JPS6058781A - 固体撮像装置 - Google Patents

固体撮像装置

Info

Publication number
JPS6058781A
JPS6058781A JP58165237A JP16523783A JPS6058781A JP S6058781 A JPS6058781 A JP S6058781A JP 58165237 A JP58165237 A JP 58165237A JP 16523783 A JP16523783 A JP 16523783A JP S6058781 A JPS6058781 A JP S6058781A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
signal
gate
reset
pixel
sit
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP58165237A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH0453149B2 (ja
Inventor
Hidetoshi Yamada
秀俊 山田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Olympus Corp
Original Assignee
Olympus Corp
Olympus Optical Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Olympus Corp, Olympus Optical Co Ltd filed Critical Olympus Corp
Priority to JP58165237A priority Critical patent/JPS6058781A/ja
Priority to US06/647,169 priority patent/US4556909A/en
Priority to CA000462668A priority patent/CA1217557A/en
Priority to DE3432994A priority patent/DE3432994C2/de
Priority to FR848413789A priority patent/FR2551917B1/fr
Publication of JPS6058781A publication Critical patent/JPS6058781A/ja
Publication of JPH0453149B2 publication Critical patent/JPH0453149B2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H04ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
    • H04NPICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
    • H04N3/00Scanning details of television systems; Combination thereof with generation of supply voltages
    • H04N3/10Scanning details of television systems; Combination thereof with generation of supply voltages by means not exclusively optical-mechanical
    • H04N3/14Scanning details of television systems; Combination thereof with generation of supply voltages by means not exclusively optical-mechanical by means of electrically scanned solid-state devices
    • H04N3/15Scanning details of television systems; Combination thereof with generation of supply voltages by means not exclusively optical-mechanical by means of electrically scanned solid-state devices for picture signal generation
    • H04N3/1506Scanning details of television systems; Combination thereof with generation of supply voltages by means not exclusively optical-mechanical by means of electrically scanned solid-state devices for picture signal generation with addressing of the image-sensor elements
    • H04N3/1512Scanning details of television systems; Combination thereof with generation of supply voltages by means not exclusively optical-mechanical by means of electrically scanned solid-state devices for picture signal generation with addressing of the image-sensor elements for MOS image-sensors, e.g. MOS-CCD
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L27/00Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
    • H01L27/14Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation
    • H01L27/144Devices controlled by radiation
    • H01L27/146Imager structures
    • H01L27/14679Junction field effect transistor [JFET] imagers; static induction transistor [SIT] imagers
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L31/00Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L31/08Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof in which radiation controls flow of current through the device, e.g. photoresistors
    • H01L31/10Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof in which radiation controls flow of current through the device, e.g. photoresistors characterised by potential barriers, e.g. phototransistors
    • H01L31/101Devices sensitive to infrared, visible or ultraviolet radiation
    • H01L31/112Devices sensitive to infrared, visible or ultraviolet radiation characterised by field-effect operation, e.g. junction field-effect phototransistor
    • H01L31/1124Devices with PN homojunction gate
    • H01L31/1126Devices with PN homojunction gate the device being a field-effect phototransistor
    • HELECTRICITY
    • H04ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
    • H04NPICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
    • H04N25/00Circuitry of solid-state image sensors [SSIS]; Control thereof
    • H04N25/70SSIS architectures; Circuits associated therewith
    • H04N25/76Addressed sensors, e.g. MOS or CMOS sensors
    • HELECTRICITY
    • H04ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
    • H04NPICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
    • H04N25/00Circuitry of solid-state image sensors [SSIS]; Control thereof
    • H04N25/70SSIS architectures; Circuits associated therewith
    • H04N25/76Addressed sensors, e.g. MOS or CMOS sensors
    • H04N25/779Circuitry for scanning or addressing the pixel array

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Multimedia (AREA)
  • Signal Processing (AREA)
  • Transforming Light Signals Into Electric Signals (AREA)
  • Solid State Image Pick-Up Elements (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔技術分野〕 この発明は、静電誘導形トランジスタを用いた固体撮像
装置に関する。
〔従来技術〕
静電誘導形トランジスタ(以下SITという)を光検出
及びスイッチング素子として一つの画素を構成した固体
撮像装置が、特開昭58−105672号に提案されて
いる。
第1図(5)は、かかる固体撮像装置の1画素を構成す
るSITの断面図であり、第1図の)は固体撮像装置全
体の回路構成図である。SITは、第1図(5)に示す
ように、ドレインを構成するn/リコン基板1上に、不
純物濃度の低いn−シリコンエピタキシャル層2を成長
させ、このエピタキシャル層2の表面に、熱拡散法など
によりnソース領域3、pケート領域4.4を形成する
。ゲート領域4上には8102 等の絶縁膜5が被着さ
れ、更にその上に被着されたゲート電極6とにりよりコ
ンデンサ7が形成されている。8は両ゲート電極6.6
に接続されたゲート端子である。9は各セルを構成する
単位SITを分離するために形成された埋込絶縁物など
からなる分離領域である。n−エピタキシャル層2はS
ITのチャネル領域を構成するものであり、ゲート電位
Ovであってもチャネル領域はすてに空乏化され、ソー
ス・ドレイン間に電圧が印加されても、ソースφドレイ
ン間には電流が流れないように々っている。
このような構成のSITにおいて光入力が与えられると
、チャネル領域2内あるいはゲート空乏層内で、正孔−
電子対が生成され、このうち電子は接地されたドレイン
1に流れ去るが、正孔は信号蓄積ゲート領域4に蓄積さ
れ、これに接続されたゲートコンデンサ7を充電し、ゲ
ート電位を△vGだけ変化させる。ここでゲートコンデ
ンサ7の容量をCGとし、光入力によって発生され、信
号蓄積ゲート領域4に蓄積された電荷をQLとすると、
△Va = QL / Ocとなる。ある蓄積時間が経
過した後、ゲート端子8にゲート読出しパルスVφGが
与えられると、ゲート電位は■φGに△■Gが加わった
ものとなり、信号蓄積ゲート領域4とソース領域3との
間の電位は低下して空乏層が減少し、ソース・ドレイン
間に光入力に対応したドレイン電流が流れる。このドレ
イン電流は、SITの増幅作用のため△■Gが増幅度倍
されたものと々す、大きなものとなる。なお、SITの
ソースとドレインとを入れ替えても同様の動作をするも
のである。
第1図(B)は、上記構成のSITをマトリックス状に
配列して構成した固体撮像装置の回路構成を示すもので
あり、第1図(0)は同じくその動作を説明するだめの
信号波形図である。各S I T 10−n、IQ−1
2、・・・・・・・・・は上記のようなノーマリ−オフ
形のnチャネルSITで、光入力に対する出力ビデオ信
号をXYアドレス方式で読み出すようにしている。各画
素を構成するSITのドレインは接地され、X方向に配
列された各行のSIT群のソースは、それぞれ行ライン
11−1.11−2、・・・・・・・・・に接続され、
これらの各行ラインはそれぞれ行選択用トランジスタ1
2−1.12−2 、・・・・・・・・・を介してビデ
オライン13に共通に接続されている。またY方向に配
列された各列のSIT群のゲート端子は列ライン14−
1.14−2 、・・・・・・・・・に接続されている
。ビデオライン13は負荷抵抗15を経て直流電源16
の正端子に接続し、この電源の負端子は接地されている
次に、かかる構成の固体撮像装置のSITから々る各画
素の出力が読み出される場合の動作について説明する。
例えば、行選択パルスφ81により、行ライン11−1
 に接続されたトランジスタ12−1がオンとなってい
る期間に、ゲート読出しパルスφG1が列ライン14−
1に加えられると、5ITIO−11が選択され、この
S I T 1.0−11のドレイン電流がビデオライ
ン13を介して負荷抵抗15を流れ、出力端子に出力電
圧Voutが発生する。」1記のように、このドレイン
電流はゲート電圧の関数であり、ゲート電圧は光入力の
関数と々るから、暗時の出力電圧からの増加分△Vou
tは光入力に対応した電圧となる。しかも、この電圧△
VoutはSITの増幅作用によりΔVGが増幅度倍さ
れた大きなものとなる。次に列ライン14−2にゲート
読出しパルスφG2を与えて、S I T 10−12
の続出しを行ない、−桁分の読出しが終了したら、トラ
ンジスタ12−2を行選択パルスφS2でオンとして、
次の行のSI T 10−21、IQ−22を順次読出
すように構成されている。
ところで、上記の如き従来の構成の固体撮像装置には、
次のような欠点があることが判明した。
すなわち、ゲート領域4にゲート読出しパルス電圧■φ
Gが加わると、ゲート領域4とドレインからなるpn接
合が順バイアスされ、この間に電流が流れる。この時に
、ゲート領域4に蓄積された正孔は消滅し、それ捷で蓄
積された光信号が失われてしまう。このため各画素にお
ける光信号蓄積時間は、(読出し周期)/(行ライン数
)と々す、特に画素数が大きくなると、蓄積時間は極め
て短くなシ、光感度が低下してしまう。したがって、こ
のような読出し方式で順次ビデオ信号を得ることは実際
上不可能である。
また、上記の固体撮像装置に用いられるノーマリ−オフ
形のSITを得るためには、ゲート領域の間隔Wgを極
めてせまくする必要がある。しかしとれは製造上困難で
ある。捷たノーマリ−オフ形のSITは特性上電流密度
が小さく、信号電流が微少であり、製造容易でビデオ信
号を大きくとれる撮像装置を構成することは困難であっ
た。
〔目 的〕
本発明は、画素信号の読出し時に、ゲート領域を逆バイ
アスする手段を設け、光電荷の蓄積時間を長くし、且光
電荷のリセント手段を設けて、高感度のビデオ信号を容
易に得ることができるようにした固体撮像装置を提供す
ることを目的とするものである。
〔発明の概要〕
本発明は、行選択制御信号を印加する複数の行ラインと
、列選択制御信号を印加する複数の列ラインと、列ライ
ンに接続された一方の主電極と共通に接続された他方の
主電極と主電極間に配設されたチャネル領域とゲート領
域とからなる画素を構成する静電誘導形トランジスタと
、上記トランジスタのゲート領域と行ラインとの間に接
続されたコンデンサと、前記画素の信号読出し時にゲー
ト領域を逆バイアスさせる手段とを備え、光入力による
蓄積電荷を非破壊のまま画素信号を読出し、各画素の光
電荷の蓄積時間を犬にして高感度のビデオ信号を得るよ
うにするものである。
〔実施例〕
以下本発明の実施例について説明する。第2同人は、本
発明の固体撮像装置の一実施例の一画素を構成するSI
Tの断面図、第2図(Blは、その全体の回路構成図、
第2図(qは、固体撮像装置を動作させるための信号波
形図である。
第2図(A)において、各要素は第1図(A)に示した
ものと同一であるが、本実施例においては、ノーマリ−
オン形のSITとするため、ゲート領域間の間隔Wgは
比較的大きく形成することができる。
なお、各画素を分離する領域9は、絶縁物では彦く、例
えば、p拡散層で形成することもできる。
第2図(]3)に示すように、本発明の固体撮像装置は
、上記構成のノーマリ−オン形のS I T 20−1
1.20−12 、・・・・・・・・・20−mnが、
マトリックス状に配列され、XYアドレス方式により信
号を読出すように構成されている。すなわち、各画素を
構成するSITのドレインは接地され、X方向に配列さ
れた各行のSIT群のゲート端子は、行ライン21−1
、列ライン22刊、22−2、・・・・・・・・・22
−n に接続され、これらの列ラインは、それぞれ列選
択用トランジスタ23−1.23−2 、・・・・・・
・・・23−n を介して、ビデオライン24に共通に
接続されている。ビデオライン24には負荷抵抗25を
介して、ビデオ電圧■sが加えられている。
そして、行ライン21−1.21−2、・・・・・・・
・・21−mは垂直走査回路部に接続され、それぞれ信
号φG1、φG2、・・・・・・・・・φGm が加わ
るようになっている。また、列選択用トランジスタ23
−1.23−2 、・・・・・・・・・23−nのゲー
ト端子は、水平走査回路27に接続され、信号φ81.
φS2、・・・・・・・・・φsnが加わるように構成
されている。
次に、第2図(qに示した波形図に基づいて、垂直走査
信号φG及び水平走査信号φSについて説明する。行ラ
インに加えられる信号φG1、φG2、・・・・・・・
・・は、小さい振幅電圧■φGと、それより大きい振幅
電圧VφRよシ成るもので、一つの行ラインの走査期間
tHの間は■φG1次の行ラインの水平走査に移るまで
のブランキング期間tBLにはVφRの値になるように
設定されている。列選択用トランジスタのゲート端子に
加えられる水平走査信号φSI、φS2、・・・・・・
・・・は、列ラインを選択するだめの信号で、低レベル
は列選択用トランジスタをオフ、高レベルはオンする電
圧値になるように設定されている。
第3図は、各画素の動作を説明するための一画素に対す
る回路図である。20はノーマリ−オン形のSITであ
り、接地されたドレイン1、ゲート4、ゲート4とゲー
ト端子8間に形成されたコンデンサ7、及びソース3か
らなる。SITのゲート4とドレイン1とは点線で示し
たようにpn接合ダイオードDGを形成している。ダイ
オードDGの電圧・電流特性、すなわちゲート電位■G
とゲート・ドレイン間電流Icとの関係は、第4図(5
)に示すような特性であシ、ダイオードDG間の電圧、
すなわちvGがpn接合のビルトイン障壁電圧φBを越
えると、順方向電流が流れる。SITのソース・ドレイ
ン間の電流IDは、ゲート電圧VGにより定まる。典形
的なノーマリ−オン形SITでは、■DばvGの指数関
係に比例し、第4図(I3)に示すような特性になる。
次に、第3図に示したSITのゲート4に、コンデンサ
7を介して信号φGが加わった時のゲート電位変化を、
第5図を用いて説明する。時刻t1に信号φGが■φR
となると、コンデンサ7を介してDG間に順方向電流が
流れ、コンデンサ7は急速に電圧(■φR−φB)まで
充電される。このためゲート電圧VGは、■G−φBと
なる。次に時刻t2で信号φGがOVとなると、ダイオ
ードDGは逆ノ(イアスされるため電流Icは流れない
。このためコンデンサ7間には電圧(VφR−φB)が
保たれ、Vc =−VφR+φB となる。この後、信
号φGの次の■φGが加わる時刻t3までに、光照射の
ため、電荷QLが蓄積し、vGばAVG = QT、 
/ Oc だけ上昇して、Vc = −VφR+φB十
△■G となる。時刻t3において、■φGが加わると
、ゲート電位■Gは上昇し、Vc =−VφR+φB+
ΔVc +VφGとなる。この時に列選択トランジスタ
23がφBによりオンすると、SITに第4図(B)に
示されるよう々電流IDIが流れる。この電流IDIに
より負荷抵抗(抵抗値をRLとする)25間に電圧降下
V = IDI・RLを生じ、ビデオライン24に信号
出力Vout = Vs−IDI −R,Lが生じる。
電流1.DIはAVGにより変化するため、入射光量に
対応した信号を読出すととができる。第5図において、
時刻t4で再び信号φGが■φRと々るとゲート電位■
GはφBとなり、それまでの蓄積電荷QI、はクリアさ
れる。
時刻t5において、信号φGがOVになると、ゲート電
位■Gは再び、Vc−−VφR十φB にリセットされ
、次のフィールドの電荷蓄積が開始される。
以上の説明かられかるように、信号φGの大きい振幅電
圧■φRの値は、ゲート電位Vc =−VφR+φBに
対応するSITのドレイン電流ID2が十分小さく、S
ITがオフするような値に選ばれ、小さい振幅電圧■φ
Gの値は、行選択時にゲート電流が流れないように、時
刻t3におけるゲート電位、すなわち、Vc =−Vφ
R+<6B −1−AVG +VφG カ、φBより小
さいという条件、−■φR十φB十ΔVc + VφG
〈φBから、■φc<VφR−AVGを満足するような
値に選ばれる。
次に、上記一画素の動作原理に基づいて、第2図(ト)
)に示した固体撮像装置の動作を説明する。垂直走査回
路26の作動により、信号φG1がVφGになると、行
ライン21−1 に接続されたSIT群が選択され、水
平走査回路27より出力される信号φSl、φB2、・
・・・・・・・・φsnにより、水平選択トランジスタ
23−1.23−2 、・・・・・・・・・23−n 
が順次オンすると、順次5IT20−11.20−12
、−2O−1nの信号がビデオライン24よシ出力され
る。続いて、このSIT群は信号φG1が高レベル■φ
Rになった時にリセットされる。次いで、信号φG2が
VφGとなると、行ライン20−2 に接続されたSI
T群が選択され、水平走査信号φS1、φS2.・・・
・・・・・・φsnにより、SIT 20−21.20
−22、−==−2O−2nの光信号が順次読出され、
続いてリセットされる。以下同様にして順次各画素の光
信号が読出され、■フィールドのビデオ信号が得られる
以上の動作は、実験の結果、良好に行われることが確認
された。なお、第2図(Nにおいて、ゲート領域4とド
レイン1との距離、eGDが大きいと、エピタキシャル
層2の抵抗のため、ゲート・ドレイン間電流が小さくな
シ、ゲートのリセットが不完全になるため、J3aoは
1〜3μmと小さめにした方が特性上好ましい。NTS
O標準テレビジョン方式の場合・ 1lnt F−! 
12μs であるが、」二記の条件下では、その期間内
に十分良好にリセットすることができた。
第6図回は、本発明の他の実施例の回路構成図であり、
同図(B)は、動作を説明する信号波形図である。第6
図FA>において、第2図回と同一符号を付した部分は
、同一構成部材を示す。この実施例においては、列ライ
ン22−1.22−2、・・・・・・・・・22−口に
、列選択用トランジスタ23−1.23−2、・・・・
・・・・・23−n(7)他に、リセットトランジスタ
30−1.30−2 、・・・・・・・・・30−nが
接続されており、該リセットトランジスタのソースは、
リセットライン31に共通に接続されている。リセット
ライン31には負の電源VRが接続されている。リセッ
トトランジスタ 2、・・・・・・・・・30−nのゲート端子は、水平
走査回路27に接続され、同一の列ラインに接続された
列選択トランジスタ23−1、23−2、・・・・・・
・・・23−nに対し、一段遅れだ信号φSが加えられ
る。
第6図(B)において、φG1、φG2、・・・・・・
・・・は行ライン21−1、21−2、・・・・・・・
・に加えられる垂直走査信号であり、一つの行ライン選
択の期間にVGとなり、他の期間は0■である。Vs1
、VS2、・・・・・・・・・は列ライン22−1、2
2−2、・・・・・・・・・の電位変化を示すものであ
り、列選択トランジスタがオンしているときには、信号
出力に対応した正電圧、リセットトランジスタがオンし
ている時には、負電圧VRとなる。
この実施例は、列ラインが負電圧VRとなったときに、
SITのゲート・ソース間に電流を流し、ゲートをリセ
ットするものである。なお、この実施例の撮像装置の一
画素を構成するS I T 20−n、20−12 、
・・・・・・・・・20−mnは、第1実施例と同様に
、第2図(5)に示した構造を有するノーマリ−オン形
のSITであり、ゲートとソースとはpn接合を形成し
ていて、第4図(A)に示す電流・電圧特性を有するも
のである。
次に、第7図を用いてゲート電位VGの変化を説明する
。時刻t1において、信号φGが■φGになると、コン
デンサを介して、ゲート・ドレイン間に順方向電流が流
れ、このためゲート電位Vcは、それまで0■であった
とすると、φBと々る。次に時刻t2において、列ライ
ンの電位Vsが負電圧−VRと々ると、ケート・ソース
間に電流が流れ、ゲート電位は、−VR十φIllで低
下する。この後、時刻t3に信号鉛が■φGから0■と
なると、ゲート電位■は、Vc =−VφG− VR 
+ φB トfx. D、ケート・ソース間は逆バイア
スされる。その後、光照射により、ゲート電位■Gが△
■Gだけ上昇した後、時刻t4において、再び信号φG
がVφGとなシ、Va =−Vn十φB+△■Gとなる
。この間に水平走査信号φSによシ列選択トランジスタ
がオンすることにより,SITの信号電流が読出される
。その後、t5において、列ライン電位Vsが、Vs 
−一VR となり、前述のようにゲート電位Vcは、−
Vn+φB に低下し、リセットされる。以後同様の動
作サイクルが繰り返される。
上記動作原理から明らかなように、第6図回において、
垂直走査信号φG1が高レベル■φGとなると、行ライ
ン21−1が選択され、水平走査信号φS1により列選
択トランジスタ23−1がオンすると、B I T 2
0−11の光信号がビデオライン24に読出される。次
いで、水平走査信号φs2により列選択トランジスタ2
3−2がオンして、S I T 20 12の光信号が
読出されると共に、リセットトランジスタ30−1がオ
ンして、SIT2o−11のゲート電位がリセットされ
る。以下同様にして、SIT20−12、20−13 
、・・・・・・・・・20−mnの順で、信号読出しと
ゲート電位のリセットが行われ、■フレームのビデオ信
号が得られる。
上記実施例では、リセットトランジスタ3o−1、30
−2、・・・・・・・・・には、列選択トランジスタ2
3−1、23−2、・・・・・・・・・と同一の信号φ
s1、φB2、叩・・・・・が加わるものを示しだが、
リセットトランジスタには、信号φS1、φB2、・・
・・・・・・・とは異なるタイミングの信号、あるいは
水平走査回路27とは別の回路から、信号が加えられる
ように構成してもよい。
この実施例においては、各S I T 20−11、2
0−12、・・・・・・・・・20−mnがリセットさ
れてから読出される期間は全く同一であるため、画面の
一様性が優れ、またリセットから読出しまでの期間を1
フレ一ム期間よシ短くし、シャッター効果をもたせて、
動きの速い被写体に対しても、ぶれの々い鮮明な画像を
得るように構成することも可能である。
以上述べた二つの実施例は、連続して画像を撮像スるテ
レビジョンカメラに特に有効であるが、画像を一画面毎
に撮像する、いわゆる電子カメラに使用するのに好適な
実施例を次に示す。
第8図(A)は、かかる実施例の回路構成図、同図CB
+は、動作を説明する信号波形図である。この実施例の
基本的な構成は、第1実施例と同一であるが、第8図(
A)に示すように、ただ画素を構成するS I T 2
0−11.20−12、−−−−20−mnの共通に接
続されたドレイン1が、接地ではなく、リセット回路4
0に接続され、リセット信号φRが加えられるように構
成した点が異々つている。
第8図0′3)において、φRは各SITのドレイン1
に加えられるリセット信号であり、各SITのゲート電
位をリセットする期間のみ負電圧−VRとなり、他の期
間はOVである。垂直走査信号φG1、φG2、・・・
・・・・・・は、対応する行ライン21−1.21−2
、・・・・・・・・・を走査する期間のみ高レベル■φ
G、他は0■となる信号である。水平走査信号φ81、
φS2、・・・・・・・・・は列選択を行う信号であり
、S Hは電子カメラに設けられたシャッターの開閉動
作を示すものであり、■Gはゲート電位の変化を示す図
である。
第8図回に示した波形図により動作を説明する。
時刻t1において、リセット信号φRが−VRとなると
、全てのSITのゲート・ドレイン間に電流が流れ、ゲ
ート電位は、Vc−−VR+φBにリセットされる。
その後、時刻t2においてシャッターが開かれ、光が照
射されることにより、ゲート電位は、Vc=−VR+φ
B十ΔVG まで上昇する。その後、時刻t3において
、垂直走査信号φQlが高レベルVφGになることによ
り、行ライン21−1に接続されたSIT群ノケートt
[i[:、Vc = −VR+ +)h 十AVG +
V#に上昇し、水平走査信号φSl、 φS2.・・・
・・・・・により、列選択トランジスタがオンすること
によシ、SIT 20−11.20−12、・・・・・
・・・・2O−1nの信号が読出される。次いで時刻t
4において、信号φC1が■φGから0■になると共に
、信号φG2が高レベルVφGとなり、S I T 2
0−21.20−22 、・・・・・・・・・の信号が
読出される。以下同様にして、S I T 2031.
20−32、・・・・・・・・・ 20−mnの信号が
読出され、一画面のビデオ信号が得られる。光入射によ
り」二昇したゲート電位は、時刻t5において、リセッ
ト信号φRが、−VRになることにより、全てのSIT
のゲート・ドレイン間に電流が流れ、ゲート電位は全て
、■G−−VR+φB にリセットされ、次の画面の露
光が可能と々る。
第9図(A)は、第2図(B)に示した実施例の一部を
変更した第4の実施例である。第2図(Blに示した各
S1.Tの動作回路は、他の実施例と同様に、ドレイン
を接地し、ソースに正電圧をかけて読出す、いわゆるド
レイン接地方式を用いたものであるが、この実施例は、
ドレインに正電圧をかけ、ソースを負荷抵抗を介して接
地する、いわゆるソースフォロアにする動作方式を用い
たものである。
この場合、ゲート電位のリセットを行うためには、ドレ
イン側に正電圧が印加されているため、SIT群のソー
スが接続されている列ライン22−1.22−2 、・
・・・・・・・・22−nを接地してやるだめの、リセ
ットトランジスタ50−1.50−2 、・・・・・・
・・・50−n力、列ライン毎に必要となる。51は該
リセットトランジスタのゲートにリセットパルスを送る
リセット制御回路である。また、各画素のドレインは基
板上で共通接続され、正のドレイン電圧VDが印加され
ている。行ライン及び列ラインに印加される選択走査信
号φG1、φG2、・・・・・・・・・及びφs1、φ
S2、・・・・・・・・・は、第2図(qに示した第1
実施例のものと同様で、これを第9図(ト))に示す。
ただ異るのは、行選択信号φGl、φG2、・・・・・
・・・・のリセット時刻t1で、振幅■φRの電圧が印
加されるのに先立ち、各列ライン22−1.22−2 
、・・・・・・・・・に、そのドレインが接続されたリ
セットトランジスタ50−1.50−2 、・・・・・
・・・・50−nが、リセットパルスφRによってオン
となり、各列ラインが接地され、リセット時刻t1にお
いて、選択された行ラインにつながる全ての列ラインの
SITのソースは全て接地電位となり、ゲートに電位■
φRが印加されることにより、順方向電流が、列ライン
及びリセットトランジスタを介してアースに流れ、ゲー
ト電位がリセットされる。ゲート電位の変化を第9図(
qに示す。
第2図(I3)に示した実施例においては、ゲート電位
のリセットが、ゲートから接地されたドレインに対する
順方向電流によりなされているのに対し、この実施例に
おいては、ゲートから、リセットトランジスタ50−1
.50−2 、・・・・・・・・・を介して接地された
列ライン22−1.22’−2、・・・・・・・・に接
続されたソースに対する順方向電流により、ゲート電位
のりセントが行われるようになっている点で相違してい
るが、他の点の動作は第1実施例と全く同様である。
なお、この実施例において、ゲート電位のりセント時に
、リセットトランジスタ50−1.50−2、・・・・
・・・・・のドレイン・ソース間の電位降下分が大きい
と、ゲートリセントに要する時間が犬となるので、該ト
ランジスタのオン抵抗を小さく抑える必要があり、その
ため、リセットトランジスタの、(ゲート幅)/(ゲー
ト長)はある程度以上の大きさが必要である。
〔効 果〕
本発明は、以上述べたように、固体撮像装置の各画素の
信号読出し時に、ゲート領域を逆バイアスさせる手段を
設けたので、各画素の光蓄積電荷を非破壊のまま信号を
読出すことができ、各画素の光電荷の蓄積時間を、はぼ
読出し周期まで長くすることも可能となり、また、各画
素の光入力によるゲート電位上昇をリセットする手段を
設けることにより、高感度のビデオ信号を得ることがで
きる。
また、ノーマリ−オン形SITを用いることにより、製
造容易で且つビデオ信号を大きくとれる固体撮像装置が
得られる。
【図面の簡単な説明】
第1図(5)は、従来の固体撮像装置の1画素を構成す
るSITの断面図、第1図(I3)は、該装置全体の回
路構成図、第1図(Qは、第1図(B)に示した装置の
動作用信号波形図、第2図(5)は、本発明の固体撮像
装置の一実施例の1画素を構成するSITの断面図、第
2図(I3)は、該装置全体の回路構成図、第2図(Q
は、該装置の動作用信号波形図、第3図は、第2図(B
)に示した装置の動作原理を説明するだめの回路図、第
4図(A)は、ダイオードDGの特性図、第4図(I3
)は、ノーマリ−オン形SITの特性図、第5図は、第
3図に示した回路の動作を説明するだめの波形図、第6
図(5)は、本発明の他の実施例の回路構成図、第6図
(Blは、その動作用信号波形図、第7図は、第6図(
5)に示した装置の動作説明用波形図、第8図(5)、
(T3)は、更に他の実施例の回路構成図及びその動作
用信号波形図、第9図(5)、(13)は、更に他の実
施例の回路構成図及び動作用信号波形図、第9図(C)
は、第9同人に示した装置の動作説明用波形図である。 図において、1はドレイン、3はソース、4はゲート、
6はゲート電極、7はゲートコンデンサ、20−11.
20−12、・・・・・・・・・はノーマリ−オン形S
IT。 21−1.21−2 、・・・・・・・・・は行ライン
、22−1.22−2、・・・・・・・・・は列ライン
、23−1.23−2 、・・・・・・・・は列選択ト
ランジスタ、24はビ、デオライン、26は垂直走査回
路、27は水平走査回路、30−i、30−2 、・・
・・・・・・・はリセットトランジスタ、31はリセッ
トライン、4゜はリセット回路、50−1.50−2 
、・・・・・・・・・はリセットトランジスタ、51は
リセット制御回路を示す。

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)行選択制御信号を印加する複数の行ラインと、列
    選択制御信号を印加する複数の列ラインと、列ラインに
    接続された一方の主電極と共通に接続された他方の主電
    極と主電極間に配設されたチャネル領域とゲート領域と
    からなる画素を構成する静電誘導形トランジスタと、上
    記トランジスタのゲート領域と行ラインとの間に接続さ
    れたコンデンサと、前記画素の信号読出し時にゲート領
    域を逆バイアスさせる手段とを備えたことを特徴とする
    固体撮像装置。
  2. (2)前記逆バイアス手段は、ゲート領域を逆バイアス
    状態で画素信号を読出す電位をもつ行選択制御信号で構
    成されており、且つ画素信号読出し後、ゲート領域電位
    をリセットする手段が設けられていることを特徴とする
    特許請求の範囲第1項記載の固体撮像装置。
  3. (3)前記リセット手段は、前記行選択制御信号の読出
    し信号に続く、ゲート領域を順バイアスする信号で構成
    されていることを特徴とする特許請求の範囲第2項記載
    の固体撮像装置。
  4. (4)前記リセット手段は、各画素の信号読出し後、該
    画素の主電極の一方に、ゲート領域と該一方の主電極間
    を順バイアスする電位を印加する手段で構成されている
    ことを特徴とする特許請求の範囲第2項記載の固体撮像
    装置。
  5. (5)前記静電誘導形トランジスタは、ノーマリ−オン
    型のもので構成されていることを特徴とする特許請求の
    範囲第1項記載の固体撮像装置。
JP58165237A 1983-09-09 1983-09-09 固体撮像装置 Granted JPS6058781A (ja)

Priority Applications (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP58165237A JPS6058781A (ja) 1983-09-09 1983-09-09 固体撮像装置
US06/647,169 US4556909A (en) 1983-09-09 1984-09-04 Solid state image sensing device having a number of static induction transistors arranged in a matrix form
CA000462668A CA1217557A (en) 1983-09-09 1984-09-07 Solid state image sensing device having a number of static induction transistors arranged in a matrix form
DE3432994A DE3432994C2 (de) 1983-09-09 1984-09-07 Festkörper-Bildaufnahmewandler
FR848413789A FR2551917B1 (fr) 1983-09-09 1984-09-07 Dispositif de detection d'images a l'etat solide comportant des cellules a transistor d'induction statique disposees en matrice

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP58165237A JPS6058781A (ja) 1983-09-09 1983-09-09 固体撮像装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS6058781A true JPS6058781A (ja) 1985-04-04
JPH0453149B2 JPH0453149B2 (ja) 1992-08-25

Family

ID=15808463

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP58165237A Granted JPS6058781A (ja) 1983-09-09 1983-09-09 固体撮像装置

Country Status (5)

Country Link
US (1) US4556909A (ja)
JP (1) JPS6058781A (ja)
CA (1) CA1217557A (ja)
DE (1) DE3432994C2 (ja)
FR (1) FR2551917B1 (ja)

Families Citing this family (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB1602361A (en) * 1977-02-21 1981-11-11 Zaidan Hojin Handotai Kenkyu Semiconductor memory devices
JPS60143668A (ja) * 1983-12-29 1985-07-29 Res Dev Corp Of Japan カラ−用イメ−ジセンサ
US4665325A (en) * 1984-01-30 1987-05-12 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Solid state image sensor with signal amplification
JPH0666446B2 (ja) * 1984-03-29 1994-08-24 オリンパス光学工業株式会社 固体撮像素子
JPS6181087A (ja) * 1984-09-28 1986-04-24 Olympus Optical Co Ltd 固体撮像装置
JPS61136388A (ja) * 1984-11-21 1986-06-24 Olympus Optical Co Ltd 固体撮像装置
US5737016A (en) * 1985-11-15 1998-04-07 Canon Kabushiki Kaisha Solid state image pickup apparatus for reducing noise
US5771070A (en) * 1985-11-15 1998-06-23 Canon Kabushiki Kaisha Solid state image pickup apparatus removing noise from the photoelectric converted signal
EP0576104B1 (en) * 1985-11-15 1998-02-25 Canon Kabushiki Kaisha Photoelectric transducer apparatus
JPS6442992A (en) * 1987-08-08 1989-02-15 Olympus Optical Co Solid-state image pickup device
US5737740A (en) * 1994-06-27 1998-04-07 Numonics Apparatus and method for processing electronic documents
JP3774499B2 (ja) 1996-01-24 2006-05-17 キヤノン株式会社 光電変換装置
US6882022B2 (en) * 2003-09-04 2005-04-19 Isetex, Inc Dual gate BCMD pixel suitable for high performance CMOS image sensor arrays

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5515229A (en) * 1978-07-18 1980-02-02 Semiconductor Res Found Semiconductor photograph device
JPS58105672A (ja) * 1981-12-17 1983-06-23 Fuji Photo Film Co Ltd 半導体撮像装置

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4233632A (en) * 1977-11-07 1980-11-11 Hitachi, Ltd. Solid state image pickup device with suppressed so-called blooming phenomenon
US4364072A (en) * 1978-03-17 1982-12-14 Zaidan Hojin Handotai Kenkyu Shinkokai Static induction type semiconductor device with multiple doped layers for potential modification
US4427990A (en) * 1978-07-14 1984-01-24 Zaidan Hojin Handotai Kenkyu Shinkokai Semiconductor photo-electric converter with insulated gate over p-n charge storage region
JPS5518064A (en) * 1978-07-26 1980-02-07 Sony Corp Charge trsnsfer device
JPS56165473A (en) * 1980-05-24 1981-12-19 Semiconductor Res Found Semiconductor pickup device
JPS585086A (ja) * 1981-07-01 1983-01-12 Matsushita Electric Ind Co Ltd 固体撮像装置
JPS59108460A (ja) * 1982-12-14 1984-06-22 Olympus Optical Co Ltd 固体撮像装置

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5515229A (en) * 1978-07-18 1980-02-02 Semiconductor Res Found Semiconductor photograph device
JPS58105672A (ja) * 1981-12-17 1983-06-23 Fuji Photo Film Co Ltd 半導体撮像装置

Also Published As

Publication number Publication date
FR2551917A1 (fr) 1985-03-15
JPH0453149B2 (ja) 1992-08-25
DE3432994A1 (de) 1985-04-04
CA1217557A (en) 1987-02-03
US4556909A (en) 1985-12-03
DE3432994C2 (de) 1986-09-18
FR2551917B1 (fr) 1992-02-14

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US6697114B1 (en) Triple slope pixel sensor and arry
JPH08181920A (ja) 差分モードを持つ能動画素センサ及び画像化システム
JPH11177076A (ja) 固体撮像素子
JPS6058781A (ja) 固体撮像装置
JPS59108468A (ja) 固体撮像装置
JPH05137072A (ja) 固体撮像装置
JPH0824351B2 (ja) 固体撮像装置
JPS614376A (ja) 固体撮像装置
JPH0414545B2 (ja)
US5748232A (en) Image sensor and driving method for the same
US4937674A (en) Solid-state imaging device with static induction transistor matrix
JPS6147662A (ja) 固体撮像装置
JPS6153765A (ja) 固体撮像デバイス
JPH02304973A (ja) 固体撮像装置
JPS60254886A (ja) 固体撮像装置
JPS63142781A (ja) 固体撮像装置
JPH02208974A (ja) 固体撮像装置
JPS60105272A (ja) 固体撮像装置
JPS6058779A (ja) 固体撮像装置
JPWO2020054162A1 (ja) 撮像装置および撮像方法
JPS58136179A (ja) 固体撮像装置
JPH04145663A (ja) Mos型固体撮像装置およびその駆動方法
JPS62128678A (ja) 光電変換装置
JPS6058778A (ja) 固体撮像装置
JPS60219876A (ja) 固体撮像装置