JPS6061995A - Semiconductor memory - Google Patents
Semiconductor memoryInfo
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- JPS6061995A JPS6061995A JP58169051A JP16905183A JPS6061995A JP S6061995 A JPS6061995 A JP S6061995A JP 58169051 A JP58169051 A JP 58169051A JP 16905183 A JP16905183 A JP 16905183A JP S6061995 A JPS6061995 A JP S6061995A
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- Japan
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- potential
- chip enable
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-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C17/00—Read-only memories programmable only once; Semi-permanent stores, e.g. manually-replaceable information cards
Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の技術分野〕
本発明は半導体メモリ装置、特に電気的書込み可能な読
出し専用メモリの改良に関する。ここにいう電気的書込
み可能な読出し専用メモリにはEPROM(Elect
ricaトProgrammable Read Ot
blyMemory ) 、!:、 E”PROM(E
lectrical EragableProgram
mable Read 0nly Memory )を
含むものとし、以下総称してEPROMという。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION TECHNICAL FIELD OF THE INVENTION The present invention relates to improvements in semiconductor memory devices, and more particularly to electrically programmable read-only memories. The electrically writable read-only memory referred to here is EPROM (elect).
Programmable Read Ot
blyMemory),! :, E”PROM(E
electrical EragableProgram
(mable read only memory), and hereinafter collectively referred to as EPROM.
情報量の増大に伴なってメモリの大容量化が進んでおり
、このメモリの大容量化は多数のメモリセルを必要とし
、シタがってメモリセルを選択するためのビット線、ワ
ード線が増大し、その結果寄生容量の増大を招くことと
なる。寄生容量の増大はアドレスアクセス時間の遅れを
もたらすとともに、EPROMの場合にはメモリセルへ
のデータの書込み後においてその書込みデータの検証を
する際に誤書込みを防止するためビット線電位を低電位
に落とす必要がある、その理由は、データの書込み後に
ビット線の電位が高電位(書込み電位)のままに保たれ
ているため、書込みデータの検証時においてあたかもデ
ータが書込まれている如く判断されたり1次0メモリセ
ルに書込む際に誤って書込まれたりする危険性があるか
らである。As the amount of information increases, the capacity of memory is increasing, and this increase in memory capacity requires a large number of memory cells, which in turn requires the use of bit lines and word lines for selecting memory cells. This results in an increase in parasitic capacitance. An increase in parasitic capacitance causes a delay in address access time, and in the case of EPROMs, the bit line potential must be lowered to a low potential to prevent erroneous writing when verifying the written data after writing data to the memory cell. The reason for this is that the potential of the bit line remains at a high potential (write potential) after data is written, so when verifying the written data, it is judged as if the data had been written. This is because there is a risk that data may be written erroneously when writing to a primary 0 memory cell.
そしてかかる低電位に降下させることはチップイネーブ
ルアクセス時間の遅れを招くこととなる。Lowering the potential to such a low potential will result in a delay in chip enable access time.
ここで、従来のEPROMの一例を第1図に示す。第1
図において、1はデータ書込み用のnチャンネル形FE
T(以下、書込み用トランジスタという。)を示してお
り、そのゲートに書込みデータDin 、ドレインに書
込み電圧へ、カを与えられる。Here, an example of a conventional EPROM is shown in FIG. 1st
In the figure, 1 is an n-channel FE for data writing.
T (hereinafter referred to as a write transistor), the write data Din is applied to its gate, and the write voltage is applied to its drain.
書込み用トランジスタ1のソースにはnチャネルFET
よりなるトランスファゲート2のドレインカー接続され
ており、そのソースにチップイネーブル用のnチャネル
FET(以下、チップイネーブル用トランジスタという
。)4のドレインが接続され、こハ接続線がビット線B
Lを構成している。The source of write transistor 1 is an n-channel FET.
The drain of a transfer gate 2 consisting of
It constitutes L.
ビット線BLにはフローティングゲートを有するnチャ
ネル形のメモリセルトランジスタ(以下メモリセルとい
う。)3のドレインが接続されている。メモリセル3の
ゲートにはワード線WLが接続され、ソースは接地され
ている。チップイネーブル用トランジスタ4のゲートに
はインバータ5を介してチップイネーブル信号CFが入
力されるようになっている。このチップイネーブル信号
αの論理は外部入力端子での状態で示しており(第2図
)、 )ランジスタ5のゲートの入力レベルはこの外部
入力での論理と同じものとする。一方、書込み用トラン
ジスタ1のソースとトランスファゲート2のドレインと
の接続点にはセンスアンプ7が接続されて出力を取出す
ようになっている。6はメモリセル3の負荷として働く
トランジスタであり、好ましくはイントリンシックタイ
プのものヲ用いると工い一トランジスタのスレシホール
ド電圧による電圧降下を抑制し、高いレベルで動作させ
ることができるからである。The drain of an n-channel type memory cell transistor (hereinafter referred to as a memory cell) 3 having a floating gate is connected to the bit line BL. The word line WL is connected to the gate of the memory cell 3, and the source is grounded. A chip enable signal CF is input to the gate of the chip enable transistor 4 via an inverter 5. The logic of this chip enable signal α is shown in the state at the external input terminal (FIG. 2), and the input level of the gate of the transistor 5 is assumed to be the same as the logic at this external input. On the other hand, a sense amplifier 7 is connected to a connection point between the source of the write transistor 1 and the drain of the transfer gate 2 to take out an output. Reference numeral 6 designates a transistor that acts as a load for the memory cell 3. Preferably, an intrinsic type transistor is used because it can suppress the voltage drop due to the threshold voltage of the transistor and operate at a high level. .
次に動作を説明する(第2図参照)。まず、アドレスA
ddが設定され、次いで出力イネーブル信号OEが′H
′、チップイネーブル信号CFが蟻H′となり、出力ピ
ンDoutが高インピーダンス状態Hi−Zになる。次
に書込み電圧Vflpが加わり、さらに入力ビンDin
よりデータが入力され、チップイネーブル信号CEが%
L Iになって時間T1の間薔込みが行われる。次に
チップイネーブル信号CEを再び% HIにすると1列
デコード信号CD、ワード線WL17’l信号が% L
lになり、メモリセル3は選択されず、またトランジ
スタ4がオンになるためビット線BLは低電位(はぼ接
地電位)となる。ここで、ビット線BLを低電位とする
のは書込み後。Next, the operation will be explained (see Fig. 2). First, address A
dd is set, and then the output enable signal OE becomes 'H.
', the chip enable signal CF becomes H', and the output pin Dout becomes a high impedance state Hi-Z. Next, the write voltage Vflp is applied, and the input bin Din
When data is input, the chip enable signal CE becomes %.
When LI is reached, embedding is performed for a time T1. Next, when the chip enable signal CE is set to %HI again, the 1st column decode signal CD and the word line WL17'l signal become %L.
Since the memory cell 3 is not selected and the transistor 4 is turned on, the bit line BL is at a low potential (nearly the ground potential). Here, the bit line BL is set to a low potential after writing.
ビット線の電位が高電位のまま保たれていると書込後の
データ照合時にあたかもデータが書込む際に誤って書込
みされたりするおそれがあるからである。次に、出力イ
ネーブル信号部、チップイネーブル信号CEを共に%L
lとし、データの読み出しを行うことにより書込みデー
タとの照合を行う。This is because if the potential of the bit line is maintained at a high potential, there is a risk that the data may be erroneously written during data verification after writing. Next, both the output enable signal section and the chip enable signal CE are set to %L.
1, and by reading the data, it is compared with the written data.
このように、従来ではチップイネーブル信号CE力In
’(これは読出し動作時では非選択を意味する。)のと
き、ビット線IjLの電位をほぼ接地電位とするのであ
るが、このことは読出しモードにおけるチップイネーブ
ルアクセスの遅れを招く原因となる。すなわち1通常読
出し時においては約1■(メ毛リセルが書込まれていな
いとき)から2V(メモリセルが書込まれているとき)
まで振れる(第3図、実線)のに対し、チップイネーブ
ル信号CEによる非選択から選択動作をさせる際にはO
vから2vまで振れる(第3図、破線)ため、その分チ
ップイネーブルアクセスが遅れることになるからである
。In this way, conventionally, the chip enable signal CE input In
' (This means non-selection during a read operation), the potential of the bit line IjL is set to approximately the ground potential, but this causes a delay in chip enable access in the read mode. In other words, during normal reading, the voltage ranges from approximately 1V (when the memory cell is not written) to 2V (when the memory cell is written).
(Fig. 3, solid line), whereas when performing selection operation from non-selection by chip enable signal CE,
This is because the voltage swings from v to 2v (dashed line in FIG. 3), which delays chip enable access.
そこで本発明は書込みおよび書込後の照合機能を損うこ
となく、チツブイネープルアクセスヲ高速化しうる半導
体メモリ装置を提供することを目的とする。SUMMARY OF THE INVENTION It is therefore an object of the present invention to provide a semiconductor memory device that can speed up chip enable access without impairing write and post-write verification functions.
上記目的を達成するため、本発明によるEFROMは、
書込み終了後のビット線電位を通常読出し時のビット線
電位と等しい電位に低下させるようにした点に特徴を有
する。このようにすることによりチップイネーブル時の
電位の昇圧時間を短縮でキ、シたがってチップイネーブ
ルアクセスを高速化しうる。In order to achieve the above object, the EFROM according to the present invention has the following features:
The feature is that the bit line potential after writing is lowered to a potential equal to the bit line potential during normal reading. By doing so, it is possible to shorten the time for boosting the potential at the time of chip enable, thereby speeding up chip enable access.
以下1本発明によるEPROMの実施例を図面に基づい
て説明する。An embodiment of an EPROM according to the present invention will be described below with reference to the drawings.
第4図に本発明によるEPROMの一実施例を示す。槙
4図において、第1図と同−又は重複する部分には同一
の符号を附し、その説明は省略する。FIG. 4 shows an embodiment of an EPROM according to the present invention. In Fig. 4, the same or overlapping parts as in Fig. 1 are given the same reference numerals, and their explanations will be omitted.
第4図の構成中篇1図と異なる点は、チツプイネ−−j
A4Tnランジスタ4のソースと接地の間に読出し時の
電圧と等しい値に保持する回路を構成するnチャネルト
ランジスタ8が介挿されている点である。このトランジ
スタ8のゲートはドレインに接続されてダイオード動作
するようになっている。The structure of Figure 4 is different from Figure 1 of the middle part.
An n-channel transistor 8 is inserted between the source of the A4Tn transistor 4 and the ground, which constitutes a circuit that maintains the voltage at a value equal to the read voltage. The gate of this transistor 8 is connected to the drain so that it operates as a diode.
さて、このような構成とすることにより、書込みおよび
読出し動作は従来通りであり変るところはない。しかし
、書込み後のデータ照合のときには、第2図のT!の時
間だけチップイネーブル信号CEがS L“であるため
、トランジスタ4がオンとなり、ビット線BLは低電位
となる。このとき(nビット線BLの電位はトランジス
タ8が直列に挿入されているのでトランジスタ8のしき
い値N1圧V。H(=0.8V)分だけ接地′電位より
も高くなる。また、チップ非選択時も同様にビット線B
Lの電位もほぼしきい値電圧VTIIとなる。したがっ
て第3図の実線と同様な特性となり、チップイネーブル
アクセス時間を短縮することがでとる。Now, with such a configuration, writing and reading operations are the same as before and there is no change. However, when verifying data after writing, T! Since the chip enable signal CE is SL" for a period of time, the transistor 4 is turned on and the bit line BL is at a low potential. The threshold voltage N1 of the transistor 8 becomes higher than the ground potential by an amount of V.H (=0.8V).Also, when the chip is not selected, the bit line B
The potential of L also becomes approximately the threshold voltage VTII. Therefore, the characteristics are similar to those shown by the solid line in FIG. 3, and the chip enable access time can be shortened.
次に、第5図に他の実施例を示す。この例は第4図のト
ランジスタ8に代えてダイオード9を用いたものであり
、この場合にもチップ非選択時のビット線の電位をダイ
オード90順方向電圧UF(−=0,8V)とすること
ができる。Next, FIG. 5 shows another embodiment. In this example, a diode 9 is used in place of the transistor 8 in FIG. 4, and in this case as well, the potential of the bit line when the chip is not selected is the forward voltage of the diode 90 UF (-=0.8V). be able to.
以上の通り、本発明によれば%書込みおよび賓込後の照
合機能を従来通り維持、しつつ、チップイネーブルアク
セスを高速化することができる。As described above, according to the present invention, it is possible to increase the speed of chip enable access while maintaining the % write and post-input verification functions as before.
第1図は従来のEPROMの回路構成の一例を示す回路
図。
第2図は各部動作を説明するためのタイミングチャート
、
第3図はチップイネーブルアクセス時間の説明図。
第4図は本発明によるEPROMの一実施例を示す回路
図。
第5図は他の実施例を示す回路図である。
1・・・書込み用トランジスタ、2・・・トランスフア
ゲ−)、3・・・メモリセルトランジスタ、4・・・チ
ップイネーブル用トランジスタ 8・・・電圧保持用ト
ランジスタ、9・・・電圧保持用ダイオード。
出願人代理人 猪 股 清FIG. 1 is a circuit diagram showing an example of the circuit configuration of a conventional EPROM. FIG. 2 is a timing chart for explaining the operation of each part, and FIG. 3 is an explanatory diagram of chip enable access time. FIG. 4 is a circuit diagram showing an embodiment of the EPROM according to the present invention. FIG. 5 is a circuit diagram showing another embodiment. DESCRIPTION OF SYMBOLS 1... Writing transistor, 2... Transfer gate), 3... Memory cell transistor, 4... Chip enable transistor 8... Voltage holding transistor, 9... Voltage holding diode . Applicant's agent Kiyoshi Inomata
Claims (1)
、メモリセルへのデータの書込み終了後またはチップ非
選択時における当該メモリセルに対応するビット線の電
位を読出し時のビット線電位にほぼ等しい値に保持する
電圧保持回路を備えたことを特徴とする半導体メモリ装
置。 2、特許請求の範囲第1項記載の装置において、電圧保
持回路はメモリセルと接地間に直列に挿入されかつ自己
バイアス接続されたトランジスタである半導体メモリ装
置。 3、特許請求の範囲第1項記載の装置において。 電圧保持回路はメモリセルと接地間に順方向接続された
ダイオードである半導体メモリ装置。[Scope of Claims] 1. In an electrically writable read-only memory device, the potential of the bit line corresponding to the memory cell after data has been written to the memory cell or when a chip is not selected is determined by the bit line when reading. A semiconductor memory device comprising a voltage holding circuit that holds a voltage at a value substantially equal to a potential. 2. A semiconductor memory device according to claim 1, wherein the voltage holding circuit is a transistor inserted in series between the memory cell and ground and connected with a self-bias. 3. In the device according to claim 1. In semiconductor memory devices, the voltage holding circuit is a diode forward connected between the memory cell and ground.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP58169051A JPS6061995A (en) | 1983-09-13 | 1983-09-13 | Semiconductor memory |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP58169051A JPS6061995A (en) | 1983-09-13 | 1983-09-13 | Semiconductor memory |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6061995A true JPS6061995A (en) | 1985-04-09 |
Family
ID=15879415
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP58169051A Pending JPS6061995A (en) | 1983-09-13 | 1983-09-13 | Semiconductor memory |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6061995A (en) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62214596A (en) * | 1986-03-14 | 1987-09-21 | Mitsubishi Electric Corp | Semiconductor circuit device |
JPS643899A (en) * | 1987-06-24 | 1989-01-09 | Sharp Kk | Nonvolatile semiconductor memory device |
US5132936A (en) * | 1989-12-14 | 1992-07-21 | Cypress Semiconductor Corporation | MOS memory circuit with fast access time |
-
1983
- 1983-09-13 JP JP58169051A patent/JPS6061995A/en active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62214596A (en) * | 1986-03-14 | 1987-09-21 | Mitsubishi Electric Corp | Semiconductor circuit device |
JPS643899A (en) * | 1987-06-24 | 1989-01-09 | Sharp Kk | Nonvolatile semiconductor memory device |
US5132936A (en) * | 1989-12-14 | 1992-07-21 | Cypress Semiconductor Corporation | MOS memory circuit with fast access time |
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