JPS61170045A - ウエハ搬送ケ−ス - Google Patents
ウエハ搬送ケ−スInfo
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- JPS61170045A JPS61170045A JP1133385A JP1133385A JPS61170045A JP S61170045 A JPS61170045 A JP S61170045A JP 1133385 A JP1133385 A JP 1133385A JP 1133385 A JP1133385 A JP 1133385A JP S61170045 A JPS61170045 A JP S61170045A
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- JP
- Japan
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- case
- lid
- vacuum
- wafer
- cleanliness
- Prior art date
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- Pending
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/673—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere using specially adapted carriers or holders; Fixing the workpieces on such carriers or holders
- H01L21/6735—Closed carriers
- H01L21/67386—Closed carriers characterised by the construction of the closed carrier
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- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
- H01L21/67017—Apparatus for fluid treatment
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- H01L21/68—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for positioning, orientation or alignment
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の技術分野〕
本発明はウェハ搬送ケースに関し、特に半導体製造工程
においてウェハを収納したキャリヤを各工程に運搬する
際に用いられるものである。
においてウェハを収納したキャリヤを各工程に運搬する
際に用いられるものである。
従来、ウェハ搬送ケースとしては例えば第２図に示すも
のが知られている。
のが知られている。
図中の１は、下蓋である。この下１１には、上蓋２が止
め機構３を介して設けられている。この上蓋２には上蓋
止め４が設けられ、これにより上蓋２と下蓋１が係止さ
れる。なお、上蓋２は、止め機構３を軸として下蓋１に
対し矢印六方向に自在に開閉できるようになっている。
め機構３を介して設けられている。この上蓋２には上蓋
止め４が設けられ、これにより上蓋２と下蓋１が係止さ
れる。なお、上蓋２は、止め機構３を軸として下蓋１に
対し矢印六方向に自在に開閉できるようになっている。
しかしながら、従来のウェハ搬送ケースによれば、上蓋
２が開閉自在で、ケース内を気密に保持できない。従っ
て、このケースを環境の悪い場所で用いた場合、清浄度
が低下する。その結果、こうしたケース内に収容したウ
ェハを用いて半導体装置を製造した場合、ウェハの汚染
等により素子特性が低下するという問題を生ずる。
２が開閉自在で、ケース内を気密に保持できない。従っ
て、このケースを環境の悪い場所で用いた場合、清浄度
が低下する。その結果、こうしたケース内に収容したウ
ェハを用いて半導体装置を製造した場合、ウェハの汚染
等により素子特性が低下するという問題を生ずる。
（発明の目的〕
本発明は上記事情に鑑みてなされたもので、簡単な方法
で清浄度を保持して素子特性の劣化を防止しえるウェハ
搬送ケースを提供することを目的とするものである。
で清浄度を保持して素子特性の劣化を防止しえるウェハ
搬送ケースを提供することを目的とするものである。
本発明は、ウェハを収納したキャリヤを載置する収納台
と、この収納台に気密性を有するパツキンを介して固定
された蓋と、この蓋と収納台で囲まれた領域を真空に保
持する手段とを具備することを特徴とし、簡単な方法で
ウェハの清浄度を保ち、素子特性の向上を図ったもので
ある。
と、この収納台に気密性を有するパツキンを介して固定
された蓋と、この蓋と収納台で囲まれた領域を真空に保
持する手段とを具備することを特徴とし、簡単な方法で
ウェハの清浄度を保ち、素子特性の向上を図ったもので
ある。
本発明において、蓋の中を真空に保持する手段としては
、例えば、収納台に、真空ポンプに接続された真空吸引
口及びバルブを設けることが挙げられる。
、例えば、収納台に、真空ポンプに接続された真空吸引
口及びバルブを設けることが挙げられる。
以下、本発明の一実施例を第１図を参照して説明する。
図中の２１は、ウェハを収納したキャリヤを載置する収
納台である。この収納台２１には、気密性を有するパツ
キン２２を介して蓋２３が設けられている。前記収納台
２１には、真空吸引口２４、この吸引口２４の開閉を行
なうバルブ２５が夫々設けられている。前記真空吸引口
２４には、図示しないが真空ポンプ等が接続される。な
お、図中の２６はキャリヤ、２７はキャリアの固定台で
ある。
納台である。この収納台２１には、気密性を有するパツ
キン２２を介して蓋２３が設けられている。前記収納台
２１には、真空吸引口２４、この吸引口２４の開閉を行
なうバルブ２５が夫々設けられている。前記真空吸引口
２４には、図示しないが真空ポンプ等が接続される。な
お、図中の２６はキャリヤ、２７はキャリアの固定台で
ある。
こうした構造のウェハ搬送ケースは、通常、半導体製造
装置側のカセットｔｏカセットのセンダ一部（ウェハ搬
入側）、レシーバ部（ウェハ搬出側）の前後にセットさ
れる。そして、センダ一部では真空の大気解放との接続
により、またレシーバ部では真空ポンプとの接続により
容易に低コストで清浄度を維持できる。具体的には、真
空ポンプの場合について述−べれば、バルブ２５を開状
態にして真空ポンプで真空吸引口２４から吸引すると、
ケース内が真空になるとともに蓋２３がパツキン２２を
介して収納台２１に密着する。この後、バルブ２５を閉
じ真空ポンプの作動を停止する。
装置側のカセットｔｏカセットのセンダ一部（ウェハ搬
入側）、レシーバ部（ウェハ搬出側）の前後にセットさ
れる。そして、センダ一部では真空の大気解放との接続
により、またレシーバ部では真空ポンプとの接続により
容易に低コストで清浄度を維持できる。具体的には、真
空ポンプの場合について述−べれば、バルブ２５を開状
態にして真空ポンプで真空吸引口２４から吸引すると、
ケース内が真空になるとともに蓋２３がパツキン２２を
介して収納台２１に密着する。この後、バルブ２５を閉
じ真空ポンプの作動を停止する。
また、ケース内を真空状態から解放するときは、真空ポ
ンプを真空吸入口２４から外し、バルブ２５を閉状態に
すればよい。
ンプを真空吸入口２４から外し、バルブ２５を閉状態に
すればよい。
しかして、本発゛明によれば、収納台２１．１２３、真
空吸引口２４及びバルブ２５から構成されることにより
、ケース内を真空にできるとともに蓋２３と収納台２２
とをパツキン２２を介して密着させることができる。従
って、ゴミなどの汚染物がケース内へ流入することを大
幅に減少できる。
空吸引口２４及びバルブ２５から構成されることにより
、ケース内を真空にできるとともに蓋２３と収納台２２
とをパツキン２２を介して密着させることができる。従
って、ゴミなどの汚染物がケース内へ流入することを大
幅に減少できる。
また、ケース内を真空にする際、ケース内の汚染物も空
気とともに放出できるため、ケース内の清浄度が一層向
上する。以上より、前述したケースで収納されたウェハ
から得られた半導体装置は、従来と比べ著しく優れた素
子特性を有する。
気とともに放出できるため、ケース内の清浄度が一層向
上する。以上より、前述したケースで収納されたウェハ
から得られた半導体装置は、従来と比べ著しく優れた素
子特性を有する。
以上詳述した如く本発明によれば、簡単な方法で清浄度
を維持し、ウェハの素子特性を保持できるウェハ搬送ケ
ースを提供できるものである。
を維持し、ウェハの素子特性を保持できるウェハ搬送ケ
ースを提供できるものである。
第１図は本発明の一実施例に係るウェハ搬送ケースの断
面図、第２図は従来のウェハ搬送ケースの断面図である
。 ２１・・・収納台、２２・・・パツキン、２３・・・蓋
、２４・・・真空吸引口、２５・・・バルブ、２６・・
・キャリヤ、２７・・・キャリアの固定台。 出願人代理人 弁理士 給圧武彦 第１図 第２図
面図、第２図は従来のウェハ搬送ケースの断面図である
。 ２１・・・収納台、２２・・・パツキン、２３・・・蓋
、２４・・・真空吸引口、２５・・・バルブ、２６・・
・キャリヤ、２７・・・キャリアの固定台。 出願人代理人 弁理士 給圧武彦 第１図 第２図
Claims (1)
- ウェハを収納したキャリヤを載置する収納台と、この収
納台に気密性を有するパッキンを介して固定された蓋と
、この蓋と前記収納台で囲まれた領域を真空に保持する
手段とを具備することを特徴とするウェハ搬送ケース。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1133385A JPS61170045A (ja) | 1985-01-24 | 1985-01-24 | ウエハ搬送ケ−ス |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1133385A JPS61170045A (ja) | 1985-01-24 | 1985-01-24 | ウエハ搬送ケ−ス |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61170045A true JPS61170045A (ja) | 1986-07-31 |
Family
ID=11775102
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1133385A Pending JPS61170045A (ja) | 1985-01-24 | 1985-01-24 | ウエハ搬送ケ−ス |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61170045A (ja) |
-
1985
- 1985-01-24 JP JP1133385A patent/JPS61170045A/ja active Pending
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