JPS61184725A - Magnetic recording medium and its production - Google Patents

Magnetic recording medium and its production

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Publication number
JPS61184725A
JPS61184725A JP1465585A JP1465585A JPS61184725A JP S61184725 A JPS61184725 A JP S61184725A JP 1465585 A JP1465585 A JP 1465585A JP 1465585 A JP1465585 A JP 1465585A JP S61184725 A JPS61184725 A JP S61184725A
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JP
Japan
Prior art keywords
magnetic
recording medium
substrate
magnetic recording
ray diffraction
Prior art date
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Pending
Application number
JP1465585A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Koji Ichikawa
耕司 市川
Shiro Murakami
志郎 村上
Shigeo Fujii
重男 藤井
Shigeo Endo
遠藤 重郎
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Proterial Ltd
Original Assignee
Hitachi Metals Ltd
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Filing date
Publication date
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Abstract

PURPOSE:To enhance the orientation of the easy magnetization axis to the inside of the film surface by composing a magnetic film of a Co-base alloy contg. Ni and Pt and specifying the ratio of the X-ray diffraction intensity of the (002) face to the X-ray diffraction intensity of the (100) face in the specified range. CONSTITUTION:A substrate layer formed on a substrate consists of anodized aluminum. The substrate layer can be easily formed by anodizing the surface of the substrate of aluminum or an aluminum-base alloy in an acidic soln. The thickness of the substrate layer is preferably regulated to 5-20mum, and the substrate layer having >=300 Vickers hardness Hv is appropriately used. A Co-base alloy contg. Ni and Pt is used as the magnetic layer formed on the substrate layer, and the alloy whose ratio of the X-ray diffraction intensity of the (002) face to the X-ray diffraction intensity of the (100) face, namely the R value defined by I(002)/I(100), is regulated to 0<=R<=0.5 is used.

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は磁気記録媒体及びその製造方法に係り、特に基
板上に磁化容易軸の膜面的配向性の高い磁性膜層が形成
された磁気記録媒体及びその製遣方法に関するものであ
る。
[Detailed Description of the Invention] [Industrial Application Field] The present invention relates to a magnetic recording medium and a method for manufacturing the same, and particularly relates to a magnetic recording medium in which a magnetic film layer having a high in-plane orientation of the axis of easy magnetization is formed on a substrate. It relates to recording media and their manufacturing methods.

[従来の技術] 近年、コンピュータの小型化や処理能力の増大化に伴い
、外部メモリ装置の記憶容量を更に増大されることが要
求されてきている。この要求を満足させるためには、外
部メモリ装置に用いられる磁気デンスクも、更に記録密
度を増加させる必要があり、このために、記録密度の高
い合金磁性薄膜を有する磁気記録媒体の研究開発が近年
大いに推進されている。
[Prior Art] In recent years, as computers have become smaller and their processing power has increased, there has been a demand for further increases in the storage capacity of external memory devices. In order to satisfy this demand, it is necessary to further increase the recording density of magnetic disks used in external memory devices, and for this reason, research and development of magnetic recording media with alloy magnetic thin films with high recording density has been conducted in recent years. It is highly promoted.

その一つとしてコバルト(Co)−ニッケル(Ni)−
白金(pH合金の磁性薄膜を用いたものがある(特開昭
59−61106)、Co −Ni−Pt合金は耐食性
を有し、その薄膜もまた耐食性に優れることが公知であ
る。
One of them is cobalt (Co)-nickel (Ni)-
There is a method using a magnetic thin film of platinum (pH alloy) (Japanese Unexamined Patent Publication No. 59-61106), and it is known that Co-Ni-Pt alloy has corrosion resistance, and its thin film also has excellent corrosion resistance.

ところで、磁気記録媒体は、一般に、基板上に硬質の下
地層を設け、その上に磁性層を形成し、更にその上に所
望により保護膜を設けている。
Incidentally, magnetic recording media generally include a hard underlayer provided on a substrate, a magnetic layer formed thereon, and a protective film further provided thereon, if desired.

磁性層として、Co−N1−Pt合金磁性薄膜を用いた
ものにおいて、下地層としてニッケルーリン合金(Ni
−P)を用いることが公知である(特開昭59−611
06)。
In the case where a Co-N1-Pt alloy magnetic thin film is used as the magnetic layer, a nickel-phosphorus alloy (Ni
-P) is known to be used (JP-A-59-611
06).

[発明が解決しようとする問題点] 従来、下地層として用いられているN i−P膜は、硬
度は十分に高いものの、200ないし250℃以上の温
度で帯磁し、ノイズが大きくなるので、磁気記録媒体製
造時の条件にかなりの制約を受けるという問題がある。
[Problems to be Solved by the Invention] Although the Ni-P film conventionally used as an underlayer has a sufficiently high hardness, it becomes magnetized at temperatures of 200 to 250°C or higher, which increases noise. There is a problem in that the manufacturing conditions of the magnetic recording medium are subject to considerable restrictions.

一方、従来、磁性膜層として用いられているCoNiP
t合金薄膜は、膜面内磁気記録媒体として使用し得るこ
とが考えられているが、磁化容易軸の膜面内方向への配
向性が未だ十分ではなく、それだけ磁気特性が低かった
On the other hand, CoNiP, which has been conventionally used as a magnetic layer,
Although it has been considered that t-alloy thin films can be used as in-plane magnetic recording media, the orientation of the axis of easy magnetization in the in-plane direction is still insufficient, and the magnetic properties are accordingly poor.

[問題点を解決するための手段] 上記従来技術の問題点を解決するために、本発明は、 ディスク形基板の板面上に、磁性膜層が形成された磁気
記録媒体において、該磁性膜は、Ni及びPtを含むC
o基合金であり、(002)面のX線回折強度と(io
o)面のX線回折強度との比、即ち、I (002)/
I (100)で定義されるR値が0≦R≦0.5の範
囲にあることを特徴とする磁気記録媒体、 及び 基板上にアルマイト質の下地層を形成し、次いでスパッ
タリング法によって、この下地層上にNi及びptを含
むCo基合金の磁性膜層を形成することにより、この磁
性膜の(002)面のX線回折強度と(100)面のX
線回折強度との比であるR値を0≦R≦0.5とするこ
とを特徴とする磁気記録媒体の製造方法、 を要旨とするものである。
[Means for Solving the Problems] In order to solve the problems of the prior art described above, the present invention provides a magnetic recording medium in which a magnetic film layer is formed on the plate surface of a disk-shaped substrate. is C containing Ni and Pt
It is an o-based alloy, and the X-ray diffraction intensity of the (002) plane and the (io
o) Ratio to the X-ray diffraction intensity of the plane, i.e., I (002)/
A magnetic recording medium characterized in that the R value defined by I (100) is in the range of 0≦R≦0.5, and an alumite base layer is formed on a substrate, and then this is formed by a sputtering method. By forming a magnetic film layer of a Co-based alloy containing Ni and pt on the underlayer, the X-ray diffraction intensity of the (002) plane and the X-ray diffraction intensity of the (100) plane of this magnetic film are
The gist of the present invention is a method for manufacturing a magnetic recording medium, characterized in that the R value, which is the ratio to the linear diffraction intensity, satisfies 0≦R≦0.5.

以下本発明につき更に詳細に説明する。The present invention will be explained in more detail below.

本発明の磁気記録媒体に用いられる基板の材質としては
、アルミニウム又はアルミニウムを主成分とし、これに
その他の金属元素を加えて強度、剛性、耐食性等の特性
のうち1又は2以上の特性を改良するようにしたものが
好適であり、例えばマグネシウムを数重量%、例えば3
〜4重量%含むものが用いられる。なおシリコンは、二
酸化珪素として析出し易いので、シリコン含有率の小さ
いものが好ましい。
The material of the substrate used in the magnetic recording medium of the present invention is aluminum or aluminum as a main component, and other metal elements are added to this to improve one or more properties such as strength, rigidity, and corrosion resistance. Preferably, it contains magnesium in an amount of several percent by weight, for example, 3% by weight.
A substance containing up to 4% by weight is used. Note that silicon tends to precipitate as silicon dioxide, so a material with a low silicon content is preferable.

この基板上に形成される下地層はアルマイトaのもので
ある。この下地層は、酸溶液中における陽極酸化等によ
ってアルミニウム又はアルミニウム基合金の基板表面を
酸化することによって容易に形成されるのであるが、こ
の酸化に際して、基板に含まれるアルミニウム以外の金
属の酸化によって生じた酸化物が下地層中に混在される
ようになり、従って、通常、被膜中の酸化アルミニウム
以外の金属酸化物の種類及び量は基板中のアルミニウム
以外の金属の種類及び含有率に影響される。
The base layer formed on this substrate is made of alumite a. This base layer is easily formed by oxidizing the surface of an aluminum or aluminum-based alloy substrate by anodization in an acid solution, but during this oxidation, metals other than aluminum contained in the substrate are oxidized. The resulting oxides become mixed in the underlying layer, and therefore, the type and amount of metal oxides other than aluminum oxide in the coating are usually influenced by the type and content of metals other than aluminum in the substrate. Ru.

この下地層の厚さは、好ましくは57pm〜20g、m
とされる。57zmよりも薄い場合には、ヘッドの衝突
に対する耐力が小さく、いわゆるヘッドクラッシュを生
ずるおそれがあり、一方20pmよりも大きい場合には
、製造時等における温度の昇降によって生ずる内部熱応
力が過大になって亀裂を生じさせるおそれがある。
The thickness of this base layer is preferably 57 pm to 20 g, m
It is said that If it is thinner than 57 pm, the strength against head collision is small and there is a risk of so-called head crash. On the other hand, if it is thicker than 20 pm, the internal thermal stress caused by temperature rises and falls during manufacturing will become excessive. may cause cracks.

下地層はビッカース硬度Hvが300以上のものが好適
に用いられる。Hvが300よりも小さい場合には衝撃
耐力が小さくなる。
A base layer having a Vickers hardness Hv of 300 or more is preferably used. When Hv is smaller than 300, the impact strength becomes small.

下地層の上に形成される磁性層としては、Nt及びPt
を含むCo基合金であって、(002)面のX線回折強
度と(100)面のX線回折強度との比、即ち、I (
002)/I (100)で定義されるR値が0≦R≦
0.5の範囲にあるものが用いられる。
The magnetic layer formed on the underlayer includes Nt and Pt.
The ratio of the X-ray diffraction intensity of the (002) plane to that of the (100) plane, that is, I (
R value defined by 002)/I (100) is 0≦R≦
A value in the range of 0.5 is used.

以下に、この磁性膜層について説明する。This magnetic film layer will be explained below.

(イ) この磁性薄膜の組成としては、ptを4〜12
原子%含み、Coの25原子%以下をNtで置換したも
のが好適である。
(b) The composition of this magnetic thin film is 4 to 12 pt.
Preferably, Co contains 25 atom % or less of Co and is replaced with Nt.

一般に、Co−Pt合金磁性薄膜は、その保持力Heが
Pt含有量20原子%で極大となる特性を有しているが
(例えば、日本応用磁気学会誌VO文、7、No、2.
1983)、Ptを約20原子%含有させる場合には、
Hcが高すぎてオーバーライド特性が悪くなる。即ち、
磁性薄膜に要求されるHcの範囲は、通常、500−1
000 (Oe) であり、そのため、Co−Ni−P
t合金磁性薄膜を有する磁気記録媒体においては1通常
、Pt含有率をlO原子%前後とし、Hcを極大値より
も下げた領域で使用するのが好ましいのである。なお、
白金含有率が4原子%以下では耐食性が劣るようになり
、かつHcが低くなりすぎる。特に好ましい白金含有率
は5〜12原子%である。
In general, a Co-Pt alloy magnetic thin film has a property that its coercive force He becomes maximum at a Pt content of 20 atomic % (for example, Journal of the Japan Society of Applied Magnetics VO, 7, No. 2.
(1983), when containing about 20 atom % of Pt,
If Hc is too high, the override characteristics will deteriorate. That is,
The Hc range required for magnetic thin films is usually 500-1
000 (Oe), and therefore Co-Ni-P
In a magnetic recording medium having a t-alloy magnetic thin film, it is usually preferable to use a Pt content of around 10 atomic % and a Hc lower than the maximum value. In addition,
If the platinum content is less than 4 at %, corrosion resistance will be poor and Hc will be too low. A particularly preferred platinum content is 5 to 12 at.%.

また本発明においては、コバルトの一部をニッケルで置
換する。ニッケルを入れるとHaが若干変化し、媒体に
対する要求特性に応じたHcの調整を容易にできるとい
う効果がある。
Further, in the present invention, a part of cobalt is replaced with nickel. Adding nickel causes a slight change in Ha, which has the effect of making it easier to adjust Hc according to the characteristics required for the medium.

コバルトの一部をニッケルで置換する場合、この置換比
率は25原子%を上限とするのが好ましい、このい理由
は次の通りである。即ち、ニッケルによる置換比率が2
5原子%を超えると飽和磁束密度Bsが低下し、また結
晶系がhcpからfccになり膜面内の角形比Sが低下
するようになるからである。
When a part of cobalt is replaced with nickel, the upper limit of the substitution ratio is preferably 25 atomic %.The reason for this is as follows. That is, the substitution ratio by nickel is 2.
This is because if it exceeds 5 atomic %, the saturation magnetic flux density Bs decreases, the crystal system changes from hcp to fcc, and the in-plane squareness ratio S decreases.

Niは、Co−Ni−Ptに21%テア 〜15原子%
含ませるのが最も好ましい。
Ni is 21% tare to 15 atom% in Co-Ni-Pt
It is most preferable to include.

CI)  100〜500Aの粒径の結晶粒を主体とす
ることにより、磁気特性が一層優れたものになる。即ち
、結晶粒の主体が100Aよりも小さくなると、Heが
小さくなり、一方500Aよりも大きくなると、ノイズ
が大きくなり、高密度記録に不適となる。特に好ましい
のは200〜40OAであり、Hcが高くノイズの小さ
い磁性膜層となる。
CI) Magnetic properties become even more excellent by mainly containing crystal grains with a grain size of 100 to 500 A. That is, when the main part of the crystal grains is smaller than 100A, He becomes small, while when it becomes larger than 500A, noise increases, making it unsuitable for high-density recording. Particularly preferred is 200 to 40 OA, which results in a magnetic film layer with high Hc and low noise.

なお、本明細書において、「主体」とは、50%以上の
数の粒子が当該粒径範囲に含まれることをいい、この粒
径の測定は電子顕微鏡によってaSすることにより行わ
れる。
In this specification, the term "mainly" means that 50% or more of the particles fall within the particle size range, and the particle size is measured by aS using an electron microscope.

(ハ) R値即ちI (002)/I (100)を0
≦R≦0.5とすることにより磁化容易軸(C軸)の膜
面的配向性を高めることができる。
(c) R value, i.e. I (002)/I (100), is set to 0.
By setting ≦R≦0.5, the film surface orientation of the easy axis of magnetization (C axis) can be improved.

即ち、本発明者らが基板上に形成された種々のCo−N
i−Pt膜のC軸方向について検討したところ、上記R
値とC軸の配向性との間には極めて密接な関係があり、
R;Oでは、C軸が完全に膜面内方向に配向し、R=3
では、C軸方向の分布が完全にランダムであり、全く配
向性を示さないこと、0<R<3の範囲では、C軸が膜
面内方向にある粒子の数の方が多くなり、R>3の範囲
では、C軸が膜面との垂直方向にある粒子の方が多くな
ることが認められた。そして、0≦R≦0.5とするこ
とにより、磁化容易軸の面内配向性を顕著に高めること
ができる。
That is, the present inventors have developed various Co--N films formed on a substrate.
When considering the C-axis direction of the i-Pt film, the above R
There is a very close relationship between the value and the orientation of the C axis,
At R;O, the C axis is completely oriented in the in-plane direction of the film, and R=3.
Then, the distribution in the C-axis direction is completely random and shows no orientation at all, and in the range of 0<R<3, the number of particles with the C-axis in the in-plane direction increases, and R In the range >3, it was observed that there were more particles with the C axis perpendicular to the film surface. By setting 0≦R≦0.5, the in-plane orientation of the axis of easy magnetization can be significantly improved.

第1図はN2+Ar中でスパッタしたCo−N1−Pt
磁性膜の350℃X3Hr真空中熱処理後のX線回折チ
ャートの一例を示すものである。第1図においてはR−
0,1であり、熱処理によりC軸の面内配向性が向上し
ている。
Figure 1 shows Co-N1-Pt sputtered in N2+Ar.
An example of an X-ray diffraction chart of a magnetic film after heat treatment in vacuum at 350° C. for 3 hours is shown. In Figure 1, R-
0.1, and the in-plane orientation of the C-axis is improved by the heat treatment.

(ニ)  N及び0の含有率がそれぞれ1原子%以下と
なるようにすることにより、Hcを大きくすることがで
きる0本発明の磁気記録媒体は、後述のように、基板上
にアルマイト質の下地層を形成し、更にその上に、N及
び/又はOを含む雰囲気中でスパッタリングすることに
よりN及び/又は0を含んだCo−Ni−Pt膜を形成
し、これを熱処理する工程を経て製造することができる
のであるが、この熱処理工程においてN、Oが離脱する
と共に粒成長が生ずる。そして、残留するN、Oがそれ
ぞれl原子%以下となるような熱処理を施すことにより
(d) Hc can be increased by making the content of N and 0 less than 1 atomic %. The magnetic recording medium of the present invention has an alumite film on the substrate as described below. After forming a base layer, a Co-Ni-Pt film containing N and/or O is formed on the base layer by sputtering in an atmosphere containing N and/or O, and this is heat-treated. However, in this heat treatment step, N and O are released and grain growth occurs. Then, heat treatment is performed so that the remaining N and O are each reduced to 1 atomic % or less.

所定粒径にまで粒成長した、磁気特性の良い磁性膜層が
形成されるのである。
A magnetic film layer with good magnetic properties is formed in which the grains have grown to a predetermined grain size.

Nと0とは、CoNとCooの双方がX線的には検出さ
れないように、十分な脱N及び/又は脱0熱処理を施す
のが好ましい。
Regarding N and 0, it is preferable to perform a sufficient heat treatment to remove N and/or 0 so that both CoN and Coo are not detected by X-rays.

本発明の磁気記録媒体は例えば次のようにして製造する
ことができる。即ち、アルミニウム又はアルミニウム基
合金基板をクロム酸等の酸を含む混合液中で陽極酸化し
、基板表面にアルマイト層を形成する0次に、N2を含
むArガス雰囲気中でスパッタリング等の成膜法によっ
てCo−Ni合金薄膜を基板上に形成し、然る後熱処理
し、Nを放出させるものである。
The magnetic recording medium of the present invention can be manufactured, for example, as follows. That is, an aluminum or aluminum-based alloy substrate is anodized in a mixed solution containing an acid such as chromic acid to form an alumite layer on the surface of the substrate, followed by a film formation method such as sputtering in an Ar gas atmosphere containing N2. A Co--Ni alloy thin film is formed on a substrate using the above method, and then heat-treated to release N.

この製造方法において、基板上にまず形成する薄膜中の
Nの含有率は20原子%以上例えば40〜50原子%と
するのが好ましい、このようにスパッタリング時に多量
のNを薄膜に含有させると、アモルファス状又は粒径5
0A−150A程度の微結晶体より成る薄膜が形成され
、この薄膜は後工程の熱処理で結晶化又は粒径100〜
500A程度に粒成長し適度なHeを有しかつ高角形比
の磁気記録媒体を形成するようになる。
In this manufacturing method, it is preferable that the content of N in the thin film first formed on the substrate is 20 atomic % or more, for example 40 to 50 atomic %.If a large amount of N is contained in the thin film during sputtering in this way, Amorphous or particle size 5
A thin film consisting of microcrystals of about 0A-150A is formed, and this thin film is crystallized or reduced in grain size to 100-150A by heat treatment in the post-process.
The grains grow to about 500A, form a magnetic recording medium having an appropriate amount of He and a high squareness ratio.

この熱処理の温度としては300〜600℃程度が好ま
しい、熱処理の温度が300℃を下回る場合には、脱N
の速度が小さくなり、薄膜の結晶化も不充分となりやす
い、また熱処理温度が600℃を超える場合には、脱N
が過度に早く進行し、かつ結晶粒径が大きくなり保持力
Hcが低下する。特に好ましい熱処理条件は320〜5
00℃xo、shr 〜3hr程度であり、このように
することにより磁気特性の優れたものを安価に製造する
ことが可能となる。
The temperature of this heat treatment is preferably about 300 to 600°C. If the temperature of the heat treatment is lower than 300°C,
When the heat treatment temperature exceeds 600°C, the de-N
progresses too quickly, and the crystal grain size increases, resulting in a decrease in the holding force Hc. Particularly preferable heat treatment conditions are 320-5
00°Cxo, shr ~3hr, and by doing so, it becomes possible to manufacture products with excellent magnetic properties at low cost.

なお、本発明者らの研究によれば、スパッタリング時に
は上記のN2の代わりに02を用いても全く同様にして
、本発明の磁気記録媒体が製造できた。そして、N2の
代りにN2と02との混合気体でも良いことも認められ
た。
According to research conducted by the present inventors, the magnetic recording medium of the present invention could be manufactured in exactly the same manner even if O2 was used instead of N2 during sputtering. It was also recognized that a mixed gas of N2 and 02 may be used instead of N2.

本発明において用いられる基板としては、非磁性基板で
あるならば従来から用いられている各種のものが採用で
き、前述のアルミニウム又はアルミニウム基合金基板(
例えばアルミニウムに数%以下程度のMgを添加した合
金やチタン合金の基板)のほか、各種のガラス又はセラ
ミック基板などが用いられる。
As the substrate used in the present invention, various conventionally used non-magnetic substrates can be used, and the above-mentioned aluminum or aluminum-based alloy substrate (
For example, various types of glass or ceramic substrates can be used, as well as substrates made of alloys made of aluminum with Mg added in an amount of several percent or less or titanium alloys.

なお基板と磁性薄膜との間に下地層の他、磁性薄膜の付
着強度を増大させる各種の中間層などを設けてもよい、
また磁性薄膜上に炭素、ポリ珪酸等の保護膜を設けても
よい、さらに、この保護膜上に潤滑剤を塗布しても・良
い。
In addition to the underlayer, various intermediate layers that increase the adhesion strength of the magnetic thin film may be provided between the substrate and the magnetic thin film.
Further, a protective film made of carbon, polysilicate, etc. may be provided on the magnetic thin film, and a lubricant may also be applied onto this protective film.

[作用] 本発明の磁気記録媒体においては、磁性膜のR値をO≦
R≦0.5としたので、磁化容易軸の面内配向性が高く
、膜面内磁性の角形比が高いという特徴を有する。また
、そのため、高記録密度を達成できる1等の作用効果が
奏される。
[Function] In the magnetic recording medium of the present invention, the R value of the magnetic film is O≦
Since R≦0.5, the film is characterized by a high in-plane orientation of the axis of easy magnetization and a high squareness ratio of in-plane magnetism. Moreover, for this reason, the first effect of achieving high recording density is achieved.

また、この磁性膜は、下地層をアルマイト質とし、この
上にスパッタリングすることにより形成することができ
る。このアルマイト質の下地層は、ニッケルーリン下地
層と異なり、高温にしても帯磁することがない、そのた
め、スパッタリング前後又はスパッタリング中に熱処理
を施し、膜の密着性を向上させることが可能とされる。
Further, this magnetic film can be formed by sputtering on an alumite base layer. Unlike the nickel-phosphorous underlayer, this alumite underlayer does not become magnetized even at high temperatures. Therefore, it is possible to improve the adhesion of the film by applying heat treatment before, during or after sputtering. .

また、スパッタ時の基板温度を高くして、スパッタ速度
を大きくすることもできる。
Furthermore, the sputtering speed can be increased by increasing the substrate temperature during sputtering.

なお、アルマイト下地層上にスパッタリングすることに
より、面内配向性の高い磁性膜を形成できるのは、この
アルマイト層がほぼ無定形であることが影響しているも
のと推察される。
Note that the reason why a magnetic film with high in-plane orientation can be formed by sputtering on an alumite underlayer is presumed to be due to the fact that this alumite layer is substantially amorphous.

[実施例] 以下、本発明を具体的実施例によって詳細に説明する。[Example] Hereinafter, the present invention will be explained in detail using specific examples.

なお以下に述べる実施例はマグネトロンr、f、スパッ
タ装置によったが、イオン工学的に同様のことが言える
イオンビームスパッタリング等によって本発明の効果を
得ることが可能であることは勿論である。
Although the embodiment described below uses a magnetron r, f, and sputtering device, it is of course possible to obtain the effects of the present invention by ion beam sputtering, etc., which can be said to be similar in terms of ion technology.

実施例1 マグネシウムを4%含むアルミニウム合金基板(大きさ
二直径130mm、内径40mm、厚さ1.9mm)を
クロム酸を含む酸浴中で陽極酸化し、その表面に厚さ8
〜17pmのアルマイト質の下地層を形成し、かつその
表面を24m程度研磨し平坦にした。
Example 1 An aluminum alloy substrate containing 4% magnesium (size: 130 mm in diameter, 40 mm in inner diameter, 1.9 mm in thickness) was anodized in an acid bath containing chromic acid, and the surface was coated with a thickness of 8 mm.
An alumite base layer of ~17 pm was formed, and its surface was polished by approximately 24 m to make it flat.

次に、平板マグネトロンr、f、スパッタ装置を用い、
下記条件にて下地層上にNを含むCo−Ni−Pt薄膜
を形成した。
Next, using a flat plate magnetron r, f, sputtering device,
A Co--Ni--Pt thin film containing N was formed on the underlayer under the following conditions.

初期排気      1〜2X10  Torr全雰囲
気圧(Ar+N2) 15〜30mT o r r雰囲
気中N2ガス濃度 (全圧に対するN2分圧の%)35〜75%投入電力 
          1kwターゲット組成     
Co−N1−Pt(目標とする薄膜の組成に一致させる
0例えば、Co:Nt:Pt=80:10:10 (原
子%比)の薄膜を形成する場合には、Co80原子%、
Ni 10原子%、Pt1O原子%のターゲットを用い
る。) 極間隔            108mm薄膜形成速
度   100〜300 A / m t n膜  厚
                   700A’こ
の膜形成処理後、真空中にて320〜400℃X1−I
Lhrの熱処理を行ない、膜を結晶化ないし結晶粒成長
させると共に、窒素を放出させた。この磁性膜からは、
CoNがX線的には検出されなかった。その後、カーボ
ン保護膜を50OA厚さとなるようにスパッタリングし
て形成し、磁気記録媒体とした。
Initial exhaust 1 to 2 x 10 Torr Total atmospheric pressure (Ar + N2) 15 to 30 mTorr N2 gas concentration in atmosphere (% of N2 partial pressure to total pressure) 35 to 75% input power
1kw target composition
Co-N1-Pt (to match the composition of the target thin film)For example, when forming a thin film with Co:Nt:Pt=80:10:10 (atomic % ratio), Co80 atomic %,
A target containing 10 atomic % of Ni and 1 atomic % of Pt is used. ) Pole spacing 108mm Thin film formation speed 100-300 A/m tn Film thickness 700A' After this film formation process, 320-400℃X1-I in vacuum
Lhr heat treatment was performed to crystallize or grow crystal grains in the film and to release nitrogen. From this magnetic film,
CoN was not detected by X-ray. Thereafter, a carbon protective film was formed by sputtering to a thickness of 50 OA to obtain a magnetic recording medium.

この磁気記録媒体の磁気特性を上記以外の条件と共に第
1表に示す。
The magnetic properties of this magnetic recording medium are shown in Table 1 along with conditions other than those mentioned above.

比較例1 下地層の膜厚、磁性膜層の組成及び膜厚、スパッタリン
グ時の雰囲気のN2ガス濃度、熱処理条件等を第1表の
ものとし、磁気記録媒体を製造した。その他の条件は実
施例1と同様である。その特性の測定結果を第1表に示
す。
Comparative Example 1 A magnetic recording medium was manufactured using the thickness of the underlayer, the composition and thickness of the magnetic layer, the N2 gas concentration in the atmosphere during sputtering, the heat treatment conditions, etc. shown in Table 1. Other conditions are the same as in Example 1. Table 1 shows the measurement results of its characteristics.

第1表より、本発明例に係るものは、いずれも磁気特性
に優れていることが認められる。
From Table 1, it is recognized that all of the examples according to the present invention have excellent magnetic properties.

また、No、4の磁気記録媒体の電磁変換特性を次のよ
うにして測定した。
Further, the electromagnetic conversion characteristics of the magnetic recording medium No. 4 were measured as follows.

使用ヘッド: M n −Z nフェライトミニウィン
チェスタ(トラック幅16JLm、ギャップ長1 、1
 g、m、ギ’r ツブ深さ20gm、巻数14T×2
) フライインダハイト:0.34牌m 1 F : 1 、25MHz 2F:2.5  MHz ディスク回転数:360Orpm 測定箇所:ディスクの中心からR=30mmの部分で測
定 この再生出力特性は次の通りであった。
Head used: Mn-Zn ferrite mini Winchester (track width 16JLm, gap length 1,1
g, m, gi'r knob depth 20gm, number of turns 14T x 2
) Flyinder height: 0.34 tile m 1 F: 1, 25 MHz 2 F: 2.5 MHz Disc rotation speed: 360 Orpm Measurement location: Measured at R = 30 mm from the center of the disc The playback output characteristics are as follows. there were.

再生出力E2F=2.5MHz : 0.42mV分解
能(R−30mm):87% オーバーライドニー34dB 以丑のことから、この磁気記録媒体は高密度記録媒体と
しての特性を備えていることが判明した。
Reproduction output E2F=2.5 MHz: 0.42 mV Resolution (R-30 mm): 87% Override knee 34 dB From the above, it was found that this magnetic recording medium had characteristics as a high-density recording medium.

[効果] 以上詳述した通り、本発明によって提供される磁気記録
媒体は、R値がO≦R≦0.5である磁性膜層を有して
おり、膜面内角膨比が高く、高密度記録媒体としての特
性を具備した実用性の高いものである。
[Effect] As detailed above, the magnetic recording medium provided by the present invention has a magnetic film layer with an R value of O≦R≦0.5, has a high in-plane angular expansion ratio, and has a high It has the characteristics of a high-density recording medium and is highly practical.

また、本発明の製造方法によれば、このような優れた磁
気記録媒体を容易に製造することができる。
Further, according to the manufacturing method of the present invention, such an excellent magnetic recording medium can be easily manufactured.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は磁性膜のX線回折図である。 代理人  弁理士  重 野  剛 手続補正書 昭和61年3月13日 1 事件の表示 昭和60年特許願第14655号 2 発明の名称 磁気記録媒体及びその製造方法 3 補正をする者 事件との関係  特許出願人 名 称  (508)日立金属株式会社4 代理人 住  所  東京都港区赤坂4丁目8番19号〒107
  赤坂表町ビル502号 7 補正の内容 (1)  明細書第8頁第15行に「このい理由」とあ
るのをrこの理由」と訂正する。 (2) 同第13頁第12行の「用いられる。」の後に
rまた、基板上に帯磁のないニッケルーリン系下地層を
形成したものも同等に用いられる。」を加入する。 (3) 同第18頁の第1表を別紙の通りに訂正する。 以  上
FIG. 1 is an X-ray diffraction diagram of the magnetic film. Agent Patent Attorney Tsuyoshi Shigeno Procedural Amendment March 13, 1985 1 Indication of the case 1985 Patent Application No. 14655 2 Name of the invention Magnetic recording medium and its manufacturing method 3 Person making the amendment Relationship to the case Patent Applicant name (508) Hitachi Metals Co., Ltd. 4 Agent address 4-8-19 Akasaka, Minato-ku, Tokyo 107
Akasaka Omotemachi Building No. 502 No. 7 Contents of the amendment (1) On page 8, line 15 of the specification, the phrase ``this reason'' is corrected to ``r this reason''. (2) After "Used" on page 13, line 12, r.Also, a substrate in which a non-magnetic nickel-phosphorus base layer is formed on the substrate can also be used equally. ” to join. (3) Table 1 on page 18 of the same page is corrected as shown in the attached sheet. that's all

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)ディスク形基板の板面上に磁性膜層が形成された
磁気記録媒体において、該磁性膜は、Ni及びPtを含
むCo基合金であり、(002)面のX線回折強度と(
100)面のX線回折強度との比、即ち、I(002)
/I(100)で定義されるR値が0≦R≦0.5の範
囲にあることを特徴とする磁気記録媒体。
(1) In a magnetic recording medium in which a magnetic film layer is formed on the plate surface of a disk-shaped substrate, the magnetic film is a Co-based alloy containing Ni and Pt, and the X-ray diffraction intensity of the (002) plane and (
100) plane to the X-ray diffraction intensity, i.e., I(002)
A magnetic recording medium characterized in that the R value defined by /I(100) is in the range of 0≦R≦0.5.
(2)基板上にアルマイト質の下地層が形成され、この
下地層の上に前記磁性膜層が形成されていることを特徴
とする特許請求の範囲第1項に記載の磁気記録媒体。
(2) The magnetic recording medium according to claim 1, wherein an alumite underlayer is formed on the substrate, and the magnetic film layer is formed on the underlayer.
(3)磁性膜層の上に保護膜が形成されていることを特
徴とする特許請求の範囲第1項又は第2項に記載の磁気
記録媒体。
(3) The magnetic recording medium according to claim 1 or 2, characterized in that a protective film is formed on the magnetic film layer.
(4)基板上にアルマイト質の下地層を形成し、次いで
スパッタリング法によって、この下地層上にNi及びP
tを含むCo基合金の磁性膜層を形成することにより、
この磁性膜の(002)面のX線回折強度と(100)
面のX線回折強度との比であるR値を0≦R≦0.5と
することを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
(4) An alumite base layer is formed on the substrate, and then Ni and P are deposited on this base layer by sputtering.
By forming a magnetic film layer of a Co-based alloy containing t,
The X-ray diffraction intensity of the (002) plane of this magnetic film and the (100)
A method for manufacturing a magnetic recording medium, characterized in that the R value, which is the ratio to the X-ray diffraction intensity of the surface, is set to 0≦R≦0.5.
(5)基板はアルミニウム又はアルミニウム基合金であ
り、これを陽極酸化処理することによりアルマイト質の
下地層を形成することを特徴とする特許請求の範囲第4
項に記載の磁気記録媒体の製造方法。
(5) Claim 4, characterized in that the substrate is aluminum or an aluminum-based alloy, and an alumite base layer is formed by anodizing the substrate.
A method for manufacturing a magnetic recording medium according to paragraph 1.
(6)窒素を含む雰囲気中でスパッタリングし、窒素を
含む合金膜を形成し、次いで熱処理して脱窒素させて磁
性膜層を形成することを特徴とする特許請求の範囲第4
項又は第5項に記載の磁気記録媒体の製造方法。
(6) Sputtering in a nitrogen-containing atmosphere to form a nitrogen-containing alloy film, followed by heat treatment to denitrify it to form a magnetic film layer.
5. A method for manufacturing a magnetic recording medium according to item 5.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6361408A (en) * 1986-09-01 1988-03-17 Hitachi Ltd Magnetic recording medium for magnetic disk and its production
US5419938A (en) * 1992-07-03 1995-05-30 Tdk Corporation Magnetic recording medium comprising two magnetic layers of hexagonal ferrite magnetic particles and binder wherein the easy axes of the particle is specified

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