JPS61262658A - ガス・クロマトグラフ用シリコン・ウエハ−キヤピラリイ・カラム - Google Patents
ガス・クロマトグラフ用シリコン・ウエハ−キヤピラリイ・カラムInfo
- Publication number
- JPS61262658A JPS61262658A JP10464685A JP10464685A JPS61262658A JP S61262658 A JPS61262658 A JP S61262658A JP 10464685 A JP10464685 A JP 10464685A JP 10464685 A JP10464685 A JP 10464685A JP S61262658 A JPS61262658 A JP S61262658A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- silicon wafer
- capillary column
- gas
- wafer pieces
- interval
- Prior art date
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- Pending
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-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N30/00—Investigating or analysing materials by separation into components using adsorption, absorption or similar phenomena or using ion-exchange, e.g. chromatography or field flow fractionation
- G01N30/02—Column chromatography
- G01N30/60—Construction of the column
- G01N30/6052—Construction of the column body
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N30/00—Investigating or analysing materials by separation into components using adsorption, absorption or similar phenomena or using ion-exchange, e.g. chromatography or field flow fractionation
- G01N30/02—Column chromatography
- G01N30/60—Construction of the column
- G01N30/6095—Micromachined or nanomachined, e.g. micro- or nanosize
Landscapes
- Treatment Of Liquids With Adsorbents In General (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は、ガス・クロマトグラフ用シリコン・ウェハー
斗ヤピラリイΦカラムに関する。
斗ヤピラリイΦカラムに関する。
（従来技術及びその問題点）
ガス・クロマトグラフ用シリコンφウェハーキャピラリ
イ・カラムは、シリコン・ウェハーの鏡面に幅４００な
いし５００μｍ、深さｉｏないし２０μ−の大きさのキ
ャビ２リイ・力２ム溝を電解研磨法により形成し、この
キャビ２リイ・カラム溝を形成したシリコン・ウェハー
面とがラス板を電着法により電着してキャピラリイ・カ
ラムが形成されていた。キャピラリイ・カラム内にガス
に注入し、または、キャピラリイ・カラムからがスを排
出する場合は、シリコン・ウェハーの裏面にキャビ２リ
イ・カラムと連通する注入用と排出用のそれぞれの貫通
孔を穿設し、それらの貫通孔からガス注入または排出を
行なっていた。また、ガス注入または排出に際しては、
ステンレスまたはガラス製のパイプをがス注入口及び排
出口に垂直に文でて行ない、パイプとシリコン・ウェハ
ーは、接続部からガス漏れが生じないように接着剤その
他の部材を介して接着していた。
イ・カラムは、シリコン・ウェハーの鏡面に幅４００な
いし５００μｍ、深さｉｏないし２０μ−の大きさのキ
ャビ２リイ・力２ム溝を電解研磨法により形成し、この
キャビ２リイ・カラム溝を形成したシリコン・ウェハー
面とがラス板を電着法により電着してキャピラリイ・カ
ラムが形成されていた。キャピラリイ・カラム内にガス
に注入し、または、キャピラリイ・カラムからがスを排
出する場合は、シリコン・ウェハーの裏面にキャビ２リ
イ・カラムと連通する注入用と排出用のそれぞれの貫通
孔を穿設し、それらの貫通孔からガス注入または排出を
行なっていた。また、ガス注入または排出に際しては、
ステンレスまたはガラス製のパイプをがス注入口及び排
出口に垂直に文でて行ない、パイプとシリコン・ウェハ
ーは、接続部からガス漏れが生じないように接着剤その
他の部材を介して接着していた。
しかるに、鏡面仕上げのシリコン・ウェハー面憎外径約
２−嘗のパイプを垂直に立て、しかも接続部からガス漏
れがないように接続することは非常に困難であり製造の
歩留りを低下させていた。さらに、電解研磨法によりシ
リコン・ウェハーにキャピラリイ・カラムと連通するが
ス注入または排出用の貫通孔を穿設する際に、予想外の
ビンホールが発生しシリコン・ウェハーキャピラリイ・
カラムの製造の歩留りを低下させる等の問題があった。
２−嘗のパイプを垂直に立て、しかも接続部からガス漏
れがないように接続することは非常に困難であり製造の
歩留りを低下させていた。さらに、電解研磨法によりシ
リコン・ウェハーにキャピラリイ・カラムと連通するが
ス注入または排出用の貫通孔を穿設する際に、予想外の
ビンホールが発生しシリコン・ウェハーキャピラリイ・
カラムの製造の歩留りを低下させる等の問題があった。
（発明の目的）
本発明は、このような従来の問題点を解消するものであ
り、本発明は高純度のシリコン・ウェハーは結晶方位性
が一定化していることがら、原子レベルで一直線に均一
に分割できる特性に着目したものであり、−直線に均一
に分割切断したシリコン・ウェハー片同士を所定の間隔
を設けて一方のガラス板に配設し、他方のガラス板によ
りシリコン・ウェハー片をサンドイッチ状に挟持し、電
着法によりガラス板とシリコン・ウェハー片を密着し、
ガラス板とシリコン・ウェハー片が密着されることによ
り、シリコン・ウェハー片同士の所定の間隔をガス通路
用のキャピラリイ・カラムとしたことを特徴としたガス
・クロマトグラフ用シリコン・ウェハーキャピラリイ・
カラムを提供することを目的とする。
り、本発明は高純度のシリコン・ウェハーは結晶方位性
が一定化していることがら、原子レベルで一直線に均一
に分割できる特性に着目したものであり、−直線に均一
に分割切断したシリコン・ウェハー片同士を所定の間隔
を設けて一方のガラス板に配設し、他方のガラス板によ
りシリコン・ウェハー片をサンドイッチ状に挟持し、電
着法によりガラス板とシリコン・ウェハー片を密着し、
ガラス板とシリコン・ウェハー片が密着されることによ
り、シリコン・ウェハー片同士の所定の間隔をガス通路
用のキャピラリイ・カラムとしたことを特徴としたガス
・クロマトグラフ用シリコン・ウェハーキャピラリイ・
カラムを提供することを目的とする。
（発明の概要）
本発明の構成を概括すると、本発明は、所定間隔を有す
る複数のシリコン・ウェハー片の平面を両面からガラス
板で密着して成ることを特徴とするガス・クロマトグラ
フ用シリコン・ウェハーキャピラリイ・カラムであり、
キャピラリイ・カラムと連通するガス注入または排出用
のパイプをキャピラリイ・カラムと水平に接続できる特
徴を有する。さらに、本発明は、シリコン・ウェハー片
同士の間隔を等間隔に複数本配設することにより、同一
成分のガス分析を一個のガス・クロマトグラフで同時に
複数できるとともに、シリコン・ウェハー片間−の間隔
を分析または抽出するガスの成分に対応できるように各
々異なる幅にすることにより一個のガス・クロマトグラ
フにより同時に多数種のガス分析ができる特徴を有する
。
る複数のシリコン・ウェハー片の平面を両面からガラス
板で密着して成ることを特徴とするガス・クロマトグラ
フ用シリコン・ウェハーキャピラリイ・カラムであり、
キャピラリイ・カラムと連通するガス注入または排出用
のパイプをキャピラリイ・カラムと水平に接続できる特
徴を有する。さらに、本発明は、シリコン・ウェハー片
同士の間隔を等間隔に複数本配設することにより、同一
成分のガス分析を一個のガス・クロマトグラフで同時に
複数できるとともに、シリコン・ウェハー片間−の間隔
を分析または抽出するガスの成分に対応できるように各
々異なる幅にすることにより一個のガス・クロマトグラ
フにより同時に多数種のガス分析ができる特徴を有する
。
ガラス製パイプを接続することにより行なう。
本発明は、従来のシリコン・ウェハー製キャピラリイ・
カラムのようなシリコン・ウェハー面に電解研磨法によ
るエツチングする手数が不要となるぽかりでなく、ガス
注入または排出用パイプの接続が注入口または排出口に
垂直に立てることがな（、水平に接続できる特徴を有し
、分析するガス成分に応じてシリコン・ウェハー片の間
隔をガラス板との電着に際し適宜に設定できることから
高分子ガスの分離解析に有効である特徴を有する。
カラムのようなシリコン・ウェハー面に電解研磨法によ
るエツチングする手数が不要となるぽかりでなく、ガス
注入または排出用パイプの接続が注入口または排出口に
垂直に立てることがな（、水平に接続できる特徴を有し
、分析するガス成分に応じてシリコン・ウェハー片の間
隔をガラス板との電着に際し適宜に設定できることから
高分子ガスの分離解析に有効である特徴を有する。
（実施例）
本発明の構成及び実施例を図面に基づいて説明する。
第１図（１）（２）は、本発明の構成を示す図であり、
第２図、第３図及び第５図は本発明の実施例を示す図で
ある。
第２図、第３図及び第５図は本発明の実施例を示す図で
ある。
ガラス板１に分割したシリコン・ウェハー片２を所望の
間隔３を設けて配設し、さらにガラス板４によりシリコ
ン・ウェハー片２をサンドイッチ状に挟持し、ガラス板
１．４とシリコン・ウェハー片２を電着法（図示せず、
）により密着し、シリコン・ウェハー片２の間隔３は第
２図及び第３図に示すようにキャピラリイ・カラム５と
しで使用される。キャピラリイ・カラム５の両端５ａ、
５ｂにはガス注入または排出用のステンレス製またはガ
ラス製のバイブロを接続する。
間隔３を設けて配設し、さらにガラス板４によりシリコ
ン・ウェハー片２をサンドイッチ状に挟持し、ガラス板
１．４とシリコン・ウェハー片２を電着法（図示せず、
）により密着し、シリコン・ウェハー片２の間隔３は第
２図及び第３図に示すようにキャピラリイ・カラム５と
しで使用される。キャピラリイ・カラム５の両端５ａ、
５ｂにはガス注入または排出用のステンレス製またはガ
ラス製のバイブロを接続する。
バイブロは、＃５図に示すようにキャピラリイ・カラム
５と水平に接続できることから接続方法が簡便に行なう
ことができるとともに、接続ｓ６ａからの〃ス漏れを解
消できる。
５と水平に接続できることから接続方法が簡便に行なう
ことができるとともに、接続ｓ６ａからの〃ス漏れを解
消できる。
シリコン・ウニへ−片２同士の間隔３は、分析するガス
その他の流体物の特性または分析用途に応じて適宜間隔
を広めまたは狭める等設定してガラス板１．４と密着す
ることにより、−個のガス・クロマトグラフによって複
数種のガス分析または抽出ができる多目的キャピラリイ
・カラムを形成できる（第４図参照）。
その他の流体物の特性または分析用途に応じて適宜間隔
を広めまたは狭める等設定してガラス板１．４と密着す
ることにより、−個のガス・クロマトグラフによって複
数種のガス分析または抽出ができる多目的キャピラリイ
・カラムを形成できる（第４図参照）。
（発明の効果）
本発明は、以上の構成であるから、キャビ２リイ・カラ
ムの製造が簡単であるとともに、キャピラリイ・力２ム
への注入または排出用のパイプの接続も容易できる効果
を奏し、かつ、パイプとキャピラリイ・カラムの接続部
からの漏れを解消できる効果を奏する。さらに、分析す
る成分に応じてキャビ２リイ・カラムの間隔を設定でき
ることから一個のガス・クロマトグラフによって多種類
多目的分析が同時にできるキャビラリイ・カラムである
。
ムの製造が簡単であるとともに、キャピラリイ・力２ム
への注入または排出用のパイプの接続も容易できる効果
を奏し、かつ、パイプとキャピラリイ・カラムの接続部
からの漏れを解消できる効果を奏する。さらに、分析す
る成分に応じてキャビ２リイ・カラムの間隔を設定でき
ることから一個のガス・クロマトグラフによって多種類
多目的分析が同時にできるキャビラリイ・カラムである
。
＃Ｓ１図（１）（２）は、本発明の構成を示す平面図、
第２図は、本発明の実施例を示す平面図、第３図及び第
４図は、本発明の他の実施例を示す平面図、第５図は、
第２図のＡ−Ａ線断面図である。
第２図は、本発明の実施例を示す平面図、第３図及び第
４図は、本発明の他の実施例を示す平面図、第５図は、
第２図のＡ−Ａ線断面図である。
Claims (1)
- 所定間隔を設けてガラス板に配設した複数のシリコン・
ウェハー片をガラス板により電着挟持したことを特徴と
するガス・クロマトグラフ用シリコン・ウェハーキャピ
ラリィ・カラム。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10464685A JPS61262658A (ja) | 1985-05-16 | 1985-05-16 | ガス・クロマトグラフ用シリコン・ウエハ−キヤピラリイ・カラム |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10464685A JPS61262658A (ja) | 1985-05-16 | 1985-05-16 | ガス・クロマトグラフ用シリコン・ウエハ−キヤピラリイ・カラム |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61262658A true JPS61262658A (ja) | 1986-11-20 |
Family
ID=14386223
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10464685A Pending JPS61262658A (ja) | 1985-05-16 | 1985-05-16 | ガス・クロマトグラフ用シリコン・ウエハ−キヤピラリイ・カラム |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61262658A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6670024B1 (en) * | 2002-06-05 | 2003-12-30 | The Regents Of The University Of California | Glass-silicon column |
-
1985
- 1985-05-16 JP JP10464685A patent/JPS61262658A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6670024B1 (en) * | 2002-06-05 | 2003-12-30 | The Regents Of The University Of California | Glass-silicon column |
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