JPS6085423A - Magnetic recording medium - Google Patents

Magnetic recording medium

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Publication number
JPS6085423A
JPS6085423A JP19256383A JP19256383A JPS6085423A JP S6085423 A JPS6085423 A JP S6085423A JP 19256383 A JP19256383 A JP 19256383A JP 19256383 A JP19256383 A JP 19256383A JP S6085423 A JPS6085423 A JP S6085423A
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JP
Japan
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radiation
double bond
resin
parts
magnetic
Prior art date
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Pending
Application number
JP19256383A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Hiroyuki Arioka
博之 有岡
Masaharu Nishimatsu
西松 正治
Akio Watabe
渡部 明夫
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TDK Corp
Original Assignee
TDK Corp
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Publication date
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Publication of JPS6085423A publication Critical patent/JPS6085423A/en
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

PURPOSE:To decrease tightening on winding of a vertical magnetization type magnetic recording medium by limiting the surface roughness of a radiation- cured back layer contg. resin having the acrylic double bond, maleic double bond or allyl double bond provided on the rear surface of the base on the side opposite from a magnetic layer. CONSTITUTION:A radiation-cured back layer contg. resin having acrylic double bond, maleic double bond or allyl double bond is provided on the rear of a plastic base having a vertical magnetization type magnetic layer. The surface roughness thereof is regulated to 0.04-0.6mum. The decreased tightening on winding, decreased tack, improved runnability and decreased dropout are caused even if the surface characteristic of the magnetic surface is improved by said layer. Curing of the coated back layer can be completed by irradiating radiation before the medium is taken up by using the radiation curable or sensitive resin. The smoothing of the back surface by a process such as of a calender or the like is possible before or after curing or simultaneously with curing. The desired surface characteristic is thus obtd. with both of the back surface and the magnetic surface.

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は垂直磁化型磁気記録媒体に関する。[Detailed description of the invention] The present invention relates to a perpendicular magnetization type magnetic recording medium.

従来技術 垂直磁化型磁気記録媒体には大別して2種あっテ、一方
は蒸着、スパッタリング等によりCo−Cr)F@−N
i−CaSF*−Cts等の金属薄膜をプラスチックフ
ィルムベースの面へ付着させ、且つその際の条件の制御
によりベース面に垂直な磁化容易軸形成させる金属薄膜
タイプのもの(例えば持久[58−91号)、他方はバ
インダー樹脂中に上記合金等の針状磁性粉末を分散させ
たものをプラスチツタフィルムベースに塗布し、磁場配
向させた塗膜タイプのもの(例えば特開111557−
111852号#M)である。いずれにしても、磁化容
易軸がベース面に平行な従来の磁気記録媒体よりもはる
かに短波長の信号が記録できる点で将゛来の磁気記録媒
体の1つの方向を示すものである。
Conventional technology There are two types of perpendicularly magnetized magnetic recording media: one is Co-Cr)F@-N formed by vapor deposition, sputtering, etc.
A metal thin film type in which a metal thin film such as i-CaSF*-Cts is attached to the surface of a plastic film base, and an axis of easy magnetization perpendicular to the base surface is formed by controlling the conditions at that time (for example, durable [58-91 The other type is a coating film type in which acicular magnetic powder such as the above alloy is dispersed in a binder resin and applied to a plastic film base and oriented in a magnetic field (for example, JP-A No. 111557-
No. 111852 #M). In any case, it indicates one direction for future magnetic recording media in that it is possible to record signals with a much shorter wavelength than conventional magnetic recording media whose easy axis of magnetization is parallel to the base surface.

しかしながら、垂直磁化型磁気記録媒体はその磁性層の
表面を非常に平滑なものにして磁気ヘッドと磁性層表面
との間のスペーシングを最小限度に抑える必要がある。
However, in a perpendicularly magnetized magnetic recording medium, it is necessary to make the surface of the magnetic layer very smooth and to minimize the spacing between the magnetic head and the surface of the magnetic layer.

しかし、表面が平滑になると摩擦が増大し、実用走行で
の停止、テープの巻き乱れによる出力変動などの問題が
生じる。また、このようなテープはベース厚及び磁性層
の厚さが減少する方向にあり、現在約10/J程度以下
のベース(&リエチレンテレ7タレーFSlリエチレン
ナフタレート、4リイミド1ポリアミド等)が検討され
ている。このようなテープは腰が柔かく、巻装時に巻き
締りが大きくなってベース裏面の性状が磁性面に影1し
て表面性を低下させたり粘着したりし、或いはテープが
巻き戻されて磁性面からベースが離れる際にいわゆる剥
離帯電を生じたりしてゴミ、ホコリ等を吸着することに
なり、スペーシンダ損失の増大によるドロップアウトを
生じたりする。このような問題があるため垂直磁化型磁
気記録媒体の利点は大きく制約されている゛。
However, when the surface becomes smooth, friction increases, causing problems such as stopping during actual running and fluctuations in output due to irregular winding of the tape. In addition, the base thickness and the magnetic layer thickness of such tapes are decreasing, and bases with a thickness of about 10/J or less (&Lyethylene Tele 7 Talley FS1 Liethylene Naphthalate, 4 Liimide 1 Polyamide, etc.) are currently being considered. has been done. This kind of tape has a soft waist, and when it is wound, the winding becomes too tight, and the properties of the back side of the base are reflected on the magnetic surface, reducing the surface properties and causing stickiness, or the tape is rewound and the magnetic surface becomes sticky. When the base is separated from the base, so-called peeling electrification occurs, and dirt, dust, etc. are attracted, and dropout occurs due to an increase in spacer loss. These problems greatly limit the advantages of perpendicular magnetization type magnetic recording media.

目的 本発明はかかる欠点、特に巻き締りの少ない垂直磁化型
磁気記録媒体を提供することを目的とする0 発明の構成と作用効果 本発明は、垂直磁化型磁性層を有するプラスチックベー
スの裏面に、アクリル系二重結合、!レイン系二重結合
またはアリル系二重結合を有する樹脂を含む放射−硬化
バッタ層を設け、且つその表面粗度をa04〜[L6μ
淋以下に規定することにより、磁性面の表面性を向上(
表面粗度の低下)させでも、巻き締りが減少し、粘着が
減じ、走行性が良くなり、しかもドロップアウトが減る
など、すぐれた垂直磁化型磁気記録媒体を提供すること
ができる。
Purpose The present invention aims to provide a perpendicularly magnetized magnetic recording medium that is less prone to such drawbacks, especially less tight winding.0 Structure and Effects of the Invention The present invention provides a perpendicularly magnetized magnetic recording medium having a perpendicularly magnetized magnetic layer on the back surface of the plastic base. Acrylic double bond! A radiation-cured batter layer containing a resin having a rhein double bond or an allylic double bond is provided, and its surface roughness is a04 to [L6μ
Improve the surface properties of the magnetic surface by specifying less than
Even if the surface roughness is reduced, it is possible to provide an excellent perpendicular magnetization type magnetic recording medium that has reduced winding tightness, reduced adhesion, improved runnability, and reduced dropouts.

バッタ層の表面粗度はバック層の材料と相俟ってテープ
の走行性及び耐摩耗性を改善するだけでなく、4磁性層
との粘着及びシンチング現象を減じ、さらに磁性層の表
面粗度がl1G8μ倶以下という高度の表面性と相関し
てバック層の表面粗度がα6μ愼以下のとき8/Nを良
好に保つことが分った。表面粗度が0.04μ営以下に
なるとシンチング現象、粘着性、走行性に問題が生じる
ことが分った。
The surface roughness of the batter layer, together with the material of the back layer, not only improves the running properties and abrasion resistance of the tape, but also reduces the adhesion and scinning phenomenon with the four magnetic layers, and further improves the surface roughness of the magnetic layer. It has been found that when the surface roughness of the backing layer is α6μ or less, 8/N can be maintained well in correlation with the high surface roughness of l1G8μ or less. It has been found that when the surface roughness is less than 0.04 μm, problems occur in the cinching phenomenon, adhesion, and runnability.

熱硬化性樹脂をバッタ層に用いた場合、塗布後の巻き取
られた状態ではまだ硬化が完了していない。樹脂を完全
に硬化するには相当量のエネルギーが必要であるが、ベ
ースへの影智もあるため徐々に硬化を行わざるを得ない
。この際にバック面の表面性や樹脂成分が磁性面に、あ
るいは磁性面が未論布の場合はベース面に転写する。こ
のことはバッタ面、磁性面あるいはベース面の相方に悪
影響を及ぼす。垂直塗布の場合巻きしまりによりバック
面の影響が磁性面に出ると出力変動、出力低下をきたし
問題となる。また水平塗布と異なり、磁性粉が垂直に配
向しているため、バック層がない場合、巻きしまった場
合でも、微細な凹凸が表面に発生しやすく、出力変動を
きたす。バンクコートの場合、これらの両方の影春をう
け、従来の水平記録よりも表面に凹凸が発生しやすい。
When a thermosetting resin is used for the batter layer, curing is not yet completed when the resin is rolled up after application. A considerable amount of energy is required to completely cure the resin, but since it affects the base, curing must be done gradually. At this time, the surface properties and resin components of the back surface are transferred to the magnetic surface, or, if the magnetic surface is uncoated, to the base surface. This has an adverse effect on the batter surface, magnetic surface or base surface. In the case of vertical coating, if the influence of the back surface is exerted on the magnetic surface due to curling, it causes problems such as fluctuations in output and reduction in output. Also, unlike horizontal coating, the magnetic powder is oriented vertically, so even if there is no backing layer or if it is rolled up, minute irregularities are likely to occur on the surface, causing output fluctuations. Bank coats are affected by both of these factors and are more prone to surface irregularities than conventional horizontal recording.

本発明のごとく放射線硬化性ないしは感応性樹脂を用い
ることにより、塗布されたバック層は巻き取られる以前
に放射線を照射することにより硬化を完了することがで
きる。また硬化の前後あるいは硬化と同時にカレンダー
等の処理でバック面の平滑化が可能である。このために
バラp [l磁性面も希望する表面性を得ることができ
る。そのため巻きしまりがなく、出力変動がない。垂直
塗布には放射線硬化性の効果は大である。
By using a radiation-curable or sensitive resin as in the present invention, the applied back layer can be completely cured by irradiation with radiation before being wound up. In addition, the back surface can be smoothed by calender treatment before, during or after curing. For this reason, the desired surface properties can also be obtained on the magnetic surface. Therefore, there is no tight winding and no output fluctuation. Radiation curing is very effective for vertical application.

本発明で用いる放射線硬化性ないし感応性樹脂は、放射
線によりラジカルを発生して架橋を行うような、分子鎖
中に不飽和2重結合を1個以上含むものであり、これは
また熱可塑性樹脂を放射線感応変性することによっても
可能である。
The radiation-curable or sensitive resin used in the present invention is one that contains one or more unsaturated double bonds in its molecular chain, which can be crosslinked by generating radicals when exposed to radiation, and this also includes thermoplastic resins. It is also possible to make the radiation sensitive to radiation.

放射線感応変性の具体例としては、ラジカル重合性を有
する不飽和二重結合を示すアクリル酸、メタクリル酸あ
るいはそれらのエステル化合物のようなアクリル系二重
結合、ジアリルフタレートのようなアリル系二重結合、
マレイン酸、マレイン酸誘導体等の不飽和結合等の放射
線照射による架橋あるいは重合乾燥する基を分子中に導
入することである。
Specific examples of radiation-sensitive modification include acrylic double bonds such as acrylic acid, methacrylic acid, or their ester compounds, which exhibit radically polymerizable unsaturated double bonds, and allylic double bonds such as diallylphthalate. ,
This method involves introducing into the molecule a group that can be crosslinked or polymerized and dried by radiation irradiation, such as an unsaturated bond such as maleic acid or a maleic acid derivative.

その他放射線照射により架橋重合する不飽和二重結合で
あれば用いる事が出来る。
Other unsaturated double bonds that can be crosslinked and polymerized by radiation irradiation can be used.

放射線感応樹脂に変性できる熱可塑性樹脂を以下に示す
Thermoplastic resins that can be modified into radiation-sensitive resins are shown below.

(I) 塩化ビニール系共重合体 塩化ヒニールー酢酸ビニール−ビニールアルコ−#共1
i合体、塩化L’エールービニルアルコ−k 共重合体
、’11i 化ビニール−ビニルアルコール−プルピオ
ン酸ビニール共重合体、塩化ビニールー酢酸ビニール−
マレイン酸共重合体、塩化ビニール−酢酸ビニール−末
端OH[鎖アルキル基共重合体、たとえばUCCi V
ROHlVYNC。
(I) Vinyl chloride copolymer vinyl chloride-vinyl acetate-vinyl alcohol-#1
i combination, L'air chloride-vinyl alcohol-k copolymer, '11i vinyl chloride-vinyl alcohol-vinyl propionate copolymer, vinyl chloride-vinyl acetate-
Maleic acid copolymers, vinyl chloride-vinyl acetate-terminated OH [chain alkyl group copolymers, e.g. UCCi V
ROHlVYNC.

VYEGX @またUCC社VEIiR等が挙げられる
VYEGX@Also, UCC VEIiR, etc. can be mentioned.

上記共重合体に後に述べる手法により、アクリル系二重
結合、マレイン酸系二重結合、アリル系二重結合を導入
し放射線感応変性を行ったもの (II) 飽和ポリエステル樹脂 フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、マレイン酸、
マレイン酸誘導体、コハク酸、アジピン酸、セパシン酸
、のような飽和多塩基酸とエチレングリコール、ジエチ
レングリフール、グリセリン、トリメチロールプロパン
、1.2プロピレンダリコール、t3ブタンジオール、
ジエチレングリフール、1,4\ブタンジオール、t6
へ午サンジオール、ペンタエリスリット、ソルビF−ル
、グリセリン、ネオペンチルグリコール、t4シタpへ
キすンジメタノールのような多価アルコールとのエステ
ル結合により得られる飽和ポリエステル樹脂又はこれら
のポリエステル樹脂を5OsNa等で変性した樹脂(バ
イpン558)。これらを後に述べる手法により放射線
感応変性を行なったもの (III) 不飽和ポリエステル樹脂 分子鎖中に放射線硬化性不飽和二重結合を含有するポリ
エステル化合物、例えば第(If)項の熱可塑性樹脂と
して記載の多塩基酸と多価アルコールのエステル結合か
ら成る飽和ポリエステル樹脂で多塩基酸の一部をマレイ
ン酸とした放射線硬化性不飽和二重結合を含有する不飽
和ポリエステル樹脂、プレポリマー、オリゴマーを挙げ
ることができる。
(II) Saturated polyester resin Phthalic acid, isophthalic acid, Terephthalic acid, maleic acid,
Saturated polybasic acids such as maleic acid derivatives, succinic acid, adipic acid, sepacic acid, and ethylene glycol, diethylene glycol, glycerin, trimethylolpropane, 1.2-propylene dalicol, t3-butanediol,
Diethylene glyfur, 1,4\butanediol, t6
Saturated polyester resins obtained by ester bonding with polyhydric alcohols such as hemosandiol, pentaerythritol, sorbyl F-ol, glycerin, neopentyl glycol, and t4-cyclohexane dimethanol, or these polyester resins. Resin modified with 5OsNa etc. (Vipon 558). (III) Unsaturated polyester resin A polyester compound containing a radiation-curable unsaturated double bond in the molecular chain, such as a thermoplastic resin described in item (If) A saturated polyester resin consisting of an ester bond of a polybasic acid and a polyhydric alcohol, and includes unsaturated polyester resins, prepolymers, and oligomers containing radiation-curable unsaturated double bonds in which part of the polybasic acid is maleic acid. be able to.

飽和ポリエステル樹脂の多塩基酸および多価アルコール
成分は第(I)項に記載した各化合物を挙げることがで
き、放射線硬化性不飽和二重結合としてはマレイン酸、
フマル酸等を挙げることができる。
Examples of the polybasic acid and polyhydric alcohol components of the saturated polyester resin include the compounds listed in Section (I), and examples of the radiation-curable unsaturated double bond include maleic acid,
Examples include fumaric acid.

放射線硬化性不飽和ポリエステル樹脂の製法は、多塩基
酸成分1種以上と多価アルコール成分1種以上にマレイ
ン酸、フマル酸等を加え常法、すなわち触媒存在180
〜200℃窒素雰囲気下脱水あるいは脱アルコール反応
の後、240〜2・80℃まで昇温し、15〜I MH
gの減圧下縮合反応によりポリエステル樹脂を得ること
ができる。マレイン酸やフマル酸等の含有量は、製造時
の架橋、放射線硬化性等から酸成分中1〜40モル第で
好ましくは10〜30モル%である。
The radiation-curable unsaturated polyester resin is manufactured by a conventional method by adding maleic acid, fumaric acid, etc. to one or more polybasic acid components and one or more polyhydric alcohol components, that is, in the presence of a catalyst.
After dehydration or dealcoholization in a nitrogen atmosphere at ~200°C, the temperature was raised to 240~2.80°C, and 15~I MH
A polyester resin can be obtained by the condensation reaction of g under reduced pressure. The content of maleic acid, fumaric acid, etc. is 1 to 40 mol % in the acid component, preferably 10 to 30 mol %, in view of crosslinking during production, radiation curability, etc.

(IV) ポリビニルアルコール系樹脂ポリビニルアル
コール、ブチラール樹脂、アセタール樹脂、ホルマール
樹脂及びこれらの成分の共重合体。これら樹脂中に含ま
れる水酸基を後に述べる手法により放射線感応化変性を
行なったもの。
(IV) Polyvinyl alcohol resin polyvinyl alcohol, butyral resin, acetal resin, formal resin, and copolymers of these components. The hydroxyl groups contained in these resins have been modified by radiation sensitization using the method described later.

(V) エポキシ系樹脂、フェノ午シ樹脂ビスフェノー
ルムとエピクロルヒドリン、メチルエピクロルヒドリン
の反応によるエポキシ樹脂−シエル化学@(エピコート
152.154・828.1oa1.1004.100
7 )ダウケミカル製(DEN4!1、DER732、
DFiR511、DER331)、大日本インキ製(エ
ビクロン400、エビクロンーaOO)、更に上記エポ
キシの高重合度樹脂であるUCC社製フェノキシ樹脂(
PKHA、PKHC,PKHH)臭素化ビスフェノール
人とエピクロルヒドリンとの共重合体、大日本イン午化
学工業製(エビクpン145.152.15L1120
)等。
(V) Epoxy resin, epoxy resin produced by the reaction of phenolic resin bisphenol, epichlorohydrin, and methyl epichlorohydrin - Shell Chemical @ (Epicote 152.154/828.1oa1.1004.100
7) Manufactured by Dow Chemical (DEN4!1, DER732,
DFiR511, DER331), Dainippon Ink (Evicron 400, Evicron-aOO), and phenoxy resin (UCC), which is a high polymerization degree resin of the above epoxy.
PKHA, PKHC, PKHH) Copolymer of brominated bisphenol and epichlorohydrin, manufactured by Dainippon Ingo Chemical Industry Co., Ltd. (Eikukun 145.152.15L1120)
)etc.

これら樹脂中に含まれるエポキシ基を利用して、放射m
感応変性を行ったもの (W) ili維素誘導体 各種分子量の繊維素糸誘導体も、また熱可塑性プラスチ
ック成分として効果的である。その中でも、特に効果的
なものは硝化綿、七ルp−ズ、ア七シプチレーF1エチ
ル七ルp−ズ、ブチルセル日−ズ、アセチル七ルローズ
等が好適であり、樹脂中の水酸基を活性して後に述べる
手法により放射線感応変性を行なったもの ◆その他、
放射性感応変性に用いることのできる樹脂としては、多
官能ポリエステル樹脂、ポリエーテルエステル樹脂、ポ
リビニルビpリドン樹脂及び誘導体(pvpオレフィン
共重合体)、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、フェノ
ール樹脂、スピロアセタール樹脂、水酸基を含有するア
クリルエステル及びメタクリルエステルを少くとも一種
以上重合成分として含むアクリル系樹脂等も有効である
Using the epoxy groups contained in these resins, radiation m
Sensitively modified (W) ili fiber derivativesFiber filament derivatives of various molecular weights are also effective as thermoplastic components. Among them, particularly effective ones include nitrified cotton, hepylose, a7acyl F1 ethyl hepse, butyl cell dayz, and acetyl heptarose, which activate the hydroxyl groups in the resin. ◆Other,
Resins that can be used for radiation-sensitive modification include polyfunctional polyester resins, polyether ester resins, polyvinyl bipridone resins and derivatives (pvp olefin copolymers), polyamide resins, polyimide resins, phenolic resins, spiroacetal resins, and hydroxyl groups. Acrylic resins containing at least one kind of acrylic ester and methacrylic ester as a polymerization component are also effective.

さらに上記放射線感応変性熱可塑性樹脂に熱可塑性エラ
ストマー又はプレポリマーをブレンドすることにより、
一層強靭な塗膜とすることができる。さらに、下記に述
べるように、これらエラストマーあるいはプレポリマー
が、同様に放射線感応性に変性された場合は、より効果
的である。以下に、上記放射線感応樹脂と組み合わせる
ことのできるエラストV−又はプレポリY−を挙げる。
Furthermore, by blending a thermoplastic elastomer or prepolymer with the radiation-sensitive modified thermoplastic resin,
An even tougher coating film can be obtained. Furthermore, as described below, it is more effective if these elastomers or prepolymers are similarly modified to be radiation sensitive. Elasto V- or prepoly Y- which can be combined with the radiation-sensitive resin described above is listed below.

(1) ポリウレタンエラストマー及びプレポリマー及
びテロマー ポリウレタンエラストマーは、耐摩耗性、PETフィル
ムへの接着性が良い点で特に有効である。
(1) Polyurethane elastomer, prepolymer and telomer Polyurethane elastomer is particularly effective in terms of good abrasion resistance and good adhesion to PET film.

このようなウレタン化合智の例としては、インシアネー
トとして、2.4−)ルエンジイソシアネート、l−)
ルエンジイソシアネート、t3−キシレンジイソシアネ
ー)、1.4−+シレンジイソシアネート、15−ナフ
タレンジイソシアネート、m−7エエレンジイソシアネ
ート、p−フェニレンジイソシアネー)、L3’−ジメ
チル−4,4′−ジフェニルメタンジイソシアネー)、
4.4’−ジフェニルメタンジイソシアネート、43′
−ジメチルビフェニレンジイソシアネート、4.4’−
ヒフェニレンジイソシアネート、へ午すメチレンジイソ
シアネート、イソフオレンジイソシアネート、ジシクロ
ヘキシルメタンジイソシアネート、デスモジュールL1
デスモジュールN等の各種多価イソシアネートと、線状
飽和ポリエステル(エチレングリフール、ジエチレング
リコール、ダリ七リン、トリメチルールプルパン、t4
−ブタンジオール、t6−ヘキ賃ンジオール、ペンタエ
リスリット、ソルビトール、ネオペンチルグリコール、
1.4−シクロへ午サンジメタツールの様な多価アルコ
ールと、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、マレ
イン酸、1ハク酸、アジピン酸、セバシン酸、の様な飽
和多塩基酸との縮重合によるもの)、線状飽和ポリエー
テル(ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコ
ール、ポリテトラ1 エチレングリコール)やカブレラクタム、とドーキシル
含有アクリル酸エステル、ヒドロキシ含有メタアクリル
酸エステル等の各種ポリエステル類の縮重合物より成る
ポリウレタンエラストマー、プレポリ!−、テロマーが
有効である。
Examples of such urethane compounds include inocyanate such as 2.4-) luene diisocyanate, l-)
L3'-dimethyl-4,4'-diphenylmethane diisocyanate),
4.4'-diphenylmethane diisocyanate, 43'
-dimethylbiphenylene diisocyanate, 4.4'-
Hyphenylene diisocyanate, methylene diisocyanate, isophenyl diisocyanate, dicyclohexylmethane diisocyanate, desmodur L1
Various polyvalent isocyanates such as Desmodur N and linear saturated polyesters (ethylene glyfur, diethylene glycol, dali heptaline, trimethylolpurpane, t4
-butanediol, t6-hexanediol, pentaerythritol, sorbitol, neopentyl glycol,
1.4-Condensation of polyhydric alcohols such as cyclohexylmethane with saturated polybasic acids such as phthalic acid, isophthalic acid, terephthalic acid, maleic acid, monosaccharic acid, adipic acid, and sebacic acid. polymerization), linear saturated polyethers (polyethylene glycol, polypropylene glycol, polytetra 1 ethylene glycol), cabrelactam, and various polyesters such as doxyl-containing acrylic esters and hydroxyl-containing methacrylic esters. Polyurethane elastomer, pre-poly! −, telomer is effective.

これらのエラストマーを放射線感応変性の各種熱可塑性
プラスチックスとそのまま組合せても良いが、更にウレ
タンエラストマーの末端のイソシアネート基又は水酸基
と反応するアクリル系二重結合又はアリル系二重結合等
を有する単量体と反応させることにより、放射線感応性
に変性することは非常に効果的である。
These elastomers may be combined as they are with various radiation-sensitive thermoplastics, but monomers having an acrylic double bond or allylic double bond that reacts with the terminal isocyanate group or hydroxyl group of the urethane elastomer may also be used. It is very effective to make it radiosensitive by reacting with the body.

(II) アクリルニトリル−ブタジェン共重合エラス
ψ )Y− シンクレアペトロケミカル社製ポリBDリクイツドレン
ジとして市販されている末端水酸基のあるアクリルニト
リルブタジェン共重合体プレポリマー、゛あるいは日本
ゼオン社製ハイカー1432J等のエラストマーは、特
にブタジェン中の二重結合が放射線によりラジカルを生
じ架橋及び重合させるエラストマー成分として適する。
(II) Acrylonitrile-butadiene copolymer elassis ψ)Y- Acrylonitrile-butadiene copolymer prepolymer with a terminal hydroxyl group commercially available as PolyBD liquid range manufactured by Sinclair Petrochemical Co., Ltd. or Hiker 1432J manufactured by Nippon Zeon Co., etc. The elastomer is particularly suitable as an elastomer component in which the double bond in butadiene generates radicals by radiation and is crosslinked and polymerized.

(DI) ポリブタジエンエラストマーシンクレアペト
ロケミカル社製ポリBDリタイツドレジンR−15等の
低分子量末端水酸基を有するプレポリマーが特に熱可塑
性プラスチックとの相溶性の点で好適である。R−15
プレポリマーにおいては分子木端が水酸基となっている
為分子末端をアクリル系不飽和二重結合を付加すること
により放射線感応性を高めることが可能であり、バイン
ダーとして更に有利となる。
(DI) Polybutadiene Elastomer A prepolymer having a low molecular weight terminal hydroxyl group, such as PolyBD Retight Resin R-15 manufactured by Sinclair Petrochemical Co., is particularly suitable from the viewpoint of compatibility with thermoplastic plastics. R-15
Since the prepolymer has a hydroxyl group at the end of the molecule, it is possible to increase the radiation sensitivity by adding an acrylic unsaturated double bond to the end of the molecule, making it even more advantageous as a binder.

また、ポリブタジェンの環化物日本合成ゴム製CBR−
M901も熱可塑性プラスチックスとの組合せによりす
ぐれた性能を発揮する。特に、環化されたポリブタジェ
ンは、ポリブタジェン本来の有する不飽和結合のラジカ
ルにより放射線による架橋重合の効率が良く、バインダ
ーとして優れた性質を有している。
In addition, polybutadiene cyclized product Nippon Synthetic Rubber Co., Ltd. CBR-
M901 also exhibits excellent performance when combined with thermoplastics. In particular, cyclized polybutadiene has excellent properties as a binder, as it is highly efficient in crosslinking polymerization by radiation due to the radicals of unsaturated bonds inherent in polybutadiene.

その他熱可塑性エラスト!−及びそのプレポリ!−の系
で好適なものとしては、スチレン−ブタジェンゴム、塩
化ゴム、アクリルゴム、イソプレンゴム及びその環化物
(日本合成ゴム@ ClR701)、エポキシ変性ゴム
、内部可塑化飽和線状ポリエステル(東洋紡バイP>+
1oo)、等のエラストマーも下記に述べる放射線感応
変性処理をほどこすことにより有効に利用できる。
Other thermoplastic elastomers! - and its prepoly! - Suitable systems include styrene-butadiene rubber, chloride rubber, acrylic rubber, isoprene rubber and its cyclized product (Japan Synthetic Rubber @ ClR701), epoxy-modified rubber, internally plasticized saturated linear polyester (Toyobo Bay P> +
Elastomers such as 1oo) and the like can also be effectively used by subjecting them to the radiation sensitivity modification treatment described below.

次に、放射線感応性バインダー合成例を説明するO トリレンジイソシアネートのアダクトの製法&)塩化ビ
ニール酢酸ビニール共重合系樹脂(放射線感応変性樹脂
)のアクリル変性体の合成ビニライトVAGH750部
とトルエン1250部シクロヘキサノン500部を51
4つ口7テスフに仕込み加熱溶解し、80℃昇温後トリ
レンジイソシアキーtの2−とドル午ジエチルメタアク
リレートアダクトを614部加え、更にオクチル酸スX
”[1012部、ハイドロキノン[LO12f[lI1
5 え80℃でN、気流中NCO反応率が90%となるまで
反応せしめる。反応終了後冷却し、メチルエチルケトン
1250部を加え希釈する。
Next, an example of synthesis of a radiation-sensitive binder will be explained. Production method of adduct of O-tolylene diisocyanate &) Synthesis of acrylic modified product of vinyl chloride-vinyl acetate copolymer resin (radiation-sensitive modified resin) Vinylite VAGH 750 parts Toluene 1250 parts Cyclohexanone 51 copies of 500 copies
Pour into a 4-necked 7-task tube and heat to dissolve. After raising the temperature to 80°C, add 614 parts of tolylene diisocyanate 2- and diethyl methacrylate adduct, and then add octylic acid
"[1012 parts, hydroquinone [LO12f[lI1
5. Let the mixture react with N at 80°C in an air stream until the NCO reaction rate reaches 90%. After the reaction is completed, the mixture is cooled and diluted with 1250 parts of methyl ethyl ketone.

トリレンジイソシアネート(TDI)の2−ヒトルキシ
エチルメタアクリレ−) (2部gMA)アダクトの製
法 トリレンジイソシアネー)348部をN、気流中11の
4つ目フラスコ内で80℃に加熱後、2−5キサ工チレ
ンメタアクリレート260部、オクチル酸スズα07部
、ハイドロキノン0.05部を反応缶内の温度が80〜
85℃となるように冷却コン)p−ルしながら滴下終了
後80℃で6時間攪拌し反応を完結させる。反応終了後
取り出して冷却後白色ペースト状のTDIの2HEMム
を得た。
Preparation of 2-hydroxyethyl methacrylate (2 parts gMA) adduct of tolylene diisocyanate (TDI) 348 parts of tolylene diisocyanate (TDI) were heated to 80°C in a fourth flask of 11 in a stream of N gas. , 260 parts of 2-5 xylene methacrylate, 07 parts of tin octylate α, and 0.05 parts of hydroquinone were added until the temperature inside the reaction vessel was 80~80 parts.
After completion of the dropwise addition, the mixture was stirred at 80°C for 6 hours to complete the reaction while cooling the mixture to 85°C. After the reaction was completed, it was taken out and cooled to obtain a white paste-like TDI 2HEM.

b) ブチラール樹脂アクリル変性体の合成(放射線感
応変性樹脂) ブチラール樹脂積木化手製BM−8100部をトルエン
1912部シタロヘキサノン714部に544つ口7テ
スコに仕込み加熱溶解し80℃昇温昇温ジトリレンジイ
ソシアネート−ヒドロキシエチルメタアクリレートアダ
クトを74部加え、更にオクチル酸スズ[1015部、
ハイドロ午ノンα015部を加え、80℃でNiI気流
気流中N0比 終了後冷却しメチルエチルケトンにて稀釈する。
b) Synthesis of acrylic modified butyral resin (radiation-sensitive modified resin) 100 parts of butyral resin building blocks, handmade BM-8, were added to 1912 parts of toluene and 714 parts of citalohexanone in a 544-mouth 7-Tesco, dissolved by heating, and the temperature was raised to 80°C. Added 74 parts of ditolylene diisocyanate-hydroxyethyl methacrylate adduct, and further added tin octylate [1015 parts,
Add 15 parts of hydronon α0, cool at 80° C. after completing the NO ratio in a NiI air stream, and dilute with methyl ethyl ketone.

@)飽和ポリエステル樹脂アクリル変性体の合成(放射
線感応変性樹脂) 東洋紡製バイpンRV−200 100部をトルエン1
16部、メチルエチルケトン116部に加熱溶解し80
℃昇温後TDIの2HEMAアダクトを455部加え、
オクチル酸スズα007部、ハイドル午ノンa007部
を添加し、N2気流中80℃でNCO反応率90%以上
となるまで反応せしめる。
@) Synthesis of acrylic modified saturated polyester resin (radiation sensitive modified resin) 100 parts of Toyobo Vipun RV-200 and 1 part of toluene
16 parts, heated and dissolved in 116 parts of methyl ethyl ketone and 80
After raising the temperature to ℃, 455 parts of TDI's 2HEMA adduct was added.
0.07 parts of tin octylate α and 0.07 parts of Hydol® non-a are added, and the mixture is allowed to react at 80° C. in a N 2 stream until the NCO reaction rate reaches 90% or more.

d)エポキシ樹脂アクリル変性体の合成(放射線感応変
性樹脂) シェル化学製エビコー)1[107 400部を)ルエ
ン50部MEK50部に加熱溶解後NN−ジメチルベン
ジル7120006部、ハイドロ午ノンα003部を添
加し80℃とし、アクリル酸49部を滴下し80℃で酸
化5以下となるまで反応せしめる。
d) Synthesis of acrylic modified epoxy resin (radiation-sensitive modified resin) 1 [400 parts of 107 made by Shell Chemical Co., Ltd.] After heating and dissolving in 50 parts of luene and 50 parts of MEK, 7120006 parts of NN-dimethylbenzyl and 3 parts of hydronon α00 were added. The temperature was then raised to 80°C, 49 parts of acrylic acid was added dropwise, and the mixture was allowed to react at 80°C until the oxidation level was 5 or less.

−) ウレタンエラストマーアクリル変性体の合成(放
射線感応エラストマー) 末端イソシアネートのジフェニルメタンジイソシアネー
)(MDI)糸ウレタンプレポリマー(日本ポリウレタ
ン製ニツポツン4040)2 5 0部、2HEMA 
62.5部、ハイドルキノンα0フ部、オクチル酸スズ
[LOO9部を反応缶に入れ、80℃に加熱溶解後TD
I 4B.5部を反応缶内の温度が80〜90℃となる
様に冷却しながら滴下し、滴下終了後80℃でNCO反
応率95%以上となるまで反応せしめる。
-) Synthesis of acrylic modified urethane elastomer (radiation-sensitive elastomer) Terminal isocyanate diphenylmethane diisocyanate (MDI) thread urethane prepolymer (Nitsupotsun 4040 manufactured by Nippon Polyurethane) 250 parts, 2HEMA
62.5 parts, hydrquinone α0 part, tin octylate [LOO 9 parts were placed in a reaction vessel, heated to 80°C and dissolved, then TD
I 4B. 5 parts were added dropwise while cooling the reaction vessel to a temperature of 80 to 90°C, and after the dropwise addition was completed, the reaction was allowed to proceed at 80°C until the NCO conversion rate reached 95% or more.

1)ポリエーテル系末漏つレタン変性エラス)マーアク
リル変性体の合成(放射線感応エシス)W−) 日本ポリウレタン社製ポリエーテルPTG− 5 0 
0250部、2HEMA i 2.5部、ハイドロ午ノ
ンα007部、オクチル酸スズα009部を反応缶に入
れ80℃に加熱溶解後TD I J 15部を反応缶内
の温度が80〜90℃となるように冷却しながら滴下し
、滴下終了後80’CでNGO反応率95%以上となる
まで反応せしめる。
1) Synthesis of polyether-based urethane-modified elastomer acrylic modified product (radiation-sensitive ethics) W-) Polyether PTG-50 manufactured by Nippon Polyurethane Co., Ltd.
0250 parts of 2HEMA i, 2.5 parts of 2HEMA i, 007 parts of hydrononone α, and 009 parts of tin octylate were placed in a reaction can and heated to 80°C to dissolve, and then 15 parts of TD I J was added until the temperature inside the reaction can reached 80 to 90°C. The solution was added dropwise while being cooled, and after the completion of the addition, the reaction was allowed to proceed at 80'C until the NGO reaction rate reached 95% or more.

g)lリプタジエンエラストマーアクリル変性体の合成
(放射線感応エラストマー) シンクレアペトロケミカル社製低分子量末端水酸基ポリ
ブタジェンポリBDリクィットレジンB−15250部
、2HEMA 52.5部、ハイドル午ノンCLOロア
部、オクチル酸スズ1009部を反応缶に入れ、80℃
に加熱溶解後TDI 445部を反応缶内の温度が80
〜90℃となるように冷却しながら滴下し、滴下終了後
80℃でNCO反応半95%以上となるまで反応せしめ
る。
g) Synthesis of l-liptadiene elastomer acrylic modified product (radiation-sensitive elastomer) Low molecular weight terminal hydroxyl group polybutadiene polybutadiene polyBD Liquid Resin B-15250 parts manufactured by Sinclair Petrochemical Co., Ltd., 2HEMA 52.5 parts, Hydol Non-CLO lower part , 1009 parts of tin octylate was placed in a reaction vessel and heated to 80°C.
After heating and dissolving 445 parts of TDI, the temperature inside the reaction vessel was 80°C.
It is added dropwise while cooling to ~90°C, and after the dropwise addition is completed, it is allowed to react at 80°C until the NCO reaction reaches 95% or more.

また高分子には放射線照射により崩壊するものと分子間
に架橋を起すものが知られている。分子間に架橋を起す
ものとしては、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリス
チレン、ポリアクリル酸エステル、ポリアクリルアミド
、ポリ塩化ビニル、ポリエステル、ポリビニルピロリド
ンゴム、ポリビニルアルコール、ポリアクロレインがあ
る0この様な架橋型ぎりマーであれば上記のような変性
を特に施さなくても、架橋反応が起るので、そのまま放
射軸架橋用バックコート樹脂として使用可能である。
Furthermore, it is known that some polymers disintegrate when exposed to radiation, while others cause crosslinking between molecules. Materials that cause crosslinking between molecules include polyethylene, polypropylene, polystyrene, polyacrylic acid ester, polyacrylamide, polyvinyl chloride, polyester, polyvinylpyrrolidone rubber, polyvinyl alcohol, and polyacrolein. If so, the crosslinking reaction will occur even without special modification as described above, so it can be used as it is as a backcoat resin for radial crosslinking.

さらにまた、この方法によれば溶剤を使用しない無溶剤
型の樹脂であっても短時間で硬化することができるので
、この様な樹脂をパンクコート用として用いることもで
きる。
Furthermore, according to this method, even a solvent-free resin that does not use a solvent can be cured in a short time, so such a resin can also be used for puncture coating.

また、本発明のバンクコートの架橋に使用する活性エネ
ルギー線としては、放射線加速器を線源とした電子線、
Co”を線源としたr−線、B、11@を線源としたp
−線、x!!i1発生器を線源としたX−l1!等が使
用される。
In addition, the active energy rays used for crosslinking the bank coat of the present invention include electron beams using a radiation accelerator as a radiation source;
r-line with Co” as the source, p with B, 11@ as the source
- line, x! ! X-l1 with i1 generator as a radiation source! etc. are used.

特に照射線源としては吸収線量の制御、製造工程ライン
への導入、電離放射線のしゃ閉等の見地から放射線加熱
器により放射線を使用する方法が有利である。
In particular, as an irradiation source, it is advantageous to use radiation using a radiation heater from the viewpoints of controlling the absorbed dose, introducing it into the manufacturing process line, and blocking ionizing radiation.

バック層を硬化する際に使用する放射線特性としては、
透過力の面から加速電圧100〜750KV好ましくは
150〜300 KVの放射線加速器を用い吸収線量を
a5〜20メガラッドになるように照射するのが好都合
である。
The radiation characteristics used when curing the back layer are as follows:
From the viewpoint of penetrating power, it is convenient to use a radiation accelerator with an accelerating voltage of 100 to 750 KV, preferably 150 to 300 KV, and irradiate at an absorbed dose of a5 to 20 megarads.

本発明のバック層硬化に際しては、米国エナージーサイ
エンス社にて製造されている低線量タイプの放射線加速
器(エレクトロカーテンシステム)等がテープコーティ
ング加エラインへの導入、加速器内部の2次X@の遮蔽
等に極めて有利である。
When curing the back layer of the present invention, a low-dose type radiation accelerator (Electro Curtain System) manufactured by Energy Sciences, Inc. in the United States is introduced into the tape coating processing line, shielding the secondary X@ inside the accelerator, etc. This is extremely advantageous.

勿論、従来より放射線加速器として広く活用されている
ところのファンデダラ7型加速器を使用しても良い。
Of course, the Vandedara 7 type accelerator, which has been widely used as a radiation accelerator, may also be used.

また、放射線架橋に際しては、N、ガスH・ガス等の不
活性ガス気流中で放射線をバック層に照射することが重
要であり、空気中で放射線を照射することは、バインダ
ー成分の架橋に際し放射線照射により生じたOfi等の
影智でポリマー中に生じたラジカルが有利に架橋反応に
導く事を阻害するので極めて不利である。
In addition, during radiation crosslinking, it is important to irradiate the back layer with radiation in an inert gas stream such as N, gas H, gas, etc.; This is extremely disadvantageous because radicals generated in the polymer due to the influence of Ofi and the like generated by irradiation prevent the advantageous conduction of crosslinking reactions.

従って、活性エネルギー線を照射する部分の雰囲気は、
特に酸素濃度が最大で1−のHl s H・、COI等
の不活性ガス雰囲気に保つことが重要となる。
Therefore, the atmosphere of the area to be irradiated with active energy rays is
In particular, it is important to maintain an atmosphere of an inert gas such as Hl s H. or COI with a maximum oxygen concentration of 1-.

その他予備乾燥により低沸点溶剤を除去した後残存する
に充分な高沸点を有するモノマーが使用できる。具体的
には例えばアクリル酸またはメタクリル酸の酸素数4個
以上のアル中ルエステル(へ午シル、2エチルへ午シル
、ラウリル、デシル、ステアリルエステル)、高沸点の
ヒドロ午シアタリレートまたはヒドロ午シマレートすな
わちアクリル酸−2−とドロ午ジプロピル、アクリル酸
−4−とドルキシブチル、メタクリル酸−2−ヒドpキ
シエチル、メタクリル酸−6−とドルキシへ中シル、!
レイン酸モノ(2−ヒトルキシエチル)、マレイン酸ジ
(2−ヒトルキシエチル)、アタリルア攬ド、メタクリ
ルアミドなどが好適であり、さらに架橋促進のためビニ
ル基を2個以上iする高沸点モノマー例えばジビニルス
チレン、エチレンダリコールジメタクリレート、トリエ
チレングリコールジメタタリレート、テトテエチレング
リコールジメタクリレー)、N、N’メチレンビスアク
リルアミド、tiブチレンジメタタリレ−ト、ジアリル
フタレート、トリメチルールプロパントリ(メタ)アク
リレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレ
ートなどを併用すること更に効果的である。
Other monomers having a sufficiently high boiling point to remain after the low boiling point solvent is removed by preliminary drying can be used. Specifically, for example, esters of acrylic acid or methacrylic acid in alkali having 4 or more oxygen atoms (hemosil, 2ethylhemoyl, lauryl, decyl, stearyl ester), high boiling point hydrocyatarylate or hydrocymarate, that is, acrylic. 2-hydro dipropyl acid, 4-acrylate and droxybutyl, 2-hydroxyethyl methacrylate, 6-methacrylate and droxyl,!
Mono(2-hydroxyethyl)leate, di(2-hydroxyethyl)maleate, atarylamide, methacrylamide, etc. are suitable, and high boiling point monomers having two or more vinyl groups to promote crosslinking, such as divinylstyrene, ethylene glycol dimethacrylate, triethylene glycol dimethacrylate, tetoteethylene glycol dimethacrylate), N,N' methylene bisacrylamide, ti-butylene dimethacrylate, diallyl phthalate, trimethylolpropane tri(meth)acrylate, It is even more effective to use pentaerythritol tri(meth)acrylate in combination.

また、本発明でバック層中に上記結合材とともに使用さ
れる充填材としてけ、導電性のある 1)グラファイト
、カーボンブラックまた2)無機充填材としてはS i
 02 、T 10重、ム1.Os、Cr1O1、Si
C、CaCO3、酸化亜鉛、ゲーサイト、αFe201
、タルク、カオリン−、C1804、窒化硼素、テフp
ン粉*、フッ化黒鉛、二硫化モリブデンがある。この様
な充填材の使用量は1)に関してはバインダー100重
量部に対して20〜200部、又2)に関しては10〜
500部が適当であり、充填材量があまり多くなると、
塗膜がもろくなり、かえってドロップアウトが多くなる
という欠点が生じる。
In addition, in the present invention, conductive materials such as 1) graphite, carbon black, and 2) Si as an inorganic filler can be used together with the above-mentioned binder in the back layer.
02, T 10 times, Mu 1. Os, Cr1O1, Si
C, CaCO3, zinc oxide, goethite, αFe201
, talc, kaolin, C1804, boron nitride, Tef-P
powder*, graphite fluoride, and molybdenum disulfide. The amount of such filler used is 20 to 200 parts for 100 parts by weight of the binder for 1), and 10 to 200 parts for 2).
500 parts is appropriate; if the amount of filler is too large,
The drawback is that the coating film becomes brittle and dropouts occur more frequently.

磁性層1 下記配合の磁性インキ原料を5本ロールにて混練し、電
子線硬化型インキを作成した。
Magnetic Layer 1 Magnetic ink raw materials having the following composition were kneaded using five rolls to prepare an electron beam curable ink.

粒子径0.1/J餌厚み[102/J餌の4角板伏バリ
ウムフエライト 80重量部ポリウレタンアタリレート
 10 l Iリエステルアクリレート 7 # Fトリチロールプロパントリアク リ し − ト 5 # 上記インキをポリエステルフィルム上に塗布し、この塗
膜上にポリプ田ピレンフィルムを被覆させた後、配向器
に入れて垂直配向を行なった。配向器内で同時に150
に@V(15mA)のカーテン状電子銃により5Mra
dの線量を照射しバインダーを重合硬化させた後、プロ
ピレンフィルムを剥離した。
Particle size 0.1/J bait thickness [102/J bait square barium ferrite 80 parts by weight Polyurethane arylate 10 l I-lyester acrylate 7 #F tritylolpropane triacrylate 5 # Apply the above ink to a polyester film After coating the coating film with a polypropylene film, it was placed in an orientator and vertically oriented. 150 at the same time in the director
5Mra using @V (15mA) curtain electron gun.
After the binder was polymerized and cured by irradiation with a dose of d, the propylene film was peeled off.

磁性層2 ポリエステルフィルムを十分に洗滌・脱脂乾燥し、その
上にM o −F・−Nlよりなる低抗磁力材層をスパ
ッタリングにより形成する。形成条件は、7 真空度t5×lOtorr、アルゴン圧2.2 Xl0
−2torrにて高周波電力450W、基板温度250
℃で約20分間スパッタリングを行ない膜厚約1戸、抗
磁力(He)約5001飽和磁化(Ms)約600の低
抗磁力材層を得た。さらに、その上にC0−Crよりな
る磁気記録層をスパッタリングにより形成する。形成条
件は、真空度t 5 X i O−’torr 。
Magnetic Layer 2 A polyester film is sufficiently washed, degreased and dried, and a low coercive force material layer made of Mo-F.-Nl is formed thereon by sputtering. The formation conditions were 7 vacuum degree t5×lOtorr, argon pressure 2.2Xl0
High frequency power 450W at -2torr, substrate temperature 250W
Sputtering was carried out at a temperature of about 20 minutes to obtain a low coercive force material layer with a film thickness of about 1 mm and a coercive force (He) of about 5001 and a saturation magnetization (Ms) of about 600. Furthermore, a magnetic recording layer made of C0-Cr is formed thereon by sputtering. The formation conditions were a vacuum degree of t 5 X i O-'torr.

2 アルゴン圧2X10 torrにて高周波電力200W
で、約1時間スパッタリングを行ない、膜厚約full
で、Or含有率約18重量%、膜面に垂直方向の抗磁力
(H・)約6500・、飽和磁化(4重M■)4110
0Gの磁気記録層を得た。
2 High frequency power 200W at argon pressure 2X10 torr
Then, sputtering was performed for about 1 hour until the film thickness was about full.
So, the Or content is about 18% by weight, the coercive force in the direction perpendicular to the film surface (H) is about 6500, and the saturation magnetization (quadruple M■) is 4110.
A 0G magnetic recording layer was obtained.

実施例1 カーボンプラッタ25講/4 50重量部混合溶剤(M
IBK/)ルエン=171)3o a y上記混合物を
ボールミル中5時間混合させ、磁性層1が形成されてい
るポリエステルフィルムの裏面に乾燥厚5Pになるよう
に塗布し、エレクトレカーテンタイプ電子線加速装置を
用いて加速電圧150 K@V %電極電流15mA、
吸収線量5Mrads Nsガス中で電子線をバック層
に照射し、硬化を行った後カレンダー加工して巻き取り
、■“ビデオ巾に切断した。
Example 1 Carbon platter 25 parts/4 50 parts by weight mixed solvent (M
IBK/) Luene = 171) 3o ay The above mixture was mixed in a ball mill for 5 hours, and coated on the back side of the polyester film on which the magnetic layer 1 was formed to a dry thickness of 5P, and then heated using an electric curtain type electron beam acceleration. Using the device acceleration voltage 150 K@V% electrode current 15 mA,
The back layer was irradiated with an electron beam in Ns gas at an absorbed dose of 5 Mrads, and after curing, it was calendered, wound up, and cut into a video width.

実施例2 Sin、(αIμs) 50重量部 混合溶剤(MIBK/)ルエンー1/1) soo p
上記混合物を用い、磁性層2が形成されているポリエス
テルフィルム裏面に実施例1と同様に塗布しサンプル作
成した。
Example 2 Sin, (αIμs) 50 parts by weight mixed solvent (MIBK/) luene-1/1) soo p
A sample was prepared by applying the above mixture to the back surface of a polyester film on which the magnetic layer 2 was formed in the same manner as in Example 1.

比較例1 カーポンプフック(2SSμ) 50重量部塩ビ−ビニ
ルアルコール共重合体50 1ポリウレタンプレポリY
−201 混合溶剤(MIBK/ )#!シン−11) 500 
#上記混合物をボールミル中5時間混合させ、磁性層1
が形成されているプリエステルフィルムの裏面に乾燥厚
5panになるように塗布し、カレンダー加工後巻き取
り、60℃で24 hr硬化を行った1Pビデオ巾に切
断した。
Comparative Example 1 Car pump hook (2SSμ) 50 parts by weight PVC-vinyl alcohol copolymer 50 1 Polyurethane prepoly Y
-201 Mixed solvent (MIBK/ ) #! Shin-11) 500
#The above mixture was mixed in a ball mill for 5 hours to form magnetic layer 1.
It was coated on the back side of the preester film on which a dry thickness of 5 pans was formed, and after calendering, it was rolled up, cured at 60° C. for 24 hours, and cut into a 1P video width.

比較例2 810!(al#ti) 50重蓋部 塩ビービニルアルコール共重合体so yポリウレタン
プレポリマー 20 # 混合溶剤(MIBK/)ルエン−1/1)soo #上
記混合物を用い、磁性層2が形成されているポリエステ
ルフィルム裏面に比較例1と同様に塗布しサンプル作成
した。
Comparative example 2 810! (al #ti) 50 layered lid vinyl alcohol copolymer soy polyurethane prepolymer 20 # mixed solvent (MIBK/) luene-1/1) soo # magnetic layer 2 is formed using the above mixture A sample was prepared by coating the back side of a polyester film in the same manner as in Comparative Example 1.

比較例3 磁性層1を有するポリエステルフィルムベース(バック
層なし)。
Comparative Example 3 Polyester film base with magnetic layer 1 (no back layer).

比較例4 磁性層2を有するポリエステルフィルムベース(バッタ
層なし)。
Comparative Example 4 Polyester film base with magnetic layer 2 (no batter layer).

上鮎の各実施例及び比較例4のテープの各種テストを行
った結果を次の表に示す。
The results of various tests performed on the tapes of each Example and Comparative Example 4 of Jamiyu are shown in the following table.

1aA−− 垂直塗布の場合、巻きしまりにより磁性粉が垂直に配向
しているために、微細な突起が発生しやすい。微細な突
起でも走行中ヘッド、ガイドボール等にあたると、単位
面積当たりにか\る荷重が水平配向のものと比べ、大と
なるため、微細な突起面がけずれやすい。そのため磁性
面での巻きしまりをなくす必要がある。このためには放
射線硬化型が利点がある。バック面がないと、摩擦が大
のため走行停止をする。
1aA-- In the case of vertical coating, fine protrusions are likely to occur because the magnetic powder is vertically oriented due to tight winding. If even a minute protrusion hits a head, guide ball, etc. while running, the load per unit area will be greater than that of a horizontally oriented one, so the surface of the minute protrusion is likely to be damaged. Therefore, it is necessary to eliminate tight winding on the magnetic surface. For this purpose, the radiation curing type is advantageous. Without a back surface, the vehicle would stop running due to high friction.

なお上記の測定は次のようにして行った。Note that the above measurements were performed as follows.

1 摩擦係数 直径4mの表面を研磨したアル截円柱に磁気テープのバ
ック面を内側にして180°の抱き角で巻きつけ、2国
/秒で走行し送り出し側と巻き取り側のテンシ爾ンを測
定し計算よりめた。
1 Coefficient of Friction Wrap the magnetic tape around a polished aluminum cylinder with a diameter of 4 m at an angle of 180° with the back side inside, and run at 2 km/sec to maintain tension on the sending and winding sides. It was determined by measurement and calculation.

2 シンチング現象 一般市販のVHg方式VTRを用いて、テープ全長を早
送りした後平戻しを行ない、残り50饅の所で停止し、
更に早戻しを最後まで行なう。然る後、テープの巻き状
態を目視により観察した。
2 Scinching phenomenon Using a commercially available VHg type VTR, after fast forwarding the entire length of the tape, it is returned flat, and stopped when 50 pieces of tape remain.
Then perform fast rewind to the end. After that, the winding state of the tape was visually observed.

テープ層間にすき間がなく捲き状態が良好な場合を良好
としそしてテープ層間にすき間が発生した場合を不良と
した。
A case where there was no gap between the tape layers and the winding condition was good was evaluated as good, and a case where a gap occurred between the tape layers was evaluated as poor.

3 バック層の摩耗 一般市販のvns方式VTRを用い、40℃の温度及び
80%相対湿度の環境化で100回走行させた後カセッ
トケース内の汚れを観察した。汚れのある場合を不良と
しそして汚れない場合を良好とした。
3 Wear of back layer Using a commercially available VNS type VTR, the inside of the cassette case was observed for dirt after running it 100 times at a temperature of 40° C. and a relative humidity of 80%. The case where there was dirt was judged as poor, and the case where there was no dirt was judged as good.

4 磁性層とバック層の粘着 VHSリールに捲取り、60℃の環境下に5日間放置し
た時の粘着状況を目視により評価した。
4. Adhesiveness of magnetic layer and back layer The adhesive condition was visually evaluated when the film was wound onto a VHS reel and left in an environment at 60° C. for 5 days.

粘着のない場合を良好としそして粘着の生じた場合を不
良とした。
A case where there was no adhesion was considered good, and a case where adhesion occurred was judged as poor.

5 表面粗度 タリステップ(TAYLOR−HOBSON社製)を用
いて得たチャートから20点平均法でめた。カフトオ7
(Ll 7■、針圧2岬、針α1X2.5/lを用いた
5 Surface roughness Determined by the 20-point average method from a chart obtained using Talystep (manufactured by TAYLOR-HOBSON). Kaftoo 7
(Ll 7■, needle pressure 2 cape, needle α1X2.5/l was used.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)垂直磁化に適する垂直方向磁気異方性を有する磁
性層をプラスチックフィル五ベース上に形成した磁気記
録媒体において、磁性層と反対側のベース真向に、アク
リル系二重結合、マレ−イン系二重結合またはアリル系
二重結合を有する樹脂を含む放射線硬化バッタ層を設け
、且つバッタ層の表面粗度を0.04〜L6psとした
、磁気記録媒体。
(1) In a magnetic recording medium in which a magnetic layer having perpendicular magnetic anisotropy suitable for perpendicular magnetization is formed on a plastic film base, an acrylic double bond, a male A magnetic recording medium, comprising a radiation-cured batter layer containing a resin having an in-type double bond or an allylic double bond, and having a surface roughness of 0.04 to L6 ps.
JP19256383A 1983-10-17 1983-10-17 Magnetic recording medium Pending JPS6085423A (en)

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