JPS6034395B2 - 滅菌法の改良 - Google Patents

滅菌法の改良

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JPS6034395B2
JPS6034395B2 JP55500142A JP50014280A JPS6034395B2 JP S6034395 B2 JPS6034395 B2 JP S6034395B2 JP 55500142 A JP55500142 A JP 55500142A JP 50014280 A JP50014280 A JP 50014280A JP S6034395 B2 JPS6034395 B2 JP S6034395B2
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hydrogen peroxide
irradiation
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peroxide solution
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    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B65—CONVEYING; PACKING; STORING; HANDLING THIN OR FILAMENTARY MATERIAL
    • B65B—MACHINES, APPARATUS OR DEVICES FOR, OR METHODS OF, PACKAGING ARTICLES OR MATERIALS; UNPACKING
    • B65B55/00—Preserving, protecting or purifying packages or package contents in association with packaging
    • B65B55/02—Sterilising, e.g. of complete packages
    • B65B55/04—Sterilising wrappers or receptacles prior to, or during, packaging
    • B65B55/10—Sterilising wrappers or receptacles prior to, or during, packaging by liquids or gases
    • A—HUMAN NECESSITIES
    • A01—AGRICULTURE; FORESTRY; ANIMAL HUSBANDRY; HUNTING; TRAPPING; FISHING
    • A01N—PRESERVATION OF BODIES OF HUMANS OR ANIMALS OR PLANTS OR PARTS THEREOF; BIOCIDES, e.g. AS DISINFECTANTS, AS PESTICIDES OR AS HERBICIDES; PEST REPELLANTS OR ATTRACTANTS; PLANT GROWTH REGULATORS
    • A01N59/00—Biocides, pest repellants or attractants, or plant growth regulators containing elements or inorganic compounds
    • A—HUMAN NECESSITIES
    • A23—FOODS OR FOODSTUFFS; TREATMENT THEREOF, NOT COVERED BY OTHER CLASSES
    • A23C—DAIRY PRODUCTS, e.g. MILK, BUTTER OR CHEESE; MILK OR CHEESE SUBSTITUTES; MAKING THEREOF
    • A23C7/00—Other dairy technology
    • A23C7/02—Chemical cleaning of dairy apparatus; Use of sterilisation methods therefor
    • A—HUMAN NECESSITIES
    • A23—FOODS OR FOODSTUFFS; TREATMENT THEREOF, NOT COVERED BY OTHER CLASSES
    • A23L—FOODS, FOODSTUFFS, OR NON-ALCOHOLIC BEVERAGES, NOT COVERED BY SUBCLASSES A21D OR A23B-A23J; THEIR PREPARATION OR TREATMENT, e.g. COOKING, MODIFICATION OF NUTRITIVE QUALITIES, PHYSICAL TREATMENT; PRESERVATION OF FOODS OR FOODSTUFFS, IN GENERAL
    • A23L3/00—Preservation of foods or foodstuffs, in general, e.g. pasteurising, sterilising, specially adapted for foods or foodstuffs
    • A23L3/26—Preservation of foods or foodstuffs, in general, e.g. pasteurising, sterilising, specially adapted for foods or foodstuffs by irradiation without heating
    • A23L3/28—Preservation of foods or foodstuffs, in general, e.g. pasteurising, sterilising, specially adapted for foods or foodstuffs by irradiation without heating with ultraviolet light
    • A—HUMAN NECESSITIES
    • A23—FOODS OR FOODSTUFFS; TREATMENT THEREOF, NOT COVERED BY OTHER CLASSES
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    • A23L3/00—Preservation of foods or foodstuffs, in general, e.g. pasteurising, sterilising, specially adapted for foods or foodstuffs
    • A23L3/34—Preservation of foods or foodstuffs, in general, e.g. pasteurising, sterilising, specially adapted for foods or foodstuffs by treatment with chemicals
    • A23L3/3454—Preservation of foods or foodstuffs, in general, e.g. pasteurising, sterilising, specially adapted for foods or foodstuffs by treatment with chemicals in the form of liquids or solids
    • A23L3/358—Inorganic compounds
    • A—HUMAN NECESSITIES
    • A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61L—METHODS OR APPARATUS FOR STERILISING MATERIALS OR OBJECTS IN GENERAL; DISINFECTION, STERILISATION OR DEODORISATION OF AIR; CHEMICAL ASPECTS OF BANDAGES, DRESSINGS, ABSORBENT PADS OR SURGICAL ARTICLES; MATERIALS FOR BANDAGES, DRESSINGS, ABSORBENT PADS OR SURGICAL ARTICLES
    • A61L2/00—Methods or apparatus for disinfecting or sterilising materials or objects other than foodstuffs or contact lenses; Accessories therefor
    • A61L2/02—Methods or apparatus for disinfecting or sterilising materials or objects other than foodstuffs or contact lenses; Accessories therefor using physical phenomena
    • A61L2/08—Radiation
    • A61L2/10—Ultra-violet radiation
    • A—HUMAN NECESSITIES
    • A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61L—METHODS OR APPARATUS FOR STERILISING MATERIALS OR OBJECTS IN GENERAL; DISINFECTION, STERILISATION OR DEODORISATION OF AIR; CHEMICAL ASPECTS OF BANDAGES, DRESSINGS, ABSORBENT PADS OR SURGICAL ARTICLES; MATERIALS FOR BANDAGES, DRESSINGS, ABSORBENT PADS OR SURGICAL ARTICLES
    • A61L2/00—Methods or apparatus for disinfecting or sterilising materials or objects other than foodstuffs or contact lenses; Accessories therefor
    • A61L2/16—Methods or apparatus for disinfecting or sterilising materials or objects other than foodstuffs or contact lenses; Accessories therefor using chemical substances
    • A61L2/18—Liquid substances or solutions comprising solids or dissolved gases

Description

【発明の詳細な説明】 明細書 本発明は微生物を生育不能にする滅菌法に関する。
現今、包装食物（ｆｏｏｄｐａｃｋａｇｉｎｇ）は過酸
化水素溶液を用いて処理することによって滅菌されてい
る。
しかしながら微生物のある菌株（ｓｔｒａｉｎ）のもの
はこの処理に耐え、わずかであるが重大な量の胞子が内
容物の必然的な腐敗の危検を伴なつて生残る。
本発明者によって耐性微生物の生存胞子数をより能率的
に減少させる滅菌法が見出された。
本発明は、照射波長が完全にまたは主として３２６ｎｍ
以下で、過酸化水素溶液の濃度が１の重量％以下のもと
で紫外線照射した過酸化水素溶液を用いて微生物を処理
し、照射と過酸化水素との共働作用によって該微生物を
生長不能にすることを特徴とする滅菌法に係わる。過酸
化水素溶液（通常は水溶液）の濃度は一般に６重量％を
越えず、好ましくは３．の重量％を越えない。
この濃度は標準的には少なくとも０．０１重量％であり
、微生物が胞子の形態で存在する場合には少なくとも０
．２５重量％が特に好ましく、就中少なくとも０．５重
量％が好ましい。一般に、紫外線照射波長は完全にまた
は主として３０Ｍｍであり、通常は少なくとも２０仇ｍ
である。
実際、照射は通常ピーク強度が３２５ｎｍ以下、特に２
５４ｎｍでの照射源からおこなう。源で放射される照射
エネルギーは通常少なくとも３００マイクロワット／ｃ
沼、好ましくは少なくとも５００マイクロワット／ｃ椎
である。溶液を処理する照射強度は簡単な実験によって
確立してもよいが、通常は少なくとも７５マイクロワッ
ト／地、好ましくは少なくとも１５０マイクロワット／
めである。多くの微生物の胞子は室温における上述の処
理によって破壊されるが、特に耐性微生物を処理する場
合は照射中またはその後で溶液を高い温度に保持するの
が望ましい。
一般にこの温度は１２０℃を越えてはならないが１００
ｏ０を越えてもよい。しかしながら、少なくとも耐性微
生物を処理する場合は、通常この温度は少なくとも８５
ｏｏにする。本発明方法は、カビ、酵母、バクテリア、
ウイルスおよび原生動物を含む広範囲の微生物に適用で
き、特に胞子形成性バクテリア、就中乳製品汚染菌（船
ｉｒｙｃｏｎねｍｉｎａｎｔｓ）に好適である。栄養生
殖形態（ｖｅｇｅねｔｉｖｅｆｏｒｍ）の微生物を処理
してもよいが、本発明は特に胞子、就中耐性のバチルス
（母ｃｉｌｌｕｓ）およびクロストリジウム（ＣＩｏｓ
ｔｒｉｄｉｕｍ）の菌株、例えばバルチス・スブチリス
（Ｂ．ｓ肋ｔｉｌｉｓ）（ＡＴＣＣ ９３７２）やバチ
ルス・ス テ ア ロ テ ル モ フ イ ル ス
（ Ｂ．ｓにａｒｏｔｈｅｒｍｏｐｈｉｌ雌）（ＮＣＤ
Ｏ１０９６）のようなバチルス・スブチリスおよびバチ
ルス・ステアロテルモフィルス、菌株の胞子の破壊が特
に重要である。一般に、照射時間は有機体の耐性に伴っ
て増加し、少なくとも１硯砂間が一般に必要である。
上述のように照射と同時またはその後でおこなってもよ
い溶液の加熱は通常少なくとも１晩沙間おこない、少な
くとも３の砂、間、例えば６現砂、間またはそれ以上が
望ましい。本発明方法は液体、例えば廃水やかんずめ工
場の冷却水の滅菌にも適用できるが、表面例えば病院の
壁や備品の表面および食物容器の表面の滅菌に特に重要
である。
後者の表面は過酸化物溶液を用いて処理してもよく、例
えば容器または容器を構成する材料を該溶液を含有する
タンク内を通過させるか、容器またはその構成材料の壁
部に該溶液を贋霧する。タンクから引上げまたは噴霧処
理した容器または包装材料が本発明方法に付されるよう
に配置したランプによって照射をおこなってもよい。微
生物に対する本発明方法の共働作用、即ち照射と過酸化
水素の加成効果以上のそれらの作用は比較試験を考慮す
るならば実施例１および以下の他の実施例から明らかに
なる。
実施例１〜７１において使用した原料および方法有機体
バチルスおよびクロストリジウムの菌株（実施例１〜４
０）、非胞子バクテリアの菌株（実施例４１〜６９）、
カビの菌株（実施例７０〜７１）および特定の場合には
そのソースを表−１に示す。
次の略号を使用する。
ＮＩＲＤ−ナショナル・インステイチユート・オブ・リ
サーチ・イン・デイリング（Ｎａｔｉｏｎａｌ Ｉｎｓ
ｔｉｔｕｔｅ ｏｆ Ｒｅｓｅａｒｃｈ ｉｎＤａｉｒ
ｙｉｎｇ ）、 シ ン フ イ ー ル ド（ Ｓｈ
ｉｎｆｉｅｌｄ ）、リ ー デ ィ ン グ（Ｒｅａ
ｄｉｎｇ）、連合王国。
ＮＣＤＯ−ナショナル・コレクション・オブ・デイリー
・オーガニズムズ（ＮａｔｉｏｎａｌＣｏｌｌｅｃｔｉ
ｏｎｏｆＤａｉｒｙＯｒｇａｎｉｓｍｓ）。
ＡＴＣＣーアメリカン・タイプ・カルチヤー・コレクシ
ョン（ＡｍｅｎｃａｎＴｙｐｅＣｕｌｔｕｒｅＣｏｌｌ
ｅｃｔｉｏｎ）。ＮＣＩＢ−ナショナル・コレクション
・オブ・インダストリアル・バクテリア（Ｎａｔｉｏｎ
ａｌＣｏｌｌｅｃｔｉｏｎｏｆｌｎｄ船ｔｒｉａｌ母ｃ
ｔｅｒｉａ）。
ＦＲＩ−アグリカルチユラル・リサーチ・カウンセル・
フード・リサーチ・インステイチュート（ＡｇｒｉＣｕ
ｌ−ｔｍａＩ Ｒｅｓｅａｒｃｈ、ＣｏｕｎｃｉｌＦｏ
ｏｄＲｅｓｅａｒｃｈＩｎｓｔｉｔｕｔｅ）、コルネイ
・レイン（ＣｏｉｎｅｙＷｎｅ）、ノルゥィッチ（Ｎｏ
Ｍｊｃｈ）、連合王国。
表−１ 胞子の調製と培養の維持 クロストリジウム・スポロゲネスはロバートソンのクッ
クドミート培地中で維持させ、他の使用した菌株はオキ
ソィド培養寒天のスロープ上に維持させた。
胞子は次の培地のうちの一つの上での生長によって形成
させた：ｉ）バチルス・スブチリスの黒色変種に対して
はゴールド（Ｇｏ山ｄ）、スタッブス（Ｓｔゆｂｓ）お
よびキング（Ｋｉｎｇ）（１９７０手）のじやがし、も
寒天、ｉｉ）バチルス・ステアロテルモフイルス２０２
に対してはオキソィド培養寒天、ｉｉｉ）バチルス・リ
ケニフオルミス１０９２ＡＯに対してはウアン（Ｗａｎ
ｇ）、シヤレー（Ｓｃｈａｒｅｒ）およびハンフレー（
Ｈｕｍｐｈｒｅｙ）（１９６４王）の寒天培地、ｉｖ）
ＧＩ２菌株に対してはオキソィド培養肉汁Ｎｏ．２ ３
．１夕／夕、ＭｎＳ０４・４日２００．０３夕／夕、Ｋ
２ＨＰ０４０．２５夕／夕およびニュージランド寒天１
５夕／そを含有する培地、ｖ）クロストリジウム・スポ
ロゲネスＰＡ３６７９に対してはオキサィド脱脂乳粉末
５０夕／夕、ディフコ（Ｄｉｆｃｏ）酵母抽出物３．０
夕／そ、オキソィドベプトン５．０夕／夕、ＢＢＬトリ
プチケース５．０夕／そ、ＭｎＣ１２・凪２００．０７
２９／夕、ＢＤＨ塩酸システン０．５夕／そ、およびデ
ービス（Ｄａｖｉｓ）寒天１５多／夕を含有する培地を
ＩＭ−ＮａＯＨを用いて最後のＰＨを７．０〜７．２に
調整し、日２：Ｃ０２＝９：１のもとで胞子を形成させ
たもの、の）他の菌株に対してはフランクリン（Ｆｒａ
ｎｋｌｊｎ）らによって記載されたバチルス胞子寒天に
オキソィドラブレムコ（０ｘｏｉｄＬａｂにｍｃｏ）０
．１％（ｗ／ｖ）添加したもの。生長温度はバチルス・
スブチリスの黒色変種、バチルス・スブチリス７３８バ
チルス・グロビキィＢ１７、ＧＩ２菌株、バチルス・セ
レウスＴおよびバチルス・セレウス８１８に対しては３
０ｏｏ、クロストリジウム・スポロゲネスＰＡ３６７９
に対しては３３００、バチルス・プミルス３１２、バチ
ルス・スブチリスＳＡ２２、バチルス・スブチリス７１
入バチルス・スブチリス７００バチルス・リケニフオル
ミス１００、バチルス・リケニフオルミス１１７および
バチルス・リケニフオルミス１０９２ＡＯに対しては３
７０、またバチルス・ステアロテルモフイルス２０２に
対して５５ｏｏである。バチルス・ステアロテルモフイ
ルス２０２の胞子は１００机上のねじぶたをしたびん中
の３０凧【スロープ上で生長させ、他の菌株の胞子はべ
トリ皿内の寒天上で生長させる。
胞子分裂は位相差顕微鏡を用いて明るい胞子（ｂｒｉ熱
ｔｓｐｏｒｅｓ）の出現によって検出し、培養は遊離の
胞子の最も高い割合が観察されるまで（菌殊に応じ１〜
９日後）続ける。培養物を採取し、一１８０００で保管
する前に滅菌ガラス器具を用いて蒸留水で５回洗浄する
。無胞子細菌細胞の調製および培養の維持 無胞子細菌を３３００においてｉ）ェシェリヒア・コリ
およびストレプトコツクス・フアエカリスに対してはハ
ートインヒユージョンフロース（ｈｅａｒｔｉｎｆｕｓ
ｉｏｎｂｒｏｔｈ）中で、ｉｉ）またセラシァ・マルセ
スセンスに対してはジミツク（Ｄｉｍｍｉｃｋ）（１９
６５）によるグリセロールー塩培地中で、旋回シェーカ
ー〔ガーレンカンプ（Ｇａｌｌｅｎ−ｋａｍｐ）、１５
０反転／分〕を用いて１糊時間生長させる。
細胞を採取し、約１×１ぴ生育可能ユニット／の【の密
度で再懸濁する前に滅菌した２５ｍＭ−燐酸カリウム緩
衝液（ＰＨ７．０）５０の‘を用い、遠Ｄ分離によって
洗浄し、４時間以内に使用した。培養はハートィンヒュ
ージョン寒天培地（Ｈｅａｒｔｌｎｆ雌ｉｏｎＡ鞍ｒ）
（デイフコ）のスロープ上で維持する。カビ胞子の調製
および培養の総持 べニシリウム・クリソゲナムの胞子をスクロース３０夕
／夕、Ｋ２ＨＰ〇４１‐０９／夕、ＮａＮ〇３ ２．０
夕／夕、Ｍが０４・７日２００．５夕／そ、ＫＣＩＯ．
５夕／〆、ＦｅＳ０４・７日２００．０１夕／そおよび
ニュージランド寒天２０夕／そを含有するッアベックド
ックス塔地のスロープ上の２０００で少なくとも７日間
生長させ、トウィーン（Ｔｗｅｅｎ）８０を０．１％含
有する滅菌ガラス器具内蒸留水中へ採収する前に滅菌ガ
ラス器具内蒸留水を用いる遠心分離によって洗浄する。
細菌胞子、栄養細胞およびカビ胞子のＵ．Ｖ．照射細菌
胞子または栄養細胞３×１０７〜５×１ぴ／机‘、カビ
胞子１×１び泌を日２０２〔アナラー（Ａｈａｌａｒ）
、Ｂ．Ｄ．日．）１００ｍ‘あたり２．５夕までの０．
１Ｍ燐酸ナトリウム緩衝液（ＰＨ７．０）中へ懸濁させ
る。ウエイテス（Ｗ．Ｍ．Ｗａｉにｓ）およびフライ（
Ｂ．Ａ．Ｆｒｙ）によって記載されたようにして〔ジヤ
ーナル・オブ・ジエネラル・ミクロバイオロジ‐（Ｊ．
蛇ｎ．Ｍｉｃｒｏｂｉｏｌ．）、第３４巻、第４１３〜
４２６頁、１９６山王〕フィルターを除去したハノビア
・クロマトラィト・低圧水銀ランプ〔ハノビア社（比ｎ
ｏｖｉａＬｔｄ．）、スラゥ（Ｓｌｏｕｇｈ）、英国〕
から５．５肌、３０肌または３３肌離した直径９肌のべ
トリ皿基底部に置いた試料４肌‘を２０００で３現砂、
間静かにあちらこちらへと揺り動かす。ランプは１８５
−５７飢ｍの範囲においてピーク強度２５４ｎｍで照射
する。後者の照射はこのランプによって作り出される重
要な実用的価値を有する唯一の照射であり、他のスペク
トル線およびスペクトル群はかなり低い強度である。照
射エネルギーはソースｌｃ虎あたり３００〜５００マイ
クロワットである。試料２の‘を取り出し、フィルター
で滅菌したカタラーゼ溶液〔シグマ社（ＳｉｇｍａＬｔ
ｄ．〕２机上と混合し〔７６５０ユニット／似（２００
０）〕、次いで氷中で少なくとも５分間保存し、希釈し
て平板培養する。熱処理 （実施例２〜１６、３３〜３５ ３１〜４１，６１およ
び７１）試料２の‘を前加熱したねじぶた付ビン内へ添
加することによって、細菌胞子の場合は８５ｏｏで６現
砂間、栄養細菌の場合は６５午０で３の砂間、またカビ
胞子の場合は５４ｏｏで１９砂間加熱し、次いで十１℃
まで前冷却したカタラーゼ２の‘を加え（７６５０ユニ
ット／机）、氷中に浸債する。
懸濁液を氷中に少なくとも５分間保ち、希釈して平板培
養する。生存体（ｓｍｖｌｖｏＲ）の測定希釈した胞子
懸濁液を、（ｉレゞチルス胞子寒天上に板状に延ばし（
Ｐｌａｔｅｄ）、３０ｏｏ（バチルス・スブチリス７１
入バチルス・スプチリス７００バチルス・セレウスＴお
よびバチルス・セレウス８１８）または３７０（バチル
ス・リケニフオルミス１０９２Ａ○、バチルス・リケニ
フオルミス１００、バチルス・リケニフオルミス１１７
およびバチルス・プミルス３１２）で２日間培養する、
‘ｉｉ’プレートカウント寒天（オキソィド）に板上に
延ばし、３３℃（バチルス・スブチリスＳＡ２２）また
は３７ｑＣ（バチルス・グロピギイＢ１７、バチルス・
スブチリス７３８およびバチルス・スブチリスの黒色変
種）で２日間培養する、‘ｉｉｉートリプトソ（オキソ
ィド）５多／夕、酵母抽出物（オキソィド）２．５タノ
ク、グルコース１０タノ夕およびニュージランド寒天２
８夕／夕を含有する培地上に板状に延ばし、５５午○（
バチルス・ステアロテルモフイリス２０２）で３日間培
養する。
Ｎｉ｝トリプトン（オキソィド）１０夕／そ、グルコー
ス５．０夕／夕およびニュージランド寒天１２夕／そを
含有する培地上に板状に延ばし、３０ｑｏ（ＧＩ２）で
２日間培養する、またはＭヒルシュ（Ｈｉｒｓｃｈ）と
グリンステェッド（Ｇｒｉｎｓｔｅｄ）の補強クロスト
リジアル寒天培地（１９５４年）（但し、ニュージラン
ド寒天は１．２％ではなく１．６％）（クロストリジウ
ム・スポロゲネスＰＡ３６７９）上で平板培養する。栄
養細胞の懸濁液は維持培地（ディフロバクト−べプトン
１．０夕／そ、ＮａＣ１５．０夕／１、ｐＨ７．０〜７
．１）中でＩＯＮ音‘こ希釈し、ハートィンフュージョ
ン寒天培地（ディフコ）（ェシェリヒア・コリおよびス
トレプトコツクス・フアエカリス）またはトリプチケー
ス大豆寒天塔地（ＢＢＬ）（セラシア・マルセスセンス
）上に板状に延ばすことによつて、スパイラルプレート
マ−カー〔スパイラル・システムズ（ＳｐｉｒａｌＳｙ
ｓにｍｓ）、シンシナチー、オハイオ、米国〕を用いて
計数し〔ギルキリスト（Ｏｉｌｃｈｒｉｓｔ）ら、１９
７３年、ジャルビス（Ｊａｗｉｓ）ら、１９７７年〕、
３ｙｏで３日間（ストレプトコツクス・フアエカリス）
、３０００で２日間（エシエリヒア・コリ）または３３
ｏ○で２日間（セラシア・マルセスセンス）培養させた
後の集落を数える。
カビ胞子の懸濁液は滅菌したガラス器具内の蒸留水で希
釈し、ッアベクドックス寒天培地上に板状に延ばすこと
によって計数し、２０ｑｏで９日間培養後の集落を教え
る。
今まで引用したすべての刊行文献を次に示す。
ジミツク（Ｄｉｍｍｉｃｋ，Ｒ．Ｃ．）、ジヤーナル．
オフ・バクテリオロジ‐（Ｊ．欧ｃｔｅｒｉｏｌｏｇｙ
）、第８９巻、第７９１〜７９８頁、１９６３王。ギル
クリスト（Ｇｉｌｃｈｒｉｓｔ，Ｊ．Ｅ．）、キヤンベ
ル（Ｃａｍｐｂｅｌｌ，Ｊ．Ｅ．）、ドネリー（Ｄｏｎ
ｎｅｌｌｙ，Ｃ．Ｂ．）、ベーフー（Ｐｅｅｌｅｒ，Ｊ
．Ｔ．）、デラニ（Ｄｅｌａｎｅｙ，Ｊ．Ｍ．）、アプ
ライド・ミクロバイオロジー（ＡＰＰｌＩｅｄＭｉｃｒ
ｏｂｉｏｌ．）、第２５巻、第２４４〜２５２頁、１９
７３王。
ジャルビス（Ｊａｒｖｉｓ、Ｂ）、ラツハ（仏ｃｈ，Ｖ
．日．）、ウッド（Ｗｏｏｄ，Ｊ）、ジヤーナル・オブ
・アプライド・バクテリオロジー（Ｊ．Ａｐｐｌｉｅｄ
舷ｃｔｅｒｉｏｌ．）、第４群篭、第１４９〜１５刀頁
、１９７７年。
コールド（Ｇ℃山ｄ，Ｇ．Ｗ．）、スタツフス（Ｓｔｕ
ｂは，Ｊ．Ｍ．）、キング（ＫｉｎｇＷ．Ｌ．）、ジヤ
ーナル・オブ・ジエネラル・ミクロバイオロジ−（Ｊ．
蛇ｎｅｒａｌＭｉｃｒｏｂｉｏｌｏｇｙ）、第６碇登、
第３４７〜３５５頁、１９７位王。ウア ン（Ｗａｎｇ
，Ｄ．１．Ｃ）、シヤレー（Ｓｃｈａｒｅｒ，Ｊ．Ｇ．
）、ハンフリー（Ｈｕｍｐｈｒｅｙ，Ａ．Ｅ．）、アプ
ライド・ミクロバイオロジー（ＡｐｐｌｉｅｄＭｉｃｒ
ｏｂｉｏｌ．）、第１２巻、第４５１〜４５４頁、１９
６４Ｅ。
フランクリン（Ｆｒａｎｋｌｉｎ，Ｊ．○．）アンダー
ウッド（ＵｎｄｅＭｏｏｄ，日．Ｍ．）、パーキン（Ｐ
ｅｒｋｉｎ，Ａ．Ｇ．）、バートン（Ｂｍめｎ，Ｈ）、
ジヤーナル．オプ・デイリー・リサーチ（Ｊ．Ｄａｉび
Ｒｅｓ．）、第３７巻、第２１９〜２２６頁、１９７０
王。
ヒルシユ（日船ｃｈ，Ａ．）、グリンステツド（Ｇｒｉ
ｎｓｔｅｄ，Ｅ）、ジヤーナル・オブ・デイリー・リサ
ーチ、第２１巻、第１０１〜１１０頁、１９５４王。実
施例 １Ｕ．Ｖ．照射と過酸化水素によるバチルス・ス
フチリス７０６の胞子の滅菌率バチルス・スブチリス７
０６の胞子を濃度１夕／１００の‘の比０２の存在下ま
たは不存在下（比較のため）において上記のようにして
照射した（Ｑ０２はこの濃度では同等の温度において胞
子を殺さない）。
過酸化水素が存在しない場合、滅菌は対数的な速度でお
こなわれ、３硯砂後および６硯砂後での生存体はそれぞ
れ１９％および２％であった。過酸化物が存在する場合
、滅菌はより一層急速な対数的速度でおこなわれ、３鼠
砂後にはわずかに０．０１％の胞子が生存するのみであ
った。実施例 ２〜１６ バチルスおよびク。
ストリジウムの菌株のいくつかを３現砂間照射する。上
記のように日２０２を２．５多／ｌｏｏ凧とで存在させ
ておこなった後、８５ｏｏで６０秒間加熱する。結果を
表−２に示す。この表はＵ．Ｖ．照射のみおよびＵ．Ｖ
．照射の後熱処理して得られた結果を示す。表−２ ＊胞子懸濁液上５．５伽のところからランプを３０秒問
照射。
渋渋試料２秋を移し、８５℃で６０秒間加熱した。ｘ×
渋過酸化水素２．５夕／１００秋を含有する懸濁液上５
．５肌のところからランプを３０秒間照射した後、８５
℃で６０秒間加熱した。実施例 １７〜２４バチルス・
スブチリス７１３に種々の濃度の過酸化水素の存在下、
２種の胞子濃度においてＵ．Ｖ．照射をおこなう。
条件および結果を表−３に示す。表−３ ＊胞子を１．２×１０７または１２×１０７／地で過酸
化水素と共に懸濁し、該懸濁液上５．５ｃｍのところか
らＵ．Ｖ．ランプを照射する。
実施例 ２５〜２８ ４種のバチルス菌種に過酸化水素の存在下でＵ．Ｖ．照
射し、２つの場合はさらに８５００で６晩少間加熱する
。
条件および結果を表−４に示す。Ｕ．Ｖ．照射をおこな
わないでＨ２０２を用いる従来法に・よって得られた結
果も比較のために表−４に示す。表 − ４ ｘ９９．９９その滅菌をおこをうのに必要な時間。
ｘ＊２０℃で３０秒間照射した胞子をさらに８５℃で６
０秒間加熱する。実施例 ２８バチルス・スブチリス７
０６の胞子を日２０２（１夕／１００の‘）の存在下で
６０秒間Ｕ．Ｖ．照射する。
Ｕ．Ｖ．ランプは胞子懸濁液上３０ｃ机のところに設置
する。比較のため、日２０２の不存在下で菌株に照射す
る。上述のように試料を移し、希釈して板状に延ばす。
結果を表−５に示す。表−５ 実施例 ３０〜３５ バチルス・プミルス３１２の胞子を日２０２の存在下で
３晩沙間Ｕ．Ｖ．照射し、一部のものはさらに８５ｑｏ
で６の秒・間加熱する。
ランプは懸濁液の５伽上に設置する。比較のために胞子
を川過酸化水素と共に２０ｑｏで３の砂間培養し、また
は（ｉｉ｝過酸化水素と共に３硯砂、間培養し次いで８
５００で６硯砂間加熱する。上述のように間隔をおいて
試料を移し、希釈してから板状に延ばす。結果を表−６
に示す。表−６ 実施例 ３６〜４１ バチルス・プルミス３１２の代りにバチルス・スブチリ
ス７１３を用い、実施例３０〜３５の手順を繰返す。
結果を表−７に示す。表−７ 実施例 ４２〜４９ ェシェリヒア・コリＫ−１２を種々の濃度の過酸化水素
の存在下で３０秒間Ｕ．Ｖ．照射する。
ランプは懸濁液の３０肌上に設置する。比較のため、細
胞をＵ．Ｖ．照射をおこなわないでＨ２０２１夕／１０
０の‘と共に３０秒間培養する。上述のようにして試料
を移し、希釈して板状に延ばす。結果を表−８に示す。
表−８ 実施例 ５１〜５９ ストレプトコツクス・フアエカリス・ｓｓ・リケフアシ
ェンスＥＢ／Ｆ／３０／３９を種々の濃度の過酸化水素
の存在下で３０秒間Ｕ．Ｖ．照射する。
ランプは懸濁液の３０狐上に設置する。比較のためにＵ
．Ｖ．照射をおこなわないで細胞を日２０２１．０夕／
１００の‘と共に３庇沙間培養する。上述のようにして
試料を移し、希釈して板状に延ばす。結果を表−９に示
す。表−９ ＊試験せず 実施例 ６０〜６１ ェシェリヒア・コリＫ１２の細胞を日２０２１．０夕／
１００の‘の存在下で３疎沙間Ｕ．Ｖ．照射し、あるい
はさらに６５ｏｏで３の砂間加熱する。
ランプは懸濁液の３０ｃｍ上に設置する。比較のため、
細胞を‘ｉ’３０秒間Ｕ．Ｖ．照射した後、日２０２と
共に３０秒間培養するか、‘ｉｉ’６５００で３０秒間
加熱する。上述のようにして試料を移し、希釈して板状
に延ばす。結果を表一１０に示す。表−１０ 実施例 ６２〜６９ セラシア・マルセスセンスの細胞を種々の濃度の過酸化
水素の存在下で３０秒間Ｕ．Ｖ．照射する。
ランプは懸濁液の３３伽上に設置する。比較のため、細
胞をＵ．Ｖ．照射をおこなわないで日２０２１．０夕／
１００の‘と共に３晩沙間培養する。上述のようにして
試料を移し、希釈して板状に延ばす。結果を表一１１に
示す。表−１１ ＊試験せず 実施例 ７０〜７１ べニシリウム・クリソゲナムを日２０２０．５夕／１０
０の‘の存在下で３の砂間Ｕ．Ｖ．照射し、あるいはさ
らに５４００で１９秒問加熱する。
ランプは懸濁液の５ｃの上に設置する。比較のため、胞
子を【ｉ’３の砂間Ｕ．Ｖ．照射した後、日２０２と共
に３０秒間培養するか、‘ｉｉ’５４り○で１錠沙間加
熱する。上述のように試料を移し、希釈して板状に延ば
す。結果を表−１２に示す。表−１２

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 １ 紫外線照射波長が完全にまたは主として３２５ｎｍ
    以下、過酸化水素濃度が１０重量％以下のもとで紫外線
    照射過酸化水素溶液微生物処理を行ない、照射と過酸化
    水素との共働作用によつて該微生物を生育不能にするこ
    とを特徴とする滅菌法。 ２ 紫外線照射波長が完全にまたは主として３００ｎｍ
    以下である第１項記載の方法。 ３ 照射が３２５ｎｍ以下にピーク強度を有する第１項
    記載の方法。 ４ 紫外線照射波長が少なくとも２００ｎｍである第１
    項〜第３項いずれかに記載の方法。 ５ 紫外線照射が２５４ｎｍにピーク強度を有する第１
    項〜第４項いずれかに記載の方法。 ６ 過酸化水素溶液の濃度が少なくとも０．０１重量％
    である第１項〜第５項いずれかに記載の方法。 ７ 過酸化水素溶液の濃度が少なくとも０．５重量％で
    ある第１項〜第６項いずれかに記載の方法。 ８ 過酸化水素溶液の濃度が６重量％よりも高くない第
    １項〜第７項いずれかに記載の方法。 ９ 過酸化水素溶液の濃度が３重量％よりも高くない第
    １項〜第８項いずれかに記載の方法。 １０ 微生物が胞子形態で存在し、過酸化水素の濃度が
    少なくとも０．２５％である第１項〜第９項いずれかに
    記載の方法。 １１ 微生物がカビ、酵母、バクテリア、ウイルスまた
    は原生動物類である第１項〜第１０項いずれかに記載の
    方法。 １２ 微生物が乳製品汚染菌である第１項〜第１１項い
    ずれかに記載の方法。 １３ 微生物がバチルス・スブチリスまたはバチルス・
    ステアロテルモフイルスの胞子形態で存在する第１１項
    記載の方法。 １４ 過酸化水素を照射中または照射後に高温に保つ第
    １項〜第１３項いずれかに記載の方法。 １５ 過酸化水素溶液を照射中または照射後に少なくと
    も８５℃に保つ第１項〜第１４項いずれかに記載の方法
    。 １６ 過酸化水素溶液を照射中または照射後に少なくと
    も１０秒間加熱する第１項〜第１５項いずれかに記載の
    方法。 １７ 微生物が食品包装材の表面上の汚染菌である第１
    項〜第１６項いずれかに記載の方法。 １８ 紫外線照射波長が２００〜３２５ｎｍの範囲内に
    ピーク強度を有し、過酸化水素の濃度が少なくとも０．
    ５重量％から３重量％までの過酸化水素溶液を用いて微
    生物の胞子を処理し、照射と過酸化水素との共働作用に
    よつて該微生物を生長不能にすることを特徴とする第１
    項記載の方法。
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