product is heated to 3°C from the boiling point of the kraft polymer by using the monomer and the 61 medium of the monomer.
The product obtained by removing unreacted AA bodies and homo-like bodies with poor durability by washing in a commercial medium at a temperature of 5℃ to 65"C or by ultrasonic cleaning. The apparent graft bonding layer is made of an apparent craft polymer containing a graft polymer and a homopolymer having good durability.

さらに見かけのグラフト取合層を、該車台体の艮溶媒を
用いて該溶媒の沸点より0゛C〜25℃近い温匿の溶媒
で洗浄あるいは超音波洗浄することKよシ耐久性良好な
ホモ重合体をも除去したものをグラフト取合層とする。
Furthermore, the apparent graft bonding layer can be washed with a hot solvent or ultrasonically cleaned using the solvent of the vehicle body at a temperature close to 0°C to 25°C above the boiling point of the solvent. The layer from which the polymer is also removed is used as a graft binding layer.

グラフト重合層は、クラフト重合体より成るものである
The graft polymer layer is made of a kraft polymer.

該基材表面に形成した該単量体のグラフト重合反応生成
物中の耐久性不良なホモ重合体および未反応単fjt体
を化学的、物理的方法により取り除く工程を、グラフ)
k台反応後行なうことにより耐久性の良い見かけのクラ
フトa台層金VIることが01能である。化学的、物理
的方法とは水洗、俗媒抽出、Bi廿波洗浄外である。
The process of removing by chemical and physical methods the homopolymer with poor durability and the unreacted single fjt form in the graft polymerization reaction product of the monomer formed on the surface of the base material (graph)
By carrying out the K-type reaction, it is possible to obtain a kraft A-type layer with good durability. Chemical and physical methods include washing with water, extraction with common solvents, and Bi-wave cleaning.

この工程と前記取合反応条件によシ該単量体の兄かけの
グラフト重合層中の耐久性良好なホモ重曾体含有儀をコ
ントロールすることかり能でめる〇見かけのグラフト重
合り中に90%以下の耐久性民好なホモ重合体を含有す
ることにより、各裡目的に応じた本合層を形成すること
が可能である。
Through this process and the above-mentioned combination reaction conditions, it is possible to control the homopolymer content with good durability in the graft polymerization layer of the monomer. By containing 90% or less of a durable homopolymer, it is possible to form a main laminated layer according to each purpose.

本発明の利点は(υ本発明の方法によると、従来の放電
グラフト取合層にくらべ、ホモ重合体の形成を抑制又は
コントロールすることが可能である。
Advantages of the present invention are (υ) According to the method of the present invention, it is possible to suppress or control the formation of homopolymers compared to conventional discharge grafting layers.

(2)本発明の方法によって生成した活性点は酸素と接
触させること罠より長時間安尾なものとなり。
(2) The active sites generated by the method of the present invention remain active for a longer time than when they are brought into contact with oxygen.

必要な時使用することが可能である。これは生産  ゛
′管理上人さな利点となる。(8)本発明により形成さ
れた見かけのグラフト重汁層は、基材と化学的に結合し
ているため耐久性忙すぐれている。(4)本発明により
形成された見かけのクラフト重合ノ咎中のホモ車せ体含
有貝を任意に変えることにより各種用途に応じることが
口■能となる。
It can be used when necessary. This is a great advantage for production and management. (8) The apparent graft layer formed according to the present invention has excellent durability because it is chemically bonded to the base material. (4) It is possible to suit various uses by arbitrarily changing the homo-carcass-containing shell in the apparent kraft polymerization polymer formed according to the present invention.

以下笑施的により不発!夕(を説明する。The following is a dud due to lol! Explain evening.

尖施し111 畠密゛友ホリエテレンフイルム(厚き60μm〕をメタ
ノールでソックスレー抽出を行つノコのち乾燥し試料と
した。これらのフィルム片を非接地式プラズマjlL 
Mk IL7Vこより1周波d 5 kliz 、 ア
ルゴンガス圧力0.04 ma My下1種々の出力、
および処理時間で両面を処理したのち空気中に取り出し
、i0%7り’) ルア ミドと0.005%(min
 )2 F’e (S04 )2の混合水浴敵中に浸漬
し系内をN2歇侯後封管した。
Sharpening 111 Hatamitsu Tomo Holie Telelen film (thickness: 60 μm) was subjected to Soxhlet extraction with methanol and then dried and used as a sample.These film pieces were subjected to non-grounded plasma processing
Mk IL7V 1 frequency d 5 kliz, argon gas pressure 0.04 ma My 1 various outputs,
After processing both sides for
)2 F'e (S04)2 was immersed in a mixed water bath and the system was sealed with N2 water.

グラフト重合は封管のまま50℃で2時間おこない取合
終了後未反応率1疏体およびホモ重合体を800の熱水
により取り除いた後減圧乾燥した。
Graft polymerization was carried out at 50° C. for 2 hours in a sealed tube, and after the completion of the combination, unreacted 1 cone and homopolymer were removed with 800℃ hot water and then dried under reduced pressure.

プラズマ処理後、窒気に触れさセることにより生成した
ラジカル取付可能な活性点の矩−t+には以下の様に行
なった。
After the plasma treatment, the active points -t+, which were generated by being exposed to nitrogen gas and capable of attaching radicals, were treated as follows.

ラジカル捕捉剤である2、2−ジフェニール−1−ピク
リルヒドラジルのベンセンi谷欣中に、活1点を有する
フィルムを浸漬60℃で加熱し、γ自費2、2−ジフェ
ニール−1−ピクリルヒドラジル蚤を比色法により求め
、それをラジカル取付可能な活性点の量とした。
A film with one active point was immersed in benzene i Tanikin of 2,2-diphenyl-1-picrylhydrazyl, which is a radical scavenger, and heated at 60°C. The amount of ruhydrazyl fleas was determined by a colorimetric method and used as the amount of active sites capable of radical attachment.

また、グラフトしたアクリルアミドの定tI/′i。Also, the constant tI/'i of the grafted acrylamide.

以下のDK行った。まず、2.5規冗の塩酸中にグラフ
ト化ポリエチレンフィルムを浸漬110℃で加熱し、ク
ラフトポリアクリルアミドを加水分解後ニンヒドリンを
加えて発色させ、比色法によって分解液中のNHs基を
検量線と比較して定量した。
I went to the following DK. First, a grafted polyethylene film was immersed in 2.5 liters of hydrochloric acid and heated at 110°C. After hydrolyzing the kraft polyacrylamide, ninhydrin was added to develop a color, and the NHs group in the decomposed solution was measured using a colorimetric method using a calibration curve. Quantitated by comparing with

比較例1 実施例1に従って処理した高密度ポリエチレンフィルム
を(NH4)2Fe(SO4)2 Oない状態で10%
アクリルアミド水溶水溶忙中漬し、実施例1と同椋な後
処理をした。
Comparative Example 1 A high density polyethylene film treated according to Example 1 was prepared at 10% in the absence of (NH4)2Fe(SO4)2O.
The sample was soaked in an aqueous acrylamide solution and subjected to the same post-treatment as in Example 1.

実施例1より明らかなように、プラズマ処理電気エネル
ギーによシ、活性点の量は、5ワット・秒/−以上50
ワット・秒/d以下で安定していた。さらに電気エネル
ギーを旨くすると、活性点の蹟は増大した。また、活性
点の世が、安定していれば、ゲラブト重合体の量も比較
的高い賛で安定していた。さらに、活性点の量が増加す
ると伴r(グラフト重合体の量は増大した。遷移金属塩
の存在によシ、グラフト重合反応系内の溶液粘度は、変
化せず、ホモ重合反応が、抑制されていた。また、グラ
フト重合体の量も本条件では多少、増加していた。
As is clear from Example 1, the amount of active points due to the plasma treatment electrical energy is 5 watts/second or more.
It was stable at watts/second/d or less. When the electrical energy was further increased, the number of active sites increased. Furthermore, if the active site world was stable, the amount of gelabut polymer was also stable at a relatively high level. Furthermore, as the amount of active sites increased, the amount of graft polymer increased.Due to the presence of the transition metal salt, the solution viscosity in the graft polymerization reaction system did not change, and the homopolymerization reaction was suppressed. The amount of graft polymer also increased somewhat under these conditions.

実施例2 ポリエステル布(JIS添付添付ツタツク110KHz
(D高周波電源を使用し、0.64 w/−の出力で、
片面のみを40秒1.下記表に示すArガス圧力下で処
理した。この布帛を空気中に取り出し下記表に示す単量
体・遷移金属塩混合水溶液に浸漬し、系内を真空脱気後
N2下、下記表に示す反応温度で30分間反応させた後
、未反応単斌体およびホモ重合体f、80℃の熱水によ
シ抽出除去した。
Example 2 Polyester cloth (JIS attached attachment 110KHz
(Using a D high frequency power supply, with an output of 0.64 w/-,
1. 40 seconds on one side only. The treatment was carried out under the Ar gas pressure shown in the table below. This fabric was taken out into the air and immersed in a mixed aqueous solution of monomers and transition metal salts shown in the table below, and the system was vacuum degassed and reacted for 30 minutes under N2 at the reaction temperature shown in the table below. The monopolymer and homopolymer f were removed by extraction with hot water at 80°C.

実施例2よシ、単量体濃度および重合反応温度を高める
ことによシ、グラフト重合体の量はあきらかに増大した
。また、遷移金属塩(NHす2 Fe (5O4)2の
濃度が1%以上の場合、基材があきらかに茶褐色に着色
し実用に値しなかつ念。また0、0OO1%以下の場合
、ホモ重合反応を抑制する効果は、はとんどなく1反応
系の粘度は極端に上昇しホモ重合体の除去が、困難とな
った。
As in Example 2, the amount of graft polymer was clearly increased by increasing the monomer concentration and the polymerization reaction temperature. In addition, if the concentration of transition metal salt (NHS2Fe(5O4)2 is 1% or more, the base material will be obviously colored brown and it is not practical.) The effect of suppressing the reaction was insufficient, and the viscosity of the reaction system increased extremely, making it difficult to remove the homopolymer.

さらに種々のArガス圧力下、低温プラズマ処理したの
ち、グラフト重合反応を試みたと仁ろ、Arガス圧力0
.1 msHg以上0.2 mHg以下で、グラフト重
合体の墓は、最高となった。
Furthermore, after low-temperature plasma treatment under various Ar gas pressures, a graft polymerization reaction was attempted.
.. At 1 msHg or more and 0.2 mHg or less, the grave of the graft polymer was the highest.

実施例3 ポリエステル100%のジョーゼット(DiankxB
lack  BG−FS 10%(o、 w、 f、)
染色加工布)を13.56 MHzの高周波電源を使用
し、 Arガス圧力0.2闘Hgド、1.24ワット/
−の出方で、缶体に対して絶縁された非接地式を極上1
片面のみを40秒低温プラズマ処理し、酸素ガスに触れ
させた。
Example 3 100% polyester georgette (DiankxB
rack BG-FS 10% (o, w, f,)
dyed fabric) using a 13.56 MHz high frequency power source, Ar gas pressure of 0.2 to Hg, and 1.24 watts/
-, the best 1 non-grounded type insulated against the can body.
Only one side was subjected to low temperature plasma treatment for 40 seconds and exposed to oxygen gas.

該処理布帛を反応液と触れさせる前に、真空度5ffJ
HgF10秒Δ空脱気し、あらかじめ窒素ガスを十分に
尋人して脱〔波累した20%のソデュームスルホンロヒ
ルメタクリレートと0.001チの(NL知lI″べ5
OO2の混合水浴液に授漬後、 N2下、60Cで20
分間反応ちせた。こうして侍られた処理布間欠% 40
℃の温流水で充分洗浄して未反応単h(体および耐久性
不良なホモ重合体を除去し、見かけのグラフト重合層を
有する布帛を得た。さらに80℃の熱流水で、充分洗浄
し、耐久性良好なホモへ合体をも除去してグラフト重合
層を有する布7fJを得た。
Before bringing the treated fabric into contact with the reaction solution, the degree of vacuum is 5ffJ.
HgF was degassed for 10 seconds, and 20% sodium sulfone rohil methacrylate and 0.001 g of (N.L.
After immersion in a mixed water bath solution of OO2, it was heated at 60C for 20 minutes under N2.
I reacted for a minute. Intermittent treated cloth served in this way% 40
The fabric was thoroughly washed with hot running water at 80°C to remove unreacted monoh(h) and homopolymer with poor durability, and a fabric with an apparent graft polymer layer was obtained. , Cloth 7fJ having a graft polymerization layer with good durability was obtained by removing the homogeneous coalescence.

見かけのグラフト重合層およびグラフ) +ft合層は
M晴6Iり定により求めた。
Apparent graft polymerization layer and graph) The +ft polymerization layer was determined by M Sei 6I determination.

グラフト重合反応系の粘度上昇は見られず、得られた見
かけのグラフト重合層を有する布帛およびグラフト重合
l−を有する布帛ともに、洗たく50回の耐久試験には
十分耐える片面親水様11目を有していた。
No increase in the viscosity of the graft polymerization reaction system was observed, and both the fabric with the apparent graft polymerization layer and the fabric with graft polymerization l- had a single-sided hydrophilic 11 mesh that could withstand a durability test of 50 washes. Was.

実施1!7IJ4 ナイロン100%のタック(J I S 添付布)を1
10 KHzの高周波′rt源を使用し、空気圧力0.
15+xmHg下、0.64ワツト/ C10の出力で
、両面を10秒低温プラズマ処理したのち、ただちに、
20%のへギサフルオロプチルメタクリレート、1%の
ポリスチレンスルホン酸ンーダそして0.05%の七−
ル氏塩を含む水分散漱中に8!漬し、絞シ率80チでマ
ングルにかけたのち、120℃の過熱水蒸気中に10分
間放置後、メタノールで洗浄した。
Implementation 1! 7IJ4 100% nylon tack (JIS attached cloth)
A high frequency 'rt source of 10 KHz was used and an air pressure of 0.
Immediately after applying low-temperature plasma treatment on both sides for 10 seconds at an output of 0.64 watts/C10 under 15+xmHg,
20% hegisafluoroptyl methacrylate, 1% polystyrene sulfonate and 0.05% hexafluoroptyl methacrylate.
8 in water dispersion and rinsing containing Le Mr. Salt! After soaking and mangling at a squeezing rate of 80 inches, the pieces were left in superheated steam at 120°C for 10 minutes, and then washed with methanol.

グラフト重合体の量は2重量測定の結果140μ2/−
であった。本グラフト重合反応の系内の粘匹上昇は見ら
れず、得られたグラフト重合層を有する布帛は、洗たく
50回の耐久試験に耐える艮好な両面撥水機能を有して
いた。          ))
The amount of graft polymer was 140μ2/- as a result of two weight measurements.
Met. No increase in viscosity in the graft polymerization reaction system was observed, and the resulting fabric with the graft polymerization layer had excellent water-repellent properties on both sides that withstood a durability test of 50 washes. ))

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

化1図は晶密庇ポリエチレンフィルムをプラズマ処理し
た腸盆の、ラジカル重合可能な活性点のiと処理成気エ
ネルギー噴との関係を示す図でめる口
Figure 1 is a diagram showing the relationship between i of the active point capable of radical polymerization and the treatment energy jet in a plasma-treated intestinal tray made of crystal-tight polyethylene film.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1)高分子物質から成る基材の少なくとも片面を、0.
01mmHg以上20mmHg以下の酸素ガスを含有し
ないラジカル重合可能な活性点を形成しうるガス圧下、
電気エネルギー1ワット・秒/cm^2以上2000ワ
ット・秒/cm^2以下の低温プラズマ処処理をしたの
ち、酸素ガス又は酸素ガスを含有する混合ガスにふれさ
せるか、あるいは0.01mmHg以上20mmHg以
下の酸素ガスを含有するガス圧下、電気エネルギー1ワ
ット・秒/cm^2以上2000ワット・秒/cm^2
以下の低温プラズマ処理をし、該基材に10^−^1^
1モル/cm^2以上10^−^8モル/cm^2以下
のラジカル重合可能な活性点を形成させ、該活性点を形
成した該基材を、0.1%以上90%以下の1種以上の
ラジカル重合可能な単量体分散液と0.0001%以上
1%以下の遷移金属塩分散液とに、あるいは該単量体と
該遷移金属塩の混合分散液に、触れさせ、室温あるいは
加熱することにより、該基材表面に該単量体の見かけの
グラフト重合層を形成することを特徴とする表面改質法
。 2)高分子物質から成る基材がシート状、繊維状である
特許請求の範囲第1項記載の表面改質方法。 3)高分子物質から成る基材が、ポリエチレンテレフタ
レートである特許請求の範囲第1項、第2項いずれかに
記載の表面改質方法。 4)高分子物質から成る基材が、染色加工、樹脂加工等
を施こされた基材である特許請求の範囲第1項、第2項
、第3項のいずれかに記載の表面改質法。 5)低温プラズマ処理を缶体に対して絶縁された非接地
式電極にて行なうことを特徴とする特許請求の範囲第1
項〜第4項のいずれかに記載の表面改質法。 6)該単量体の見かけのグラフト重合層が、90%以下
の耐久性良好なホモ重合体を含むことを特徴とする特許
請求の範囲第1項〜第5項のいずれかに記載の表面改質
法。 7)ラジカル重合可能な単量体分散液が、非水溶性単量
体と乳化剤を含む水性媒体から成ることを特徴とする特
許請求の範囲第1項〜第6項のいずれかに記載の表面改
質法。 8)ラジカル重合可能な単量体分散液あるいは遷移金属
塩分散液に該基材をふれさせる前あるいは後、または反
応中、分散液中に不活性ガスを導入して、脱酸素するこ
とを特徴とする特許請求の範囲第1項〜第7項のいずれ
かに記載の表面改質法。 9)ラジカル重合可能な活性点を形成した該基材をラジ
カル重合可能な単量体分散液あるいは、遷移金属塩分散
液にふれさせるに際し、あらかじめ該基材表面を真空脱
気あるいは高圧不活性ガスをふきつけることにより、洗
滌することを特徴とする特許請求の範囲第1項〜第8項
のいずれかに記載の表面改質方法。 10)該基材表面に形成した該単量体のグラフト重合反
応生成物中、耐久性不良なホモ重合体および未反応単量
体を、化学的、物理的方法により、取り除くことを特徴
とする特許請求の範囲第1項〜第9項のいずれかに記載
の表面改質方法。
[Claims] 1) At least one side of a base material made of a polymeric substance is coated with 0.
Under a gas pressure of 01 mmHg or more and 20 mmHg or less that does not contain oxygen gas and can form active sites capable of radical polymerization,
After performing low-temperature plasma treatment with electrical energy of 1 watt/sec/cm^2 to 2000 watts/cm^2 or less, expose to oxygen gas or a mixed gas containing oxygen gas, or 0.01 mmHg to 20 mmHg. Under gas pressure containing the following oxygen gas, electrical energy of 1 watt/sec/cm^2 or more 2000 watt/sec/cm^2
The following low-temperature plasma treatment is applied to the base material for 10^-^1^
1 mol/cm^2 or more and 10^-^8 mol/cm^2 or less of active points capable of radical polymerization are formed, and the base material on which the active points have been formed is treated with 0.1% or more and 90% or less of 1 A dispersion of radically polymerizable monomers of 0.0001% or more and 1% or less of a transition metal salt, or a mixed dispersion of the monomer and the transition metal salt are brought into contact with each other, and the mixture is heated to room temperature. Alternatively, a surface modification method comprising forming an apparent graft polymerized layer of the monomer on the surface of the substrate by heating. 2) The surface modification method according to claim 1, wherein the base material made of a polymeric substance is in the form of a sheet or fiber. 3) The surface modification method according to claim 1 or 2, wherein the base material made of a polymeric substance is polyethylene terephthalate. 4) Surface modification according to any one of claims 1, 2, and 3, wherein the base material made of a polymeric substance is a base material that has been subjected to dyeing processing, resin processing, etc. Law. 5) Claim 1, characterized in that the low-temperature plasma treatment is performed with a non-grounded electrode insulated from the can body.
The surface modification method according to any one of Items 1 to 4. 6) The surface according to any one of claims 1 to 5, wherein the apparent graft polymerization layer of the monomer contains 90% or less of a homopolymer with good durability. Modification method. 7) The surface according to any one of claims 1 to 6, wherein the radically polymerizable monomer dispersion consists of an aqueous medium containing a water-insoluble monomer and an emulsifier. Modification method. 8) A feature of deoxidizing the dispersion by introducing an inert gas into the dispersion before or after contacting the base material with a radically polymerizable monomer dispersion or a transition metal salt dispersion, or during the reaction. A surface modification method according to any one of claims 1 to 7. 9) Before contacting the base material on which radically polymerizable active sites are formed with a radically polymerizable monomer dispersion or transition metal salt dispersion, the surface of the base material is degassed in vacuum or with a high-pressure inert gas in advance. 9. The method for surface modification according to any one of claims 1 to 8, characterized in that cleaning is carried out by wiping the surface with water. 10) Homopolymers with poor durability and unreacted monomers are removed from the graft polymerization reaction product of the monomers formed on the surface of the substrate by chemical or physical methods. A surface modification method according to any one of claims 1 to 9.
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