JPS615492A - Memory device - Google Patents

Memory device

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JPS615492A
JPS615492A JP59125157A JP12515784A JPS615492A JP S615492 A JPS615492 A JP S615492A JP 59125157 A JP59125157 A JP 59125157A JP 12515784 A JP12515784 A JP 12515784A JP S615492 A JPS615492 A JP S615492A
Authority
JP
Japan
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load
memory cell
active
speed
word line
Prior art date
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Pending
Application number
JP59125157A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Kinya Mitsumoto
光本 欽哉
Hideaki Uchida
英明 内田
Hideyuki Aoki
英之 青木
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Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Publication date
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Publication of JPS615492A publication Critical patent/JPS615492A/en
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Abstract

PURPOSE:To attain simultaneously the reduction in power consumption of a memory device and its speed-up by activating memory cells of bistable circuit only when active and passive loads for comprising said circuits together with two sets of switching elements are not selected or selected. CONSTITUTION:Memory cells of bistable circuit are constituted of two sets of npn bipolar transistors Q1 and Q2 for forming a cross-linking switching element and a load, which is formed by pnp bipolar transistors Q3 and Q4 connected to a word line W2 and resistances R1 and R2 connected to a word line W1. The resistances R1 and R2 and the transistors Q3 and Q4 serve as a load at the time of selection of the memory cell and at the time of non-selection of said cell, respectively. Accordingly an action speed at selection is sped up, and a holding current at nonselection is reduced; therefore the reaction in power consumption of the memory device and its speed-up can be obtained simultaneously.

Description

【発明の詳細な説明】 〔技術分野〕 この発明は、記憶装置技術さらには半導体装置に適用し
て特に有効な技術に関するもので、たとえば、バイポー
ラ型スタチックRAMの低消費電力化と高速化に利用し
て有効な技術に関するものである。
[Detailed Description of the Invention] [Technical Field] The present invention relates to a technology that is particularly effective when applied to storage device technology and also to semiconductor devices. For example, it can be used to reduce power consumption and speed up bipolar static RAM. It is related to effective technology.

〔背景技術〕[Background technology]

例えば、記憶装置として多く使用されているものの一つ
としてスタチックRA M p<ある。このスタックR
AMの多くは、2組のスイッチング素子と負荷とによっ
て構成される2安定回路を記憶セルとして用いる。
For example, static RAM is one of the storage devices that is widely used. This stack R
Most AMs use a bistable circuit configured with two sets of switching elements and a load as a memory cell.

スタチックR,A Mの中でも、特にバイポーラ型のも
のは概して高速であるために、高速性を要求される用途
には、ECLなどとともに多く使用されている。
Among static R and AM types, bipolar types in particular are generally high-speed, and are therefore often used together with ECL and the like in applications that require high-speed performance.

ところで、そのバイポーラ型のスタチックRAMを例に
とってみると、この種のRAMは、その記憶セル内に使
用されている負荷の種類によって分類される。その分類
は大きく分けて2つある。
By the way, taking the bipolar type static RAM as an example, this type of RAM is classified according to the type of load used in its memory cell. There are two main classifications.

その一つは、抵抗などの受動素子を負荷として用いるも
のである。今一つは、トランジスタなどの能動素子を負
荷として能動的に動作させるものである。後者の例とし
ては1例えば1983年11月28日に株式会社サイエ
ンスフォーラム発行の超LSIハンドブック340,3
41頁に記載されているpnp負荷型記憶セルが典型的
である。
One of them is to use a passive element such as a resistor as a load. The other type is to actively operate an active element such as a transistor as a load. An example of the latter is 1, for example, VLSI Handbook 340, 3 published by Science Forum Co., Ltd. on November 28, 1983.
The pnp load storage cell described on page 41 is typical.

第1図はバイポーラ型スタチックRAMに用いられる記
憶セルの一例を示す。同図に示す記憶セルは一種の2安
定回路をなすものであって、2組のスイッチング素子と
受動負荷によって構成される。スイッチング素子として
はnpn型バイポーラトランジスタQl、Q2が使用さ
れる。また、受動負荷としては抵抗R1,R2が使用さ
れる。
FIG. 1 shows an example of a memory cell used in a bipolar static RAM. The memory cell shown in the figure forms a type of bistable circuit, and is composed of two sets of switching elements and a passive load. NPN bipolar transistors Ql and Q2 are used as switching elements. Furthermore, resistors R1 and R2 are used as passive loads.

各トランジスタQ]、、Q2のコレクタはそれぞれ抵抗
R1,R2を介してワード線Wに接続される。
The collectors of the transistors Q], , Q2 are connected to the word line W via resistors R1 and R2, respectively.

また、トランジスタQl、Q2はそれぞれ2つのエミッ
タ電極を有する。その各一方のエミッタ電極は共通接続
されてワード帰線Cに接続される。
Further, transistors Ql and Q2 each have two emitter electrodes. Each one of the emitter electrodes is commonly connected to a word return line C.

その各他方のエミッタ電極はそれぞれビット線Bl、B
2に接続される。記憶データの読出あるいは書込みは、
そのビット線Bl、B2を介して行なわれる。
The other emitter electrodes are connected to the bit lines Bl and B, respectively.
Connected to 2. Reading or writing memory data is
This is done via the bit lines B1 and B2.

第1図に示した受動負荷型の記憶セルでは、トランジス
タQl、Q2が非飽和(あるいは低飽和状態)で動作す
ることによって高速で動作することができる、という長
所がある。しかし、そのために非選択時においても、い
ずれか一方の抵抗R1,R2を介して比較的大きな電流
を流し続けなければならない。つまり、非選択時におけ
る保持電流が多く、このために記憶装置全体の消費電力
が大きくなる、という欠点があった。
The passive load type memory cell shown in FIG. 1 has the advantage that it can operate at high speed because the transistors Ql and Q2 operate in a non-saturated (or low-saturated) state. However, for this reason, a relatively large current must continue to flow through one of the resistors R1 and R2 even when not selected. In other words, there is a drawback that a large amount of holding current is required during non-selection, which increases the power consumption of the entire storage device.

第2図はバイポーラ型スタチックRAMに用いられる記
憶セルの別の例を示す。同図に示す記憶セルも一種の2
安定回路をなす。この記憶セルは2組のスイッチング素
子と能動負荷によって構成される。この記憶セルでは、
スイッチング素子としてはnpn型バイポーラトランジ
スタQl。
FIG. 2 shows another example of a memory cell used in a bipolar static RAM. The memory cell shown in the figure is also a type of 2
Forms a stable circuit. This memory cell is composed of two sets of switching elements and an active load. In this memory cell,
The switching element is an npn bipolar transistor Ql.

Q2が使用されるが、負荷としては能動素子であるpn
p型バイポーラトランジスタQ3.Q4が使用される。
Q2 is used, but the active element pn is used as a load.
p-type bipolar transistor Q3. Q4 is used.

スイッチング素子としての各トランジスタQl、 Q2
のコレクタはそれぞれ、能動負荷であるpnp型バイポ
ーラトランジスタQ3゜Q4を介してワード線Wに接続
される。また、スイッチング素子としてのトランジスタ
Ql、Q2はそれぞれ2つのエミッタ電極を有する。そ
の各一方のエミッタ電極は共通接続されてワード帰線C
ら接続される。その各他方のエミッタ電極はそれぞれビ
ット線Bl、B2に接続される。記憶データの読出しあ
るいは書込みは、そのビット線BL、B2を介して行な
われる。
Each transistor Ql, Q2 as a switching element
The collectors of the transistors are respectively connected to the word line W via pnp bipolar transistors Q3 and Q4, which are active loads. Further, transistors Ql and Q2 as switching elements each have two emitter electrodes. The emitter electrodes on each side are connected in common to the word return line C.
connected. The other emitter electrodes are connected to bit lines B1 and B2, respectively. Reading or writing of stored data is performed via the bit lines BL, B2.

同図に示した能動負荷型の記憶セルでは、第1図の場合
とは反対に、トランジスタQl、Q2の導通状態に伴っ
て負荷としてのpnp型バイボー゛ ラトランジスタQ
3.Q4の導通状態も変化する。
In the active load type memory cell shown in the same figure, contrary to the case shown in FIG.
3. The conduction state of Q4 also changes.

つまり、負荷インピーダンスが非直線的に変化する。こ
れによって、非常に少ない定常電流でもって記憶状態を
保持し続けることができる。従って。
In other words, the load impedance changes non-linearly. This allows the memory state to be maintained with a very small steady-state current. Therefore.

非選択時の保持電流は、第1図のものに比べると著しく
低くなる。このために、記憶装置全体の消費電力を小さ
くすることができる、という長所がある。しかし、スイ
ッチング素子としてのトランジスタQl、Q2および負
荷としてのトランジスタQ3.Q4はいずれも深い飽和
状態で動作する。
The holding current when not selected is significantly lower than that shown in FIG. This has the advantage that the power consumption of the entire storage device can be reduced. However, transistors Ql and Q2 as switching elements and transistor Q3 . Both Q4s operate in deep saturation.

このため、選択時における書込みに対し5ての動作応答
がどうしても鈍くなる傾向があった。つまり、動作速度
が遅いという欠点があった。
For this reason, the operational response of 5 to writing during selection tends to be slow. In other words, there was a drawback that the operating speed was slow.

以上のように、従来の記憶装置では、動作速度が速いと
消費電流が大きく、消費電流が小さいと動作速度が遅い
という背反があって、低消費電力化と高速化とを両立し
て達成させるということは、非常に困難なことであった
As described above, in conventional storage devices, there is a trade-off between high operating speed and high current consumption, and low current consumption and slow operating speed. That was extremely difficult.

〔発明の目的〕[Purpose of the invention]

この発明の目的は、低消費電力化と高速化とを両立して
達成することができるようにした記憶装置技術を提供す
るものである。
An object of the present invention is to provide a storage device technology that can achieve both low power consumption and high speed.

この発明の前記ならびにそのほかの目的と新規な特徴に
ついては、本明細書の記述および添付図面から明らかに
なるであろう。
The above and other objects and novel features of the present invention will become apparent from the description of this specification and the accompanying drawings.

〔発明の概要〕[Summary of the invention]

本願において開示される発明のうち代表的なものの概要
を簡単に説明すれば、下記のとおりである。
A brief overview of typical inventions disclosed in this application is as follows.

すなわち、記憶装置における記憶セル内にて、受動負荷
と能動負荷を選択と非選択に応じて使い分けるようにす
ることにより、低消費電力化と高速化とを両立して達成
できるようにする、という目的を達成するものである。
In other words, by selectively using passive loads and active loads in memory cells of a memory device depending on whether they are selected or not, it is possible to achieve both low power consumption and high speed. It accomplishes its purpose.

〔実施例〕〔Example〕

以下、この発明の代表的な実施例を図面を参照しながら
説明する。
Hereinafter, typical embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.

なお、図面において同一符号は同一あるいは相当部分を
示す。
In the drawings, the same reference numerals indicate the same or corresponding parts.

第3図は、この発明の一実施例による記憶装置の記憶セ
ルを示す。
FIG. 3 shows a memory cell of a memory device according to an embodiment of the invention.

同図に示す記憶セルは、一種の2安定回路をなすもので
あって、2組のスイッチング素子と負荷によって構成さ
れる。スイッチング素子としてはnpn型バイポーラト
ランジスタQl、Q2が使用される。また、負荷として
は能動負荷と受動負荷の2種類が各記憶セルごとに使用
される。そして、能動負荷としてはpnp型バイポーラ
トランジスタQ3.Q4が使用され、受動負荷としては
抵抗R1,R2が使用される。
The memory cell shown in the figure forms a type of bistable circuit, and is composed of two sets of switching elements and a load. NPN bipolar transistors Ql and Q2 are used as switching elements. Furthermore, two types of loads, active loads and passive loads, are used for each memory cell. The active load is a pnp bipolar transistor Q3. Q4 is used, and resistors R1 and R2 are used as passive loads.

上記受動負荷としての抵抗R1,R2は、スイッチング
素子としてのバイポーラトランジスタQl、Q2のコレ
クタと第1ワード線W1との間にそれぞれ接続される。
The resistors R1 and R2 as passive loads are connected between the collectors of bipolar transistors Ql and Q2 as switching elements and the first word line W1, respectively.

また、上記能動負荷としてのpnp型バイポーラトラン
ジスタQ3.Q4は、上記スイッチング素子としてのn
pn型バイポーラトランジスタQl、Q2のコレクタと
第2ワード@W2との間に接続される。さらに、このp
np型バイポーラトランジスタQ3.Q4と上記npn
型バイポーラトランジスタQl、Q2は、一方のベース
と他方のコレクタとが相互に接続し合うことにより、そ
のnpn型バイポーラトランジスタQl、Q2の導通状
態に応じて等価的な負荷インピーダンスが変化する能動
負荷として動作するようになっている。 さらに、上記
スイッチング素子としてのnpn型バイポーラトランジ
スタQl、Q2はそれぞれ2つずつのエミッタ電極を有
する。その各      11′一方のエミッタ電極は
それぞれビット線Bl。
Further, the pnp type bipolar transistor Q3. Q4 is n as the above switching element.
It is connected between the collectors of pn type bipolar transistors Ql and Q2 and the second word @W2. Furthermore, this p
np type bipolar transistor Q3. Q4 and above npn
The NPN bipolar transistors Ql and Q2 function as active loads whose equivalent load impedance changes depending on the conduction state of the npn bipolar transistors Ql and Q2 by connecting the base of one side and the collector of the other to each other. It's supposed to work. Furthermore, the npn type bipolar transistors Ql and Q2 as the switching elements each have two emitter electrodes. One emitter electrode of each 11' is a bit line Bl.

B2に接続される。記憶データの続出あるいは書込は、
そのビット線Bl、B2を介して行なわれる。また、そ
の各他方のエミッタ電極は互いに共通接続されてワード
帰線Cに接続される。このワード帰線Cには、非選択時
の保持電流を流すための定電流回路Islと、選択時の
動作電流を流すための定電流回路Is2が接続されてい
る。
Connected to B2. Successive output or writing of memory data is
This is done via the bit lines B1 and B2. Further, the other emitter electrodes are commonly connected to each other and connected to the word return line C. A constant current circuit Isl for passing a holding current during non-selection and a constant current circuit Is2 for passing an operating current during selection are connected to this word return line C.

次に、その動作について説明する。Next, its operation will be explained.

上記記憶セルが非選択のときは、第1ワ°−ド線W1は
IILI+  (低レベル)の非能動状態にある一方、
第2ワード、線W2はII HII  (高レベル)の
能動状態にある。従って、この非選択状態では、第2ワ
ード線W2から供給される電流によってpnP型バイポ
ーラトランジスタQ3.Q4による能動負荷だけが負荷
として機能する。これにより、記憶セルは、その能動負
荷によって、非常に少ない保持電流でもって、その記憶
内容を保持し続けることができる。
When the memory cell is not selected, the first word line W1 is in an inactive state of IILI+ (low level),
The second word, line W2, is in the active state II HII (high level). Therefore, in this non-selected state, the current supplied from the second word line W2 causes the pnP type bipolar transistors Q3. Only the active load due to Q4 functions as a load. This allows the storage cell to continue retaining its stored contents with very little retention current due to its active load.

また、上記記憶セルが選択されたときは、第1ワード線
WIはit Hn  (高レベル)の能動状態になる一
方、第2ワード線W2はIILl#  (低レベル)の
非能動状態になる。従って、この選択状態では、第一ワ
ード線W1から供給される電流によって抵抗R1,R2
による受動負荷が負荷として機能するようになる。これ
により、記憶セルは、その受動負荷によって非飽和状態
(あるいは低飽和状態)で高速動作する。これにより、
その記憶セルにおける記憶データの書換えを高速で行な
わせることができるようになる。
Furthermore, when the memory cell is selected, the first word line WI is in an active state of it Hn (high level), while the second word line W2 is in an inactive state of IILl# (low level). Therefore, in this selected state, the current supplied from the first word line W1 causes the resistors R1 and R2 to
The passive load due to this will now function as a load. As a result, the memory cell operates at high speed in a non-saturated state (or in a low-saturated state) due to its passive load. This results in
Memory data in the memory cell can be rewritten at high speed.

以上のようにして、記憶セルを選択時のみ受動負荷で動
作させて、それ以外の非選択時には能動負荷で動作させ
るようにすることにより、選択時の動作速度を速めるこ
とができるとともに、非選択時の保持電流を非常に少な
くすることができる。
As described above, by operating the memory cell with a passive load only when it is selected, and operating it with an active load when it is not selected, it is possible to increase the operating speed when it is selected, and The holding current can be made very small.

この結果、低消費電力化と高速化が両立して達成される
ようになる。
As a result, both low power consumption and high speed can be achieved.

なお、上記実施例では2つのワード線Wl。Note that in the above embodiment, there are two word lines Wl.

W2を選択して相補的に駆動するようにしていた。W2 was selected and driven in a complementary manner.

しかし、第2ワード線W2からはきわめて僅かな保持電
流しか流れない。従って、選択するのは第1ワード線W
1だけとし、第2ワード線W2は−定レベルに固定して
上記保持電流だけを常時流し続けるようにしてもよい。
However, only a very small holding current flows from the second word line W2. Therefore, the first word line W is selected.
1, and the second word line W2 may be fixed at a - constant level so that only the above-mentioned holding current continues to flow at all times.

また、例えば第4図に示すように、受動負荷としての抵
抗R1,R2にそれぞれクランプ用シミツトキーバリヤ
・ダイオードDI、D2を並列に接続してもよい。これ
により、そのダイオードD1..D2によるクランプ効
果によって、スイッチング素子としてのnpn型バイポ
ーラトランジスタQl、Q2の非飽和度がさらに高めら
れて、選択時における動作速度が一層向上させられるよ
うになる。
Furthermore, as shown in FIG. 4, for example, Schmittkey barrier diodes DI and D2 for clamping may be connected in parallel to resistors R1 and R2 as passive loads, respectively. This causes the diode D1. .. Due to the clamping effect of D2, the degree of desaturation of the npn bipolar transistors Ql and Q2 as switching elements is further increased, and the operating speed at the time of selection is further improved.

〔効果〕〔effect〕

(1)各記憶セル内の負荷として能動負荷と受動負荷の
2種類を設けるとともに、非選択時には能動負荷の方だ
けを動作させて、受動負荷は選択時だけ動作させるよう
にしたことにより、記憶装置の低消費電力化と高速化と
を両立して達成することができる、という効果が得られ
る。
(1) By providing two types of loads in each memory cell, active loads and passive loads, only the active load operates when not selected, and the passive load operates only when selected. The effect is that it is possible to achieve both lower power consumption and higher speed of the device.

以上本発明者によってなされた発明を実施例にもとづき
具体的に説明したが、この発明は上記実施例に限定され
るものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更
可能であることはいうまでもない。例えば、上記受動負
荷はトランジスタなどの能動素子を用いたもの、あるい
はダイオードなどであってもよい。
Although the invention made by the present inventor has been specifically explained above based on examples, it goes without saying that this invention is not limited to the above-mentioned examples, and can be modified in various ways without departing from the gist thereof. Nor. For example, the passive load may be one using an active element such as a transistor, or a diode.

〔利用分野〕[Application field]

以上の説明では主として本発明者によってなされた発明
をその背景となった利用分野であるバイポーラ型スタチ
ックRAM技術に適用した場合について説明したが、そ
れに限定されるものではなく1例えば、MO8型スタチ
ックRAM技術などにも適用できる。
In the above explanation, the invention made by the present inventor was mainly applied to bipolar static RAM technology, which is the background field of application, but the invention is not limited thereto. It can also be applied to technology.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は従来の記憶装置に用いられている受動負荷型記
憶セルの一例を示す回路図、 第2図は従来の記憶装置に用いられている能動負荷型記
憶セルの一例を示す回路図、 第3図はこの発明の一実施例による記憶装置に    
   □用いられる記憶セルを示す回路図、 第4図はこの発明の別の実施例による記憶装置に用いら
れる記憶セルを示す回路図である。 W、Wl、W2・・・ワード線、Bl、B2・・・ビッ
ト線、C・・・ワード帰線、Ql、Q2・・・スイッチ
ング素子(npn型バイポーラトランジスタ)、R1,
R2・・・受動負荷(抵抗)、’Q3.Q4・・・能動
負荷、Dl、、D2・・・クランプ用ショットキーバリ
ヤ・ダイオード、Isl、Is2・・・定電流回路。 第  1   図        第  2  図第 
 3  図 第  4  図
FIG. 1 is a circuit diagram showing an example of a passive load type memory cell used in a conventional memory device, FIG. 2 is a circuit diagram showing an example of an active load type memory cell used in a conventional memory device, FIG. 3 shows a storage device according to an embodiment of the present invention.
□Circuit diagram showing a memory cell used FIG. 4 is a circuit diagram showing a memory cell used in a memory device according to another embodiment of the present invention. W, Wl, W2... word line, Bl, B2... bit line, C... word return line, Ql, Q2... switching element (npn type bipolar transistor), R1,
R2...Passive load (resistance), 'Q3. Q4... Active load, Dl, D2... Schottky barrier diode for clamp, Isl, Is2... Constant current circuit. Figure 1 Figure 2 Figure 2
Figure 3 Figure 4

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1、2組のスイッチング素子と負荷によって構成される
2安定回路を記憶セルとして用いる記憶装置であって、
各記憶セルごとにそれぞれ、上記負荷として能動負荷と
受動負荷の2種類を設けるとともに、非選択時には能動
負荷の方だけを動作させて、受動負荷は選択時だけ動作
させるようにしたことを特徴とする記憶装置。 2、上記スイッチング素子としてnpn型バイポーラト
ランジスタを用いるとともに、上記能動負荷としてpn
p型バイポーラトランジスタを用いたことを特徴とする
特許請求の範囲第1項記載の記憶装置。
[Scope of Claims] A memory device using a bistable circuit constituted by one or two sets of switching elements and a load as a memory cell,
The feature is that two types of loads are provided for each memory cell, an active load and a passive load, and only the active load is operated when not selected, and the passive load is operated only when selected. storage device. 2. An npn bipolar transistor is used as the switching element, and a pn bipolar transistor is used as the active load.
The memory device according to claim 1, characterized in that a p-type bipolar transistor is used.
JP59125157A 1984-06-20 1984-06-20 Memory device Pending JPS615492A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP59125157A JPS615492A (en) 1984-06-20 1984-06-20 Memory device

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2008102876A1 (en) 2007-02-22 2008-08-28 Asahi Kasei Chemicals Corporation Polymer-(organo)clay complex, composition comprising the complex, sheet-like material comprising the complex or composition, and method for production of polymer-(organo)clay complex

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2008102876A1 (en) 2007-02-22 2008-08-28 Asahi Kasei Chemicals Corporation Polymer-(organo)clay complex, composition comprising the complex, sheet-like material comprising the complex or composition, and method for production of polymer-(organo)clay complex

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