JPS61106580A - 7−〔α−(2−アミノ−4−チアゾリル)−α−オキシイミノアセトアミド〕−3−(1,3−ジチオラン−2−イル)−Δ↑3−セフエム−4−カルボン酸誘導体およびその製造法 - Google Patents
7−〔α−(2−アミノ−4−チアゾリル)−α−オキシイミノアセトアミド〕−3−(1,3−ジチオラン−2−イル)−Δ↑3−セフエム−4−カルボン酸誘導体およびその製造法Info
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- JPS61106580A JPS61106580A JP22934984A JP22934984A JPS61106580A JP S61106580 A JPS61106580 A JP S61106580A JP 22934984 A JP22934984 A JP 22934984A JP 22934984 A JP22934984 A JP 22934984A JP S61106580 A JPS61106580 A JP S61106580A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は、抗菌活性を有する医薬品として有用なセファ
ロスポリン系の化合物およびその製造法に関する。
ロスポリン系の化合物およびその製造法に関する。
(発明の解決手段)
本発明の化合物は1次式で示される 7−[α−(2−
アミノ−4−チアゾリル)−α−オキシイミノアセトア
ミトコ−3−(1,3−ジチオラン−2−イル)−Δ3
−セフェムー4−カルボン酸、そのエステルまたはこれ
らの非毒性の塩類である。
アミノ−4−チアゾリル)−α−オキシイミノアセトア
ミトコ−3−(1,3−ジチオラン−2−イル)−Δ3
−セフェムー4−カルボン酸、そのエステルまたはこれ
らの非毒性の塩類である。
(式中 人は置換基を有していてもよい低級アルキル基
を。
を。
Bは水素原子または式−R’−00CC(R”)3(式
中81は分枝を有していてもよい低級アルキレン基、R
2は水素原子または低級アルキル基を意味する)で示さ
れる アルキル力ルポニルオキンアルキル基 を意味する。) また9本発明の製造方6法は、一般式 (式中 人は置換基を有していてもよい低級アルキル基 を意味する。) で示されるオキシイミノチアゾリル酢酸またはその反応
性誘導体と一般式 (式中 Bは水素原子または式−R1−00CC(R”
)3(式中R1は分枝を有していてもよ い低級アルキレ/基、R2は水素 原子または低級アルキル基を意 味する。)で示されるアルキル カルボニルオキシアルギル基 を意味する。) で示される 7−アミノ−3−(1,3−ジチオラン−
2−イル)−Δローセフェム−4−カルボ/酸、そのエ
ステルまたはそれらの塩類とを反応させて、一般式
′ (式中 人およびBは前記と同じ意味である)で示され
る化合物を得、得られた化合物のBが水素原子であると
きは、該化合物に一般式X−R1−00CC(Rす、
σつ(式中Xはハロゲン原子を意味する。ま
た、 R1,R’は前記と同じ意味である。)で示され
るアルキルカルボ/酸 ハロゲン化アルキルを反応させ
ることを特徴とする一般式(式中、AおよびBは前記と
同じ意味でちる。)ド]−3−(1,3−ジチオラン−
2−イル)−Δ1−七フエムー4−カルボンa、 −t
−のエステルまたはこれらの非毒性の塩類の製造方法で
ある。
中81は分枝を有していてもよい低級アルキレン基、R
2は水素原子または低級アルキル基を意味する)で示さ
れる アルキル力ルポニルオキンアルキル基 を意味する。) また9本発明の製造方6法は、一般式 (式中 人は置換基を有していてもよい低級アルキル基 を意味する。) で示されるオキシイミノチアゾリル酢酸またはその反応
性誘導体と一般式 (式中 Bは水素原子または式−R1−00CC(R”
)3(式中R1は分枝を有していてもよ い低級アルキレ/基、R2は水素 原子または低級アルキル基を意 味する。)で示されるアルキル カルボニルオキシアルギル基 を意味する。) で示される 7−アミノ−3−(1,3−ジチオラン−
2−イル)−Δローセフェム−4−カルボ/酸、そのエ
ステルまたはそれらの塩類とを反応させて、一般式
′ (式中 人およびBは前記と同じ意味である)で示され
る化合物を得、得られた化合物のBが水素原子であると
きは、該化合物に一般式X−R1−00CC(Rす、
σつ(式中Xはハロゲン原子を意味する。ま
た、 R1,R’は前記と同じ意味である。)で示され
るアルキルカルボ/酸 ハロゲン化アルキルを反応させ
ることを特徴とする一般式(式中、AおよびBは前記と
同じ意味でちる。)ド]−3−(1,3−ジチオラン−
2−イル)−Δ1−七フエムー4−カルボンa、 −t
−のエステルまたはこれらの非毒性の塩類の製造方法で
ある。
(発明の詳細な説明)
上記の化合物の説明において9人の意味する「置換基を
有していてもよい低級アルキル基」とは、置換基として
カルボキシ基、カルバモイル基またはチオカルバモイル
基を有しているか。
有していてもよい低級アルキル基」とは、置換基として
カルボキシ基、カルバモイル基またはチオカルバモイル
基を有しているか。
または未置換の炭素数1乃至5個の直鎖状または分校状
のアルキル基である。したがって、置換の低級アルキル
基とじては、たとえば、カル。
のアルキル基である。したがって、置換の低級アルキル
基とじては、たとえば、カル。
ボキシメチル基、カルボキシエチル基、カルバモイルメ
チル基、チオカルバモイルメチル基。
チル基、チオカルバモイルメチル基。
チオカルバモイルエチル基、チオカルバモイルエチル基
などを、また、未置換の低級アルキル基としては、たと
えばメチル基、エチル基。
などを、また、未置換の低級アルキル基としては、たと
えばメチル基、エチル基。
プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、ペンチル基な
どを挙げることができる。
どを挙げることができる。
また、Bの意味する「式−R“−00CC(R”)3
Jで示される基における分枝を有していてもよい低級ア
ルキレン基# R1#とじては、炭素数1乃至5個の炭
素鎖からなるアル中しン鎖でありまた。
Jで示される基における分枝を有していてもよい低級ア
ルキレン基# R1#とじては、炭素数1乃至5個の炭
素鎖からなるアル中しン鎖でありまた。
低級アルキル基#R1“としては、炭素数1乃至3個の
炭素鎖からなるアルキル基である。したがって、基−R
’−00CC(R”)Jとしては、たとえばアセトキシ
メチル基、1−アセトキシエチル基(−CH−00CC
Hs) 、 ピバロイルオキシメチル基H3 (2,2−ジエチルブタノイルオキシメチル基)。
炭素鎖からなるアルキル基である。したがって、基−R
’−00CC(R”)Jとしては、たとえばアセトキシ
メチル基、1−アセトキシエチル基(−CH−00CC
Hs) 、 ピバロイルオキシメチル基H3 (2,2−ジエチルブタノイルオキシメチル基)。
2−(ピパロイルオキシ)エチル基(−CM、 CI、
0OCC(CH3)の。
0OCC(CH3)の。
2.2−ジエチルブタノイルオキシメチル基。
2.2−ジプロピルペンタノイルオキシメチル基などで
ある。
ある。
本発明によって提供される化合物CI)は、セファロス
ポリン核の3位に1.3−ジチオラン−2−イル基を有
している点に化学構造上の特徴を有する新しいセファロ
スポリ/誘導体である。
ポリン核の3位に1.3−ジチオラン−2−イル基を有
している点に化学構造上の特徴を有する新しいセファロ
スポリ/誘導体である。
このような誘導体について報告した文献は見当らない。
以上、化合物CI)について説明したが、この一般式に
含まれる目的化合物の代表的なものを挙げるとつぎの通
りである。
含まれる目的化合物の代表的なものを挙げるとつぎの通
りである。
Ci)@−7−[α−(2−アミノ−4−チアゾリル)
−α−メトキシイミノアセトアミドコ−3−(1,3−
ジチオラ/−2−イル)−Δ1−セフェムー4−カルボ
ン酸 (11)アセトキシメチル ■−7−〔α−(2−アミ
ノ−4−チアゾリル)−α−メトキシイミノアセトアミ
ド]−3,−(1,3−ジチオラン−2−イル)−Δ8
−セフェムー4−カルボキシレート ぜ (iii)メバロイルオキシメチル の−7−[α−(
2−アミノ−4−チアゾリル)−α−メトキシイミノア
セトアミド]−3−(1,3−ジチオラン−2−−fル
)−Δニーセフェム−4−カルボキシレート Gv)1−(ピバロイルオキシ)エチル ■−7−[α
−(2−アミノ−4−チアゾリル)−α−メトキシイミ
ノアセトアミド]−3−(1,3−ジチオラン−2−イ
ル)−Δ3−セフェムー4−カルボキシレート (V)1−(ピバロイルオキシ)エチル 2+−7−[
α−(2−アミノ−4−チアゾリル)−α−(チオカル
バモイルメトキンイミノ)アセトアミド]−3−(1,
3−ジチオラン−2−イル)−Δ1−セフェムー4−カ
ルボキシレート 本発明の化合物は、下表1に示されるように。
−α−メトキシイミノアセトアミドコ−3−(1,3−
ジチオラ/−2−イル)−Δ1−セフェムー4−カルボ
ン酸 (11)アセトキシメチル ■−7−〔α−(2−アミ
ノ−4−チアゾリル)−α−メトキシイミノアセトアミ
ド]−3,−(1,3−ジチオラン−2−イル)−Δ8
−セフェムー4−カルボキシレート ぜ (iii)メバロイルオキシメチル の−7−[α−(
2−アミノ−4−チアゾリル)−α−メトキシイミノア
セトアミド]−3−(1,3−ジチオラン−2−−fル
)−Δニーセフェム−4−カルボキシレート Gv)1−(ピバロイルオキシ)エチル ■−7−[α
−(2−アミノ−4−チアゾリル)−α−メトキシイミ
ノアセトアミド]−3−(1,3−ジチオラン−2−イ
ル)−Δ3−セフェムー4−カルボキシレート (V)1−(ピバロイルオキシ)エチル 2+−7−[
α−(2−アミノ−4−チアゾリル)−α−(チオカル
バモイルメトキンイミノ)アセトアミド]−3−(1,
3−ジチオラン−2−イル)−Δ1−セフェムー4−カ
ルボキシレート 本発明の化合物は、下表1に示されるように。
すぐれた抗菌活性を示す。殊にダラム陽性菌および陰性
菌に属する微生物に対し、すぐれた抗菌力が認められる
ので1本発明の化合物は、医薬品、殊に抗菌剤、飼料の
添加剤、保存剤とし11、j □1.アあ、
。
菌に属する微生物に対し、すぐれた抗菌力が認められる
ので1本発明の化合物は、医薬品、殊に抗菌剤、飼料の
添加剤、保存剤とし11、j □1.アあ、
。
表1 (最少発育阻止濃度、γ/IIIt)本発明の化
合物(I)は、そのままあるいはその塩として需要に供
される。塩としては、薬理的に許容される非毒性の酸ま
たは塩基との塩である。酸との塩としては、ハロゲン化
水素酸酸等の有機酸との塩が挙げられる。また、塩基と
の塩としては、たとえばナトリウム塩、カリウム塩など
のアルカリ金属塩;アンモニウム塩;ジシクロヘキシル
アミン塩、シクロヘキシルアミン塩、トリエチルアミン
塩、エタノ−ルア □ミン塩などの有機塩基
との塩;オルニチン塩。
合物(I)は、そのままあるいはその塩として需要に供
される。塩としては、薬理的に許容される非毒性の酸ま
たは塩基との塩である。酸との塩としては、ハロゲン化
水素酸酸等の有機酸との塩が挙げられる。また、塩基と
の塩としては、たとえばナトリウム塩、カリウム塩など
のアルカリ金属塩;アンモニウム塩;ジシクロヘキシル
アミン塩、シクロヘキシルアミン塩、トリエチルアミン
塩、エタノ−ルア □ミン塩などの有機塩基
との塩;オルニチン塩。
リジン塩、アルギニン塩、アスパラギン酸塩。
グルタミン酸塩などのアミノ酸塩を挙げることができる
。
。
本発明の化合物(I)またはその塩類は、抗菌剤として
経口的あるいは非経口的に投与されるが、化合物(1)
の幾つかは、殊に経口投与に適している。投与量は、症
状1体重などに応じて異なるが、成人で1日250〜3
000rngであり。
経口的あるいは非経口的に投与されるが、化合物(1)
の幾つかは、殊に経口投与に適している。投与量は、症
状1体重などに応じて異なるが、成人で1日250〜3
000rngであり。
これを3〜4回に分けて投与する。投与に適した剤形は
1錠剤、カプセル、シロップ、注射剤などである。これ
らの剤形の調製は、製剤学上用いられる賦形剤、保存剤
、安定剤などを添加し1通常の方法によって行いうる。
1錠剤、カプセル、シロップ、注射剤などである。これ
らの剤形の調製は、製剤学上用いられる賦形剤、保存剤
、安定剤などを添加し1通常の方法によって行いうる。
(製造法)
本発明の化合物は1種々の方法で製造できるが1代表的
な製造法を以下に説明する。
な製造法を以下に説明する。
(式中、A、R’およびXは前記の意味と同じである。
)本発明の化合物(Dは、一般式(II)で示されるオ
キシイミノチアゾリル酢酸またはその反応性誘導体と式
(IIII、) [Bが水素原子である化合物(■)]
または一般式(瓜)CBが−R1−00CC(Rリュで
ある化合物(■)]で示される7−アミノ−3−(1,
3−ジチオラン−2−イル)−Δコーセフェム誘導体と
を反応させること(アミド化)によって製造することが
できる。
キシイミノチアゾリル酢酸またはその反応性誘導体と式
(IIII、) [Bが水素原子である化合物(■)]
または一般式(瓜)CBが−R1−00CC(Rリュで
ある化合物(■)]で示される7−アミノ−3−(1,
3−ジチオラン−2−イル)−Δコーセフェム誘導体と
を反応させること(アミド化)によって製造することが
できる。
また、目的化合物(I)のうち、Bが−R’ −00C
C(R2)3である化合物(I、)は、Bが水素原子で
ある化合物(11)に一般式(rV)で示されるアルキ
ルカルボン酸ハロゲン化アルキルを反応させること(エ
ステル化)Kよっても製造できる。
C(R2)3である化合物(I、)は、Bが水素原子で
ある化合物(11)に一般式(rV)で示されるアルキ
ルカルボン酸ハロゲン化アルキルを反応させること(エ
ステル化)Kよっても製造できる。
上記のアミド化反応は通常溶媒中冷却下乃至室温下で行
なわれる。溶媒は反応に関与しないものであれば特に制
限はないが1通常使用されるものとしては、ジオキサン
、テトラヒドコフラン、アセトン、エチルメチルケトン
、クロロホルム、ジクロロメタン、ジクロロエタン。
なわれる。溶媒は反応に関与しないものであれば特に制
限はないが1通常使用されるものとしては、ジオキサン
、テトラヒドコフラン、アセトン、エチルメチルケトン
、クロロホルム、ジクロロメタン、ジクロロエタン。
アセトニトリル、酢酸エチル、ギ酸エチル、ジメチルホ
ルムアミド、ジメチルスルホキシド等の有機溶媒が挙げ
られる。これらの溶媒は適宜混合して用いることもでき
る。
ルムアミド、ジメチルスルホキシド等の有機溶媒が挙げ
られる。これらの溶媒は適宜混合して用いることもでき
る。
化合物(II)は遊離カルボ/酸の状態で使用されるほ
か、カルボン酸の反応性誘導体として反応に供してもよ
い。好適なものは混合酸無水物。
か、カルボン酸の反応性誘導体として反応に供してもよ
い。好適なものは混合酸無水物。
酸ハロゲ゛ン化物、活性エステル、活性アミド。
酸無水物、酸アジド等である。この場合の活性エステル
としては1−ヒドロキンベンゾトリアゾールとのエステ
ルを挙げることができる。
としては1−ヒドロキンベンゾトリアゾールとのエステ
ルを挙げることができる。
化合物(I[)を遊離のカルボン酸の状態で使用すると
きは、N、N’−ジシクロへキシルカルボジイミド、N
、N’−ジエチルカルボジイミド等の縮合剤を使用する
のが好ましい。
きは、N、N’−ジシクロへキシルカルボジイミド、N
、N’−ジエチルカルボジイミド等の縮合剤を使用する
のが好ましい。
また用いられるカルボン酸の反応性誘導体の種類によつ
ては、塩基の存在下に反応させるのが9反応を円滑に進
行させる上で好ましい場1合もある。かかる塩基として
は炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸ナトリ
ウム、炭酸カリウム等の無機塩基、トリメチルアミン、
トリエチルアミン、ジメチルアニリ/、ピリジン。
ては、塩基の存在下に反応させるのが9反応を円滑に進
行させる上で好ましい場1合もある。かかる塩基として
は炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸ナトリ
ウム、炭酸カリウム等の無機塩基、トリメチルアミン、
トリエチルアミン、ジメチルアニリ/、ピリジン。
ジメチルアミノピリジン等の有機塩基が挙げられる。
上記のアミド化反応においては、原料化合物((n)
、 (IL) )の反応に関与しないアミノ基。
、 (IL) )の反応に関与しないアミノ基。
カルボキシ基は必要によシ保護する。
ここに、アミン基の保護基としては、ペプチド化学の分
野において通常用いられる保護基が用いられ、具体的に
は例えばトリメチルシリル基等のトリ低級アルキルシリ
ル基、ホルミル基。
野において通常用いられる保護基が用いられ、具体的に
は例えばトリメチルシリル基等のトリ低級アルキルシリ
ル基、ホルミル基。
アセチル基、プロピオニル基、 tart−ブトキシ
カルボニル基、メトキシアセチル基、メトキシプロピオ
ニル基、ペンフルオキシカルボニル基。
カルボニル基、メトキシアセチル基、メトキシプロピオ
ニル基、ペンフルオキシカルボニル基。
p−ニトロベンジルオキシカルボニル8等ノアシル基、
ベンジル基、ベンズヒドリル基(ジフェニルメチル基)
、トリチル基等の7ラルキル基等が挙げられる。
ベンジル基、ベンズヒドリル基(ジフェニルメチル基)
、トリチル基等の7ラルキル基等が挙げられる。
また、カルボキシ基の保護基としてはトリメチルシリル
基等のトリ低級アルキルシリル基。
基等のトリ低級アルキルシリル基。
ベンズヒドリル基、β−メチルスルホニルエチル基、7
エナシル基、p−メトキシベンジル基。
エナシル基、p−メトキシベンジル基。
tert −フチル基+p−二トロベンジル基などが挙
げられる。
げられる。
つぎに、エステル化反応は、 C1,)で示される目
的化合物と(IV)式で示されるアルキルカルボン酸ハ
ロゲン化フルキルの等モル乃至過剰量をジメチルホルム
アミド、アセトン、ジメチルスルホキシド等の溶媒中で
反一応させる。ここに使用されるアルキルカルボン酸ハ
ロゲン化アルキルとしては、たとえば酢酸ヨウ化メチル
、ピバリン酸ヨウ化メチル、ピバリン酸1−ヨウ化エチ
ル、2.2−ジエチルブタン酸ヨウ化メチル。
的化合物と(IV)式で示されるアルキルカルボン酸ハ
ロゲン化フルキルの等モル乃至過剰量をジメチルホルム
アミド、アセトン、ジメチルスルホキシド等の溶媒中で
反一応させる。ここに使用されるアルキルカルボン酸ハ
ロゲン化アルキルとしては、たとえば酢酸ヨウ化メチル
、ピバリン酸ヨウ化メチル、ピバリン酸1−ヨウ化エチ
ル、2.2−ジエチルブタン酸ヨウ化メチル。
2.2−ジグロピルベンタン酸ヨウ化メチル等を挙げる
ことができる。エステル化反応は、室温乃至冷却下で容
易に進行するが9反応を促進するために炭酸カリウム、
炭酸水素ナトリウムなどの塩基を添加する。
ことができる。エステル化反応は、室温乃至冷却下で容
易に進行するが9反応を促進するために炭酸カリウム、
炭酸水素ナトリウムなどの塩基を添加する。
以上の方法で得られた生成物が保護基を有し −ている
ときは、これを除去する。アミノ基の保護基の脱離は、
保護基として前述したトリチル基の如きアラルキル基や
各種のアシル基を用いる場合には酸による加水分解によ
って容易に行うことができる。この際用いられる酸とし
てはギ酸、トリフルオロ酢酸、塩酸等が好ましい。
ときは、これを除去する。アミノ基の保護基の脱離は、
保護基として前述したトリチル基の如きアラルキル基や
各種のアシル基を用いる場合には酸による加水分解によ
って容易に行うことができる。この際用いられる酸とし
てはギ酸、トリフルオロ酢酸、塩酸等が好ましい。
また、トリ低級アルキルシリル基の除去は、水で処理す
ることにより容易に行うことができる。
ることにより容易に行うことができる。
カルボキシ基の保護基の除去は、たとえばベンズヒドリ
ル基、 tart−ブチル基、p−メトキシベンジル
基等は、酸処理によって、トリ低級アルキルゾリル基は
水と接触させることによって容易に行うことができる。
ル基、 tart−ブチル基、p−メトキシベンジル
基等は、酸処理によって、トリ低級アルキルゾリル基は
水と接触させることによって容易に行うことができる。
なお、アミノ基の保護基の脱離及びカルボキン基の保護
基の脱離は同時に行うことも可能である。
基の脱離は同時に行うことも可能である。
一般式(1)で示される本発明化合物の塩は。
たとえば上記製法において予じめ原料化合物の塩を用い
て製造することにより、あるいは上記製法により製造さ
れた遊離の化合物に当分野で慣用されている造塩反応を
適用することにより製造することができる。
て製造することにより、あるいは上記製法により製造さ
れた遊離の化合物に当分野で慣用されている造塩反応を
適用することにより製造することができる。
本発明化合物(I)及びその塩の単離NI2は常法に従
って行なわれ、有機溶媒による抽出、結晶化、カラムク
ロマトグラフィー等による分離精製が用いられる。
って行なわれ、有機溶媒による抽出、結晶化、カラムク
ロマトグラフィー等による分離精製が用いられる。
・11
く
(実施例)
つぎに、実施例を挙げて本発明の化合物およびその製造
方法をさらに説明する。なお、参考例として、実施例−
で使用する原料化合物の製造法を記す。
方法をさらに説明する。なお、参考例として、実施例−
で使用する原料化合物の製造法を記す。
参考例1
7β−アミノ−3−ヒドロキシメチル−3−セフェム−
4−カルボ/酸2.32 gを1.4−ジオキサン10
m1.水10IIIt及びトリエチルアミン2.1 m
lの混液に加え溶解する。これにジーt−プチルジカー
ボネイト(ジーnoc−試薬)2.6gを加え、室温で
一夜かきまぜる。減圧下に1.4−ジオキサンを留去し
た液に水10mAを加えた後、酢酸エチルlomtで2
回洗って得た水層を2N−塩酸でpH3,6に調整する
。析出した結晶を炉取して、水5111tにて洗う。五
酸化燐上で減圧乾燥すれば1.96 gの7β−tmブ
チルオキシカルボニルアミノ−3−ヒドロキシメチル−
Δ3−セフェムー4−カルボン酸が得られる。
4−カルボ/酸2.32 gを1.4−ジオキサン10
m1.水10IIIt及びトリエチルアミン2.1 m
lの混液に加え溶解する。これにジーt−プチルジカー
ボネイト(ジーnoc−試薬)2.6gを加え、室温で
一夜かきまぜる。減圧下に1.4−ジオキサンを留去し
た液に水10mAを加えた後、酢酸エチルlomtで2
回洗って得た水層を2N−塩酸でpH3,6に調整する
。析出した結晶を炉取して、水5111tにて洗う。五
酸化燐上で減圧乾燥すれば1.96 gの7β−tmブ
チルオキシカルボニルアミノ−3−ヒドロキシメチル−
Δ3−セフェムー4−カルボン酸が得られる。
回「 −レ
赤外線吸収スペクトル νmax cm’3430.3
270,2970.1760.1?15,1650゜1
525.1405,1360,1340,1230,1
155゜1110.1050,1020,960,8,
45,700核磁気共鳴スペクトル(d、−DMSO中
)δ(Ppll) ; 1.40(9H,s、 t−
Bu )3.53(2H,s、 2位CH,) 4.24 (2H,s、 −C%−OH)4.99(I
H,d、 6位CH) 5.41 (LH,q、 7位CH) 7.92(IH,d、 −C0NH−)上記化合物11
.5gをジクロロメタン110mtK[を濁させて約2
0℃前後で、シフエルジアゾメタンのジクロロメタン溶
液11mtを加え1時間30分間攪拌すると均一な溶液
になる。ジクロロメタンを減圧下忙留去して得たカラメ
ルに、ぺ/ゼンー酢酸エチル(容積比3 : 1 )2
0m4を加えると結晶が析出する。結晶をF取してペン
ゼ/−酢酸エチル混液5mlで洗って乾燥すれば7β−
1−ブチルオキシカルボニルアミノ−3−ヒドロキシメ
チル−Δ3−セフェムー4−カルボン酸ベンズヒドリル
エステル19.6 gを得る。融点168〜169℃赤
外線吸収スペクトル νKBr −”。
270,2970.1760.1?15,1650゜1
525.1405,1360,1340,1230,1
155゜1110.1050,1020,960,8,
45,700核磁気共鳴スペクトル(d、−DMSO中
)δ(Ppll) ; 1.40(9H,s、 t−
Bu )3.53(2H,s、 2位CH,) 4.24 (2H,s、 −C%−OH)4.99(I
H,d、 6位CH) 5.41 (LH,q、 7位CH) 7.92(IH,d、 −C0NH−)上記化合物11
.5gをジクロロメタン110mtK[を濁させて約2
0℃前後で、シフエルジアゾメタンのジクロロメタン溶
液11mtを加え1時間30分間攪拌すると均一な溶液
になる。ジクロロメタンを減圧下忙留去して得たカラメ
ルに、ぺ/ゼンー酢酸エチル(容積比3 : 1 )2
0m4を加えると結晶が析出する。結晶をF取してペン
ゼ/−酢酸エチル混液5mlで洗って乾燥すれば7β−
1−ブチルオキシカルボニルアミノ−3−ヒドロキシメ
チル−Δ3−セフェムー4−カルボン酸ベンズヒドリル
エステル19.6 gを得る。融点168〜169℃赤
外線吸収スペクトル νKBr −”。
max””
3480、3330.2970.2930.1755.
1720゜1690、1510.1365.1335.
1225.1155゜845.740,705 核磁気共鳴スペクト#(d、−DMSO中)1.40(
9H,g、 t−Bu )3.58(2)t、 Q、
2位CH,)4.25(2H,d、 −CM、OH)
〜 5.09(IH,d、 6位CH) 5.48 (1鴇q、7位CH) 6.88(IH,s、 −CH4) 7.1〜7.6 (10H,−CHグ2)8.01 (
IH,d、 −CONI(−)FABMAS ;
[M+Na]”=519.[M+11”−497(b)
で得た化合物148gをジメチルスルホキサイド20m
1.無水酢酸20m4の混液に溶解し暗室で3.5時間
19〜21°Cで攪拌する。反応液をトルエン100m
1でうすめて減圧下にトルエンと無水酢酸を留去して得
た溶液にジクロロメタン100+ntを加え、氷ボ30
mtで4回洗浄する。更に有機層を飽和食塩水にて洗っ
た後無水硫酸マグネシウムにて乾燥した後。
1720゜1690、1510.1365.1335.
1225.1155゜845.740,705 核磁気共鳴スペクト#(d、−DMSO中)1.40(
9H,g、 t−Bu )3.58(2)t、 Q、
2位CH,)4.25(2H,d、 −CM、OH)
〜 5.09(IH,d、 6位CH) 5.48 (1鴇q、7位CH) 6.88(IH,s、 −CH4) 7.1〜7.6 (10H,−CHグ2)8.01 (
IH,d、 −CONI(−)FABMAS ;
[M+Na]”=519.[M+11”−497(b)
で得た化合物148gをジメチルスルホキサイド20m
1.無水酢酸20m4の混液に溶解し暗室で3.5時間
19〜21°Cで攪拌する。反応液をトルエン100m
1でうすめて減圧下にトルエンと無水酢酸を留去して得
た溶液にジクロロメタン100+ntを加え、氷ボ30
mtで4回洗浄する。更に有機層を飽和食塩水にて洗っ
た後無水硫酸マグネシウムにて乾燥した後。
減圧下溶媒を留去して得たオイルを7リカゲルカラムク
ロマトグラフイーに付し、n−へキサノー酢酸エチル(
容積比3:1)で溶出し目的物を含むフラクゾ:1ノを
集め溶媒を留去すれば7β−t−ブチルオキシカルボニ
ルアミノ−3−ホルミル−Δ3−セフェムー4−カルボ
ン酸ベンズヒドリルエステル770mgを得る。融点1
74.5〜176°C赤外線吸収スペクトル νKBr
− max ’ 3320.2960,1785,1720,1690,
1665゜、、1595・1510・1365・133
0・1240・1160・1095,1050,100
0,950,695゜核磁気共鳴スペクトル(d6−D
MS O中)δ(PPm) ; 1.40(9H,s
、 t−Bu )3.69 (2H,q、 2位CH,
)5.25(IH,d、 6位CH) 5.75(LH,q、 7位CH) 7.08(1民、、−CHダ、) 7.2〜7.6 (10H,−CHpz )8.14(
LH,d、−CONH−) 9.46(IH,m、 −CHo ) FABMAS ; (M+1)”=495(Iりで得
た化合物1.98 gをジクロロメタン20+++lに
溶解する。それに1.2−ジメルカプトエタン700μ
Lを加え一40℃に冷却する。三7)化ホウ素エチルエ
ーテル200IILを加え、−30〜−40℃で1時間
30分攪拌する。溶媒のジクロロメタンを減圧下に留去
して得たカラメルをシリカゲルカラムクロマトグラフ
1イーに付し、ベンゼン−酢酸エチル(容
積比9:l)で溶出し、目的物を含むフラクシコン集め
溶媒を留去して得たカラメルをn−へキサ/−エーテル
(容積比10:1)で粉末化すれば、7β−t−ブチル
オキシカルボニルアミノ−3−(1,3−ジチオラン−
2−イル)−Δs−!セフェムー4−カルボン酸ベンズ
ヒドリルエステル940111gを得る。融点95〜9
8°C 赤外線吸収スペクトル νKBr − ffla! ’ 3310〜3250,2960,2910,1775,
1710゜1490.1360,1320,1270,
1155.695核磁気共鳴スペクトル(d、、−DM
SO中)δ(Ppm) ; 1.40(9H,s、 t
−Bu )北 3.72(2H,s、 2位CI、) 5.16(IH,d、 6位CH) 5.52(IH,Q、 7位CH) 6.96(IH,s、 −CHグ2) 7.2〜7.6(IOH,−CHグ、)8.02(IK
d、−CONH−) FABMAS ; (M+1)−571(d)で得
た化合物570■をジクロロメタン5mL及びアニソー
ル1m4の混液に溶解し、3℃に冷す。トリフルオロ酢
酸5IIILを20℃以下で滴下する。1時間15〜2
0℃で攪拌後、ジクロロメタン、トリフルオロ酢酸を減
圧下に留去する。得られたオイルにエーテル50m1を
加えて粉末化する。F取し乾燥すれば、7β−アミノ−
3−(1,3−ジチオラン−2フイル)−Δ3−セフェ
ムー4−カルボン酸のトリフ、シオロ酢酸塩を326.
2■得る。
ロマトグラフイーに付し、n−へキサノー酢酸エチル(
容積比3:1)で溶出し目的物を含むフラクゾ:1ノを
集め溶媒を留去すれば7β−t−ブチルオキシカルボニ
ルアミノ−3−ホルミル−Δ3−セフェムー4−カルボ
ン酸ベンズヒドリルエステル770mgを得る。融点1
74.5〜176°C赤外線吸収スペクトル νKBr
− max ’ 3320.2960,1785,1720,1690,
1665゜、、1595・1510・1365・133
0・1240・1160・1095,1050,100
0,950,695゜核磁気共鳴スペクトル(d6−D
MS O中)δ(PPm) ; 1.40(9H,s
、 t−Bu )3.69 (2H,q、 2位CH,
)5.25(IH,d、 6位CH) 5.75(LH,q、 7位CH) 7.08(1民、、−CHダ、) 7.2〜7.6 (10H,−CHpz )8.14(
LH,d、−CONH−) 9.46(IH,m、 −CHo ) FABMAS ; (M+1)”=495(Iりで得
た化合物1.98 gをジクロロメタン20+++lに
溶解する。それに1.2−ジメルカプトエタン700μ
Lを加え一40℃に冷却する。三7)化ホウ素エチルエ
ーテル200IILを加え、−30〜−40℃で1時間
30分攪拌する。溶媒のジクロロメタンを減圧下に留去
して得たカラメルをシリカゲルカラムクロマトグラフ
1イーに付し、ベンゼン−酢酸エチル(容
積比9:l)で溶出し、目的物を含むフラクシコン集め
溶媒を留去して得たカラメルをn−へキサ/−エーテル
(容積比10:1)で粉末化すれば、7β−t−ブチル
オキシカルボニルアミノ−3−(1,3−ジチオラン−
2−イル)−Δs−!セフェムー4−カルボン酸ベンズ
ヒドリルエステル940111gを得る。融点95〜9
8°C 赤外線吸収スペクトル νKBr − ffla! ’ 3310〜3250,2960,2910,1775,
1710゜1490.1360,1320,1270,
1155.695核磁気共鳴スペクトル(d、、−DM
SO中)δ(Ppm) ; 1.40(9H,s、 t
−Bu )北 3.72(2H,s、 2位CI、) 5.16(IH,d、 6位CH) 5.52(IH,Q、 7位CH) 6.96(IH,s、 −CHグ2) 7.2〜7.6(IOH,−CHグ、)8.02(IK
d、−CONH−) FABMAS ; (M+1)−571(d)で得
た化合物570■をジクロロメタン5mL及びアニソー
ル1m4の混液に溶解し、3℃に冷す。トリフルオロ酢
酸5IIILを20℃以下で滴下する。1時間15〜2
0℃で攪拌後、ジクロロメタン、トリフルオロ酢酸を減
圧下に留去する。得られたオイルにエーテル50m1を
加えて粉末化する。F取し乾燥すれば、7β−アミノ−
3−(1,3−ジチオラン−2フイル)−Δ3−セフェ
ムー4−カルボン酸のトリフ、シオロ酢酸塩を326.
2■得る。
赤外線吸収スペクトル νm&!””
3360〜3420.2900.1790.1610.
1540゜1400、1345.1245.1195.
1130.1045核磁気共鳴スペクトル(d、−DM
SO中)■ 赴 4.70(2H,2位CH,) 4.8〜5.2(21(,6位CH,7位CM )FA
BMAS ; (M+1)=3051□ (; ル)−α−メトキシイミノ酢酸531.6mg、 1
−ヒトクキジベンゾトリアゾ−/I/162■を1.4
−ジオキサンlO■に加えた後、)シクロヘキフルカル
ボジイミド250 ff1gを加え、室温で30分間攪
拌する。析出するジシクロヘキシル尿素を戸去して活性
エステル−ジオキサン溶液を得る。一方、上記の7β−
アミノ−3−(1,3−ジテオラ/−2−イル)−Δ3
−セフェムー4−カルボン酸のトリフルオロ酢酸塩30
4 ff1liを水4mlに加え、炭酸水素ナトリウム
1781T1gを更に加える。得られた褐色琶濁液忙、
先の活性エステル−ジオキサン溶液を滴下して加え、室
温にて一夜攪拌する。ジオキサンを減圧下に留去した残
留物に水10m1.飽和炭酸水素ナトリウム水溶液5m
lを加え、酢酸エチル20mtで2回洗う。水層を2N
−塩酸にてpH1に調整する。
1540゜1400、1345.1245.1195.
1130.1045核磁気共鳴スペクトル(d、−DM
SO中)■ 赴 4.70(2H,2位CH,) 4.8〜5.2(21(,6位CH,7位CM )FA
BMAS ; (M+1)=3051□ (; ル)−α−メトキシイミノ酢酸531.6mg、 1
−ヒトクキジベンゾトリアゾ−/I/162■を1.4
−ジオキサンlO■に加えた後、)シクロヘキフルカル
ボジイミド250 ff1gを加え、室温で30分間攪
拌する。析出するジシクロヘキシル尿素を戸去して活性
エステル−ジオキサン溶液を得る。一方、上記の7β−
アミノ−3−(1,3−ジテオラ/−2−イル)−Δ3
−セフェムー4−カルボン酸のトリフルオロ酢酸塩30
4 ff1liを水4mlに加え、炭酸水素ナトリウム
1781T1gを更に加える。得られた褐色琶濁液忙、
先の活性エステル−ジオキサン溶液を滴下して加え、室
温にて一夜攪拌する。ジオキサンを減圧下に留去した残
留物に水10m1.飽和炭酸水素ナトリウム水溶液5m
lを加え、酢酸エチル20mtで2回洗う。水層を2N
−塩酸にてpH1に調整する。
メチルエチルケトン50 ml、次いで30m1を加え
抽出する。有機層を水10mtで2回、飽和食塩水10
m4にて洗った後、無水硫酸マグネシウムにて乾燥すて
粉末化さ、せて、(Z)−7−[α−(2−トリチル−
アミノ−4−チアゾリル)−α−メトキシイミノアセト
アミドコ−3−(1,3−ジチオラン−2−イル)−Δ
3−セフェムー4−カルボン酸444”Igを得る。融
点184〜187℃(分解)。
抽出する。有機層を水10mtで2回、飽和食塩水10
m4にて洗った後、無水硫酸マグネシウムにて乾燥すて
粉末化さ、せて、(Z)−7−[α−(2−トリチル−
アミノ−4−チアゾリル)−α−メトキシイミノアセト
アミドコ−3−(1,3−ジチオラン−2−イル)−Δ
3−セフェムー4−カルボン酸444”Igを得る。融
点184〜187℃(分解)。
赤外線吸収スペクトル νjoIr cm−’ 。
3360〜3240.2960.29)0,1775.
1665゜1520.1030.695 3.64(2H,2位C& ) 3.70(31(、’s、 QC小 )5.14(
IH,d、 6位C辻 )5.61(IH,q、
7位C厄 )8.75 (I H,s、 −N辻−)
9.46(LH,d、−Co槻−) FABMAS ; (M+1)”=730. (
M十Na)”=752. (M+K)+=768約1
0℃に冷したトリフルオロ酢酸6 mlに前記化合物2
20 [Ogを加える。更に20℃以下で水3LIIt
を加え、19〜21℃に11時間攪拌する。減圧下にト
リフルオロ酢酸及び水を留去した。残留物にエチルアル
コール15mtを加え、減圧下に共沸脱水する。残渣に
エチルエーテル15m7を加え粉末化し、F取乾燥すれ
ば(Z)−7−[α−(2−アミノ−4−チアゾリル)
−α−メ、トキシイミノアセトアミドコー3−(1,3
−ジチオラン−2−イル)−Δ3−セフェムー4−カル
ボン酸94mgヲ得る。
1665゜1520.1030.695 3.64(2H,2位C& ) 3.70(31(、’s、 QC小 )5.14(
IH,d、 6位C辻 )5.61(IH,q、
7位C厄 )8.75 (I H,s、 −N辻−)
9.46(LH,d、−Co槻−) FABMAS ; (M+1)”=730. (
M十Na)”=752. (M+K)+=768約1
0℃に冷したトリフルオロ酢酸6 mlに前記化合物2
20 [Ogを加える。更に20℃以下で水3LIIt
を加え、19〜21℃に11時間攪拌する。減圧下にト
リフルオロ酢酸及び水を留去した。残留物にエチルアル
コール15mtを加え、減圧下に共沸脱水する。残渣に
エチルエーテル15m7を加え粉末化し、F取乾燥すれ
ば(Z)−7−[α−(2−アミノ−4−チアゾリル)
−α−メ、トキシイミノアセトアミドコー3−(1,3
−ジチオラン−2−イル)−Δ3−セフェムー4−カル
ボン酸94mgヲ得る。
赤外線吸収スペクトル シ8′−゛
3320〜3250.2920. 1770,1660
,1520゜1190.1130.1040 3.85(3H,s、OC小 ) 5.22(IH,、d、 6位C足 )5.76(IH
,p、 7位C旦 )5.99 (L H,s、 −
<、t )9.65(IH,d、 −CON針 )F
ABMAS : (M+1 )”=488実施例2 ジメチルホルムアミド7mlに(Z)−7−[α−(2
−トリチルアミノ−4−チアゾリル)−α−メトキフイ
ミノアセトアミド]−3−(1,3−ジチオラン−2−
イル)−41−セフェム−4−カルボン酸210■と粉
末炭酸カリウム171T1gを加えた後0℃に冷す。こ
れにピバリン酸ヨウ化メチル621111gをジメチル
ホルムアミド3mtに溶かした液を滴下して、室温にて
1時間攪拌する。次に氷水401Ql及び2N−塩酸1
0at中にこれを分散する。酢酸エチル30mA、次い
で20m7で抽出して、 有機層を最初水30m1で2
回そして飽和食塩水3011で洗浄する。有機層を無水
硫酸マグネシウムにて乾燥後。
,1520゜1190.1130.1040 3.85(3H,s、OC小 ) 5.22(IH,、d、 6位C足 )5.76(IH
,p、 7位C旦 )5.99 (L H,s、 −
<、t )9.65(IH,d、 −CON針 )F
ABMAS : (M+1 )”=488実施例2 ジメチルホルムアミド7mlに(Z)−7−[α−(2
−トリチルアミノ−4−チアゾリル)−α−メトキフイ
ミノアセトアミド]−3−(1,3−ジチオラン−2−
イル)−41−セフェム−4−カルボン酸210■と粉
末炭酸カリウム171T1gを加えた後0℃に冷す。こ
れにピバリン酸ヨウ化メチル621111gをジメチル
ホルムアミド3mtに溶かした液を滴下して、室温にて
1時間攪拌する。次に氷水401Ql及び2N−塩酸1
0at中にこれを分散する。酢酸エチル30mA、次い
で20m7で抽出して、 有機層を最初水30m1で2
回そして飽和食塩水3011で洗浄する。有機層を無水
硫酸マグネシウムにて乾燥後。
酢酸エチルを減圧下に留去する。得られたオイルにエー
テル−n−ヘキサン(1:10)30atを加え粉末化
する。P取して乾燥すればビ・(ロイルオキシメチル
(Z) −7−[α−(2−トリチルアミノ−4−チア
ゾリル)−α−メトオキンイミノアセタミド]−3−(
1,3−ジチオラン−2−イル)−Δ3−セフェムー4
−カルボキシレート195fftgを得す る。
テル−n−ヘキサン(1:10)30atを加え粉末化
する。P取して乾燥すればビ・(ロイルオキシメチル
(Z) −7−[α−(2−トリチルアミノ−4−チア
ゾリル)−α−メトオキンイミノアセタミド]−3−(
1,3−ジチオラン−2−イル)−Δ3−セフェムー4
−カルボキシレート195fftgを得す る。
1Glr −+ 。
赤外線吸収スペクトル ν□強 。
3350.2960.2920.1?80,1745.
1675゜1515、1360.1270.1205.
1115.1035゜990.695 核磁気共鳴スペクトル (d6−DMSO中)3.7
2(2H,−2位C告) 3.79 (3H,s、 0CH) )5.21
(l H,d、 6位C辻 )7.1〜7.5 (1
5H,broad、 Cf!Ls )8.82 (l
H,s、 −Njj−)9.55(1)1. d、
−CON厄−)FABMAS ; (M+1 )
”= 844ゝOCH,しOυ(J、 IJLJL;
L;(I+nl/3約10’GK冷したトリフルオロ酢
酸6ffltK前記化合物190■を加える。更に20
℃以下で水3 mjを加え、19〜21℃にて1時間攪
拌する。減圧下にトリフルオロ酢酸を留去した残留物忙
エチルアルコール10m1を加え、減圧下に共沸脱水す
る。残漬にエチルエーテル20mtを加え粉末化し、
F取乾燥スればピバロイルオキシメチル (Z)−7−
[α−(2−アミノ−4−チアゾリル)−α−メトキフ
イミノアセトアミドコ−3−(1,3−ジチオラン・−
2−イル)−Δ1−セフェムー4−カルボンキレート1
00■を得る。
1675゜1515、1360.1270.1205.
1115.1035゜990.695 核磁気共鳴スペクトル (d6−DMSO中)3.7
2(2H,−2位C告) 3.79 (3H,s、 0CH) )5.21
(l H,d、 6位C辻 )7.1〜7.5 (1
5H,broad、 Cf!Ls )8.82 (l
H,s、 −Njj−)9.55(1)1. d、
−CON厄−)FABMAS ; (M+1 )
”= 844ゝOCH,しOυ(J、 IJLJL;
L;(I+nl/3約10’GK冷したトリフルオロ酢
酸6ffltK前記化合物190■を加える。更に20
℃以下で水3 mjを加え、19〜21℃にて1時間攪
拌する。減圧下にトリフルオロ酢酸を留去した残留物忙
エチルアルコール10m1を加え、減圧下に共沸脱水す
る。残漬にエチルエーテル20mtを加え粉末化し、
F取乾燥スればピバロイルオキシメチル (Z)−7−
[α−(2−アミノ−4−チアゾリル)−α−メトキフ
イミノアセトアミドコ−3−(1,3−ジチオラン・−
2−イル)−Δ1−セフェムー4−カルボンキレート1
00■を得る。
KBr −+。
赤外線吸収スペクトル ν q 。
3330〜3290,2960.1775.1745,
1670゜1525.1365,1270,1195,
1175.1120゜1040.990 核磁気共鳴スペクトル (d、−DMSO中)3.7
5(2H,2位C足、 ) 3.84 (3H,s、 OCC10)5.24(I
H,d、 6位C辻 )564〜6.0(3H,7位
Cルーcooc…2−)9.64 (IH,a、 −
CONH−、)FABMAS ; (M+1)”=
602(Z)−α−(2−トリチルアミノ−4−チアゾ
リル)−α−(tert−ブトキシカルボニルメトキシ
イミノ)酢酸456ff1g、 1−ヒドロキシベンゾ
トリアゾールl141ngを 1.4−ジオキサ77
calに加えた後、ジシクロへキシルカルボジイミド1
74ff1gを加え、室温で30分間攪拌する。析出し
たジシクロヘキシル尿素をP去して活性エステル−ジオ
キサン溶液を得る。一方、7β−アミノ−3−(1,3
−ジチオラ/−2−イル)−Δ3−セフエムー:)l
4−力〜ボ・酸のトリフ〜オ・酢酸塩2
10111g を水3mlに加え、炭酸水素ナトリウ
ム120+11gを更に加える。これに先の活性エステ
ル−ジオキサ/溶液を滴下して加え、室温にて一夜攪拌
する。ジオキサ/を減圧下に留去した残留物に水1oI
IIt、飽和炭酸水素ナトリウム水溶e5 mlを加え
、酢酸エチル20m7で2回洗う。水層を2N=塩酸に
てpHIKy4整してメチルエチルケトン50m4.次
いで30m1を加え抽出する。有機層を水1oIIIl
で2回、飽和食塩水10In7で洗った後、無水硫酸マ
グネンウムにて乾燥する。減圧下にメチルエチルケト/
を留去して得られるカラメルにエーテル−n−へキサン
(容積比1:1)20ffltを加えて粉末化させると
(Z)−7−[α−(2−トリチルアミノ−4−チアゾ
リル)−α−(tert−ブトキシカルボニルメトキシ
イミノ)アセトアミド]−3−(1,3−ジチオラフ−
2−イル)−Δ3−七フエムー4−カルボン酸427■
を得る。
1670゜1525.1365,1270,1195,
1175.1120゜1040.990 核磁気共鳴スペクトル (d、−DMSO中)3.7
5(2H,2位C足、 ) 3.84 (3H,s、 OCC10)5.24(I
H,d、 6位C辻 )564〜6.0(3H,7位
Cルーcooc…2−)9.64 (IH,a、 −
CONH−、)FABMAS ; (M+1)”=
602(Z)−α−(2−トリチルアミノ−4−チアゾ
リル)−α−(tert−ブトキシカルボニルメトキシ
イミノ)酢酸456ff1g、 1−ヒドロキシベンゾ
トリアゾールl141ngを 1.4−ジオキサ77
calに加えた後、ジシクロへキシルカルボジイミド1
74ff1gを加え、室温で30分間攪拌する。析出し
たジシクロヘキシル尿素をP去して活性エステル−ジオ
キサン溶液を得る。一方、7β−アミノ−3−(1,3
−ジチオラ/−2−イル)−Δ3−セフエムー:)l
4−力〜ボ・酸のトリフ〜オ・酢酸塩2
10111g を水3mlに加え、炭酸水素ナトリウ
ム120+11gを更に加える。これに先の活性エステ
ル−ジオキサ/溶液を滴下して加え、室温にて一夜攪拌
する。ジオキサ/を減圧下に留去した残留物に水1oI
IIt、飽和炭酸水素ナトリウム水溶e5 mlを加え
、酢酸エチル20m7で2回洗う。水層を2N=塩酸に
てpHIKy4整してメチルエチルケトン50m4.次
いで30m1を加え抽出する。有機層を水1oIIIl
で2回、飽和食塩水10In7で洗った後、無水硫酸マ
グネンウムにて乾燥する。減圧下にメチルエチルケト/
を留去して得られるカラメルにエーテル−n−へキサン
(容積比1:1)20ffltを加えて粉末化させると
(Z)−7−[α−(2−トリチルアミノ−4−チアゾ
リル)−α−(tert−ブトキシカルボニルメトキシ
イミノ)アセトアミド]−3−(1,3−ジチオラフ−
2−イル)−Δ3−七フエムー4−カルボン酸427■
を得る。
赤外線吸収スペクトル KBr −+イ、lえ
罰 ・ 3250.3040.2960.2920.2845,
1780゜1720.1680,1525,1490.
1365,1150゜1085.745,695 核磁気共鳴スペクトル (d、−DMSO中)4.5
0 (2H,s、 −QC,15COOBu’)5.1
6(IH,d、 6’位C足 )5.66(IH,
q、 7位cH) 8.79(IH,s、 ) −N七 9.42(IH,d、−CON針 ) アニソールI LIIt K (alで得た化合物21
0 mgを加え約10’CK冷却する。これK トリフ
ルオロ酢酸4−を20℃以下で滴下する。滴下後19〜
21’CKて1時間攪拌する。減圧下にトリフルオロ酢
酸を留去して得た残渣にエーテル−n−へキサン(容積
比1:1)20mZを加え粉末化、F取する。次にトリ
フルオロ酢酸5 mlを約3℃に冷して、これに先の粉
末を添加する。更に20℃以下にて水2.5 mlを滴
下して19〜21℃にて1時間攪拌する。減圧下にトリ
フルオロ酢酸及び水を留去した残渣にエチルアルコール
10mtを加え、減圧下に共沸脱水する。残留物にエチ
ルエーテル20m1を加え粉末化し、P取する。これを
水1Offltに懸濁させて、炭酸水素ナトリウムを加
え溶解させ、ダイヤイオyHP−20(三菱化成製)の
カラムクロマトグラフィーに付し、最初水ついで水−メ
タノールの混合比を(水−メタノール= 10 : 1
から10゛2まで)順次かえながら溶出する。目的物を
含むフラクンヨ/を濃縮し、凍結乾燥してジンジウム
(Z)−7−[α−(2−アミノ−4−チアゾリル)−
α−(カルボキシレートメトキシイミノ)アセトアミド
]−3−(1,3−ジチオラン−2−イル)−Δ3−セ
フェムー4−力ルポキシレート110111gを得る。
罰 ・ 3250.3040.2960.2920.2845,
1780゜1720.1680,1525,1490.
1365,1150゜1085.745,695 核磁気共鳴スペクトル (d、−DMSO中)4.5
0 (2H,s、 −QC,15COOBu’)5.1
6(IH,d、 6’位C足 )5.66(IH,
q、 7位cH) 8.79(IH,s、 ) −N七 9.42(IH,d、−CON針 ) アニソールI LIIt K (alで得た化合物21
0 mgを加え約10’CK冷却する。これK トリフ
ルオロ酢酸4−を20℃以下で滴下する。滴下後19〜
21’CKて1時間攪拌する。減圧下にトリフルオロ酢
酸を留去して得た残渣にエーテル−n−へキサン(容積
比1:1)20mZを加え粉末化、F取する。次にトリ
フルオロ酢酸5 mlを約3℃に冷して、これに先の粉
末を添加する。更に20℃以下にて水2.5 mlを滴
下して19〜21℃にて1時間攪拌する。減圧下にトリ
フルオロ酢酸及び水を留去した残渣にエチルアルコール
10mtを加え、減圧下に共沸脱水する。残留物にエチ
ルエーテル20m1を加え粉末化し、P取する。これを
水1Offltに懸濁させて、炭酸水素ナトリウムを加
え溶解させ、ダイヤイオyHP−20(三菱化成製)の
カラムクロマトグラフィーに付し、最初水ついで水−メ
タノールの混合比を(水−メタノール= 10 : 1
から10゛2まで)順次かえながら溶出する。目的物を
含むフラクンヨ/を濃縮し、凍結乾燥してジンジウム
(Z)−7−[α−(2−アミノ−4−チアゾリル)−
α−(カルボキシレートメトキシイミノ)アセトアミド
]−3−(1,3−ジチオラン−2−イル)−Δ3−セ
フェムー4−力ルポキシレート110111gを得る。
赤外線吸収スペクトル ν8′ −“・ffi。罰
・ 3350〜3270.1765.1660,1630.
11904.59 (2H,s、 −CH2COOH
)5.23(l)I、 d、 6位C旦 )5.8
0(IH,q、 7位C足 )9.56(IH,d、
−CON厄−)FABMAS; (Mal)”=
532実施例4 ジメチルホルムアミド7 mlに (Z)−7−[α−
(2〜トリチルアミノ−4−チアゾリル)−α(ter
t−プトキゾカルボニルメトキ/イミノ)アセトアミド
]−3−(1,3−ジチオラン−2−イル)−Δ3−セ
フェムー4−カルボン酸210mgと粉末炭酸カリウム
17■を加えた後、0℃に冷す。
・ 3350〜3270.1765.1660,1630.
11904.59 (2H,s、 −CH2COOH
)5.23(l)I、 d、 6位C旦 )5.8
0(IH,q、 7位C足 )9.56(IH,d、
−CON厄−)FABMAS; (Mal)”=
532実施例4 ジメチルホルムアミド7 mlに (Z)−7−[α−
(2〜トリチルアミノ−4−チアゾリル)−α(ter
t−プトキゾカルボニルメトキ/イミノ)アセトアミド
]−3−(1,3−ジチオラン−2−イル)−Δ3−セ
フェムー4−カルボン酸210mgと粉末炭酸カリウム
17■を加えた後、0℃に冷す。
これにピバリン酸ヨウ化メチル61111gをジメチル
ホルムアミド3m1K溶かした液を滴下して、室温にて
1時間攪拌する。次に氷水30mt及び2N−塩酸10
m4中にこれを分散する。酢酸エチル30m1.次いで
20m1で抽出して、有機層を最初水20m1で2回1
次いで飽和食塩水20ffItで洗浄する。
ホルムアミド3m1K溶かした液を滴下して、室温にて
1時間攪拌する。次に氷水30mt及び2N−塩酸10
m4中にこれを分散する。酢酸エチル30m1.次いで
20m1で抽出して、有機層を最初水20m1で2回1
次いで飽和食塩水20ffItで洗浄する。
有機層を無水硫酸マグネ/ラムにて乾燥後、酢酸エチル
を減圧下に留去する。得られたオイルを7す力ゲルカラ
ムクロマトグラフィーに付し、ベンゼノー酢酸エチル(
容積比21)で溶出しピバロイルオキシメチル (Z)
−7−[α−(2−1リチルアミノ−4−チアゾリル)
−α−(tert−プトキ/カルボニルメトキシイミノ
)アセトアミトコ−3−(1,3−ジチオラン−2−イ
ル)−Δ3−セフェムー4−カルボキ/レート1861
%rを得ル。
を減圧下に留去する。得られたオイルを7す力ゲルカラ
ムクロマトグラフィーに付し、ベンゼノー酢酸エチル(
容積比21)で溶出しピバロイルオキシメチル (Z)
−7−[α−(2−1リチルアミノ−4−チアゾリル)
−α−(tert−プトキ/カルボニルメトキシイミノ
)アセトアミトコ−3−(1,3−ジチオラン−2−イ
ル)−Δ3−セフェムー4−カルボキ/レート1861
%rを得ル。
K[lr −+
赤外線吸収スペクトル ν、、、、、 cm +3
360.3255゜3040.2960.2910,1
780゜1745.1730,1675.1520,1
360.1150゜1085.985,695 核磁気共鳴スペクトル (CDCl3中)δ(ppm
);1.10(9H,s、 t −Bu )4.7
4(2H1S、0C6COOBu’ )5.05 (I
H,a、 6位C旦 )57〜6.0(3H,7位
C厄、 −cooc足、−)6.8 ” (I Hl
s、AT、 )71〜7.43(15H,C,I□3
)8.78(LH,d、 −CONH−)アニソール
1 mlに前記化合物180■を加え約lO’CK冷却
する。これにトリフルオロ酢酸4IIItを20℃以下
にて滴下する。滴下後19〜21℃にて1時間攪拌する
。減圧下にトリフルオロ酢酸を留去して得た残渣にエー
テル−n−へキサ/(容積比1:1)21)m4を加え
粉末化する。次にトリフルオロ酢酸5+++tを約3℃
に冷して、これに先の粉末を添加する。更に20℃以下
にて水2.5mlを滴下して 19〜21tにて1時間
攪拌する。減圧下にトリフルオロ酢酸及び水を留去した
残渣にエチルアルコールIQI117を加え、減圧下に
共沸脱水する。残留物にエチルエーテル200 mlを
加え粉末化しF取すればピバロイルオキシメチル (Z
)−7−[α−(2−アミノ−4−チアゾリル)−α−
(カルボキンメトキシイミノ)嬌アセトアミド]−3−
(1,3−ジチオラン−2−イル)−Δ3−セフェムー
4−カルボキシレート801IIgを得る。
360.3255゜3040.2960.2910,1
780゜1745.1730,1675.1520,1
360.1150゜1085.985,695 核磁気共鳴スペクトル (CDCl3中)δ(ppm
);1.10(9H,s、 t −Bu )4.7
4(2H1S、0C6COOBu’ )5.05 (I
H,a、 6位C旦 )57〜6.0(3H,7位
C厄、 −cooc足、−)6.8 ” (I Hl
s、AT、 )71〜7.43(15H,C,I□3
)8.78(LH,d、 −CONH−)アニソール
1 mlに前記化合物180■を加え約lO’CK冷却
する。これにトリフルオロ酢酸4IIItを20℃以下
にて滴下する。滴下後19〜21℃にて1時間攪拌する
。減圧下にトリフルオロ酢酸を留去して得た残渣にエー
テル−n−へキサ/(容積比1:1)21)m4を加え
粉末化する。次にトリフルオロ酢酸5+++tを約3℃
に冷して、これに先の粉末を添加する。更に20℃以下
にて水2.5mlを滴下して 19〜21tにて1時間
攪拌する。減圧下にトリフルオロ酢酸及び水を留去した
残渣にエチルアルコールIQI117を加え、減圧下に
共沸脱水する。残留物にエチルエーテル200 mlを
加え粉末化しF取すればピバロイルオキシメチル (Z
)−7−[α−(2−アミノ−4−チアゾリル)−α−
(カルボキンメトキシイミノ)嬌アセトアミド]−3−
(1,3−ジチオラン−2−イル)−Δ3−セフェムー
4−カルボキシレート801IIgを得る。
KBr +区 。
赤外線吸収スペクトル ν em 。
3340〜3270.2960.1775.1740,
1660゜1525.1360,1270.1190,
1130,1090.1035.985 核磁気共鳴スペクトル (d6− DMSO中)4.
60 (2H,s、 −0CH2COOBu’ )9
.60(IH,d、 −CON足−)(Z)−α−(2
−アミノ−4−チアゾリル)−α−(チオカルバモイル
メトキシイミノ)酢酸312111g、 1−ヒドロ
キシベンゾトリアゾール1661T1gをジメチルホル
ムアミド511tに加えた後、シンクロ、”、
−、+y″″tvM−)4i′′“°″″V″at、
xi″cs。
1660゜1525.1360,1270.1190,
1130,1090.1035.985 核磁気共鳴スペクトル (d6− DMSO中)4.
60 (2H,s、 −0CH2COOBu’ )9
.60(IH,d、 −CON足−)(Z)−α−(2
−アミノ−4−チアゾリル)−α−(チオカルバモイル
メトキシイミノ)酢酸312111g、 1−ヒドロ
キシベンゾトリアゾール1661T1gをジメチルホル
ムアミド511tに加えた後、シンクロ、”、
−、+y″″tvM−)4i′′“°″″V″at、
xi″cs。
分間攪拌する。析出したジシクロヘキシル尿素をF去し
て活性エステル−ジメチルホルムアミド溶液を得る。一
方7β−アミノ−3−(1,3−ジチオラン−2−イル
)−Δ3−セフェムー4−カルボン酸トリフルオロ酢酸
塩304mgを水4 ffIdに加え。
て活性エステル−ジメチルホルムアミド溶液を得る。一
方7β−アミノ−3−(1,3−ジチオラン−2−イル
)−Δ3−セフェムー4−カルボン酸トリフルオロ酢酸
塩304mgを水4 ffIdに加え。
炭酸水素す) IJウム168ff1gを更に加える。
これに先の活性エステル−ジメチルホルムアミド溶液全
滴下して加え、室温にて3時間攪拌する。反応液を飽和
炭酸水素ナトリウム水10mtと氷水50m1の中に分
散する。酢酸エチル50m1で洗浄し、水層を2N−塩
酸で約pH1に調整してメチルエチルケトン50m1.
次いで30m1で抽出する。 有機層を最初水10m4
で2回1次いで飽和食塩水10m4で洗った後、無水硫
酸マグネシウムにて乾燥する。
滴下して加え、室温にて3時間攪拌する。反応液を飽和
炭酸水素ナトリウム水10mtと氷水50m1の中に分
散する。酢酸エチル50m1で洗浄し、水層を2N−塩
酸で約pH1に調整してメチルエチルケトン50m1.
次いで30m1で抽出する。 有機層を最初水10m4
で2回1次いで飽和食塩水10m4で洗った後、無水硫
酸マグネシウムにて乾燥する。
減圧下にメチルエチルケトンを留去して得られる固形物
をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、クロロ
ホルム−メタノール−ギ酸(容積比90:10:2)で
溶出し、目的物を含むフラクションを集め溶媒を留去す
れば (Z)−7−[α−(2−アミノ−4−チアゾリ
ル)−α−(チオカルバモイルメトキノイミノ)アセト
アミド]−3−(1,3’−ジチオランー2−イル)−
Δ3−セフェムー4−カルボ/酸のギ酸塩403■を得
る。
をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、クロロ
ホルム−メタノール−ギ酸(容積比90:10:2)で
溶出し、目的物を含むフラクションを集め溶媒を留去す
れば (Z)−7−[α−(2−アミノ−4−チアゾリ
ル)−α−(チオカルバモイルメトキノイミノ)アセト
アミド]−3−(1,3’−ジチオランー2−イル)−
Δ3−セフェムー4−カルボ/酸のギ酸塩403■を得
る。
Claims (2)
- (1)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中Aは置換基を有していてもよい低級アルキル基を
、 Bは水素原子または式−R^1−OOCC(R^2)_
3(式中R^1は分枝を有していてもよい低級アルキレ
ン基を、R^2は水素原子または低級アルキル基を意味
する)で示されるアルキルカルボニルオキシアルキル基
を意味する。) で示される7−[α−(2−アミノ−4−チアゾリル)
−α−オキシイミノアセトアミド]−3−(1,3−ジ
チオラン−2−イル)−Δ^3−セフェム−4−カルボ
ン酸、そのエステルまたはそれらの非毒性の塩類。 - (2)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中Aは置換基を有していてもよい低級アルキル基を
意味する。) で示されるオキシイミノチアゾリル酢酸またはその反応
性誘導体と一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中Bは水素原子または式−R^1−OOCC(R^
2)_3(式中R^1は分枝を有していてもよい低級ア
ルキレン基、R^2は水素原子または低級アルキル基を
意味する。)で示されるアルキルカルボニルオキシアル
キル基を意味する。) で示される7−アミノ−3−(1,3−ジチオラン−2
−イル)−Δ^3−セフェム−4−カルボン酸、そのエ
ステルまたはそれらの塩類とを反応させて、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中AおよびBは前記と同じ意味である)で示される
化合物を得、得られた化合物におけるBが水素原子であ
るときは、該化合物に一般式 X−R^1−OOCC(R^2)_3 (式中Xはハロゲン原子を意味する。また、R^1、R
^2は前記と同じ意味である。)で示されるアルキルカ
ルボン酸ハロゲン化アルキルを反応させることを特徴と
する一般式▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、AおよびBは前記と同じ意味である。)で示さ
れる7−[α−(2−アミノ−4−チアゾリル)−α−
オキシイミノアセトアミド]−3−(1,3−ジチオラ
ン−2−イル)−Δ^3−セフェム−4−カルボン酸、
そのエステルまたはこれらの非毒性の塩類の製造方法
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP22934984A JPS61106580A (ja) | 1984-10-31 | 1984-10-31 | 7−〔α−(2−アミノ−4−チアゾリル)−α−オキシイミノアセトアミド〕−3−(1,3−ジチオラン−2−イル)−Δ↑3−セフエム−4−カルボン酸誘導体およびその製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP22934984A JPS61106580A (ja) | 1984-10-31 | 1984-10-31 | 7−〔α−(2−アミノ−4−チアゾリル)−α−オキシイミノアセトアミド〕−3−(1,3−ジチオラン−2−イル)−Δ↑3−セフエム−4−カルボン酸誘導体およびその製造法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS61106580A true JPS61106580A (ja) | 1986-05-24 |
Family
ID=16890769
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP22934984A Pending JPS61106580A (ja) | 1984-10-31 | 1984-10-31 | 7−〔α−(2−アミノ−4−チアゾリル)−α−オキシイミノアセトアミド〕−3−(1,3−ジチオラン−2−イル)−Δ↑3−セフエム−4−カルボン酸誘導体およびその製造法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS61106580A (ja) |
-
1984
- 1984-10-31 JP JP22934984A patent/JPS61106580A/ja active Pending
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