JPS61207923A - プロセス監視装置 - Google Patents
プロセス監視装置Info
- Publication number
- JPS61207923A JPS61207923A JP60048149A JP4814985A JPS61207923A JP S61207923 A JPS61207923 A JP S61207923A JP 60048149 A JP60048149 A JP 60048149A JP 4814985 A JP4814985 A JP 4814985A JP S61207923 A JPS61207923 A JP S61207923A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- state variable
- processing means
- denoted
- pattern
- process state
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
- Y02E30/00—Energy generation of nuclear origin
- Y02E30/30—Nuclear fission reactors
Landscapes
- Indicating Measured Values (AREA)
- Monitoring And Testing Of Nuclear Reactors (AREA)
- Testing And Monitoring For Control Systems (AREA)
- Closed-Circuit Television Systems (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は原子力発電やボイラ等の工業分野において、
複数のプロセス状態変数量のほかに制御対′象全体のプ
ロセス状態を１つのまとまったパターン表示で把握する
ためのプロセス監視装置に関する。
複数のプロセス状態変数量のほかに制御対′象全体のプ
ロセス状態を１つのまとまったパターン表示で把握する
ためのプロセス監視装置に関する。
第７図および第８図は例えば三菱電機発行のカタログ［
三菱総合計装制御カタログ・ＭＡＣＴＵＳ６２０Ｊに示
された従来の、プラント状態量の監視装置を示すブロッ
ク接続図および出力表示例図であり、これが複数のプロ
セス信号ｘ１〜ｘｎを入力処理する入力処理手段１と、
入力された各々の信号について表示量を算出する表示座
標決定処理手段３と、ＣＲＴ５への（表示）出力処理手
段４を備えている。
三菱総合計装制御カタログ・ＭＡＣＴＵＳ６２０Ｊに示
された従来の、プラント状態量の監視装置を示すブロッ
ク接続図および出力表示例図であり、これが複数のプロ
セス信号ｘ１〜ｘｎを入力処理する入力処理手段１と、
入力された各々の信号について表示量を算出する表示座
標決定処理手段３と、ＣＲＴ５への（表示）出力処理手
段４を備えている。
次に動作について説明する。
ボイラ等の制御対象では、圧力、温度、流量等の状態変
数量の相互関係によって、制御対象の均衡状態が決定さ
れるが、従来技術では第７図のように、複数個のプロセ
ス状態変数量′ＪＣ１＊ ｘ２ ＋ Ｘ５＋〜ｘｎを入
力処理手段ＩＫ大入力、表示座標決定処理手段３により
、プロセス状態変数量ごとに、下記の（１３式を演算し
、出力処理手段４によりＣＲＴ５へ、第８図のようなグ
ラフ表示を個々のプロセス状態変数量について行う。
数量の相互関係によって、制御対象の均衡状態が決定さ
れるが、従来技術では第７図のように、複数個のプロセ
ス状態変数量′ＪＣ１＊ ｘ２ ＋ Ｘ５＋〜ｘｎを入
力処理手段ＩＫ大入力、表示座標決定処理手段３により
、プロセス状態変数量ごとに、下記の（１３式を演算し
、出力処理手段４によりＣＲＴ５へ、第８図のようなグ
ラフ表示を個々のプロセス状態変数量について行う。
ここで、ｉ＝１ ＋ ２ ＋・・・ｎ、−ｇｍａｘ
は状態変数量の全てのうち、取りうる最大値に対応する
表示座標の最大値である。
は状態変数量の全てのうち、取りうる最大値に対応する
表示座標の最大値である。
第８図（ａｔは個々のプロセス状態変数量の大きさが把
握できるよう、入力値をそのまま棒グラフでＣＲＴ５上
に表示するもので、第８図（ｂｌはプロセス状態変数量
の大きさとその各々の目標値とのずれ（偏差値）を算出
し、そのずれを（１）式と同様に算出し、個々について
ＣＲＴＳ上に表示するものである。
握できるよう、入力値をそのまま棒グラフでＣＲＴ５上
に表示するもので、第８図（ｂｌはプロセス状態変数量
の大きさとその各々の目標値とのずれ（偏差値）を算出
し、そのずれを（１）式と同様に算出し、個々について
ＣＲＴＳ上に表示するものである。
従来のプロセス監視装置は以上のように構成されており
、これがボイラ等の対象物の安定性を決定する圧力、温
度、流量等のプロセス状態変数量の個々について表示す
るものであり、ボイラ等の対象物の均衡状態を端的に表
現するものではなく、オペレータが勘により各表示され
たプロセス状態変数量にもとづいて本当に知りたいボイ
ラの均衡状態を類推する必要があり、変数量が多くなる
と、その均衡状態の判定に正確さを欠いたり、その判定
作業が煩雑となったり、上記類推が瞬時にできない等の
問題点があった。また、複数のボイラ等のプロセスどう
しを比較することは個々のプロセス状態変数量の表示で
は不可能であるなどの問題点があった。
、これがボイラ等の対象物の安定性を決定する圧力、温
度、流量等のプロセス状態変数量の個々について表示す
るものであり、ボイラ等の対象物の均衡状態を端的に表
現するものではなく、オペレータが勘により各表示され
たプロセス状態変数量にもとづいて本当に知りたいボイ
ラの均衡状態を類推する必要があり、変数量が多くなる
と、その均衡状態の判定に正確さを欠いたり、その判定
作業が煩雑となったり、上記類推が瞬時にできない等の
問題点があった。また、複数のボイラ等のプロセスどう
しを比較することは個々のプロセス状態変数量の表示で
は不可能であるなどの問題点があった。
この発明は上記のような問題点を解消するためＫなされ
たもので、多数のプロセス状態変数量を伴うボイラ、原
子力発電等の対象物そのものの時系列的変化や、いくつ
もの対象物の動きを見比べる際に、容易にしかも瞬時に
傾向、特徴を把握できるプロセス監視装置を得ることを
目的とする。
たもので、多数のプロセス状態変数量を伴うボイラ、原
子力発電等の対象物そのものの時系列的変化や、いくつ
もの対象物の動きを見比べる際に、容易にしかも瞬時に
傾向、特徴を把握できるプロセス監視装置を得ることを
目的とする。
この発明にかかるプロセス監視装置は多数のプロセス状
態変数量を入力処理手段に取り込み、これらのプロセス
状態変数量をパターン要素量変換処理手段において円柱
型の各パラメータへ変換し、これらの各パラメータにも
とづいて表示座標決定処理手段によりＣＲＴへの表示位
置を算出し、この表示位置にもとづいて出力処理手段に
よってＣＲＴ上へ円柱型パターンを表示するよ５に構成
したのである〇 〔作用〕 この発明のプロセス監視装置では、個々のプロセス状態
変数量を１つの円柱型のパラメータに変換し、これを制
御対象そのものの１つのパターンとしてＣＲＴ上に表示
することによって、その制御対象の把握を容易化するよ
うにする。
態変数量を入力処理手段に取り込み、これらのプロセス
状態変数量をパターン要素量変換処理手段において円柱
型の各パラメータへ変換し、これらの各パラメータにも
とづいて表示座標決定処理手段によりＣＲＴへの表示位
置を算出し、この表示位置にもとづいて出力処理手段に
よってＣＲＴ上へ円柱型パターンを表示するよ５に構成
したのである〇 〔作用〕 この発明のプロセス監視装置では、個々のプロセス状態
変数量を１つの円柱型のパラメータに変換し、これを制
御対象そのものの１つのパターンとしてＣＲＴ上に表示
することによって、その制御対象の把握を容易化するよ
うにする。
以下、この発明の一実施例を図について説明する。第２
図はプロセス監視装置の処理回路を備えた電子制御装置
Ａを示し、このうち７は複数のアナログプロ苺ス入力信
号を取込む入力回路、８は中央演算処理ユニツ）（ＣＰ
Ｕ）、９は第１図に示す処理回路による処理手段を記憶
し【おくメモリー、１０は中央演算処理ユニット８によ
り処理された結果をＣＲＴ５へ出力する出力回路である
。
図はプロセス監視装置の処理回路を備えた電子制御装置
Ａを示し、このうち７は複数のアナログプロ苺ス入力信
号を取込む入力回路、８は中央演算処理ユニツ）（ＣＰ
Ｕ）、９は第１図に示す処理回路による処理手段を記憶
し【おくメモリー、１０は中央演算処理ユニット８によ
り処理された結果をＣＲＴ５へ出力する出力回路である
。
また、上記処理手順を実行する処理回路は、プロセス状
態変数量の入力処理手段１と、パターン要素量変換処理
手段２と、表示座標決定処理手段３と、出力処理手段４
とをそれぞれ回路化して接続したものからなる。第３図
はこの発明装置によりＣＲＴ５に表示される、複数のプ
ロセス状態変数により表現される円柱型パターンを示し
、これがその変数、パラメータのとり方を示すものであ
る。そこで複数のプロセス状態変数量を入力処理手段１
で入力処理し、パターン要素量変換処理２に【、次の（
２）式、（３）式によりあらかじめ割り当てられた円柱
型の各パラメータに変換する。
態変数量の入力処理手段１と、パターン要素量変換処理
手段２と、表示座標決定処理手段３と、出力処理手段４
とをそれぞれ回路化して接続したものからなる。第３図
はこの発明装置によりＣＲＴ５に表示される、複数のプ
ロセス状態変数により表現される円柱型パターンを示し
、これがその変数、パラメータのとり方を示すものであ
る。そこで複数のプロセス状態変数量を入力処理手段１
で入力処理し、パターン要素量変換処理２に【、次の（
２）式、（３）式によりあらかじめ割り当てられた円柱
型の各パラメータに変換する。
なお、ここでｊ＝１〜６、ｋ＝１〜５、ｉ ＝ １〜１
１であり、ｉとｊｌ ｊとｋの対応つまりプロセス状態
変数量ｘ１〜Ｘｌｌとパラメータθに、４ｊの。
１であり、ｉとｊｌ ｊとｋの対応つまりプロセス状態
変数量ｘ１〜Ｘｌｌとパラメータθに、４ｊの。
対応はあらかじめ任意に割付けておく。ここでは例えば
、ｉ≦１１とし、ｉが１１未満のときはＸに対応しない
ぶ、θは固定値とする。
、ｉ≦１１とし、ｉが１１未満のときはＸに対応しない
ぶ、θは固定値とする。
上記（２）式、（３）式によって得られたパラメータよ
り円柱型バタ・−ンを決定し、表示座標決定処理手段３
によりこれをＣＲＴ表示用の座標に変換し、出力処理手
段４によってＣＲＴ５へ出力する。円柱型の各パラメー
タの割付は第３図に示す通りである。まず、上面、底面
の中心を結ぶ中心線の垂直線からの傾きをθｌとし１つ
の状態変数量に対応する。次に、この中心線と、上面及
び底面のだ円の長軸、短軸との角度を９０’を基準とし
て４つの状態変数量に対応させ、θ２．θ３．θ４．θ
５とする。また、中心線上のある基準点Ａから底面及び
上面までの長さを４ ＃ ４３２とし、さらに各面のだ
円の長軸、短軸の長さをｉ３．−ｅＩｌ、 ａ５ 、
ｐ６ トして各１ずつの状態変数量に対応させる。この
ようにすれば、第４図のように樵々の均衡状態の表現が
可能となる。
り円柱型バタ・−ンを決定し、表示座標決定処理手段３
によりこれをＣＲＴ表示用の座標に変換し、出力処理手
段４によってＣＲＴ５へ出力する。円柱型の各パラメー
タの割付は第３図に示す通りである。まず、上面、底面
の中心を結ぶ中心線の垂直線からの傾きをθｌとし１つ
の状態変数量に対応する。次に、この中心線と、上面及
び底面のだ円の長軸、短軸との角度を９０’を基準とし
て４つの状態変数量に対応させ、θ２．θ３．θ４．θ
５とする。また、中心線上のある基準点Ａから底面及び
上面までの長さを４ ＃ ４３２とし、さらに各面のだ
円の長軸、短軸の長さをｉ３．−ｅＩｌ、 ａ５ 、
ｐ６ トして各１ずつの状態変数量に対応させる。この
ようにすれば、第４図のように樵々の均衡状態の表現が
可能となる。
上記実施例では、ある一時点だけのプロセス状態変数量
による円柱型のパターン表示を示したが、第５図のよう
に出力処理手段４に残像処理手段６を付加し、これに過
去数回の表示パターンを記憶させて、最新の円柱型のパ
ターンの表示を行なうごとに、最古の表示パターンから
順次同期をとって消去してい（ことにより、第６図のよ
うに対象物の均衡性が時系列的に把握でき、プロセス状
態の傾向をつかみ、その後のプロセス状態の予測も可能
となる。
による円柱型のパターン表示を示したが、第５図のよう
に出力処理手段４に残像処理手段６を付加し、これに過
去数回の表示パターンを記憶させて、最新の円柱型のパ
ターンの表示を行なうごとに、最古の表示パターンから
順次同期をとって消去してい（ことにより、第６図のよ
うに対象物の均衡性が時系列的に把握でき、プロセス状
態の傾向をつかみ、その後のプロセス状態の予測も可能
となる。
また、上記実施例では、オンラインで変化するプロセス
状態の把握についてこの発明を説明したが、１つの対象
物が複数の変数量を持つものであれば、この監視装置を
転用でき、病院患者の各種症状データによるパターン分
類や病状経過の把握あるいは各種経営データによる企業
の経営状態把握等のオフラインとしても利用できる。
状態の把握についてこの発明を説明したが、１つの対象
物が複数の変数量を持つものであれば、この監視装置を
転用でき、病院患者の各種症状データによるパターン分
類や病状経過の把握あるいは各種経営データによる企業
の経営状態把握等のオフラインとしても利用できる。
以上のように、この発明によれば、複数プロセス状態変
数量を１つのまとまったパターン表示で把握できるよう
な構成としたので、対象物そのものの状態や傾向を容易
にしかも瞬時に把握できる効果がある。また、円柱型パ
ターンは図形的にも簡単なので、表示出力処理も容易に
なる効果がある。
数量を１つのまとまったパターン表示で把握できるよう
な構成としたので、対象物そのものの状態や傾向を容易
にしかも瞬時に把握できる効果がある。また、円柱型パ
ターンは図形的にも簡単なので、表示出力処理も容易に
なる効果がある。
第１図はこの発明のプロセス監視装置の処理回路図、第
２図はこの処理回路を有する電子制御装置の回路図、第
３図はこの発明によるパターンの変数割付詳細図、第４
図はパターンの状態例を示す説明図、第５図は他の実施
例の処理回路図、第６図はその処理回路における表示パ
ターンの説明図、第７図は従来の処理回路図、第８図は
その処理回路の出力たる表示パターンの説明図である。 特許出願人 三菱電機株式会社 （ａ） （ｂ） （ｃｌ
（ｄｉ第７図 手続補正書（自発） 特１．′１庁長官殿 ■、事件の表示 特願昭６０−４８１４９号２、発
明の名称 プロセス監視装置 ３、補正をする者 すト件との関係 特許出願人 住 所 東京都千代ｌ′１１区丸の内二丁目２番
３号名 称 （６０１）三菱型機体式会社代表者 志
岐守哉 ４、代 理 人 郵便番号 １０５住 所
東京都港区西新橋１丁目４番１０号５、補正の対象 （１）明細書の発明の詳細な説明の欄 （２）図 面 ６、補正の内容 （１）明細書をつぎのとおり訂正する。 （２）別紙の通）第８図を補正する。 添付書類の目録 補正後の第８図を記載した書面 １通以上 第８ （ａ−） 迂 （ｂン
２図はこの処理回路を有する電子制御装置の回路図、第
３図はこの発明によるパターンの変数割付詳細図、第４
図はパターンの状態例を示す説明図、第５図は他の実施
例の処理回路図、第６図はその処理回路における表示パ
ターンの説明図、第７図は従来の処理回路図、第８図は
その処理回路の出力たる表示パターンの説明図である。 特許出願人 三菱電機株式会社 （ａ） （ｂ） （ｃｌ
（ｄｉ第７図 手続補正書（自発） 特１．′１庁長官殿 ■、事件の表示 特願昭６０−４８１４９号２、発
明の名称 プロセス監視装置 ３、補正をする者 すト件との関係 特許出願人 住 所 東京都千代ｌ′１１区丸の内二丁目２番
３号名 称 （６０１）三菱型機体式会社代表者 志
岐守哉 ４、代 理 人 郵便番号 １０５住 所
東京都港区西新橋１丁目４番１０号５、補正の対象 （１）明細書の発明の詳細な説明の欄 （２）図 面 ６、補正の内容 （１）明細書をつぎのとおり訂正する。 （２）別紙の通）第８図を補正する。 添付書類の目録 補正後の第８図を記載した書面 １通以上 第８ （ａ−） 迂 （ｂン
Claims (1)
- 多数のプロセス状態変数量を取り込む入力処理手段と、
これらのプロセス状態変数量を円柱型の各パラメータへ
変換演算するパターン要素量変換処理手段と、上記各パ
ラメータにもとづきＣＲＴへの表示位置を算出する表示
座標決定処理手段と、その算出した表示位置にもとづき
上記ＣＲＴへ円柱型パターンを表示する出力処理手段と
を備えたプロセス監視装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60048149A JPS61207923A (ja) | 1985-03-13 | 1985-03-13 | プロセス監視装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60048149A JPS61207923A (ja) | 1985-03-13 | 1985-03-13 | プロセス監視装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61207923A true JPS61207923A (ja) | 1986-09-16 |
Family
ID=12795303
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60048149A Pending JPS61207923A (ja) | 1985-03-13 | 1985-03-13 | プロセス監視装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61207923A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01207629A (ja) * | 1988-02-15 | 1989-08-21 | Akira Nakano | 自動車用多次元量相関表示装置 |
| US6421405B1 (en) * | 1998-05-08 | 2002-07-16 | Westinghouse Electric Co. Llc | Monitoring control rod element assembly position |
-
1985
- 1985-03-13 JP JP60048149A patent/JPS61207923A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01207629A (ja) * | 1988-02-15 | 1989-08-21 | Akira Nakano | 自動車用多次元量相関表示装置 |
| US6421405B1 (en) * | 1998-05-08 | 2002-07-16 | Westinghouse Electric Co. Llc | Monitoring control rod element assembly position |
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