JPS606086B2 - イオン注入装置 - Google Patents
イオン注入装置Info
- Publication number
- JPS606086B2 JPS606086B2 JP50124640A JP12464075A JPS606086B2 JP S606086 B2 JPS606086 B2 JP S606086B2 JP 50124640 A JP50124640 A JP 50124640A JP 12464075 A JP12464075 A JP 12464075A JP S606086 B2 JPS606086 B2 JP S606086B2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- ion implantation
- holder
- ion
- chamber
- wafer
- Prior art date
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- Expired
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- Physical Vapour Deposition (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
この発明はイオン注入装置に関する。
例えば半導体の製造にイオン注入装置を用いる場合、す
なわとウェハーにイオンを選択的に注入して種々の半導
体装置を製造する場合は、得ようとする半導体装置に応
じて或いは注入しようとするイオンに応じて注入条件を
変更する必要がある。
なわとウェハーにイオンを選択的に注入して種々の半導
体装置を製造する場合は、得ようとする半導体装置に応
じて或いは注入しようとするイオンに応じて注入条件を
変更する必要がある。
典型的な例として不純物濃度の層の厚みは、その層の種
類に応じて決定されるが、この厚みは例えばイオンの加
速エネルギーを変更することによって決定される。従来
では、このような注入条件の変更は外部装置の操作盤を
装置運転者が操作することによって行なっているので、
注入条件の変更の都度、操作しなければならない不便が
あるし、又謀操作も起り得るといった欠点がある。この
発明は、被注入体をイオン注入室に搬入する過程でイオ
ン注入条件を自動的に検知することを目的としている。
この発明を図面にもとづいて説明すると、イオン注入室
１は搬送装置２と搬出装置３との間にあって搬送装置２
によって送られてきたイオン未注入のウェハー４はこの
注入室１内において注入管５内を通ってきたイオンビー
ム６が投射注入される。
類に応じて決定されるが、この厚みは例えばイオンの加
速エネルギーを変更することによって決定される。従来
では、このような注入条件の変更は外部装置の操作盤を
装置運転者が操作することによって行なっているので、
注入条件の変更の都度、操作しなければならない不便が
あるし、又謀操作も起り得るといった欠点がある。この
発明は、被注入体をイオン注入室に搬入する過程でイオ
ン注入条件を自動的に検知することを目的としている。
この発明を図面にもとづいて説明すると、イオン注入室
１は搬送装置２と搬出装置３との間にあって搬送装置２
によって送られてきたイオン未注入のウェハー４はこの
注入室１内において注入管５内を通ってきたイオンビー
ム６が投射注入される。
７は偏向コイルを示す。
搬送装置２には未注入のウヱハ−４を収納する収納室８
が連なっており、ここからのゥェハー４が１個ずつ搬送
臭９によって搬送装置２内に搬送される。搬送装置２は
ウェハーを気密的に搬送する。そのための図の例では気
密的に移動するピストン１０内に搬送室１１を設け、こ
の搬送室１１内に収納室８内のウェハーが搬送具９によ
って搬送される。１２は真空ポンプ搬送装置２内、特に
搬送室１１内を真空にする。
が連なっており、ここからのゥェハー４が１個ずつ搬送
臭９によって搬送装置２内に搬送される。搬送装置２は
ウェハーを気密的に搬送する。そのための図の例では気
密的に移動するピストン１０内に搬送室１１を設け、こ
の搬送室１１内に収納室８内のウェハーが搬送具９によ
って搬送される。１２は真空ポンプ搬送装置２内、特に
搬送室１１内を真空にする。
ピストン１０の上昇により搬送室１１が搬入室１３と注
入室１との間に達すると、搬入榛１４が駆動され、ゥェ
ハーを注入室１内に溝状の通路１５を通って搬入される
。そして所定の位置で停止され、ここでイオン注入が行
なわれる。注入を終了したウェハーは更に通路１５を通
って搬出装置３内に送られる。搬出装置３は搬入装置２
とほぼ同じ構成とされてあり、搬出路１６から搬出され
る。以上がウェハーのイオン注入のためめの搬送出の概
略説明である。
入室１との間に達すると、搬入榛１４が駆動され、ゥェ
ハーを注入室１内に溝状の通路１５を通って搬入される
。そして所定の位置で停止され、ここでイオン注入が行
なわれる。注入を終了したウェハーは更に通路１５を通
って搬出装置３内に送られる。搬出装置３は搬入装置２
とほぼ同じ構成とされてあり、搬出路１６から搬出され
る。以上がウェハーのイオン注入のためめの搬送出の概
略説明である。
ウェハー４は普通第２図に示すようにホルダ２１に保持
されている。したがつて上述のウヱハーの搬送出は実際
はこのホルダ２１の搬送出によって行なわれる。そして
この発明にしたがい、ホルダ２１にこのホルダ２１１こ
保持されるウェハーィオン注入条件を記録する。そして
この記録は収納室８とイオン注入室１とを結ぶ任意の個
所に設置された読取装置によって読みとられる。図の実
施例は前記記録はコード‘こよって行なう場合を示し、
又その読取は光電装層によって行なう場合を示す。その
ためにホルダ２１の所定位置に位置的にコード化された
孔２２を設ける。この孔２２によるコード‘まそのホル
ダ２１に保持されたウェハーへのイオン注入条件を示す
もので「例えば不純物濃度の厚みを決定するイオンの加
速ェネルギ（又は加速電圧）を表わすものとする。もち
ろんホルダ２１の他の位置に他の注入条件を表わす記録
をほどこしてもよい。読取装置２３は光源２４と光源素
子２５によって構成される。
されている。したがつて上述のウヱハーの搬送出は実際
はこのホルダ２１の搬送出によって行なわれる。そして
この発明にしたがい、ホルダ２１にこのホルダ２１１こ
保持されるウェハーィオン注入条件を記録する。そして
この記録は収納室８とイオン注入室１とを結ぶ任意の個
所に設置された読取装置によって読みとられる。図の実
施例は前記記録はコード‘こよって行なう場合を示し、
又その読取は光電装層によって行なう場合を示す。その
ためにホルダ２１の所定位置に位置的にコード化された
孔２２を設ける。この孔２２によるコード‘まそのホル
ダ２１に保持されたウェハーへのイオン注入条件を示す
もので「例えば不純物濃度の厚みを決定するイオンの加
速ェネルギ（又は加速電圧）を表わすものとする。もち
ろんホルダ２１の他の位置に他の注入条件を表わす記録
をほどこしてもよい。読取装置２３は光源２４と光源素
子２５によって構成される。
図の例では謙取装置２３は収納室８と搬送装置２とを結
ぶ通路２６‘こ配置されている。ホルダ２１の一方の面
に光源２４が、又他の表面に光電素子２５が相対するよ
うにホルダ２１は搬送される。ホルダ２１が通路２６を
通るとき、各孔２２が光電素子２５によって検出される
。光電素子２５の出力は外部装置の操作機２７へ送られ
、ここでコードが解読され、その条件にしたがってイオ
ン注入装置が自動的に制御される。例えば前記コードが
イオン加速装置の加速電圧を記録してあるものとすれば
、読取られた結果によって加速装置の電源装置が自動的
に制御されて、その加速電圧を発するようにする。加速
装置がコッククロフト式の高電圧発生装置であるときは
「 コンデンサの充轟々圧を変更することによって加速
電圧が変更されるので、コンデンサの充電用変成器の１
次コイルのタップをモータその他によって、前記記録値
にしたがって自動的に切換えるようにすればよい。ホル
ダ２１の記録は、孔２２によるほかに磁気記録した磁気
テープを貼りつけてもよい。
ぶ通路２６‘こ配置されている。ホルダ２１の一方の面
に光源２４が、又他の表面に光電素子２５が相対するよ
うにホルダ２１は搬送される。ホルダ２１が通路２６を
通るとき、各孔２２が光電素子２５によって検出される
。光電素子２５の出力は外部装置の操作機２７へ送られ
、ここでコードが解読され、その条件にしたがってイオ
ン注入装置が自動的に制御される。例えば前記コードが
イオン加速装置の加速電圧を記録してあるものとすれば
、読取られた結果によって加速装置の電源装置が自動的
に制御されて、その加速電圧を発するようにする。加速
装置がコッククロフト式の高電圧発生装置であるときは
「 コンデンサの充轟々圧を変更することによって加速
電圧が変更されるので、コンデンサの充電用変成器の１
次コイルのタップをモータその他によって、前記記録値
にしたがって自動的に切換えるようにすればよい。ホル
ダ２１の記録は、孔２２によるほかに磁気記録した磁気
テープを貼りつけてもよい。
この場合の謙取は磁気再生へッド‘こよって行なう。そ
のほかに打刻によるマークを付し、これを光学的に検出
するようにしてもよい。記録手段及び謙取手段は任意で
ある。以上説明したように、この発明によれば、被注入
体のホルダに注入条件を記録しておくことにより、その
議取りにしたがって自動的に注入条件を選定することが
でき、誤９翼定並びに条件選定の作業が不用となる効果
がある。
のほかに打刻によるマークを付し、これを光学的に検出
するようにしてもよい。記録手段及び謙取手段は任意で
ある。以上説明したように、この発明によれば、被注入
体のホルダに注入条件を記録しておくことにより、その
議取りにしたがって自動的に注入条件を選定することが
でき、誤９翼定並びに条件選定の作業が不用となる効果
がある。
第１図は本発明の実施例を示す断面図、第２図は要部の
拡大斜視図である。 貴・・・イオン注入室「 ４・・・被イオン注入体「
２１…ホルダ、２２…記録用の孔「 ２３…読取装置。 弟ｚ図崇′図
拡大斜視図である。 貴・・・イオン注入室「 ４・・・被イオン注入体「
２１…ホルダ、２２…記録用の孔「 ２３…読取装置。 弟ｚ図崇′図
Claims (1)
- １ 被イオン注入体を保持するホルダにその被イオン注
入体にイオンを注入する注入条件を記録し、前記被イオ
ン注入体を保持したホルダをイオン注入室に搬送する途
中に前記記録を読取る読取装置を設け、前記読取装置に
よる読取によってイオン注入条件を自動的に選定するイ
オン注入装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP50124640A JPS606086B2 (ja) | 1975-10-16 | 1975-10-16 | イオン注入装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP50124640A JPS606086B2 (ja) | 1975-10-16 | 1975-10-16 | イオン注入装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5248471A JPS5248471A (en) | 1977-04-18 |
| JPS606086B2 true JPS606086B2 (ja) | 1985-02-15 |
Family
ID=14890403
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP50124640A Expired JPS606086B2 (ja) | 1975-10-16 | 1975-10-16 | イオン注入装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS606086B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6376194U (ja) * | 1986-11-07 | 1988-05-20 |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62201765U (ja) * | 1987-05-21 | 1987-12-23 | ||
| JPH0722453U (ja) * | 1993-09-28 | 1995-04-21 | 住友重機械工業株式会社 | 荷電粒子ビーム照射装置 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4834352A (ja) * | 1971-09-07 | 1973-05-18 | ||
| JPS4914102A (ja) * | 1972-05-16 | 1974-02-07 |
-
1975
- 1975-10-16 JP JP50124640A patent/JPS606086B2/ja not_active Expired
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4834352A (ja) * | 1971-09-07 | 1973-05-18 | ||
| JPS4914102A (ja) * | 1972-05-16 | 1974-02-07 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6376194U (ja) * | 1986-11-07 | 1988-05-20 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5248471A (en) | 1977-04-18 |
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