JPS61212705A - 磁気デイスク媒体の膜厚測定方法 - Google Patents
磁気デイスク媒体の膜厚測定方法Info
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- JPS61212705A JPS61212705A JP5405885A JP5405885A JPS61212705A JP S61212705 A JPS61212705 A JP S61212705A JP 5405885 A JP5405885 A JP 5405885A JP 5405885 A JP5405885 A JP 5405885A JP S61212705 A JPS61212705 A JP S61212705A
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- magnetic
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- G—PHYSICS
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- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B11/00—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques
- G01B11/02—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness
- G01B11/06—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness for measuring thickness ; e.g. of sheet material
- G01B11/0616—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness for measuring thickness ; e.g. of sheet material of coating
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- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔概要〕
測定される磁性膜に波長の異なるレーザビームをそれぞ
れ別々に照射して、それぞれの照射で発生する反射光に
よる干渉光のうち、光強度の強い部分の値が最も近い値
を求めることで、容易にかつ迅速に正確な膜厚を得る。
れ別々に照射して、それぞれの照射で発生する反射光に
よる干渉光のうち、光強度の強い部分の値が最も近い値
を求めることで、容易にかつ迅速に正確な膜厚を得る。
情報処理システムの外部記憶装置として使用される磁気
ディスク装置における磁気ディスク媒体は、アルミニウ
ムなどのような非磁性円板の表面に磁性膜を形成したも
のが使用される。
ディスク装置における磁気ディスク媒体は、アルミニウ
ムなどのような非磁性円板の表面に磁性膜を形成したも
のが使用される。
第４図は磁気ディスク媒体の斜視図、第５図は同磁気デ
ィスク媒体の断面図である。磁気ディスク媒体１は、中
央に取付は用の穴２が開けられており、該取付は穴２で
、磁気ディスク装置のスピンドルに取付けられ、高速回
転しながら、磁気ヘッドによって情報が記録／再生され
る。
ィスク媒体の断面図である。磁気ディスク媒体１は、中
央に取付は用の穴２が開けられており、該取付は穴２で
、磁気ディスク装置のスピンドルに取付けられ、高速回
転しながら、磁気ヘッドによって情報が記録／再生され
る。
第５図のように、アルミニウムなどの非磁性円板面３の
表裏両面に、１μ輌以下の薄い磁性塗膜４．４が形成さ
れ、この磁性塗膜４．４に情報が記録される。
表裏両面に、１μ輌以下の薄い磁性塗膜４．４が形成さ
れ、この磁性塗膜４．４に情報が記録される。
この磁性塗膜４．４は、非磁性円板３に磁性塗料を塗布
して焼付を行なった後、湯洗−再焼付−塗膜ポリッシェ
ー後焼付−澗漬剤塗布−バニッシェー検査、の順に処理
することで得られる。なおＣは、取付は穴２の中心線で
ある。
して焼付を行なった後、湯洗−再焼付−塗膜ポリッシェ
ー後焼付−澗漬剤塗布−バニッシェー検査、の順に処理
することで得られる。なおＣは、取付は穴２の中心線で
ある。
このほか、非磁性円板に磁性体を蒸着やスパッタリング
で被着することで、磁性膜を作製する磁気ディスク媒体
もある。
で被着することで、磁性膜を作製する磁気ディスク媒体
もある。
本発明は、このようにして作製された情報記録用の薄膜
の膜厚測定方法に関する。
の膜厚測定方法に関する。
磁気ディスク媒体の磁性膜の膜厚は、磁気ヘッドで情報
を記録／再生する際の、磁気的な特性に影響するので、
磁気ディスク媒体の製造に当たっては、磁性膜の膜厚を
精度良く管理する必要がある。
を記録／再生する際の、磁気的な特性に影響するので、
磁気ディスク媒体の製造に当たっては、磁性膜の膜厚を
精度良く管理する必要がある。
磁性膜の膜厚測定方法としては、Ｘ線法、レーザ法、渦
電流法などが知られている。Ｘ線法と渦電流法は、波長
が不安定であり、測定精度が落ちる。またＸ線法は、磁
性膜中の鉄粉の量を測定することで、間接的に膜厚とみ
なしているのであって、絶対膜厚を測定することはでき
ない。そのために、測定精度は一層悪い。レーザ法は、
楕円偏光方式などによって測定されるが、装置が高価で
あり、また周期ｎを求めることが難しく、周期ｎを求め
るには高価な装置を要する。
電流法などが知られている。Ｘ線法と渦電流法は、波長
が不安定であり、測定精度が落ちる。またＸ線法は、磁
性膜中の鉄粉の量を測定することで、間接的に膜厚とみ
なしているのであって、絶対膜厚を測定することはでき
ない。そのために、測定精度は一層悪い。レーザ法は、
楕円偏光方式などによって測定されるが、装置が高価で
あり、また周期ｎを求めることが難しく、周期ｎを求め
るには高価な装置を要する。
最近磁気ディスク媒体の膜厚は、高密度化に伴ってます
ます薄くなる傾向にあり、膜厚を管理するには、膜厚の
絶対的な測定を能率的かつ正確に行えるようにすること
が要求されている。
ます薄くなる傾向にあり、膜厚を管理するには、膜厚の
絶対的な測定を能率的かつ正確に行えるようにすること
が要求されている。
本発明の技術的課題は、従来の磁気ディスク媒体の膜厚
測定方法におけるこのような問題を解消し、簡単な装置
で高精度にかつ敏速に測定可能とするごとにある。
測定方法におけるこのような問題を解消し、簡単な装置
で高精度にかつ敏速に測定可能とするごとにある。
第１図（イ）（ロ）は、本発明による磁気ディスク媒体
の膜厚測定方法の基本構成を示す図である。まず（イ）
のように、波長がλ１のレーザビームＬ１を磁性膜４の
表面に照射する。すると磁性膜４の表面で反射した光と
磁性膜４を透過し非磁性基板３の面で反射した光との光
路差によって干渉縞ができる。
の膜厚測定方法の基本構成を示す図である。まず（イ）
のように、波長がλ１のレーザビームＬ１を磁性膜４の
表面に照射する。すると磁性膜４の表面で反射した光と
磁性膜４を透過し非磁性基板３の面で反射した光との光
路差によって干渉縞ができる。
次に（ロ）のように、波長がλ２のレーザビームＬ２を
磁性膜４の同じ面に照射する。すると前記（イ）の場合
と同様に、磁性膜４の表面で反射した光と磁性膜４を透
過し非磁性基板３の面で反射した光との光路差により干
渉縞ができる。
磁性膜４の同じ面に照射する。すると前記（イ）の場合
と同様に、磁性膜４の表面で反射した光と磁性膜４を透
過し非磁性基板３の面で反射した光との光路差により干
渉縞ができる。
（イ）および（ロ）によって測定したときの干渉縞の光
強度の強い部分の値のうち、同じ値ないし接近している
値を求める。
強度の強い部分の値のうち、同じ値ないし接近している
値を求める。
前記（イ）および（ロ）によって測定したときの干渉光
の光強度の強い部分の値の中に、正しい値が含まれてい
るが、この光強度の強い部分は、干渉縞中に複数存在す
るので、どの部分の値が正しい膜厚なのか特定できない
。
の光強度の強い部分の値の中に、正しい値が含まれてい
るが、この光強度の強い部分は、干渉縞中に複数存在す
るので、どの部分の値が正しい膜厚なのか特定できない
。
そこでこれを発見するために、（イ）および（ロ）の測
定において得られた値のうち、同じ値または接近してい
る値を求める。
定において得られた値のうち、同じ値または接近してい
る値を求める。
すなわち（イ）の測定で得られた複数の光強度の強い部
分の値の中に、正しい値が１つだけ存在している。同様
に（ロ）の測定で得られた複数の光強度の強い部分の値
の中にも、正しい値が１っだけ存在している。そして正
しい値は、（イ）の測定においても（ロ）の測定におい
ても、同じ値を示すことは当然であるから、（イ）の測
定で得られた値と（ロ）の測定で得られた値とで、同じ
または接近した値が、正しい膜厚を現していることにな
る。
分の値の中に、正しい値が１つだけ存在している。同様
に（ロ）の測定で得られた複数の光強度の強い部分の値
の中にも、正しい値が１っだけ存在している。そして正
しい値は、（イ）の測定においても（ロ）の測定におい
ても、同じ値を示すことは当然であるから、（イ）の測
定で得られた値と（ロ）の測定で得られた値とで、同じ
または接近した値が、正しい膜厚を現していることにな
る。
なお磁性膜４の膜厚が変化すると、反射光の光路差が変
化するので、干渉光の強度も変化する。
化するので、干渉光の強度も変化する。
次に本発明による磁気ディスク媒体の膜厚測定方法が実
際上どのように具体化されるかを実施例で説明する。第
２図は本発明の方法で膜厚測定を行なっている状態を示
す側面図である。■は磁気ディスク媒体であり、第５図
のように、表面に磁性膜４．４が作製されている。この
磁気ディスク媒体１の磁性膜４に、波長の異なるレーザ
ビームＬ１ 、Ｌ２を照射するために、それぞれ波長の
異なるレーザビームを発生するレーザ５１と５２が配設
されている。レーザ５１は電源６１で駆動され、レーザ
５２は電源６２で駆動される。被測定磁性膜４からの反
射光は、フォトセルフで検知され、光強度の強い部分の
示す測定値が計算機で算出される。
際上どのように具体化されるかを実施例で説明する。第
２図は本発明の方法で膜厚測定を行なっている状態を示
す側面図である。■は磁気ディスク媒体であり、第５図
のように、表面に磁性膜４．４が作製されている。この
磁気ディスク媒体１の磁性膜４に、波長の異なるレーザ
ビームＬ１ 、Ｌ２を照射するために、それぞれ波長の
異なるレーザビームを発生するレーザ５１と５２が配設
されている。レーザ５１は電源６１で駆動され、レーザ
５２は電源６２で駆動される。被測定磁性膜４からの反
射光は、フォトセルフで検知され、光強度の強い部分の
示す測定値が計算機で算出される。
次に実測値を挙げて実施例を説明する。レーザ５１とし
て波長λ１が６３２８人のＨｅＮｅレーザを用い、レー
ザ５２として波長λ２が４４１６人のＨｅＣａｄ レー
ザを用いた。両レーザ５１．５２は、前記のように時間
をずらして、かつ入射角７０度で照射した。
て波長λ１が６３２８人のＨｅＮｅレーザを用い、レー
ザ５２として波長λ２が４４１６人のＨｅＣａｄ レー
ザを用いた。両レーザ５１．５２は、前記のように時間
をずらして、かつ入射角７０度で照射した。
まずＨｅＮｅレーザビームＬ１を照射して、反射光をフ
ォトセルフで検知し、光強度の強い部分の測定値を求め
たところ、表９１の左欄のような値が得このように５つ
の測定値が得られたが、このうちどの値が正しい値なの
か判別できない。
ォトセルフで検知し、光強度の強い部分の測定値を求め
たところ、表９１の左欄のような値が得このように５つ
の測定値が得られたが、このうちどの値が正しい値なの
か判別できない。
そこで、１Ｉｅｃａｄ レーザビームＬ２を照射して、
同様に反射光をフォトセルフで検知し、光強度の強い部
分の測定値を求めたところ、表５１の右刊のような値が
得られた。この場合も、６つの測定値のうちどの値が正
しいのか判別できないが、左欄の値と右欄の値の中に、
測定値が極めて接近しているのものが必ず存在する。表
、１中では、ＨｅＮｅレーザで測定したときの干渉光中
の４番目の光強度の強い部分の値５０１６人とＨｅＣａ
ｄ レーザで測定したときの干渉光中の５番目の光強度
の強い部分の値５０１０人が、最も接近した値を示して
いる。
同様に反射光をフォトセルフで検知し、光強度の強い部
分の測定値を求めたところ、表５１の右刊のような値が
得られた。この場合も、６つの測定値のうちどの値が正
しいのか判別できないが、左欄の値と右欄の値の中に、
測定値が極めて接近しているのものが必ず存在する。表
、１中では、ＨｅＮｅレーザで測定したときの干渉光中
の４番目の光強度の強い部分の値５０１６人とＨｅＣａ
ｄ レーザで測定したときの干渉光中の５番目の光強度
の強い部分の値５０１０人が、最も接近した値を示して
いる。
その結果、磁性膜４の正しい膜厚値は、はぼ５０１０〜
５０１６人であることがわかる。なお膜厚が５０００人
の磁性膜を使用して測定したので、わずかの誤差が発生
していることが分かった。
５０１６人であることがわかる。なお膜厚が５０００人
の磁性膜を使用して測定したので、わずかの誤差が発生
していることが分かった。
波長の異なる２つのレーザビームＬ１ 、Ｌ２で測定す
る例を説明したが、それぞれ波長の異なる３以上のレー
ザビームＬ１ 、Ｌ２・・・で測定すれば、測定精度は
一層向上する。
る例を説明したが、それぞれ波長の異なる３以上のレー
ザビームＬ１ 、Ｌ２・・・で測定すれば、測定精度は
一層向上する。
第３図（イ）はＨｅＮｅレーザで測定したときの干渉光
の光強度の変化を波形で示した図、（ロ）はＨｅＣａｄ
レーザで測定したときの干渉光の光強度の変化を波形で
示したものである。この図からも明らかのように、光強
度の強い部分は、複数存在するが、ＨｅＮｅレーザで測
定したときの４番目の波の頂点とＨｅＣａｄレーザで測
定したときの５番目の波の頂点とがほぼ同じ値を示して
いるため、この頂点の部分の値が正しい値となる。
の光強度の変化を波形で示した図、（ロ）はＨｅＣａｄ
レーザで測定したときの干渉光の光強度の変化を波形で
示したものである。この図からも明らかのように、光強
度の強い部分は、複数存在するが、ＨｅＮｅレーザで測
定したときの４番目の波の頂点とＨｅＣａｄレーザで測
定したときの５番目の波の頂点とがほぼ同じ値を示して
いるため、この頂点の部分の値が正しい値となる。
なおこの測定方法においては、干渉縞の周期Ｎただしλ
１＝周期の長い方のレーザ波長λ２＝周期の短い方のレ
ーザ波長 ＨｅＮｅとＨｅＣａｄを用いた場合、Ｎは３．３まで測
定できる。）！ｅＮｅの干渉周期が約１５８２人である
ので、０人〜５０５５人の間では、一致する値は１個で
あるが、５０５５Å以上では２個以上になる。
１＝周期の長い方のレーザ波長λ２＝周期の短い方のレ
ーザ波長 ＨｅＮｅとＨｅＣａｄを用いた場合、Ｎは３．３まで測
定できる。）！ｅＮｅの干渉周期が約１５８２人である
ので、０人〜５０５５人の間では、一致する値は１個で
あるが、５０５５Å以上では２個以上になる。
５０５０Å以上の膜厚を測定するときは、予想膜厚Ｘ±
２５２５人（Ｘは予想膜厚）の範囲から一致する値を選
定すれば、正しい膜厚が得られる。
２５２５人（Ｘは予想膜厚）の範囲から一致する値を選
定すれば、正しい膜厚が得られる。
以上のように本発明の測定方法によれば、波長の異なる
２以上のレーザビームで測定し、それぞれの測定値のう
ちで値が最も接近しているものを正しい膜厚とするだけ
でよいので、測定作業が簡便で迅速に測定でき、磁気デ
ィスク媒体の量産に通している。また最も接近している
２以上の測定値の平均値を得ることで、測定値がより正
確になり、かつレーザを２以上設けるだけで足りるので
、装置も簡単ですむ。
２以上のレーザビームで測定し、それぞれの測定値のう
ちで値が最も接近しているものを正しい膜厚とするだけ
でよいので、測定作業が簡便で迅速に測定でき、磁気デ
ィスク媒体の量産に通している。また最も接近している
２以上の測定値の平均値を得ることで、測定値がより正
確になり、かつレーザを２以上設けるだけで足りるので
、装置も簡単ですむ。
第１図は本発明による磁気ディスク媒体の膜厚測定方法
の基本原理を示す図、第２図は本発明による膜厚測定方
法の実施例を示す側面図、第３図はフォトセルの出力と
膜厚との関係を示す波形図、第４図は磁気ディスク媒体
の斜視図、第５図は磁気ディスク媒体の拡大断面図であ
る。 図において、３は非磁性基板、４は磁性膜、Ｌｌ、Ｌ２
はレーザビーム、λ１、λ２は波長、５１．５２はレー
ザ、７はフォトセルをそれぞれ示す。 特許出願人 富士通株式会社代理人 弁理士
青 柳 稔第１因 第２図 々ト七ルの云カヒ層し蓼との関娠を示す液形配第３図
の基本原理を示す図、第２図は本発明による膜厚測定方
法の実施例を示す側面図、第３図はフォトセルの出力と
膜厚との関係を示す波形図、第４図は磁気ディスク媒体
の斜視図、第５図は磁気ディスク媒体の拡大断面図であ
る。 図において、３は非磁性基板、４は磁性膜、Ｌｌ、Ｌ２
はレーザビーム、λ１、λ２は波長、５１．５２はレー
ザ、７はフォトセルをそれぞれ示す。 特許出願人 富士通株式会社代理人 弁理士
青 柳 稔第１因 第２図 々ト七ルの云カヒ層し蓼との関娠を示す液形配第３図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 波長の異なる２以上のレーザビームＬ＿１、Ｌ＿２・・
・を、被測定部に照射し、 それぞれの照射の際に反射光によって発生する干渉光の
光強度の強い部分の値のうち、最も近い値を求めて正し
い膜厚とすることを特徴とする磁気ディスク媒体の膜厚
測定方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5405885A JPS61212705A (ja) | 1985-03-18 | 1985-03-18 | 磁気デイスク媒体の膜厚測定方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5405885A JPS61212705A (ja) | 1985-03-18 | 1985-03-18 | 磁気デイスク媒体の膜厚測定方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61212705A true JPS61212705A (ja) | 1986-09-20 |
Family
ID=12960011
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5405885A Pending JPS61212705A (ja) | 1985-03-18 | 1985-03-18 | 磁気デイスク媒体の膜厚測定方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61212705A (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02108905A (ja) * | 1988-09-07 | 1990-04-20 | Texas Instr Inc <Ti> | 現場フィルム成長計測の為の二つのレーザ干渉計 |
| EP0412728A2 (en) * | 1989-08-11 | 1991-02-13 | AT&T Corp. | Interferometric method and apparatus for controlling film thickness |
| US5254392A (en) * | 1991-06-24 | 1993-10-19 | Ford Motor Company | Anti-iridescence coatings |
| CN106441124A (zh) * | 2016-10-14 | 2017-02-22 | 昆明理工大学 | 基于激光感生热电电压的时间响应测量薄膜厚度的新方法 |
| US20190162522A1 (en) | 2017-11-28 | 2019-05-30 | Koh Young Technology Inc. | Apparatus for inspecting substrate and method thereof |
| JP2019101038A (ja) * | 2017-11-28 | 2019-06-24 | コー・ヤング・テクノロジー・インコーポレーテッド | 基板検査装置及び基板検査方法 |
| US10852125B2 (en) | 2017-11-28 | 2020-12-01 | Koh Young Technology Inc. | Apparatus for inspecting film on substrate by using optical interference and method thereof |
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|---|---|---|---|---|
| JPS5575605A (en) * | 1978-12-04 | 1980-06-07 | Ibm | Optical apparatus |
| JPS5855704A (ja) * | 1981-09-29 | 1983-04-02 | Fujitsu Ltd | 膜厚検出方法 |
-
1985
- 1985-03-18 JP JP5405885A patent/JPS61212705A/ja active Pending
Patent Citations (2)
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| US10859371B2 (en) | 2017-11-28 | 2020-12-08 | Koh Young Technology Inc. | Apparatus for inspecting substrate and method thereof |
| US11543238B2 (en) | 2017-11-28 | 2023-01-03 | Koh Young Technology Inc. | Apparatus for inspecting substrate and method thereof |
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