JPS61126734A - Manufacture of camera tube - Google Patents

Manufacture of camera tube

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Publication number
JPS61126734A
JPS61126734A JP24774284A JP24774284A JPS61126734A JP S61126734 A JPS61126734 A JP S61126734A JP 24774284 A JP24774284 A JP 24774284A JP 24774284 A JP24774284 A JP 24774284A JP S61126734 A JPS61126734 A JP S61126734A
Authority
JP
Japan
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base plate
glass
substrate
transparent conductive
conductive film
Prior art date
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Pending
Application number
JP24774284A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Katsuhiko Endo
勝彦 遠藤
Hideaki Tomotsu
英昭 鞆津
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Sony Corp
Original Assignee
Sony Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Sony Corp filed Critical Sony Corp
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Publication of JPS61126734A publication Critical patent/JPS61126734A/en
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J9/00Apparatus or processes specially adapted for the manufacture, installation, removal, maintenance of electric discharge tubes, discharge lamps, or parts thereof; Recovery of material from discharge tubes or lamps
    • H01J9/20Manufacture of screens on or from which an image or pattern is formed, picked up, converted or stored; Applying coatings to the vessel
    • H01J9/233Manufacture of photoelectric screens or charge-storage screens

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Formation Of Various Coating Films On Cathode Ray Tubes And Lamps (AREA)

Abstract

PURPOSE:To improve the yield of a camera tube by suppressing formation of dark spots consisting of glass dust deriving from the side surface of the target base plate by smoothing the side surface of the target base plate after it is shaped into a final form. CONSTITUTION:After a thermosoftening adhesive 22 is used to stick a protective glass 21 to one surface of a base plate 2, lapping is performed on the end surface by mechanical polishing. Next, chemical etching is performed by the use of hydrofluoric acid to etch the side surface or the like of the base plate 2 by about 50-100mum thereby smoothing the base plate 2. Next, after a temporary glass base plate 13 and a protective glass 21 are removed, penetrating signal holes 18 are formed. Next, metallic electrodes 7 are inserted into the holes 18 and then the thus formed body is electrically connected to a transparent conductive film 5. At the same time, a photoconductive film 6 is vapordeposited on the transparent conductive film 5. Therefore, the side surface of the base plate 2 is smoothed during etching. As a result, even when the side surface of the base plate 2 touches jigs during assembly, there is no possibility that glass dust develops from the side surface of the base plate 2 and adheres to the photoconductive film 6 to form spots.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は撮像管の製法に関する。[Detailed description of the invention] [Industrial application field] The present invention relates to a method for manufacturing an image pickup tube.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

第4図は、単管式カラー撮像管のターゲツト面周辺を示
す図である。
FIG. 4 is a diagram showing the vicinity of the target surface of a single-tube color image pickup tube.

同図において、(1)はガラスパルプ、(2)はガラス
板よりなるターダット基板である。ターゲツト基板(2
)上には、色フィルタ層(3)、10〜20μm程度の
薄板ガラス(4)、透明導電膜(5)及び光導電膜(6
)が順次配される。そして、(7)は信号取出用の金属
電極であり、基板(2)等を貫通して設けられ透明導電
膜(5)に電気的に接続されている。また、基板(2)
とガラスパルプ(1)間は金属リング(8)の内周面に
配されたインジウム(9)によって冷封止されている。
In the figure, (1) is a glass pulp, and (2) is a TARDAT substrate made of a glass plate. Target board (2
), a color filter layer (3), a thin plate glass (4) of about 10 to 20 μm, a transparent conductive film (5) and a photoconductive film (6)
) are arranged sequentially. And (7) is a metal electrode for signal extraction, which is provided through the substrate (2) etc. and electrically connected to the transparent conductive film (5). Also, the board (2)
The space between the glass pulp (1) and the glass pulp (1) is cold-sealed by indium (9) arranged on the inner peripheral surface of the metal ring (8).

また、顛は°電子ビームのランディングエラーを補正す
るタメのメツシュ状電極であり、インジウム(9) K
 機械的かつ電気的に接続されたメツシュホルダー(1
11に支持されている。このメツシュ状電極arncハ
、金属リング(8)、インジウム(9)及びメツシュホ
ルダーαυを介して所定電圧が印加される。
In addition, the structure is a mesh-like electrode that corrects the landing error of the electron beam, and is made of indium (9) K.
Mechanically and electrically connected mesh holder (1
It is supported by 11. A predetermined voltage is applied through this mesh-like electrode arn, the metal ring (8), the indium (9), and the mesh holder αυ.

この撮像管の基板(2)周辺は、従来例えば以下に示す
工程で製造されている。
The periphery of the substrate (2) of this image pickup tube has conventionally been manufactured, for example, by the steps shown below.

まず、第5図Aに示すように、その表面に透明導電膜(
5)が形成された薄板ガラス(4)が、熱軟化性接着剤
α2を用いて仮止めガラス基板a3に接着される。この
場合、薄板ガラス(4)は接着時100/Jm程度の厚
さのものであるが、その後研摩され、最終的に10〜2
0μmの厚さとされる。
First, as shown in FIG. 5A, a transparent conductive film (
The thin glass plate (4) on which 5) is formed is adhered to the temporarily fixed glass substrate a3 using a thermosetting adhesive α2. In this case, the thin glass (4) has a thickness of about 100/Jm at the time of bonding, but is then polished to a final thickness of 10~2Jm.
The thickness is 0 μm.

次に、同図Bに示すように、その表面に色フィールタ層
(3)が形成されたターゲツト基板(2)が光硬化性接
着剤Iを用いて薄板ガラス(4)に貼合せられる。
Next, as shown in Figure B, the target substrate (2) on which the color filter layer (3) is formed is bonded to the thin glass plate (4) using the photocurable adhesive I.

この場合、基板(2)としては、第6図に示すような工
程で形成されたものが使用されている。mち、同図Aに
示すような円柱状のガラス材料(151から同図Bに示
すような円柱状のガラス部材f161が切出される。そ
して、このガラス部材αθは、同図Cに示すように砥石
α7)Kより機械的研摩がなされ、寸法合せ等の外形仕
上げがなされる。そして、この外形仕上げがなされたガ
ラス部材側の両表面が鏡面研摩されて、同図DK示すよ
うに基板(2)が形成される。
In this case, the substrate (2) formed by the process shown in FIG. 6 is used. m, a cylindrical glass member f161 as shown in Figure B is cut out from a cylindrical glass material (151) as shown in Figure A. Then, this glass member αθ is Then, mechanical polishing is performed using a grindstone α7)K, and external finishing such as dimension matching is performed. Then, both surfaces of the glass member side that have been finished with this external shape are mirror-polished to form a substrate (2) as shown in FIG.

次に、第5図CK示すように、例えば砥石による機械的
研摩によって、いわゆる端面ラップが行なわれる。この
端面ラップは、例えば薄板ガラス(4)の欠は等を未然
に防止するために行なわれる。
Next, as shown in FIG. 5CK, so-called end face lapping is performed, for example, by mechanical polishing using a grindstone. This end face lapping is performed, for example, in order to prevent chips from occurring in the thin glass (4).

次K、同図りに示すようK、仮止めガラス基板a3が除
去された後、信号取出用の金属電極c力を貫通させるた
めの貫通孔αgが、基板(2)等を貫通して形成される
。この形成には、例えばダイヤモンドドリルが使用され
る。
Next, as shown in the same figure, after the temporarily fixed glass substrate a3 is removed, a through hole αg is formed through the substrate (2) etc. for passing the metal electrode c force for signal extraction. Ru. For example, a diamond drill is used for this formation.

次に、同図Eに示すように、金属電極(7)が貫通孔(
181に挿入され、その一端が例えば半田(19により
透明導電膜(5)に電気的に接続されると共に、透明導
電膜(5)上に光導電膜(6)が蒸着形成される。
Next, as shown in Figure E, the metal electrode (7) is inserted into the through hole (
181, one end of which is electrically connected to the transparent conductive film (5) by, for example, solder (19), and a photoconductive film (6) is deposited on the transparent conductive film (5).

また、第7図において、翰は組立治工具を示しており、
固定部(20A) Kはガラスパルプ(1)、インジウ
ム(9)がその内周面に配された金属リング(8)、メ
ツシュホルダー(111に支持されたメツシュ状電極α
〔が配され、その可動部(20B)には上述した基板(
2)周辺が配され、可動部(20B)が矢印Xで示す方
向に移動され、最終的にガラスパルプ(1)と基板(2
)間でインジウム(9)が圧迫されて冷封止がなされ、
第4図に示すように組立てられる。尚、第4図及び第7
図においては、図面の簡単のため、第5図における接着
剤a4の部分は示していない。
In addition, in Fig. 7, the handles indicate assembly jigs and tools.
Fixed part (20A) K is a glass pulp (1), a metal ring (8) with indium (9) arranged on its inner circumferential surface, and a mesh-like electrode α supported by a mesh holder (111).
[ is arranged, and its movable part (20B) has the above-mentioned board (
2) The surroundings are arranged, the movable part (20B) is moved in the direction shown by arrow X, and finally the glass pulp (1) and the substrate (2
), the indium (9) is compressed and cold sealed.
It is assembled as shown in FIG. Furthermore, Figures 4 and 7
In the figure, for the sake of simplicity, the adhesive a4 in FIG. 5 is not shown.

〔発明が解決しようとする問題点〕[Problem that the invention seeks to solve]

上述のようKして製造された撮像管によれば、不良の理
由となる光導電膜(6)上の黒傷、いわゆる黒傷が、タ
イプ及び規格により多少異なるが、数チ程度発生し、歩
留向上の大きな妨げとなっている。
According to the image pickup tube manufactured by K as described above, black scratches on the photoconductive film (6), which are the cause of defects, occur on the order of several inches, although this varies somewhat depending on the type and standard. This is a major hindrance to improving yield.

本出願人は、この光導電膜(6)上の黒傷の原因を分析
し、その結果、50〜80%はガラノコ9ミであること
を知った。そして、そのガラスゴミは10μm程度の大
きさのものがピークとなる分布を示しており、その大部
分は基板(2)の材料と一致した。本出願人はこの理由
を次のように推定した。即ち、上述したように、従来の
製造方法によれば、基板(2)の側面は機械的研摩によ
る外形仕上げがなされたままとされており、その側面は
10μm程度の凹凸面である(第6図り参照)。従って
、例えば第7図に示すような治工具■による組立時、可
動部(20B) K固定する際にピンセットあるいは可
動部(20B)の固定部に接触され、基板(2)の側面
よりガラスゴミが発生する。そして、このガラスゴミが
組立時における空気移動エネルギー等で飛散し、光導電
膜(6)上に付着し、黒傷となるものと考えられる。
The applicant analyzed the cause of the black scratches on the photoconductive film (6) and found that 50 to 80% of the black scratches were due to scratches. The glass dust showed a distribution with a peak size of about 10 μm, and most of it corresponded to the material of the substrate (2). The applicant presumed the reason for this as follows. That is, as mentioned above, according to the conventional manufacturing method, the side surface of the substrate (2) remains finished by mechanical polishing, and the side surface has an uneven surface of about 10 μm (6th (see diagram). Therefore, when assembling the movable part (20B) with a jig (2) as shown in FIG. occurs. It is believed that this glass dust is scattered by air movement energy during assembly and adheres to the photoconductive film (6), resulting in black scratches.

本発明は斯る点に鑑み、例えば上述したような黒傷の減
少を図り、特に歩留の向上を図るものである。
In view of these points, the present invention aims to reduce the black scratches mentioned above, and particularly aims to improve the yield.

〔問題点を解決するための手段〕[Means for solving problems]

本発明は上述問題点を解決するため、ターゲット基板(
2)が最終的な形状に加工された後に、その側面の平滑
処理を行なうものである。平滑処理は例えば7ツ酸によ
る化学エツチングで行なわれる。
In order to solve the above-mentioned problems, the present invention aims to solve the above-mentioned problems.
After 2) is processed into the final shape, its side surfaces are smoothed. The smoothing treatment is carried out by chemical etching using, for example, heptonic acid.

〔作用〕[Effect]

以上のように、ターゲット基板(2)の側面が平、滑処
理されることによって、その後の製造工程においてこの
側面からはガラスゴミがほとんど発生しなくなる。
As described above, by flattening and smoothing the side surface of the target substrate (2), almost no glass dust is generated from this side surface in the subsequent manufacturing process.

〔実施例〕〔Example〕

以下、図面を参照しながら本発明の一実施例について説
明しよう。
Hereinafter, one embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.

本例は基板(2)周辺の製造法に特徴があり、第1図に
示す工程で製造される。この第1図において、上述第5
図と対応する部分には同一符号を付して示している。
This example is characterized by the manufacturing method for the periphery of the substrate (2), which is manufactured by the steps shown in FIG. In this Figure 1, the above-mentioned fifth
Portions corresponding to those in the figure are designated by the same reference numerals.

まず、第1図Aに示すようKその表面に透明導電膜(5
)が形成された薄板ガラス(4)が熱軟化性液、着剤α
2を用いて仮止めガラス基板a3に接着される。
First, as shown in Figure 1A, a transparent conductive film (5
) formed on the thin glass (4) is a heat softening liquid, an adhesive α
2 to temporarily adhere to the glass substrate a3.

次に、同図Bに示すように、その表面に色フィルタ層(
3)が形成されたターゲット基板(2)が光硬化性液着
剤α4を用いて薄板ガラス(4)に貼合せられる。
Next, as shown in Figure B, a color filter layer (
The target substrate (2) on which 3) was formed is bonded to a thin glass plate (4) using a photocurable liquid adhesive α4.

以上の工程は従来工程(第5図A、B参照)と同様であ
り、基板(2)も従来同様に、第6図A−Dに示す工程
で形成されたものが使用される。
The above steps are similar to the conventional steps (see FIGS. 5A and 5B), and the substrate (2) formed in the steps shown in FIGS. 6A to 6D is also used as in the conventional case.

次に、本例においては、第1図Cに示すように、基板(
2)の表面を後述する化学エツチング処理から保護する
保護ガラス(2υが熱軟化性接着剤@を用いて基板(2
)に接着される。
Next, in this example, as shown in FIG.
A protective glass (2υ) that protects the surface of the substrate (2) from the chemical etching treatment described below is attached using a heat-softening adhesive @.
).

次に、同図りに示すようK、例えば砥石による機械的研
摩によって、いわゆる端面ラップが行なわれる。
Next, as shown in the figure, so-called end face lapping is performed by mechanical polishing using a grindstone, for example.

次に、フッ酸(HF)による化学エツチング処理が行な
われ、例えば基板(2)の側面等が50〜100μm程
度エツチングされ、平滑化される(同図Eに図示)。こ
のエツチング処理後ガラス以外でエツチングされず出て
いるところは、必要に応じて有機溶剤、例えばトリクロ
ロエチレン等で除去される。
Next, a chemical etching process using hydrofluoric acid (HF) is performed, and, for example, the side surfaces of the substrate (2) are etched by about 50 to 100 μm and smoothed (as shown in FIG. E). After this etching process, the parts other than the glass that are not etched are removed with an organic solvent such as trichlorethylene, if necessary.

次に、同図Fに示すようK、仮止めガラス基板(131
及び保護ガラスQυが除去された後、信号取出用の金属
電極(7)を貫通させるための貫通孔αaが、基板(2
)等を貫通して形成される。
Next, as shown in FIG.
After the protective glass Qυ is removed, a through hole αa for passing the metal electrode (7) for signal extraction is formed in the substrate (2).
), etc.

次に、同図Gに示すように、金属電極(7)が貫通孔α
槌に挿入され、その一端が例えば半田a1により透明導
電膜(5)に電気的に接続されると共に、透明導電膜(
5)上に光導電膜(6)が蒸着形成される。
Next, as shown in Figure G, the metal electrode (7) is inserted into the through hole α.
It is inserted into a mallet, one end of which is electrically connected to the transparent conductive film (5) by, for example, solder a1, and the transparent conductive film (5) is inserted into the mallet.
5) A photoconductive film (6) is deposited on top.

このように基板(2)周辺が製造され、以下、従来と同
様に第7図に示すような組立治工具■によって組立てが
なされ、第2図に示すように組立てられる。この第2図
において第4図と対応する部分には同一符号を付して示
している。尚、第2図においては、図面の簡単化のため
、第1図における接着剤(141の部分は示していない
The periphery of the substrate (2) is manufactured in this way, and then assembled using an assembly jig (2) as shown in FIG. 7 in the same manner as in the prior art, and assembled as shown in FIG. 2. In FIG. 2, parts corresponding to those in FIG. 4 are designated by the same reference numerals. In FIG. 2, the adhesive (141) in FIG. 1 is not shown for the sake of simplicity.

このように本例の方法によれば、第1図Gに示すように
、最終的に製造された基板(2)周辺において、基板(
2)の側面はエツチング処理時に平滑化される。従って
本例の方法によれば、例えば第7図に示すような治工具
■による組立時、可動部(20B)に配する際にビンセ
ットあるいは可動2B)の固定部に接触しても、基板(
2)の側面より従来のようにガラスフ9ミが発生するこ
とがほとんどなく、光導電膜(6)に付着し、黒傷とな
ることもほとんどない。
As described above, according to the method of this example, as shown in FIG. 1G, the substrate (
The side surfaces of 2) are smoothed during the etching process. Therefore, according to the method of this example, when assembling with a jig (2) as shown in FIG. (
From the side surface of 2), there is almost no occurrence of glass smudges as in the conventional case, and there is also almost no chance of adhering to the photoconductive film (6) and causing black scratches.

結果的に、本例の方法によれば、黒傷が減少し、歩留が
向上する。尚、黒傷による不良品を走査型電子顕微鏡で
解析した結果、ガラスゴミの含まれる割合は、従来方法
によるものが14サンプルのうち64%であり、本例の
方法によるものは10サンプルのうち0%であった。こ
の結果からも本例の方法によれば、ガラスがミによる黒
傷がほとんどなくなることがわかり、その効果が大なる
ことが証明された。
As a result, according to the method of this example, black scratches are reduced and yield is improved. In addition, as a result of analyzing defective products due to black scratches using a scanning electron microscope, the proportion of glass dust contained was 64% out of 14 samples made by the conventional method, and 64% out of 10 samples made by the method of this example. It was 0%. From this result, it was found that the method of this example almost eliminates black scratches caused by dirt on the glass, proving that the method is very effective.

また、本例の方法によれば、上述したように基板(2)
の側面より従来のようにガラスゴミが発生することがほ
とんどなく、例えば組立工程においての取扱いが容易と
なり、製造能率の向上が図られる。
Further, according to the method of this example, as described above, the substrate (2)
As a result, there is almost no glass dust generated as in the conventional case, making it easier to handle, for example, in the assembly process, and improving manufacturing efficiency.

さらK、本例の方法によれば、−真空に対するシール性
、つまり真空性の向上が図られる。これは基板(2)の
側面等を平滑化したことにより有効シール面が増したた
めと考えられる。
Furthermore, according to the method of this example, - the sealing performance against vacuum, that is, the vacuum property can be improved. This is thought to be because the effective sealing surface was increased by smoothing the side surfaces of the substrate (2).

尚、上述実施例においては、フッ酸による化学エツチン
グによって基板(2)の側面を平滑化したものであるが
、機械的研摩(鏡面研摩)Kよって平滑化してもよい。
In the above embodiment, the side surface of the substrate (2) was smoothed by chemical etching using hydrofluoric acid, but it may also be smoothed by mechanical polishing (mirror polishing).

また、上述実施例において、最初から基板(2)として
側面が平滑化された亀のを使用することも考えられる。
Furthermore, in the above-described embodiment, it is also conceivable to use a tortoise shell with smoothed sides as the substrate (2) from the beginning.

しか−し、この場合、端面ラップの工程で機械的研摩さ
れた部分は平滑化されずに残り、完全ではない。
However, in this case, the portion mechanically polished in the end face lapping process remains unsmoothed and is not perfect.

また、上述実施例は本発明を単管カラー撮像管の製造に
適用した例であるが、白黒撮像管の製造にも同様に適用
することができる。
Furthermore, although the above-mentioned embodiment is an example in which the present invention is applied to the manufacture of a single-tube color image pickup tube, it can be similarly applied to the manufacture of a monochrome image pickup tube.

即ち、従来の白黒撮像管のターゲツト基板は、第6図A
−Dに示す工程で形成されるが、本発明を適用するもの
においては、第6図Cに示すように外竺仕上げがなされ
たガラス部材(Ieに対し、フッ酸によるエツチング処
理がなされ、第3図人に示すように表面及び側面が平滑
化され、そして、両表面が鏡面研摩されて、同図Bに示
すように基板(2)が形成される。尚、外形仕上げがな
されたガラス部材16)の両表面を鏡面研摩した後、こ
れら両表面ヲマスキングしてフッ酸によるエツチング処
理をし、側面を平滑化して形成することもできる。
That is, the target substrate of the conventional monochrome image pickup tube is shown in FIG. 6A.
-D, but in the case where the present invention is applied, a glass member (Ie) with an outer finish as shown in FIG. The surface and side surfaces are smoothed as shown in Figure 3, and both surfaces are polished to a mirror finish to form the substrate (2) as shown in Figure B.The glass member with the external finish After mirror-polishing both surfaces of 16), these surfaces may be masked and etched with hydrofluoric acid to smooth the side surfaces.

このように基板(2)を形成し、白黒撮像管を製造する
方法においても、上述したカラー撮像管の場合と同様の
作用効果が得られることは明白である。
It is clear that the same effects as in the case of the color image pickup tube described above can be obtained by forming the substrate (2) in this manner and manufacturing a monochrome image pickup tube.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

以上述べた本発明方法によれば、ターゲツト基板の側面
が平滑処理されて使用されるので、ガラスゴミによる黒
傷が大幅に減少し歩留の向上を図ることができると共に
、取扱いが容易となって製造能率の向上を図ることがで
きる。さらに、真空性の向上も図ることができる。
According to the method of the present invention described above, since the side surfaces of the target substrate are smoothed before use, black scratches caused by glass dust can be significantly reduced, yield can be improved, and handling becomes easier. It is possible to improve manufacturing efficiency. Furthermore, it is possible to improve the vacuum property.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図及び第3図は夫々本発明の説明のための工程図、
第2図は本発明の方法による撮像管のターゲツト面周辺
の構成図、第4図は従来の方法による撮像管のターゲツ
ト面周辺の構成図、第5図及び第6図は夫々従来の方法
の説明のための工程図、第7図は組立工程の説明のため
の図である。 (2)はターゲツト基板、(3)は色フィルタ層、(4
)は薄板ガラス、(5)は透明導電膜、(6)は光導電
膜、(7)は金属電極、α4は光硬化性接着剤である。 第6図
FIG. 1 and FIG. 3 are process diagrams for explaining the present invention, respectively.
FIG. 2 is a block diagram of the area around the target surface of the image pickup tube according to the method of the present invention, FIG. 4 is a block diagram of the area around the target surface of the image pickup tube according to the conventional method, and FIGS. FIG. 7 is a diagram for explaining the assembly process. (2) is the target substrate, (3) is the color filter layer, (4
) is a thin plate glass, (5) is a transparent conductive film, (6) is a photoconductive film, (7) is a metal electrode, and α4 is a photocurable adhesive. Figure 6

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 撮像管のターゲツト基板が最終的な形状に加工された後
に、上記ターゲツト基板の側面の平滑処理を行なうこと
を特徴とする撮像管の製法。
1. A method for manufacturing an image pickup tube, characterized in that after the target substrate of the image pickup tube is processed into a final shape, a side surface of the target substrate is smoothed.
JP24774284A 1984-11-22 1984-11-22 Manufacture of camera tube Pending JPS61126734A (en)

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JP24774284A JPS61126734A (en) 1984-11-22 1984-11-22 Manufacture of camera tube

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JP24774284A JPS61126734A (en) 1984-11-22 1984-11-22 Manufacture of camera tube

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