JPS6143677A - Icプロセス用フイルム - Google Patents

Icプロセス用フイルム

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JPS6143677A
JPS6143677A JP59164328A JP16432884A JPS6143677A JP S6143677 A JPS6143677 A JP S6143677A JP 59164328 A JP59164328 A JP 59164328A JP 16432884 A JP16432884 A JP 16432884A JP S6143677 A JPS6143677 A JP S6143677A
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JP
Japan
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film
water
organic compound
soluble organic
parts
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JP59164328A
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Osamu Narimatsu
成松 治
Michiyasu Ito
伊藤 道康
Kazuyoshi Komatsu
小松 和義
Yasuhiro Shibata
柴田 康広
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Mitsui Toatsu Chemicals Inc
Original Assignee
Mitsui Toatsu Chemicals Inc
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明はIC製造工程にお(・て′使用される粘着剤付
フィルム、4IK塵埃汚染があっても簡単に洗浄除去が
可能なICプロセス用フィルムに関するものである。
(従来の技術) 半導体集積回路(IC)は通常、高純度シリコン単結晶
等をスライスしてウェハとした後、エツチング等により
集積回路を組み込み、グイシングしてチップ化する方法
で製造されているが、これらの各工程において、クリコ
ンウェハの破損を防止したり、加工を容易にするため、
ウェハ表面に粘着剤層を介して貼りつけるICプロセス
用フィルムが用いられている。
しかして、このXCプロセス用フィルムの製造工程ある
いは輸送、保管中において空気中の塵埃か付着すること
があり、このプロセス用フィルムを使用した場合、ウェ
ハ表面に塵埃が転着しウェハ腐食等による半導体の品質
低下、更には機能喪失等の問題をひき起す。
従って、IC製造工程においては、プロセス用フィルム
を使用した後には必ずウニ八表面の洗浄をするが、従来
のプロセス用フィルムではいかなる洗浄剤及び洗浄方法
な使用してもウニ八表面に付着した塵埃の除去が困難で
あるという欠点を有している。これは粘着剤に付着した
塵埃の周りを疎水性の樹脂粘着剤が包んでいるため、洗
浄剤で洗浄しても溶解除去する事が不可能なためである
(発明が解決しようとする問題点) 本発明はシリコンクエバ等の表面に塵埃が転着しても容
易に洗浄除去できるICプロセス用フィルムを提供する
事?目的とする。
(問題点を解決するための手段) 本発明者らは上記目的を達成するため粘着剤層組成につ
いて鋭意検討した結果、水に溶ける有機化合物または表
面張力を低下させる界面活性剤を粘着剤に添加したもの
は親水性洗浄剤で簡単に洗浄除去することができる事を
見い出し1本発明を完成した。
即ち本発明は合成樹脂フィルムの少なくとも片面K、水
溶性有機化合物および/又は非イオン系界面活性剤を含
有する水エマルジョン系粘着剤層を塗布することを特徴
とするICプロセス用フィルムである。
本発明に用いる水浴性有機化合物としては、例工&−J
’−/エチレングリコールモノブチルエーテル。
トリエチレングリコールモノメチルエーテル、エチレン
グリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコール
モツプチルエーテルアセテート等カあげられ、このうち
好ましくは沸点が100℃以上更に好ましくは150℃
以上のものである。
沸点が100℃未満では粘着剤塗工時に飛散しやすく、
洗浄除去効果が乏しくなるので好ましくない。
また、非イオン系界面活性剤としては、例えばホリオキ
シエチレンオクチルフェノールエーテル。
アルカノールアマイド、ポリオキシエチレンノニルフェ
ノールエーテル、ポリエチレングリコール。
ポリエチレンラウリルエーテル等である。アニオン系、
カチオン系の界面活性剤では陰イオン、iイオン化され
ウエノ・表面を腐食するので使用でき−ない。
本発明でいう水エマルジョン系粘着剤とは、例えばメタ
クリル酸メチル、アクリル酸ブチル、アクリル酸−2−
エチルヘキシル、アクリル酸エチル等の(メタ)アクリ
ル酸エステルモノマーに乳化剤、イオン水、重合開始剤
を添加し水中でエマルジョン重合した粘着剤であり、モ
ノマー組成の選択については必要とする接着力に応じ適
宜行う事が可能である。こうして重合された水エマルジ
ョン粘着剤は通常30〜60wt%の固形分を含有する
が、塗布時には粘着調整のためさらに水で希釈すること
もできる。
上記の水溶性有機化合物あるいは界面活性剤の水エマル
ジョン粘着剤に対する含有量は、用いるシリコンウェハ
に対する接着力と剥離後の塵埃除去効果を勘案して適宜
選択する事が可能であるが。
通常水エマルジ1ノ粘着剤100重量部に対して水溶性
有機化合物が1〜100重量部、好ましくは5〜50重
量部、界面活性剤が0.01〜50重量部、好ましくは
0,1〜10重景部重量る。水浴性有機化合物あるいは
界面活性剤のみでも上記含有量で充分効果を発揮するが
戸者を併用すると相乗効果をもたらし、添加量が低減で
きるので望ましいものである。
上記水エマルジ四ノ粘着剤中への水溶性有機化合物およ
び界面活性剤の添加は、通常粘着剤の重合後ないし塗布
前において行うが、界面活性剤の添加は乳化剤乞兼ねて
粘着剤の水エマルジョン重合時に行うこともできる。
合成樹脂フィルムとしては、ポリエチレン、ポリエチレ
ン、エチレン酢ビ共重合樹脂、ポリ塩化ビニル、ナイロ
ン、ポリエステル等の樹脂からなり、厚み5μm〜50
0μmの片面コロナ処理したフィルムが好ましい。
塗布方法としては、リバースロールコータ−。
グラビヤコーター、バーコーター等の公知のコーティン
グ方法で塗布1通常80〜150℃の熱風で乾燥するこ
とにより可能である。乾燥後の塗布厚みは、通常1μm
〜200μmぐらいである。
(実施 例) 以下実施例にて本発明を更に吊体的に説明する。
実施例1 温度計、・′・還流冷却器、滴下ロート、窒素導入口及
び攪拌器を付したフラスコに脱イオン水150重量部、
ポリオキシエチレンノニルフェノールエーテル(界面活
性剤)2N量部、を入れ窒素雰囲気下で撹拌しながら7
0℃まで昇温する。重合開始剤0.5重量部を添加し溶
解させる。
更にメタアクリル鍍メチル23重量部、アクリル酸−2
−エチルヘキシル73重量部、メタアクリル酸グリシジ
# 2 重量部、メタアクリル酸2N量部よりなるモノ
マー混合物10(1:fk部を4時−間で連続滴下し滴
下終了後も3時間攪拌を続は重合して、固形公約47w
t%のアクリルエマルジョン系粘着剤を作成した。
この粘着剤を用いて下記組成で塗布液を作成し。
Tダイ法にて製膜したエチレン−酢ビ共重合樹脂の20
0μmフィルムのコロナ処理した片面にロールコータ−
にて塗布、90℃で乾燥し塗布厚み50μmのアクリル
粘着剤層を有するICプロセス用フィルムを得た。
こうして得た粘着剤層フィルムを4インチシリコンクエ
バに貼付け、剥離した後下記の洗浄方法にて洗浄後期埃
の評価乞した。結果は表−1に示すとおり、ゴミの付着
量が極端に少なく良好であった0 (洗浄方法) ■ 50℃のイソプロピルアルコールに浸漬し超音波で
10分間洗浄する。
■ その後常温純水に浸漬し超音波で10分間洗浄する
■ 赤外線ヒーターにて乾燥する。
実施例2 カレンダー法にて製膜した軟質塩化ビニル樹脂フィルム
70μmの片面に、実施例1と同じアクリル系エマルジ
ョン粘着剤を用いて下記の塗布液を作成しロールコータ
−で塗布し% 90℃で乾燥して塗布厚み10μmの粘
着剤層を有するプロセス用フィルムを得た。
こうして得た粘着剤層フィルムt4インチシリコンウ、
エバに貼付け、実施例1と同様の洗浄方法にて洗浄にて
洗浄層の塵埃付着量を評価した・結果は表−1に示す如
(極端に少なく良好であった。
実施例3 実施例1で用いたエチレン−酢ビ共重合I(IJifフ
ィルムの片面に実施例1で用いたアクリル系エマルジョ
ン粘着剤100重量部にジエチレングリコールモノブチ
ルエーテル50重量部を添加した塗布液をロールコータ
−に〔塗布、C10℃て乾燥し粘着塗布厚40μmのプ
ロセス用フィルム′?:得た口このフィルムを実施例1
と同様にして洗浄後の塵埃付着量を評価した結果を表−
1に示す、塵埃の付着量は極端に少なく良好であった。
比較例1 実施例2で用いたフィルムの片面にア七トンで溶解した
溶液系のアクリル粘着剤(固形分50wt%)をロール
コータ−で塗布、90℃で乾燥し塗布厚みlOAmのプ
ロセス用フィルムを得た。
このフィルムを用いて、実施例1と同様にして洗浄後の
塵埃付着量を評価した結果を表−工に示すが塵埃の付着
量が多く不良であった。
比較例2 実施例2で用いたフィルムの片面に、実施例1で用いた
アクリルエマルジョン粘着剤だケラロールコータ−で座
右し、90℃で乾燥して塗布厚み10μmのプロセス用
フィルムを得た。
このフィルムを用いて実施例1と同様にして洗浄層の須
埃付着41を評価した結果は表−1に示す如く付着量が
多く不良であった。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、合成樹脂フィルムの少なくとも片面に、水溶性有機
    化合物および/または非イオン系界面活性剤を含有する
    水エマルジョン系粘着剤層を塗布することを特徴とする
    ICプロセス用フィルム。 2、水溶性有機化合物が沸点100℃以上である特許請
    求の範囲第1項記載のICプロセス用フィルム。 3、水エマルジョン粘着剤層が水エマルジョン系粘着剤
    100重量部に対し、水溶性有機化合物を1〜100重
    量部/または界面活性剤を0.01〜50重量部含有す
    る特許請求の範囲第1項記載のICプロセスフィルム。 4、水エマルジョン粘着剤がポリ(メタ)アクリル酸エ
    ステル系粘着剤である特許請求の範囲第3項記載のIC
    プロセス用フィルム。
JP59164328A 1984-05-29 1984-08-07 Icプロセス用フイルム Granted JPS6143677A (ja)

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JP59164328A JPS6143677A (ja) 1984-08-07 1984-08-07 Icプロセス用フイルム
EP19850902642 EP0185767B1 (en) 1984-05-29 1985-05-23 Film for machining wafers
US06/823,492 US4853286A (en) 1984-05-29 1985-05-23 Wafer processing film
PCT/JP1985/000284 WO1985005734A1 (en) 1984-05-29 1985-05-23 Film for machining wafers
DE8585902642T DE3581514D1 (de) 1984-05-29 1985-05-23 Film zur behandlung von halbleiterwaffeln.
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US07/357,351 US4928438A (en) 1984-05-29 1989-05-26 Wafer processing film
SG53191A SG53191G (en) 1984-05-29 1991-07-09 Film for machining wafers

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JPH0151511B2 (ja) 1989-11-02

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